KR100462929B1

KR100462929B1 - 농약성1-(할로아릴)헤테로시클릭화합물의제조방법

Info

Publication number: KR100462929B1
Application number: KR1019960011600A
Authority: KR
Inventors: 후앙 자민; 케빈 후버 스코트; 헨리 쥐 스미쓰 필립; 하리 윌킨슨 존
Original assignee: 바이엘 크롭사이언스 소시에떼아노님
Priority date: 1995-04-21
Filing date: 1996-04-17
Publication date: 2005-06-20
Also published as: CN1330072A; KR960037654A; CN1250539C; US5726324A; EP0738713B1; DE69606575T2; JPH08319272A; CN1182080A; ATE189676T1; TW324716B; JP4115546B2; CN1087735C; HK1042899A1; HK1042899B; US5631381A; DE69606575D1; EP0738713A1

Abstract

본 발명은 1-(니트로아릴) 헤테로시클을 할로겐화 금속 염과 반응시켜 복합 농약성 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

농약성 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물의 제조 방법

본 발명은 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물의 새로운 제조 방법 및 그 제조 방법에 사용되는 신규의 화합물에 관한 것이다.

농약, 특별히 살충제, 살비제, 살선충제, 생장 조절제 및/또는 제초제로서 유용한 많은 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물, 및 그의 제조법이 알려져 있다.

헤테로시클릭 유도체와 같은 복합물의 제조는 어려우며, 단순한 반응물을 사용한 단순한 제조 방법이 필요하다.

니트로아릴 화합물과 할로겐화 염의 반응에 의한 할로아릴 화합물의 형성은 문헌 (James R. Beck, Tetrahedron 34, pp. 2057-2068, 1978) 에 공지되어 있으며, 여기에서 참고로 도입될 수 있다. 1-(2-니트로페닐)-피리미딘온으로 부터 1-(2-할로페닐)-피리미딘온의 생성은 유럽 특허 출원 번호 0396250 에 할로겐화물 아질산염 교환으로 기재되어 있다. 그러나, 그러한 반응은 일반적으로 수율을 저하하고, 원치 않는 부산물을 증가시키는 긴 반응 시간 및 고온을 필요로 한다.

그러므로, 본 발명의 목적은 신규의 효율적인 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물의 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 실질적으로 부산물에 의하여 오염되지 않은 생성물을 생성하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 고수율로 그러한 화합물을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

이러한 발명의 목적 및 다른 목적은 하기 설명으로부터 분명해지며, 본 발명의 전체 또는 일부분에 의하여 달성된다.

본 발명은 하기 식 (I) 의 헤테로시클릭 화합물의 제조 방법으로, 하기 식(II) 의 니트로 함유 화합물을 아질산 이온 스캐빈져 (scavanger) 와 함께 식 MX_n(M은 금속 양이온, X는 할로겐화물 음이온 및 n 은 금속 양이온의 원자가에 상응하는 양의 정수임) 의 할로겐화 금속과 반응시키는 것을 포함하는 방법을 제공한다:

[상기 식 중,

R 은 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I 또는 SF₅ 이고,

R₁ 및 R₂ 는 각각 독립적으로 수소, F, Cl, Br 또는 I 이고,

Y는 F, Cl, Br 또는 I 이며,

Z는 N, C-NO₂또는 C-R₃ (R₃은 H, F, Cl, Br, I, CN, C(0)NH₂, C(S)NH₂, 알킬 또는 할로알킬이고,

A 는 임의로 치환된 N 결합 질소 함유의 5 또는 6 원 헤테로시클릭 고리이다];

[상기 식 중,

R₁, R₂, Z 및 A는 상기 정의와 동일하며,

G 는 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 NO₂ 임].

본 명세서 전반에, 다른 지시가 없다면 하기 정의가 적용된다.

용어 "할로" 또는 "할로겐" 은 F, Cl, Br 또는 I 를 의미한다. 용어 "할로" 가 탄화수소, 예를 들면 할로알킬과 연관되어 사용될 때, 하나 이상의 할로 원자가 탄화수소 부분에 존재한다.

용어 "할로겐화물 음이온" 은 F^-, Cl^-, Br^-또는 I^- 를 의미한다.

알킬 라디칼 및 다른 라디칼의 알킬 부분 (예, 할로알킬, 할로알콕시 등등)은 일반적으로 1 내지 7 개의 탄소 원자를 갖는다. 그러한 라디칼과 연관되어 사용되는 용어 "저급" 은 탄소수 1 내지 4 의 라디칼을 의미한다.

용어 "술페닐" 은 "티오", 예를 들면, 용어 "할로알킬술페닐" 및 "할로알킬티오" 는 동의어이다.

시클로알킬 및 시클로알케닐 라디칼 및 다른 라디칼의 그러한 부분은 일반적으로 고리에 3 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는다.

알케닐 및 알키닐 라디칼 및 다른 라디칼의 그러한 부분은 일반적으로 2 내지 7 개의 탄소 원자, 바람직하게는 2 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는다.

본 발명의 방법에서, 출발 물질 및 생성물에서 하기 기재된 바와 같이 특정의 성질이 바람직하다.

R 이 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐일 경우, 그의 알킬 부분은 바람직하게는 저급 알킬이다. R 은 바람직하게는 할로겐 또는 SF₅ 또는 저급 할로알킬이다. 가장 바람직하게는 R 은 CF₃ 또는 SF₅ 이다.

R₁ 및 R₂ 는 바람직하게는 모두 H 이다.

Y 는 바람직하게는 F, Cl 또는 Br 이고, 가장 바람직하게는 Cl 이다.

Z 는 바람직하게는 C-NO₂, C-Cl, C-H, C-Br, C-F 또는 C-CN 이다.

G 가 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐일 때, 그의 알킬 부분은 바람직하게는 저급 알킬이다. G 는 바람직하게는 할로겐, SF₅ 또는 저급 할로알킬이다. 가장 바람직하게는 G는 CF₃ 또는 SF₅이다.

