KR100447917B1 - 액정배향제및액정표시소자의제조방법 - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1 내지 화학식 5로부터 선택되는 적어도 하나의 구조를 갖는 중합체를 포함하는 액정 배향제 및 이로부터 제조되는 액정 표시 소자의 제조 방법이 제공된다.
식 중, P1, P2, P3, P4, P5, Q1, Q2, Q3, Q4및 Q5는 방향족 고리를 함유하는 유기기를 나타내고, P1, P4, Q1및 Q3은 2가의 유기기를 나타내며, P2, P3, Q4및 Q5는 1가의 유기기를 나타내고, P5및 Q2는 3가의 유기기를 나타내며, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.

Description

액정 배향제 및 액정 표시 소자의 제조 방법 {Liquid Crystal Aligning Agent and Process for Preparing Liquid Crystal Display Device}
본 발명은 액정 배향제에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 러빙처리를 실시하지 않고, 직선 편광된 방사선의 조사에 의해 액정 배향 능력을 부여하는 것이 가능한 액정 배향막의 형성에 사용되는 액정 배향제에 관한 것이다.
종래, 양의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정을, 액정 배향성을 갖는 투명전극이 부착된 기판에 샌드위치 구조로 하고, 액정 분자의 장축이 기판간에 90도 이상 연속적으로 비틀리도록 이루어진 TN (Twisted Nematic)형, STN (Super Twisted Nematic)형 액정셀을 갖는 액정 표시 소자가 알려져 있다.
상기 액정셀에서의 액정을 배향시키는 수단에는 기판 표면에 유기막을 형성하고, 이어서 그 유기막 표면을 레이온 등의 천으로 한쪽 방향으로 문질러서 액정 배향성을 부여하는 (러빙 처리를 실시하는) 방법, 기판 표면에 산화규소를 사방 증착하는 방법, 랭뮤어·브로젝트법 (LB법)을 사용하여 장쇄 알킬기를 갖는 단분자막을 형성하는 방법 등이 있으나, 처리하는 기판의 크기에 제약이 있거나, 액정의 배향 균일성이 불충분하기 때문에, 공업적으로는 처리 시간이나 처리 비용 면에서 유리한 러빙처리에 의한 액정의 배향이 일반적이다.
그러나, 액정의 배향을 러빙처리에 의해 실시하면, 러빙처리 공정 중에 먼지가 발생하거나, 정전기가 발생하기 쉬워진다는 문제점이 있다. 정전기가 발생하면, 배향막 표면에 먼지가 부착되어 표시 불량이 발생하는 원인이 되고, 또한, TFT (박막 트랜지스터) 소자를 갖는 기판인 경우, 발생한 정전기에 의해 TFT 소자의 회로 파괴가 일어나고, 수율 저하의 원인이 되기도 한다. 또한, 금후 더욱 더 고정밀 미세화되는 액정 표시 소자에 있어서는, 화소의 고밀도화에 수반되는 기판 표면의 요철 때문에, 러빙 처리의 균일성이 문제가 된다.
본 발명의 목적은 액정의 배향 제어가 용이하고, 정전기나 먼지가 발생하지 않고, 대량생산성도 우수한 액정 배향막의 형성 방법에 사용되는 액정 배향제를 제공하는 것이다.
본 발명에서의 액정 배향제는 하기 화학식 1 내지 화학식 5로부터 선택되는 적어도 하나의 구조를 갖는 중합체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
<화학식 1>
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
식 중, P1, P2, P3, P4, P5, Q1, Q2, Q3, Q4및 Q5는 방향족 고리를 함유하는 유기기를 나타내고, P1, P4, Q1및 Q3은 2가의 유기기를 나타내며, P2, P3, Q4및 Q5는 1가의 유기기를 나타내고, P5및 Q2는 3가의 유기기를 나타내며, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
액정 배향제
본 발명의 액정 배향제는 방사선에 관능하는 구조를 갖는 중합체로 이루어진다. 여기서 말하는 "관능"이란, 방사선의 조사를 받는 경우, 광여기 반응에 의해 에너지 준위가 높아지고, 이어서 에너지를 방출하여 안정상태로 되돌아가는 것을 말한다. 이와 같은 구조로서는 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 공액 에논 구조 (이하, 특정 구조라고도 함)를 들 수 있다.
