KR100460338B1 - 반도체소자 제조용 서셉터 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체소자 제조용 서셉터에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼를 가열하는 원통형상의 히터; 상기 히터의 내부에 위치하며 웨이퍼를 진공흡착할 수 있도록 일측에 진공홀이 형성된 진공척; 상기 진공척을 상기 히터에 위치하도록 상기 진공척이 통과하여 지지될 수 있도록 링(Ring)형상으로 형성되며, 상기 진공척의 진공홀을 따라 진공을 형성하기 위한 진공노즐이 통과할 수 있도록 일측이 개방된 진공척클립; 및 상기 개방된 부분을 통하는 진공노즐을 상기 진공척클립의 일측에 고정시키는 고정부재를 구비하여 이루어진다.
따라서, 공정진행시 서셉터 진공노즐의 진동을 억제하므로써 상기 진공노즐의 진공이 누출되는 것을 차단하여 웨이퍼의 떨어트림 및 파티클 발생을 방지하는 효과가 있다.
Description
본 발명은 반도체소자 제조용 서셉터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진공노즐을 고정시키는 고정부재를 부착한 반도체소자 제조용 서셉터에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자는 증착공정, 사진공정, 식각공정 및 이온주입공정 등의 일련의 공정들을 수행하여 이루어진다.
즉, 반도체소자는 반도체 기판 위에 다결정막, 산화막, 질화막 및 금속막 등과 같은 여러 층의 박막을 증착하여 사진공정 및 식각공정 통해 패턴을 형성시켜 완성한다.
상기 증착공정은 웨이퍼 상에 전열막, 산화막 및 금속막 등을 증착하는 공정으로써 주로 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition)방법을 이용한다. 상기 화학기상증착장치의 웨이퍼를 장착하는 부분이 서셉터(Susceptor)이다
도1은 종래의 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도2는 종래의 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 평면도이다.
도1 및 도2에서 보는 바와 같이 웨이퍼가 부착되는 서셉터(2), 상기 서셉터의 일측에 형성되는 진공구멍(6), 상기 진공구멍(6) 내로 삽입되어 상기 웨이퍼를 진공에 의해 흡입 부착하는 진공노즐(8), 상기 서셉터(2)를 지지하는 서셉터클립(4), 상기 서셉터2)와 상기 서셉터클립(4)가 장착되며 상기 웨이퍼를 가열하는 히터(10)로 구성되어 있다.
상기 진공노즐(8)은 상기 진공구멍(6)에 일직선으로 조립되지만 공정진행중 설비자체의 진동으로 인하여 상기 진공노즐(8)의 진공이 누출되는 경우가 있다. 그러므로 상기 진공의 누출로 상기 서셉터에 붙어있던 웨이퍼(12)가 떨어지거나 상기 진동에 의하여 다량의 파티클이 발생하는 문제점이 발생한다.
본 발명의 목적은, 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 서셉터 클립에 서셉터 진공노즐의 고정장치를 부착하여 공정중 상기 진공노즐의 진동을 방지하여 공정 진행중 웨이퍼의 떨어트림 및 파티클 발생을 방지 하여 공정의 안정적인 진행과 장비의 가동률을 향상시키는데 있다.
도1은 종래의 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도2은 종래의 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 평면도이다.
도3은 본 발명에 의한 서셉터클립에 고정장치가 부착된 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도4는 본 발명에 의한 서셉터클립에 고정장치가 부착된 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 평면도이다.
도5a는 본 발명의 일 실시예에 의한 고정부재를 나타내는 평면도이다.
도5b는 본 발명의 일 실시예에 의한 고정부재를 나타내는 측면도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
2 ; 서셉터 4 ; 서셉터 클립
6 ; 진공구멍 8 ; 진공노즐
10 ; 히터 12 ; 웨이퍼
14 ; 고정부재
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체소자 제조용 서셉터는 웨이퍼를 가열하는 원통형상의 히터, 상기 히터의 내부에 위치하며 웨이퍼를 진공흡착할 수 있도록 일측에 진공홀이 형성된 진공척, 상기 진공척을 상기 히터에 위치하도록 상기 진공척이 통과하여 지지될 수 있도록 링(Ring)형상으로 형성되며, 상기 진공척의 진공홀을 따라 진공을 형성하기 위한 진공노즐이 통과할 수 있도록 일측이 개방된 진공척클립 및 상기 개방된 부분을 통하는 진공노즐을 상기 진공척클립의 일측에 고정시키는 고정부재를 구비하여 이루어진다.
이하, 본 발명의 구체적인 일 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도3은 본 발명에 의한 서셉터클립에 고정장치가 부착된 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도4는 본 발명에 의한 서셉터클립에 고정장치가 부착된 반도체소자 제조용 서셉터를 나타내는 평면도이다.
도3 및 도4에서 보는 바와 같이 웨이퍼(12)가 부착되는 진공척(2), 상기 진공척의 일측에 형성되는 진공구멍(6), 상기 진공구멍(6) 내로 삽입되어 상기 웨이퍼(12)를 진공에 의해 흡입 부착하는 진공노즐(8), 상기 진공척(2)를 지지하는 진공척클립(4), 상기 진공척클립(4)의 일측에 형성되며 상기 진공척으로 삽입되어 진공을 형성하여 상기 웨이퍼(12)를 흡입부착하는 진공노즐(8)을 공정진행중 장비의 진행에 의하여 발생하는 진동에 의해 움직여 진공능력을 떨어트려 상기 웨이퍼(12)가 아래로 떨어지는 것을 방지하기 위하여 상기 진공노즐(8)을 상기 진공척클립(4)에 고정시키는 고정부재(14) 및 상기 진공척(2)과 상기 진공척클립(4)을 내재하며 상기 웨이퍼(12)를 가열하는 원통형의 히터(10)로 구성되어 있다.
도5a는 본 발명의 일 실시예에 의한 고정부재를 나타내는 평면도이다.
도5b는 본 발명의 일 실시예에 의한 고정부재를 나타내는 측면도이다.
도5a 및 도5b에서 보는 바와 같이 상기 고정부재는 상기 진공노즐을 삽입하는 원형고리(16)와 상기 원형고리(16)의 일측에 형성되며 소정의 면적을 갖는 표면에 나사구멍(18)이 형성되어 있어 상기 고정부재를 상기 진공척클립(4)에 고정한다.
따라서, 본 발명에 의하면 상술한 바와 같이 공정진행시 서셉터 진공노즐의 진동을 억제하므로써 상기 진공노즐의 진공이 누출되는 것을 차단하여 웨이퍼의 떨어트림 및 파티클 발생을 방지하는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (2)
- 반도체소자 제조용 서셉터에 있어서,웨이퍼를 가열하는 원통형상의 히터;상기 히터의 내부에 위치하며 웨이퍼를 진공흡착할 수 있도록 일측에 진공홀이 형성된 진공척;상기 진공척을 상기 히터에 위치하도록 상기 진공척이 통과하여 지지될 수 있도록 링(Ring)형상으로 형성되며, 상기 진공척의 진공홀을 따라 진공을 형성하기 위한 진공노즐이 통과할 수 있도록 일측이 개방된 진공척클립; 및상기 개방된 부분을 통하는 진공노즐을 상기 진공척클립의 일측에 고정시키는 고정부재;를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 서셉터.
- 제 1 항에 있어서,상기 고정부재는 고리형태인 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조용 서셉터.
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Publications (2)
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| KR19990069091A (ko) | 1999-09-06 |
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