A 로 표시되는 헤테로시클릭 고리계는 하기 식을 갖는다:

[상기 식 중,

R₄ 는 H, 알킬, 할로알킬, 포르밀, 알킬카르보닐, 할로겐, CN, NO₂, 시클로알킬, C(0)NH₂, 알콕시 또는 C(S)NH₂ 이고;

R₅ 는 R₃₃S(0)_q, CN, SCN, NO₂, 할로알킬, 할로알킬카르보닐, 할로알콕시 또는 할로겐이고;

R₆ 은 H, 알킬, 할로알킬, 알킬카르보닐, 포르밀, 할로알킬카르보닐, 할로겐, NR₃₄R₃₅, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알콕시, 할로알콕시, N=CH-0-알킬 또는 N=CH (OH, 알콕시, 할로겐, 알킬, 할로알킬, CN 또는 NO₂ 로 임의로 치환된 페닐) 이고;

R₇ 은 H, 알킬, 할로알킬, 할로겐, 시아노, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐이며,

R₉ 는 할로알킬, CN, NO₂, 할로겐, H, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐 또는 할로알콕시이고;

R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 각각 독립적으로 H, 알킬, 할로, CN, NO₂ 또는 할로알킬이고 ;

R₁₂ 는 0 또는 S 이며;

R₁₃ 은 할로겐, 알콕시, 알킬티오, 알킬술포닐, 알콕시카르보닐, 카르바모일, 시클로알킬 또는 알케닐로 임의로 치환된 알킬이고;

R₁₄ 는 H, 할로겐, 할로알킬, 알콕시알킬, 알케닐옥시알킬, 메틸, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐 또는 NR₃₄R₃₅ 이며;

R₁₅는 알킬 또는 할로알킬이고;

R₁₆, R₁₇, R₁₈, R₁₉ 및 R₂₀ 은 각각 독립적으로. H, 알킬, 알케닐알키닐, 할로겐, CN, 포르밀, 알킬카르보닐, 알콕시카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 할로알킬카르보닐, NO₂, SCN, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 할로알케닐, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐이며;

R₂₁, R₂₂ 및 R₂₄ 는 각각 독립적으로 H, 할로겐, NO₂, OH, CN, 알킬, 알콕시이미노알킬, 알콕시알킬, 할로알킬 또는 알콕시이고;

B, C 및 D 중의 하나는 N 또는 N → 0 이고, 다른 것들은 각각 C-R₃₆ 이며;

R₂₃은 H, 할로겐, 알킬 또는 NO₂ 이고:

R₂₅는 H 또는 할로겐이며;

R₂₇은 H, 할로겐; NO₂; CN, 알킬; 알콕시; 알케닐옥시; 알키닐옥시; 알콕시알킬; 카르보닐알콕시; 알킬옥시알콕시; 시아노알콕시; 벤질옥시; 알콕시카르보닐알콕시; 알킬카르보닐알콕시; 할로알킬; 히드록시알킬; 포르밀; 아지도; COOH 또는 그의 염, COO 알킬; 알킬, 알콕시, OH, 포르밀, 알킬카르보닐 (COOH 또는 알콕시카르복시로 임의로 치환됨), 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알콕시카르보닐, 알콕시알킬, 히드록시카르보닐알킬, 알콕시카르보닐알킬, 아미노 또는 디알킬아미노로 임의로 치환된 NH₂; 알킬 또는 할로알킬술포닐로 임의로 치환된 카르복스아미도; N 은 H 및/또는 알킬로 치환된 술폰아미도; 또는 QR₃₈ 이며;

R₂₈ 은 H, 알킬, 할로겐, CN, 할로알킬 또는 알콕시, 또는 COOH 또는 그의 염 또는 에스테르이고,

R₂₉ 및 R₃₀ 은 각각 독립적으로 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐 (알킬, 알케닐 및 알키닐은 각각 임의로 할로겐으로 치환될 수 있음), 페닐, 피리딜, 시아노, 할로겐, 니트로, CHO 또는 NR₃₉R₄₀ 이며;

R₃₁ 및 R₃₂ 는 각각 독립적으로 H, 할로겐, CN, NO₂, CONH₂, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐 또는 NR₃₄R₃₅ 이고;

R₃₃은 C₁-C₆ 알킬, 시클로알킬, 시클로알킬알킬 또는 할로알킬이고;

R₃₄ 및 R₃₅ 는 각각 독립적으로, H, 알킬, 알킬카르보닐, 포르밀 또는 알콕시카르보닐이거나, R₃₄ 및 R₃₅ 는 질소원자와 함께 부착되어 5 원 피롤 또는 피라졸부분을 형성하며 ;

R₃₆ 은 H, 할로겐, NO₂, CN, 알킬, 알콕시알킬, 아세톡시메틸, 히드록시메틸, 할로알킬, 포르밀, 알킬카르보닐, 카르복시 또는 그의 염, COO- 알킬, N₃, NH₂ (임의로 알킬, 알콕시, OH, 포르밀, 알킬카르보닐, 알콕시카르보닐알킬옥시, 알콕시카르보닐알킬티오, 알콕시카르보닐알킬리덴카르보닐, 히드록시카르보닐알콕시, 히드록시카르보닐티오, 시아노알콕시, 히드록시카르보닐알킬리덴카르보닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알콕시카르보닐, 알콕시알킬, 히드록시카르보닐알킬, 알록시카르보닐알킬 또는 아미노로 치환됨), 카르복시이미도 (임의로 알킬, 알킬술포닐 또는 할로알킬술포닐로 치환됨), 술폰아미도 (N은 H 및/또는 알킬로 치환됨) 또는 QR₃₇ 이며;

R₃₇ 은 H, 알킬, 할로알킬, 시아노알킬, 알콕시카르보닐알킬, 히드록시카르보닐알킬 또는 아미노카르보닐알킬 (N은 H 및/또는 알킬로 치환됨) 이며;

Q 는 0 또는 S(0)_m 이고;

R₃₈ 은 H, 할로알킬, 시아노알킬, 알콕시카르보닐알킬, 히드록시카르보닐알킬 또는 아미노카르보닐알킬 (N 은 H 및/또는 알킬로 치환됨) 이며;

R₃₉ 및 R₄₀ 은 각각 독립적으로 수소, 임의로 치환된 알킬, 아실 또는 아릴이거나, 또는 질소원자와 함께 부착되어 임의로 다른 헤테로 고리를 갖는 5 원 내지 7 원 고리를 형성하며;

R₄₁ 은 수소, 알킬, 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 카르복시알콕시, 알콕시카르보닐알콕시, 알콕시알콕시, 시아노알콕시, 할로알킬술포닐아미노, 알킬술포닐아미노, 알콕시카르보닐, 할로알킬, 할로겐, 니트로, 카르복시, 카르복시알킬, 히드록시, 벤질옥시 또는 시아노이며;

R₄₂는 C₇ 비시클로알킬, 메틸- 또는 클로로 치환 C₃-C₆시클로알킬, C₂-C₅ 알케닐, 메틸 치환 C₆ 시클로알케닐, 2-메틸 1-3-디티올란-2-일 또는 C₁-C₅ 알킬 (알킬은 임의로 할로겐, C₁-C₃ 알콕시, C₁-C₃ 알킬티오, C₁-C₃ 알킬술피닐, C₁-C₃ 알킬술포닐 또는 C₁-C₃ 알콕시카르보닐로 치환됨) 이고;

m 은 0, 1 또는 2 이고,

o 는 0, 1, 2, 3 또는 4 이며;

p 는 0, 1 또는 2 이고,

q 는 0, 1 또는 2 이고; 및

y 는 0, 1, 2 또는 3 이다].