식 중, P1, P2, P3, P4, P5, Q1, Q2, Q3, Q4및 Q5는 방향족 고리를 함유하는 유기기이며, 바람직하게는, 탄소원자수 6 내지 20개의 유기기이다. 이들 유기기에는 할로겐 원자가 포함되어 있어도 좋다. 구체적으로는, 4-펜틸페닐기, 4-플루오로페닐기, 3,4-디플루오로페닐기, 3,4,5-트리플루오로페닐기, 4-옥틸페닐기, 4-펜틸비페닐기, 4-옥틸비페닐기, 4-플루오로비페닐기, 3,4-디플루오로비페닐기, 3,4,5-트리플루오로비페닐기, 4-옥틸-1-나프틸기, 5-펜틸-1-나프틸기, 6-옥틸-2-나프틸기, 9-안트라세닐기, 10-펜틸-9-안트라세닐기, 1,2-페닐렌기, 1,3-페닐렌기, 1,4-페닐렌기, 4,4'-비페닐렌기, 또는 화학식,,,또는으로 표시되는 유기기 등을 들 수 있으며, 이들은 서로 동일하거나 또는 상이하여도 좋다.
또한, 식 중, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10은 수소 원자 또는 알킬기이며, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다. 이들의 알킬기는 직쇄상 또는 분지상도 좋으며, 서로 동일하거나 또는 상이하여도 좋다.
이들의 특정 구조 중, 하기 화학식 6 및 7로부터 선택되는 적어도 하나의 특정 구조를 갖는 중합체는 배향막의 열화를 일으키기 어려운 320 nm 이상의 긴 파장의 자외선에 의해서도 광반응이 진행하고, 동시에 내열성이 우수한 액정 배향막이 얻어진다는 점에서 특히 바람직하다.
식 중, P4, P5, Q4및 Q5는 상기 화학식 4 및 5와 동일하다.
본 발명의 액정 배향제를 구성하는 중합체는 상기 특정 구조를 주쇄 또는 측쇄에 갖는 중합체이다. 중합체의 주쇄로는, 특히 제한되는 것은 아니나, (1) 폴리이미드, (2) 폴리에스테르, (3) 폴리아미드 및 (4) 폴리(메트)아크릴레이트로부터 선택되는 것이 바람직하다. 특히 내열성이 우수하다는 점에서 폴리이미드가 바람직하다.
상기 폴리이미드는
(가) 테트라카르복실산 2무수물과,
(나) 디아민 화합물
을 반응시켜, 중간체의 폴리아미드산을 거쳐 수득된다. 본 발명에서 사용되는 폴리이미드는 (가) 테트라카르복실산 2무수물 성분과, (나) 디아민 성분 중 적어도 하나의 성분에서 상기 특정 구조를 갖는 화합물이 사용된다.
특정 구조를 갖는 테트라카르복실산 2무수물로서는, 예를 들면, 3,3',4,4'-칼콘테트라카르복실산 2무수물, 4,4',5,5'-칼콘테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,5'-칼콘테트라카르복실산 2무수물, 4,4'-디히드록시칼콘비스트리멜리테이트, 3,4'-디히드록시칼콘비스트리멜리테이트, 3',5'-디히드록시칼콘비스트리멜리테이트, 2,4-디히드록시칼콘비스트리멜리테이트, 2,2'-비스(4-카르코닐옥시)-3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 3,3'-비스(4-카르코닐옥시)-4,4',5,5'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 2,2'-비스(4-카르코닐옥시)-4,4',5,5'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 4,4'-비스(4-카르코닐옥시)-2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 6,6'-비스(4-카르코닐옥시)-2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 5,5'-비스(4-카르코닐옥시)-2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 2,2'-비스(4-카르코닐옥시)-3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 3,3'-비스(4-카르코닐옥시)-4,4',5,5'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 2,2'-비스(4-카르코닐옥시)-4,4',5,5'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 4,4'-비스(4-카르코닐옥시)-2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 6,6'-비스(4-카르코닐옥시)-2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 5,5'-비스(4-카르코닐)-2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복실산 2무수물 등을 들 수 있다.