구조 (a) (q) 는 입체 이성질체 및 광학 이성질체로 생성될 수 있다. 그러한 모든 형태가 본 발명의 범주에 포함된다.

상기 식 (a) 내지 (q) 에서, 비(非)부착된 단일 결합은 식 (I) 및 식 (II) 및 도식 (I) 및 (II) 에서의 헤테로시클릭 고리계의 부착점을 나타낸다.

A 는 바람직하게는 그의 질소원자를 통하여 결합된 임의로 치환된 피롤릴, 피라졸릴 또는 이미다졸릴 고리이며, 더욱 바람직하게는 피라졸릴 고리이다.

상기 구조 (a) 내지 (q) 중에서, A 는 바람직하게는 구조 (a), (b) 또는 (c) 를 갖는다.

본 발명에서 사용되기에 적합한 할로겐화 금속 염 MXn 은, 예를 들면 M 은 알칼리 금속 양이온 또는 알칼리 토금속 양이온이고, n 은 1 또는 2 인 할로겐화 금속 염을 포함한다. 여기에서 사용되는 대표적인 할로겐화 금속 염은 LiCl, NaCl, KCl, CsCl, MgCl₂, LiBr, NaBr, kBr, CsBr, MgBr₂, LiF, NaF, kF, CsF, LiI, NaI, KI, CsI, MgI₂ 및 ZnI₂ 이다. 바람직한 MX_n 유도체는 할로겐화 알칼리 금속, 특별히 LiCl, NaCl, KCl, CsCl, LiBr, NaBr, KBr, NaF 또는 KF 이다. 여기에서의 사용에 가장 바람직한 MX_n은 LiCl 이다.

본 발명의 바람직한 구현예 중의 하나는 상기 식 (II) 의 화합물과 1 몰 당 량 이상, 바람직하게는 약 1 내지 10 몰 당량의 할로겐화 금속 염 MX_n 와의 반응을 포함한다. 용매가 존재하는 것이 이롭다. 상기 반응은 일반적으로 약 50 내지 250 ℃ 의 온도 범위, 및 임의로 약 1 내지 10 몰 당량의 금속 킬레이팅 첨가제의 존재 하에서 진행된다. 금속 킬레이팅 첨가제는 문헌 (Advanced Organic Chemistry, 제2판, Wiley, Interscience; New York; 1985; p. 77-79) 에 기재된 것처럼 할로겐화 금속 염 MX_n 과의 복합체를 형성하여 할로겐화물 음이온의 반응성을 증가시키는 화합물이다. 본 발명의 바람직한 금속 킬레이팅 첨가제는, 예를 들면 12-크라운-4, 15-크라운-5, 18-크라운-6, 및 트리스(3-6-디옥사헵틸)아민(TDA-1) 이다.

아질산 이온을 파괴하거나 제거할 수 있는 제제는 본 분야에 공지되어 있다(Williams, J. Chem. Soc. Perkin Trans. II, 1982, p. 801-804; Ellison and Williams, lbid., 1981, 1, 699-702 가 참고로 도입됨). 본 발명에서의 사용에 적합한 아질산 이온 스캐빈져로 고안된 바람직한 보강제는 술팜산, 우레아, 아닐린, 히드록실아민, 히드라진, 히드라조산, 아스코브산, 암모늄 술파메이트 또는 암모니아이다. 아질산 이온 스캐빈져는 출발 반응물 1 몰당 약 1 내지 약 3 몰 당량의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 사용에 적합한 반응 용매는 반응 조건하에서 불활성인 유기 용매, 예를 들면 염소화 탄화수소, 에테르, 폴리에테르, 탄화수소 또는 비양성자성극성 용매, 또는 상기 둘 이상의 혼합물을 포함한다. 바람직한 반응 용매는 예를 들면, N-메틸피롤리딘온 (NMP), 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸술폭시드(DMSO), 헥사메틸포스포릭 트리아미드 (HMPA) 및 술포란이다.

본 발명의 구현예에 따라, 상기 기재된 조건하에서 Z 이 -NO₂ 인 식 (II)의 디니트로 화합물과 할로겐화 금속 염 MX_n 을 반응시켜, 하나 또는 두 니트로기가 할로겐 원자로 치환된 할로겐화 화합물을 생성한다. 따라서, 두 니트로기가 반응하면, 두 번째 것은 80 ℃ 보다 더 높은 온도 및/또는 할로겐화 금속제로서 LiCl 과 반응하는 것이 바람직하다.

본 발명의 또 다른 구현예는 상기 기재된 조건 하에서 Z 이 -NO₂ 인 식(II) 의 디니트로 화합물과 할로겐화 금속 염 MX_n 을 반응시켜, 모노-할로, 모노-니트로 화합물을 생성하고, 생성된 모노-할로, 모노-니트로 화합물을, 다시 상기 조건하에서 동일한 포트에 할로겐화 금속 염 M'X'_n 을 첨가하여 할로겐화 금속 염 M'X'_n (MX_n 과 동일하거나 상이함) 과 반응시키거나, 또는 연속적으로 디니트로 화합물과 MX_n 을 반응시키고, 형성된 모노-니트로 화합물과 M'X'_n 을 별도의 포트에서 반응시켜, 식 (I) 의 화합물을 생성한다.

식 (I) 의 할로겐화 화합물은 물을 사용한 반응 혼합물의 희석 및 여과 또는 그외에 적당한 용매로의 추출과 같은 종래의 기술로 분리할 수 있다. 적당한 추출 용매는 메틸 t-부틸 에테르 (MTBE), 디에틸 에테르, 에틸 아세테이트(EtOAc), 톨루엔, 염화메틸렌 등과 같은 물과 혼화성이 없는 용매를 포함한다.

일반적으로, 식 (II) 의 화합물은 공지의 화합물이거나, 또는 공지의 방법으로 또는 공지 방법을 변형하여 제조될 수 있다. 식 (II) 의 화합물 및 그 제조 방법은, 예를 들면 PCT 공개 번호 WO 87/03781; PCT 공개 번호 WO 94/21606; 유럽 특허 공보 번호 0398499; 일본 특허출원 번호 05262741, 미합중국 특허 5,306,694; 유럽 특허 공보 번호 0201852; 독일 특허 출원 번호 3529829; 독일 특허 출원 번호 3501323; 독일 특허 출원 번호 3538731, 독일 특허 출원 번호 3606476; 독일 특허 출원 번호 3609423; 유럽 특허 공보 번호 0350311; 독일 특허 출원 번호 3617554; 독일 특허 출원 번호 3402308; 미합중국 특허 4,496,390; 미합중국 특허 4,459,150; 미합중국 특허 4,629,495; 미합중국 특허 5,223,525; 일본 특허 출원 번호 05025138; 유럽 특허 공보 번호 0464980; 유럽 특허 공보 번호 0445931; 유럽 특허 공보 번호 0367410, 유럽 특허 공보 번호 0272824; 유럽 특허 공보 번호 0338686; 미합중국 특허 5,104,878; 유럽 특허 공보 번호 0357201; 유럽 특허 공보 번호 0481604; 유럽 특허 공보 번호 0396250; 유럽 특허 공보 번호 0285893; 일본 특허 출원 번호 02091062; 일본 특허 출원 번호 06092935; PCT 공개 번호 WO 93/8008; 미합중국 특허 5,300,478, PCT 공개 번호 WO 93/15049; 미합중국 특허 5, 064,844; 유럽 특허 공보 번호 0408196; 유럽 특허 공보 번호 0400842; 미합중국 특허 5,232,899; 유럽 특허 공보 번호 0438209; PCT 공개 번호 WO 94/25446; 및 유럽 특허 공보 번호 0435616 에 기재되어 있다.

예를 들면, 식 (II) 의 화합물은 염기, 바람직하게는 중탄산나트륨과 같은 광물성 염기 또는 트리에틸 아민과 같은 아민 염기의 존재하에서, 식 (IV) 의 화합물 (A 는 상기 정의와 동일하다) 을 식 (III) 의 니트로아릴 화합물과 반응시켜 제조할 수 있다. L은 예를 들면, 할로겐화물 이온, F^-, Cl^-, Br^-또는 I^- 또는 알킬술포네이트 음이온 또는 페닐술포네이트 음이온, 또는 아질산 이온일 수 있는 이탈기이다.

도식 I

또 다른 예에서, 식 (II) 의 화합물은 고리화 반응으로 하기 도식 II 에 나타난 것 처럼, 하나 이상의 단계에서 하기 식 (IV) 의 아닐린 상에 상기 정의된 것처럼, 헤테로시클릭 부분 A 를 형성하여 제조될 수 있다:

도식 II

[식 중, 은 A 이다].

더욱이, 식 (II) 의 화합물, 및 A 가 (a), (b) 또는 (c) 로부터 선택되고, R 은 SF₅ 인 식 (II) 의 화합물은 하기에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다. 예를 들면, R 이 SF₅ 인 식 (II) 의 화합물의 구체적인 유용한 제조는 공지의 화합물, 4-클로로-1-(펜타플루오로술페닐) 벤젠 또는 4-플루오로-1-(펜타플루오로술페닐) 벤젠을 표준 조건 (March, Advanced Organic Chemistry, p. 468-470, 참고로 인용) 하에서의 질화 반응 (William A. Sheppard, J. Am. Chem. Soc., 1962, 84, p. 3064-3072); 본 분야의 숙련자에게는 분명한 방법으로 표준 조건을 변형하여 4-클로로- 또는 4-플루오로-3,5-디니트로-1-(펜타플루오로술페닐) 벤젠을 형성하고, 그 결과의 4-클로로- 또는 4-플루오로-3,5-디니트로-1-(펜타플루오로술페닐) 벤젠을 식 H-A 의 화합물 (식 중, A는 상기에서 정의된 헤테로시클릭 부분임) 과 상기 커플링 방법으로 반응시킨다. 많은 1-H-헤테로시클릭 화합물이 상기 인용된 선행 기술에 개시되어 있다

A 가 상기 정의된 (b) 이고; G 는 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 NO₂ 이고; R₁ 및 R₂ 는 각각 독립적으로 수소, F, Cl, Br 또는 I 이고; Z 는 N, C-NO₂ 또는 C R₃ (R₃은 H, F, Cl, Br, I, CN, C(0)NH₂, C(S)NH₂, 알킬 또는 할로알킬임) 인 식 (II) 의 화합물은 신규의 유용한 중간 생성물로, 따라서 본 발명의 또 다른 특징을 형성한다. 그러한 화합물은 상기 도식에 따라 제조될 수 있다.

본 발명 및 그의 이점을 더 자세하게 설명하기 위하여, 하기에 구체적인 실시예가 주어지며, 이것은 제한적인 의미가 아니며 단지 설명하려는 의도이다.

실시예 1

2-클로로-3-시아노-1-(2-6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-4-(디클로로플루오로메틸술페닐)-5-메틸피롤의 제조

(a) N-메틸 피롤리딘온 10 ml 중의 1-(2-6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (1 g) 을 염화리튬 (0.5 g) 및 술팜산 (1.0 g) 으로 처리하고, 135 내지 138 ℃ 로 가열한다. 23시간 후에, 그 혼합물을 실온으로 냉각하고, 100 ml 의 물에 붓고, 메틸 t-부틸 에테르로 추출한다. 그 배합 추출물을 소금물로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조한다. 여과 및 용매를 제거한 후에, 실리카겔 크로마토그래피를 수행하여 표제화합물 (0.47 g, 50 % 수율) 및 1-(2-클로로-6-니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸술페닐)-5-메틸피롤 (0.16 g, 15 %수율)을 생성한다.

(b) 아질산 이온 스캐빈져 부재하의 비교예

N-메틸 피롤리딘온 10 ml 중의 1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (1g) 을 염화리튬 (0.5 g) 으로 처리하고, 135 내지 138 ℃ 로 가열한다. 23 시간 후에, 그 혼합물을 실온으로 냉각하고, 100 ml 의 물에 붓고, 75 ml 의 메틸 t-부틸에테르로 추출하여 다루기 힘든 유제를 형성한다. 약 25 ml 의 에테르성 상층액을 분리하고, 그 유제를 어떠한 개선도 없는 셀라이트 패드를 통하여 여과한다. 그 유제를 3 × 75 ml 의 메틸 t-부틸에테르로 가능한 추출한다. 그 배합된 추출물을 소금물로 세척하고, 황산마그네슘으로 건조한다. 여과 및 용매를 제거한 후에, 실리카겔 크로마토그래피를 수행하여 정제하여 표제 화합물 (0.19 g, 20 %수율) 및 미량의 2-클로로-3-시아노-1-(2-클로로-6-히드록시-4-트리플루오로메틸페닐)-4-(디클로로플루오로메틸)-술페닐-5-메틸피롤을 생성한다.

상기 실험은 아질산 이온 스캐빈져의 존재 또는 부재 이외에는 동일한 조건 하에서 수행하였으므로, 본 발명에 따라 아질산 이온 스캐빈져의 사용은 수율의 개선 (비교 50 % 대 20 %), 단순한 정제, 및 오염된 부산물의 제거를 제공한다.