특정 구조를 갖는 디아민 화합물로서는, 예를 들면 3,3'-디아미노칼콘, 4,4'-디아미노칼콘, 3,4'-디아미노칼콘, 2,3-디아미노칼콘, 2,4-디아미노칼콘, 3,4-디아미노칼콘, 3,5-디아미노칼콘, 4-(2,4-디아미노펜옥시)칼콘, 4-(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4'-(2,4-디아미노펜옥시)칼콘, 하기 화학식 8 및 9로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
식 중, A1, A2, A3및 A4는 2가의 방향족 기를 나타내고, n은 1 내지 10의 정수를 나타낸다.
이들 중, 상기 화학식 8 및 9로 표시되는 화합물이 바람직하며, 상기 화학식 9로 표시되는 화합물이 특히 바람직하다. 상기 화학식 8 및 9 중, CnH2n+1-로 표시되는 알킬기는 직쇄상이거나 분지상이어도 좋으나, 직쇄상의 것이 더욱 바람직하다. A1, A2, A3및 A4로 표시되는 2가의 방향족 기로서는, 예를 들면, 페닐렌기, 비페닐렌기, 나프틸렌기, 비나프틸렌기, 안트릴렌기, 페난트릴렌기, 또는 피렌, 크리센, 나프타센 등의 다환 방향족 화합물로부터 수소 원자 2개를 제거한 유기기 등을 들 수 있다.
상기 화학식 8로 표시되는 화합물의 구체적인 예를 들면, 4-이소프로필-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-아밀-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-펜틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-옥틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-펜틸-2-메틸-4'(2,4-디아미노펜옥시)칼콘, 4-펜틸-2,5-디메틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-옥틸-2-메틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘, 4-옥틸-4'(2,4-디아미노펜옥시)칼콘, 4-펜틸-4'(3,5-디아미노벤조일옥시)칼콘, 4-옥틸-4'(3,5-디아미노벤조일옥시)칼콘, 4-펜틸-3'-(2,4-디아미노벤조일옥시)칼콘, 4-옥틸-3'(2,4-디아미노벤조일옥시)칼콘 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4-펜틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘 및 4-옥틸-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘이 특히 바람직하다.
상기 화학식 9로 표시되는 화합물의 구체적인 예를 들면, 4-(3,5-디아미노펜옥시)-4'-이소프로필칼콘, 4-(3,5-디아미노펜옥시)-4'-펜틸칼콘, 4-(3,5-디아미노펜옥시)-4'-옥틸칼콘, 4-(2,4-디아미노펜옥시)-4'-펜틸칼콘, 4-(2,4-디아미노펜옥시)-4'-옥틸칼콘, 4-(3,5-디아미노벤조일옥시)-4'-펜틸칼콘, 4'-(4-펜틸페닐)-4-(3,5-디아미노펜옥시)칼콘이 특히 바람직하다.
이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리이미드로는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 정도로 다른 테트라카르복실산 2무수물 및(또는) 디아민 화합물을 병용할 수 있다.
다른 테트라카르복실산 2무수물로서는, 예를 들면, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물, 부탄테트라카르복실산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 2무수물, 3,5,6-트리카르복시노르보르난-2-아세트산 2무수물, 2,3,4,5-테트라히드로푸란테트라카르복실산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸랄)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산 2무수물, 비시클로[2,2,2]-옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 2무수물 등의 지방족 또는 지환식 테트라카르복실산 2무수물,
피로멜리트산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐술폰테트라카르복실산 2무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 2무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,4'-디메틸디페닐실란테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,4'-테트라페닐실란테트라카르복실산 2무수물, 1,2,3,4-푸란테트라카르복실산 2무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시펜옥시)디페닐술피드 2무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시펜옥시)디페닐술폰 2무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시펜옥시)디페닐프로판 2무수물, 3,3',4,4'-퍼플루오로이소프로필리덴테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 2무수물, 비스(프탈산)페닐포스핀옥시드 2무수물, p-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 2무수물, m-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 2무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐에테르 2무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐메탄 2무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 2무수물을 들 수 있다.
이들 중, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물, 부탄테트라카르복실산 2무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2무수물, 피로멜리트산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐술폰테트라카르복실산 2무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 2무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복실산 2무수물이 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할수 있다.