(c) 20 ml 의 디메틸술폭시드중의 1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (1.5 g) 및 염화리튬 (1.8 g) 을 12 시간 동안 90 ℃ 로 가열하고, 24시간 동안 150 ℃ 로 가열한다. 그 결과의 갈색의 매스는 EtOAc 및 물 사이에 분배되고, 여과 분리한다.

유기상을 MgSO₄ 로 건조하고, 여과 증발시킨다. 실리카겔 크로마토그래피에 의한 정제로 표제 화합물 (0.44 g, 30 % 수율), 융점 약 138 ℃ 를 생성한다.

하기는 아질산 이온 스캐빈져 존재하의 또 다른 비교예이다.

(d) N-메틸 피롤리딘온 10 ml 중의 1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (1.0 g), 염화리튬 (0.25 g) 및 술팜산 (0.38 g) 의 용액을 135 ℃ 로 3 일 동안 가열한다. 실온으로 냉각한 후에, 그 혼합물을 물로 희석하고, 2 × 75 ml 의 메틸 t-부틸에테르로 추출한다. 그 배합 추출물을 MgSO₄로 건조, 여과하고 감압하에서 농축한다. 실리카겔 크로마토그래피에 의한 정제로 표제 화합물 (0.82 g, 85 % 수율), 융점 약 138 ℃ 를 생성한다.

이것은 아질산 이온 스캐빈져를 사용하여 수득될 수 있는 고수율을 설명한다.

실시예 2

1-(2-클로로-6-니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸술페닐)-5-메틸피롤의 제조

N-메틸 피롤리딘온 200 ml 중의 1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (47.36 g) , 염화리튬 (7.9 g) 및 술팜산 (9.06 g) 의 용액을 120 ℃ 로 3 일 동안 가열한다. 3시간 후에, 부가적으로 염화리튬 (8.26 g) 을 첨가한다. 2 시간 후에, 그 혼합물을 실온으로 냉각하고, 1.5 ℓ 의 혼합물을 물에 붓고, 메틸 t-부틸에테르로 추출한다. 그 추출물을 MgSO₄ 로 건조하고 알루미나 플러그로 여과하고 증발하여 표제 화합물 (38.3 g, 83 %수율), 융점 약 118 ℃ 를 생성한다.

실시예 3

5-아미노-3-시아노-4-(트리플루오로메틸술페닐)-1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-피라졸의 제조

N-메틸 피롤리딘온 8 ml 중의 실시예 5 의 생성물 (0.4 g), 염화리튬 (0.2g) 및 술팜산 (0.18 g) 의 용액을 2 일 동안 135 ℃ 로 가열하고, 6 시간 동안 175 ℃ 로 가열한다. 냉각된 반응 혼합물을 100 ml 의 에테르에 붓고, 4 × 25 ml 의 물로 세척한다. 수성의 세척액을 2 × 25 ml 의 에테르로 추출한다. 그 배합 에테르성 용액을 MgSO₄ 로 건조, 여과하고 증발하여 황색 오일을 수득한다. 컬럼크로마토그래피에 의한 정제로, 표제 화합물 (0.18 g, 48 %수율), 융점 약 161 ℃ 를 생성한다.

하기의 비제한적인 실시예 4 및 5 는 본 발명에 유용한 중간 생성물의 제조를 설명한다.

실시예 4

1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤의 제조

단계 A : 2-클로로-3-시아노-5-메틸피롤의 제조

20 ml 의 CH₂Cl₂ 및 20 ml 의 디옥산 중의 2-시아노-4-옥소펜탄니트릴 (2.1g) 의 용액에 염화수소를 기포 발생을 통하여 15 분 동안 주입한다. 그 혼합물을 1.5 시간 동안 교반하고, 물에 붓고, 염화메틸렌으로 추출한다. 그 유기 추출물을 MgSO₄ 로 건조한다. 실리카겔 크로마토그래피에 의한 정제로 표제 화합물 (3.1 g), 융점 약 157 ℃ 를 생성한다.

단계 B : 2-클로로-3-시아노-4-티오시아나토-5-메틸피롤의 제조

메탄올 10 ml 중의 나트륨 티오시아네이트의 용액을 70 ℃ 로 냉각하고, 메탄올 (9 ml) 중의 브롬 (0.4 ml) 을 17 분에 걸쳐 적가한다. 메탄올 12 ml 중의 단계 A 의 생성물 (1.0 g) 의 용액을 냉각조에서 냉각하고 한번에 첨가한다. 그 반응을 2 시간에 걸쳐 실온으로 승온하고, 소량의 물로 반응을 정지하고, 200 ml 의 물에 붓는다. 그 결과의 침전물을 여과하고 물 및 헥산으로 세척하고, 공기중 건조하여 1.2 g의 표제 화합물, 융점 약 171 ℃ 를 생성한다.

단계 C : 4-(2-클로로-3-시아노-5-메틸피롤) 디술피드의 제조

메탄올 30 ml 중의 단계 C 의 생성물 (2.4 g) 의 용액을 빙수조에서 냉각하고, 나트륨 보로하이드리드를 40분에 걸쳐 나누어 처리한다. 그 혼합물을 40분 동안 가열 환류하고, 실온으로 냉각하고, 물로 희석한다. 그결과의 고형분을 여과로 모아, 물 및 헥산으로 세척하고, 공기중 건조하여 1.01 g의 표제 화합물, 융점 > 230 ℃ (분해) 를 생성한다.

단계 D : 2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸)-술페닐-5-메틸피롤)의 제조

N-메틸피롤리딘온 50 ml 중의 단계 C 의 생성물 (1.6 g) 의 용액을 압력 병안에서 중탄산나트륨 (1.92 g) 과 함께 가열한다. 플루오로트리클로로메탄 (17 ml) 을 첨가하고, 그 혼합물을 -50 ℃ 로 냉각하고, 이산화황(8 ml) 을 첨가한다.

실온으로 승온하고 밤새 교반한 후에, 그 혼합물을 배기한다. 2 시간 동안 질소 기체를 기포로 혼합물에 공급하고, 용매를 감압하에서 제거한다. 그 결과의 갈색 오일을 EtOAc 에 용해하고, 물로 세척하고, MgSO₄ 로 건조한다. 실리카겔 크로마토그래피에 의한 정제로 1.07 g 의 표제 화합물, 융점 약 187 ℃ 를 생성한다.

술포란중의 단계 D 의 생성물 (1 g), 3,5-디니트로-4-플루오로벤조트리플루오라이드 (2g) 및 무수 탄산칼륨 (0.56 g) 을 모아 75 ℃ 로 12 시간 동안 가열하고, 물에 붓고 디에틸에테르로 세척한다. 그 배합된 에테르 추출물을 물로 세척하고, MgSO₄ 로 건조하고, 진공하에서 여과 농축한다. 그 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피로 정제하여 1-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-5-메틸피롤 (1.3 g), 융점 약 153 ℃ 를 생성한다.