다른 디아민 화합물으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 1,5-디아미노나프탈렌, 3,3-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 5-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 6-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스(4-아미노펜옥시)프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노펜옥시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노펜옥시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노펜옥시)페닐]술폰, 1,4-비스(4-아미노펜옥시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노펜옥시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노펜옥시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-메틸렌-비스(2-클로로아닐린), 2,2',5,5'-테트라클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노-5,5'-디메톡시비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 1,4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2'-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸펜옥시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)펜옥시]-옥타플루오로비페닐 등의 방향족 디아민, 디아미노테트라페닐티오펜 등의 헤테로 원자를 갖는 방향족 디아민,
1,1-메타크실렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 헵타메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 노나메틸렌디아민, 4,4-디아미노헵타메틸렌디아민, 1,4-디아미노시클로헥산, 이소포론디아민, 테트라히드로디시클로펜타디에닐렌디아민, 헥사히드로-4,7-메타노인다닐렌디메틸디아민, 트리시클로[6.2.1.02.7]-운데실렌디메틸디아민, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민) 등의 지방족 또는 지환식 디아민, 디아미노헥사메틸디실록산 등의 디아미노오르가노실록산을 들 수 있다.
이들 중, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,7-디아미노플루오렌, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2-비스[4-(4-아미노펜옥시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2'-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸펜옥시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)펜옥시]-옥타플루오로비페닐이 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리이미드는 상기 (가) 테트라카르복실산 2무수물 성분과 (나) 디아민 성분을 중축합시켜 폴리아미드산을 수득하고, 이어서 필요에 따라 탈수제 및 이미드화 촉매의 존재하에 가열하여 이미드화함으로서 수득될 수 있다. 가열에 의해 이미드화하는 경우의 반응 온도는 통상 60 내지 300℃, 바람직하게는 100 내지 170℃이다. 반응 온도가 60℃ 미만에서는 반응의 진행이 늦어지고,또한 300℃를 초과하면, 폴리아미드산의 분자량이 크게 저하될 수도 있다.
또한, 탈수제 및 이미드화 촉매의 존재하에 이미드화하는 경우의 반응은 유기 용매 중에서 실시할 수 있다. 반응 온도는 통상 0 내지 180℃, 바람직하게는 60 내지 150℃이다. 상기 탈수제로서는 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물을 사용할 수 있다. 또한, 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 사용할 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다. 탈수제의 사용량은 폴리아미드산의 반복단위 1 몰에 대하여 1.6 내지 20 몰로하는 것이 바람직하다. 또한, 이미드화 촉매의 사용량은 사용하는 탈수제 1 몰에 대하여 0.5 내지 10 몰이 바람직하다. 이 이미드화 촉매 및 탈수제의 사용량에 따라서 폴리이미드 중의 아미드산 잔기의 함유율을 조정할 수 있다.
상기 폴리에스테르는
(다) 디카르복실산류 (디카르복실산, 디카르복실산 에스테르 또는 디카르복실산 할로겐화물)과
(라) 디올 화합물
을 반응시켜 수득된다. 본 발명에서 사용되는 폴리에스테르는 (다) 디카르복실산류 성분과 (라) 디올 화합물 중 적어도 하나의 성분에 상기 특정 구조를 갖는 화합물이 사용된다.
특정 구조를 갖는 카르복실산류로서는, 예를 들면 칼콘-3,3'-디카르복실산, 칼콘-3,4'-디카르복실산, 칼콘-4,4'-디카르복실산, 2,3-칼콘디카르복실산, 2,4-칼콘디카르복실산, 3,4-칼콘디카르복실산, 3,5-칼콘디카르복실산, 1-(4-카르코닐옥시)-2,4-벤젠디카르복실산, 1-(4-카르코닐옥시)-2,5-벤젠디카르복실산, 1-(4-카르코닐옥시)-2,6-벤젠디카르복실산, 1-(4-카르코닐옥시)-3,5-벤젠디카르복실산 및 각각의 알킬에스테르 등의 에스테르 화합물, 카르복실산 클로라이드 등의 카르복실산할로겐화물을 들 수 있다.
특정 구조를 갖는 디올 화합물으로서는, 예를 들면 3,3'-디히드록시칼콘, 4,4'-디히드록시칼콘, 3,4'-디히드록시칼콘, 4,4'-디히드록시칼콘, 2,3-디히드록시칼콘, 2,4-디히드록시칼콘, 3,4-디히드록시칼콘, 3,5-디히드록시칼콘, 1-(4-카르코닐옥시)-2,4-벤젠디올, 1-(4-카르코닐옥시)-2,5-벤젠디올, 1-(4-카르코닐옥시)-2,6-벤젠디올 및 1-(4-카르코닐옥시)-3,5-벤젠디올 등을 들 수 있다.
이들 중, 칼콘-4,4'-디카르복실산, 4,4'-디히드록시칼콘, 1-(4-카르코닐옥시)-3,5-벤젠디카르복실산 및 1-(4-카르코닐옥시)-3,5-벤젠디올이 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리에스테르에는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 정도의 다른 디카르복실산류 및(또는) 디올 화합물을 병용할 수 있다.
다른 카르복실산류 화합물로서는, 예를 들면 옥살산, 말론산, 디플루오로말론산, 알킬말론산, 숙신산, 테트라플루오로숙신산, 알킬숙신산, (±)-말산, meso-타르타르산, 이타콘산, 말레산, 메틸말레산, 푸마르산, 메틸푸마르산, 아세틸렌디카르복실산, 글루타르산, 헥사플루오로글루타르산, 메틸글루타르산, 글루타콘산, 아디프산, 디티오아디프산, 메틸아디프산, 디메틸아디프산, 테트라메틸아디프산,메틸렌아디프산, 무코산, 갈락타르산, 피메르산, 수베르산, 퍼플루오로수베르산, 3,3,6,6-테트라메틸수베르산, 아젤라산, 세바크산, 퍼플루오로세바크산, 브라실산, 도데실디카르복실산, 트리데실디카르복실산, 테트라데실카르복실산 등의 지방족 카르복실산,
시클로알킬카르복실산, 아디프산, 헥사히드로프탈산, 1,4-(노르보르넨)디카르복실산, 비시클로알킬디카르복실산, 아다만탄디카르복실산, 스피로헵탄디카르복실산 등의 지환식 카르복실산,
프탈산, 이소프탈산, 디티오이소프탈산, 메틸이소프탈산, 디메틸이소프탈산, 클로로이소프탈산, 디클로로이소프탈산, 테레프탈산, 메틸테레프탈산, 디메틸테레프탈산, 클로로테레프탈산, 브로모테레프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 옥소플루오렌디카르복실산, 안트라센디카르복실산, 비페닐디카르복실산, 비페닐렌디카르복실산, 디메틸비페닐렌디카르복실산, 4,4"-p-테레페닐렌디카르복실산, 4,4'"-p-쿠와렐페닐디카르복실산, 비벤질디카르복실산, 아조벤젠디카르복실산, 호모프탈산, 페닐렌 2아세트산, 페닐렌디프로피온산, 나프탈렌디카르복실산, 나프탈렌디프로피온산, 비페닐 2아세트산, 비페닐디프로피온산, 3,3'-[4,4'-(메틸렌디-p-비페닐렌)디프로피온산, 4,4'-비벤질 2아세트산, 3,3'-(4,4'-비벤질)디프로피온산, 옥시디-p-페닐렌 2아세트산 등의 방향족 디카르복실산 및 각각의 알킬에스테르 등의 에스테르 화합물, 카르복실산 클로라이드 등의 카르복실산 할로겐화물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
다른 디올 화합물으로서는, 예를 들면 카테콜, 알킬카테콜, 히드로퀴논 등의다가 페놀류; 메틸렌비스페놀, 이소프로필리덴비스페놀, 부틸리덴비스페놀, 티오비스페놀, 술피닐비스페놀, 술포닐비스페놀, 옥시비스페놀 등의 비스페놀류를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리에스테르는 상기 (다) 디카르복실산류 성분과 (라) 디올 화합물 성분을 필요에 따라 촉매 존재하에 가열 중축합시켜 수득된다. 디카르복실산과 디올 화합물과의 중축합의 경우에는, 촉매로서 황산, p-톨루엔술폰산 등의 양성자산, 중금속의 산화물 또는 염, 티탄, 주석, 납 등의 유기금속 화합물 등이 사용된다. 디카르복실산 에스테르와 디올 화합물의 반응의 경우는, 촉매로서 납, 아연, 망간, 칼슘, 코발트, 카드뮴 등의 아세트산염이나 탄산염 화합물, 금속 마그네슘, 아연, 납, 안티모니, 게르마늄 등의 산화물이 사용된다. 디카르복실산 할로겐화물과 디올 화합물의 반응의 경우에는, 촉매로서 피리딘, 트리에릴아민 등의 염기성 촉매가 사용된다.