실시예 5

5-아미노-3-시아노-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-4-트리플루오로메틸술페닐피라졸의 제조

단계 A : 1-(N-t-부톡시카르보닐)-3-에톡시카르보닐-5-아미노 피라졸의 제조

에틸 (2-옥시-3-시아노) 프로피오네이트 (55.0 g, 338 mmol) 의 나트륨 음이온을 50 ml 의 물에 용해한다. 그 용액을 300 ml 의 에탄올로 희석하고 29 ml 의 무수 염산액 (12 N) 을 첨가하고, 그 결과의 용액을 15 분 동안 실온에서 교반한다. 44.0 g 의 t-부틸 카르바제이트를 첨가하고, 그 혼합물을 실온에서 15 시간 동안 교반한다. 또 다른 14.2 g 의 t-부틸 카르바제이트를 첨가하고, 실온에서 3 시간 더 교반한다. 물 20 ml 중의 25 g 의 탄산칼륨 용액을 0 ℃ 에서 천천히 적가하고, 그 결과의 용액을 30분 동안 환류한다. 그 혼합물을 농축하고, 에틸 아세테이트로 희석하고, 물 및 소금물로 여러 번 세척한다. 그 유기 층을 MgSO₄ 로 건조하고, 농축하여 고형으로 표제 화합물 73.5 g을 생성한다.

¹H NMR 300 MHz (DMSO-d₆) : 1.28 (t, 3H); 1.58 (s, 9H); 4.26 (q, 2H); 5.67 (s, 1H); 6.49 (s, 2H)

단계 B : 1-(N-t-부톡시카르보닐)-3-에톡시카르보닐-4-트리플루오로메틸술페닐-5-아미노피라졸의 제조

단계 A 의 생성물 (80.9 g, 317 mmol) 을 500 ml 의 디클로로메탄에 용해한다. 28.5 g 의 CF₃SCl (1.05 당량) 를 -60 ℃ 에서 천천히 첨가하고, 그 황색 오일을 3 시간 동안 교반하고, 농축 건조하여 88.8 g의 표제 화합물을 생성한다.

¹H NMR 300 mHz (DMSO-d₆) : 1.28 (t, 3H); 1.58 (s, 9H); 4.26 (q, 2H); 7.23 (s, 2H); ¹⁹F NMR 828 MHz (DMSO-d₆) : -44.15, singlet

단계 C : 1-(N-t-부톡시카르보닐)-3-포르밀-4-트리플루오로메틸술페닐-5-아미노피라졸의 제조

단계 B 의 생성물 (88.8 g, 250 mmol) 을 200 ml 의 건조 CH₂Cl₂에 용해하고, 800 ml 의 메틸 t-부틸 에테르로 희석하고, -700 ℃ 로 냉각한다. 425 ml 의 디이소부틸알루미늄 히드리드 (톨루엔중의 1.5 M) 를 1 시간 동안 적가한다. 그 용액을 -50 ℃ 에서 1 시간 동안 교반하고, 동일한 온도에서 250 ml 의 메탄올로 반응을 정지하고, 실온으로 승온한다. 형성된 점착성의 침전물을 셀라이트 (상품명) 를 통하여 여과하고, 디클로로메탄으로 교반하면서 완전히 세척한다. 그 용매를 증발 전조하여 70 g의 표제 화합물을 오일로서 수득한다.

¹H NMR 300 MHz (DMSO-d₆) : 1.61 (s, 9H); 7.36 (s, 2H); 9.84 (s, 1H); ¹⁹F NMR 282 MHZ (DMSO-d₆) : -44.10, Singlet

단계 D : 1-(N-t-부톡시카르보닐)-3-히드록시이미노포르밀-4-트리플루오로 메틸술페닐-5-아미노피라졸의 제조

단계 C 의 생성물 (70 g, 225 mmol) 을 에탄올에 용해한다. 52 g 의 NH₂OH·HCl 및 63 g 의 탄산수소나트륨을 물에 용해하고, 실온에서 에탄올 용액에 첨가한다. 그 결과의 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 교반하고, 농축하여 에틸아세테이트로 희석하고 물 및 소금물로 여러 번 세척한다. 그 유기 층을 MgSO₄ 로 건조하고 농축하여 66 g의 표제 화합물을 고형으로 수득한다 (95 %수율).

¹H NMR 300 MHz (DMSO-d₆) · 1.58 (s, 9H); 7.19 (s, 2H); 7.94 (s, 1H); 11.80 (s, 1H); ¹⁹F NMR 282 MHz (DMSO-d₆) : -44.11, singlet

단계 E : 3-시아노-4-트리플루오로메틸술페닐-5-(N-트리플루오로아세틸아미노)-피라졸의 제조

단계 D 의 생성물 (66 g, 203 mmol) 을 메틸 t-부틸에테르 및 65 ml 의 피리딘에 용해한다. 20 ℃ 미만의 반응 (발열) 을 유지하면서, 상기 용액에 95 ml 의 트리플루오로아세트산 무수물을 적가한다. 그 혼합물을 실온에서 15 시간 동안 교반하면서 물로 수회 세척하고, 200 ml 의 10 %수산화나트륨 수용액으로 5 회 추출한다. 그 수성층을 모아, 무수 염산액으로 pH 7 로 적정하고, 에틸 아세테이트로 재추출한다. 유기층을 모아 MgSO₄ 로 건조하고 농축하여 55 g 의 표제 화합물을 오일로 수득한다.

¹⁹F NMR 282 MHZ (CD₃CN) · (-42.66, s, SCF₃): (-73.54, s, CF₃CO).

단계 F : 3-시아노-4-트리플루오로메틸술페닐-5-아미노피라졸의 제조

단계 E 의 생성물 (55 g, 181 mmol) 을 메탄올에 용해한다. 100 ml 의 수산화암모늄을 첨가하고, 그 용액을 3 시간 동안 환류하고, 실온에서 15 시간 동안 교반한다. 그 메탄올 용액을 무수 염산액을 사용하여 pH 7로 조정하고, 에틸 아세테이트로 희석한다. 그 유기층을 물 및 소금물로 수회 세척하고, MgSO₄ 로 건조하고 농축하여 오일성 갈색 잔류물을 생성하여 메틸 t-부틸 에테르로 재결정하여 33 g의 표제 화합물, 융점 약 1870 ℃ 를 수득한다.

불활성 대기하에서 THF 중의 단계 F 의 생성물 (1.10 g, 5.28 mmol) 의 용액을 냉각조에서 0 ℃ 로 냉각하고, 15 크라운 5 (0.12 g, 0.54 mmol) 로 처리하고, 이어서 수소화나트륨 (0.5 g, 5.94 mmol) 으로 처리한다. 냉각조를 제거하고, 그 혼합물을 45분 동안 교반한다. THF중의 4-클로로-3,5-디니트로벤조트리플루오라이드의 용액을 첨가한다. 20 분 후에, 그 혼합물을 물로 반응을 정지하고, 에테르로 희석하고 물 및 소금물로 세척한다. 그 배합된 수성의 세척액을 에테르로 추출하고, 그 에테르 용액을 황산마그네슘으로 건조하고, 여과하고, 증발한다. 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 0.90 g 의 5-아미노-3-시아노-(2,6-디니트로-4-트리플루오로메틸페닐)-4-트리플루오로메틸술페닐피라졸, 융점 약 214 ℃ 를 수득한다.

본 발명을 다양한 바람직한 구현예로 설명하여, 본 분야의 숙련가는 본 발명의 범주내에서 다양한 변형, 대체, 생략 및 변경을 할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범주는 하기 특허 청구의 범위 및 그에 상응하는 것에 의하여 유일하게 제한받는다.

본 발명에 따라 1-(니트로아릴) 헤테로시클을 할로겐화 금속 염과 반응시켜 복합 농약성 1-(할로아릴) 헤테로시클릭 화합물 제조 방법을 제공할 수 있다.

Claims

하기 식 (II) 의 니트로 함유 화합물을 아질산 이온 스캐빈져의 존재하에 식 MX_n (M은 금속 양이온, X는 할로겐화물 음이온 및 n 은 금속 양이온의 원자가에 상응하는 양의 정수임) 의 할로겐화 금속과 반응시키는 것을 특징으로 하는 하기 식 (I) 의 헤테로시클릭 화합물의 제조 방법:

[상기 식 중,

R 은 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I, 또는 SF₅ 이고,

R₁ 및 R₂는 각각 독립적으로 수소, F, Cl, Br 또는 I 이고,

Y는 F, Cl, Br 또는 I 이며,

Z는 N, C-NO₂ 또는 C-R₃ (R₃은 H, F, Cl, Br, I, CN, C(0)NH₂, C(S)NH₂, 알킬 또는 할로알킬임) 이고,

A 는 N 결합 질소 함유의 5 또는 6 원 헤테로시클릭 고리이고,

G 는 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 NO₂ 이고;

단, 상기 알킬류 및 알콕시류는 1 내지 7개의 탄소 원자를 가짐].
제 1 항에 있어서, 그 반응은 출발 반응물 1 몰당 1 내지 3 몰 당량의 아질산 이온 스캐빈져 존재하에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 아질산 이온 스캐빈져가 술팜산, 우레아, 아닐린, 히드록실아민, 히드라진, 히드라조산, 아스코르브산, 암모늄 술파메이트 또는 암모니아인 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 식 (II) 의 화합물에서 하나 또는 둘 모두의 니트로기가 반응 과정에서 할로겐 원자로 치환됨을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하기임을 특징으로 하는 방법:

첫 번째 단계로, Z 이 -NO₂ 인 식 (II) 의 디니트로 화합물과 할로겐화 금속 염 MX_n 을 반응시켜, 모노할로, 모르니트로 화합물을 생성하고,

두 번째 단계로, 생성된 모노할로, 모노니트로 화합물을 할로겐화 금속 염M'X'_n (금속 양이온 M' 는 M 과 동일하거나 상이하며, 할로겐화물 음이온 X' 은 X과 동일하거나 상이하다) 과 반응시킴.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, MX_n 은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 할로겐화물 염인 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, MX_n은 LiCl 인 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 식 (II) 의 화합물을 1∼10 몰당량의 MX_n과 반응시킴을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 반응은 불활성 용매의 존재 및 50 내지 250 ℃ 의 온도에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하나 이상의 하기 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 방법:

R 은 F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 탄소수 1 내지 4 의 할로알킬이고;

R₁ 및 R₂ 는 모두 H 이며;

Y는 F, Cl 또는 Br 이고;

Z는 C-NO₂, C-Cl, C-H, C-Br, C-F 또는 C-CN 임.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, G 는 F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 탄소수 1 내지 4 의 할로알킬인 것을 특징으로 하는 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, A 가 하기 식인 것을 특징으로 하는 방법:

[상기 식 중,

R₄ 는 H, 알킬, 할로알킬, 포르밀, 알킬카르보닐, 할로겐, CN, NO₂, 시클로알킬, C(0)NH₂, 알콕시 또는 C(S)NH₂ 이고;

R₅ 는 R₃₃S(0)_q, CN, SCN, NO₂, 할로알킬, 할로알킬카르보닐, 할로알콕시 또는 할로겐이고;

R₆ 은 H, 알킬, 할로알킬, 알킬카르보닐, 포르밀, 할로알킬카르보닐, 할로겐, NR₃₄R₃₅, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알콕시, 할로알콕시, N=CH-0-알킬 또는 N=CH- (OH, 알콕시, 할로겐, 알킬, 할로알킬, CN 또는 NO₂ 로 치환된 페닐) 이고,

R₇ 은 H, 알킬, 할로알킬, 할로겐, 시아노, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐이며;

R₉ 는 할로알킬, CN, NO₂, 할로겐, H, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐 또는 할로알콕시이고;

R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 각각 독립적으로 H, 알킬, 할로, CN, NO₂ 또는 할로알킬이고;

R₁₂는 0 또는 S 이며;

R₁₃ 은 할로겐, 알콕시, 알킬티오, 알킬술포닐, 알콕시카르보닐, 카르바모일, 시클로알킬 또는 알케닐로 치환된 알킬이고;

R₁₄ 는 H, 할로겐, 할로알킬, 알콕시알킬, 알케닐옥시알킬, 메틸, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐 또는 NR₃₄R₃₅ 이며;

R₁₅ 는 알킬 또는 할로알킬이고;

R₁₆, R₁₇, R₁₈, R₁₉ 및 R₂₀ 은 각각 독립적으로 H, 알킬, 알케닐알키닐, 할로겐, CN, 포르밀, 알킬카르보닐, 알콕시카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 할로알킬카르보닐, NO₂, SCN, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 할로알케닐, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐이며;

R₂₁, R₂₂ 및 R₂₄ 는 각각 독립적으로 H, 할로겐, NO₂, OH, CN, 알킬, 알콕시이미노알킬, 알콕시알킬, 할로알킬 또는 알콕시이고;

B, C 및 D 중의 하나는 N 또는 N → 0 이고, 다른 것들은 각각 C-R₃₆ 이며;

R₂₃ 은 H, 할로겐, 알킬 또는 NO₂ 이고;

R₂₅ 는 H 또는 할로겐이며;

R₂₇ 은 H; 할로겐; NO₂; CN; 알킬; 알콕시; 알케닐옥시; 알키닐옥시; 알콕시알킬; 카르보닐알콕시; 알킬옥시알콕시; 시아노알콕시; 벤질옥시; 알콕시카르보닐알콕시; 알킬카르보닐알콕시; 할로알킬; 히드록시알킬; 포르밀; 아지도; COOH 또는 그의 염; COO-알킬; 알킬, 알콕시, OH, 포르밀, 알킬카르보닐 (COOH 또는 알콕시카르복시로 치환됨), 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알콕시카르보닐, 알콕시알킬, 히드록시카르보닐알킬, 알콕시카르보닐알킬, 아미노 또는 디알킬아미노로 치환된 NH₂; 알킬 또는 할로알킬술포닐로 치환된 카르복스아미도; N 은 H, 알킬 또는 양자로 치환된 술폰아미도; 또는 QR₃₈ 이며;

R₂₈ 은 H, 알킬, 할로겐, CN, 할로알킬 또는 알콕시, 또는 COOH 또는 그의 염 또는 에스테르이고,

R₂₉ 및 R₃₀ 은 각각 독립적으로 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐 (알킬, 알케닐 및 알키닐 각각은 할로겐으로 치환될 수 있다), 페닐, 피리딜, 시아노, 할로겐, 니트로, CHO 또는 NR₃₉R₄₀ 이며;

R₃₁ 및 R₃₂ 는 각각 독립적으로 H, 할로겐, CN, NO₂, CONH₂, 알킬술페닐, 알킬술피닐, 알킬술포닐 또는 NR₃₄R₃₅ 이고;

R₃₃ 은 C₁-C₆ 알킬, 시클로알킬, 시클로알킬알킬 또는 할로알킬이고;

R₃₄ 및 R₃₅ 는 각각 독립적으로, H, 알킬, 알킬카르보닐, 포르밀 또는 알콕시카르보닐이거나, 또는 R₃₄ 및 R₃₅ 는 질소원자와 함께 부착되어 5 원 피롤 또는 피라졸 부분을 형성하며;

R₃₆ 은 H, 할로겐, NO₂, CN, 알킬, 알콕시알킬, 아세톡시메틸, 히드록시메틸, 할로알킬, 포르밀, 알킬카르보닐, 카르복시 또는 그의 염, COO- 알킬, N₃, NH₂(알킬, 알콕시, OH, 포르밀, 알킬카르보닐, 알콕시카르보닐알킬옥시, 알콕시카르보닐알킬티오, 알콕시카르보닐알킬리덴카르보닐, 히드록시카르보닐알콕시, 히드록시카르보닐티오, 시아노알콕시, 히드록시카르보닐알킬리덴카르보닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알콕시카르보닐, 알콕시알킬, 히드록시카르보닐알킬, 알콕시카르보닐알킬 또는 아미노로 치환됨), 카르복시아미도 (알킬, 알킬술포닐 또는 할로알킬술포닐로 치환됨), 술폰아미도 (N 은 H, 알킬 또는 양자로 치환됨) 또는 QR₃₇ 이며;

R₃₇ 은 H, 알킬, 할로알킬, 시아노알킬, 알콕시카르보닐알킬, 히드록시카르보닐알킬 또는 아미노카르보닐알킬 (N은 H, 알킬 또는 양자로 치환됨) 이며;

Q 는 0 또는 S(0)_m 이고;

R₃₈ 은 H, 할로알킬, 시아노알킬, 알콕시카르보닐알킬, 히드록시카르보닐알킬 또는 아미노카르보닐알킬 (N은 H, 알킬 또는 양자로 치환됨) 이며;

R₃₉ 및 R₄₀ 은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬이거나, 또는 질소원자와 함께 부착되어 다른 헤테로 고리 원자를 가질 수 있는 5 원 내지 7 원 고리를 형성하며;

R₄₁ 은 수소, 알킬, 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 카르복시알콕시, 알콕시카르보닐알콕시, 알콕시알콕시, 시아노알콕시, 할로알킬술포닐아미노, 알킬술포닐아미노, 알콕시카르보닐, 할로알킬, 할로겐, 니트로, 카르복시, 카르복시알킬, 히드록시, 벤질옥시 또는 시아노이며;

R₄₂ 는 C₇ 비시클로알킬, 메틸-또는 클로로 치환 C₃-C₆ 시클로알킬, C₂-C₅ 알케닐, 메틸 치환 C₆ 시클로알케닐, 2-메틸-1,3-디티올란-2-일 또는 C₁-C₅ 알킬 (알킬은 할로겐, C₁-C₃ 알콕시, C₁-C₃ 알킬티오, C₁-C₃ 알킬술피닐, C₁-C₃ 알킬술포닐 또는 C₁-C₃ 알콕시카르보닐로 치환될 수 있다) 이고;

m 은 0, 1 또는 2 이고;

o 는 0, 1, 2, 3 또는 4 이며;

p 는 0, 1 또는 2 이고;

q 는 0, 1 또는 2 이고; 및

y 는 0, 1, 2 또는 3 이고,

단,

상기 알킬류 및 알콕시류는 1 내지 7개의 탄소원자를 가지며,

상기 시클로알킬은 3 내지 6개의 탄소원자를 가지며,

상기 알케닐류 및 알키닐류는 2 내지 7개의 탄소원자를 가짐].
제 12 항에 있어서, A 는 그의 질소 원자를 통하여 결합된 피롤릴, 피라졸릴 또는 이미다졸릴 고리인 것을 특징으로 하는 방법.
제 12 항에 있어서, A 는 구조 (a), (b) 또는 (c) 인 것을 특징으로 하는 방법 .
하기 식 (II) 의 화합물:

상기 식 중,

A 는 제 14 항에서 정의된 (b) 이고;

G 는 할로알킬, 할로알콕시, 할로알킬술페닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, F, Cl, Br, I, SF₅ 또는 NO₂ 이고;

R₁ 및 R₂ 는 각각 독립적으로 수소, F, Cl, Br 또는 I 이고;

Z 는 N, C-NO₂ 또는 C-R₃ (R₃ 은 H, F, CL, Br, I, CN, C(0)NH₂, C(S)NH₂, 알킬 또는 할로알킬이고;

단, 상기 알킬류 및 알콕시류는 1 내지 7개의 탄소 원자를 가짐].
제 1 항에 있어서, A 는 N 결합 질소 함유의 5 또는 6 원 헤테로시클릭 고리인 것을 특징으로 하는 방법.