상기 폴리아미드는
(마) 디카르복실산류 (디카르복실산, 디카르복실산 에스테르, 디카르복실산 할로겐화물)와
(바) 디아민 화합물
을 반응시켜 수득된다. 본 발명에서 사용되는 폴리아미드는 (마) 디카르복실산류 성분과 (바) 디아민 화합물 성분 중 적어도 하나의 성분에 특정 구조를 갖는 화합물이 사용된다.
특정 구조를 갖는 디카르복실산류로서는 상기 예시된 (다) 디카르복실산류가사용된다. 또, 특정 구조를 갖는 디아민류로서는, 상기 예시된 (나) 디아민 화합물가 사용된다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리아미드에는 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도로 다른 디카르복실산류 화합물 및 디아민 화합물을 병용할 수 있다. 다른 디카르복실산류 화합물 및 디아민 화합물으로서는 상기 예시된 다른 디카르복실산류 화합물 및 디아민 화합물이 사용된다. 이들은 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리아미드는 상기 (마) 디카르복실산류 성분과 (바) 디아민 성분을, 필요에 따라, 파라톨루엔술폰산, 황산, 염산 등의 산성 촉매의 존재하에 중축합시켜 수득된다.
상기 폴리(메트)아크릴레이트는
(사) (메트)아크릴레이트 화합물
을 중합시켜 수득된다. 본 발명에서 사용되는 폴리(메트)아크릴레이트는 (사) (메트)아크릴레이트 화합물에 특정 구조를 갖는 화합물이 사용된다.
특정 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물으로서는, 4'-(메트)아크릴로일옥시칼콘, 4-페닐-4'-(메트)아크릴로일옥시칼콘, 4-펜틸-4'-(메트)아크릴로일옥시칼콘, 4-(4-펜틸페닐)-4'-(메트)아크릴로일옥시칼콘, 4-(메트)아크릴로일옥시칼콘, 4-(메트)아크릴로일옥시-4'-페닐칼콘, 4-(메트)아크릴로일옥시-4'-펜틸칼콘, 4-(메트)아크릴로일옥시-4'-(4-펜틸페닐)칼콘 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리(메트)아크릴레이트는 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도로 다른 (메트)아크릴레이트 화합물을 병용할 수 있다.
다른 (메트)아크릴레이트 화합물으로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 지방족 (메트)아크릴레이트 화합물,
테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디엔(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 지환식 (메트)아크릴레이트 화합물,
벤질(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 등의 방향족 (메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 폴리(메트)아크릴레이트는 상기 (사) (메트)아크릴레이트 화합물을, 필요에 따라, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물, 과산화벤조일 등의 과산화물 등의 촉매 존재하에 중합하여 수득된다.
용제
본 발명의 액정 배향제는 상기의 방사선에 관능하는 유기 화합물을 함유하는중합체의 용액으로 이루어진다. 이 때 사용되는 용제로서는 그 중합체를 용해할 수 있는 유기 용제라면 특별한 제한은 없다. 예를 들면, 폴리이미드를 사용할 경우에는, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 테트라메틸요소, 헥사메틸포스포트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매, m-크레졸, 크실레놀, 페놀, 할로겐화페놀 등의 페놀계 용매를 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 상기 용제에는 사용되는 중합체의 빈용매를 중합체가 석출하지 않는 범위에서 병용할 수 있다.
기타의 첨가제
본 발명에서 사용되는 액정 배향제는 프리틸트각의 안정화 및 도막 강도 향상을 위해 여러 가지의 열경화성 가교제를 함유할 수 있다. 열경화 가교제로서는 다관능 에폭시 함유 화합물이 유효하며, 비페놀 A형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 환상지방족 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 에폭시 수지, 글리시딜디아민계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 에폭시기 함유 아크릴 수지 등이 사용된다. 시판품으로서 예를 들면, 에포라이트 400E, 동 3002 (교에이샤 유시가가꾸 고교(주) 제품), 에피코트 828, 동 152, 에폭시노볼락 180S (유가 셸에폭시(주) 제품) 등을 들 수 있다.
또한, 상술한 다관능 에폭시 함유 화합물을 사용할 때, 가교 반응을 효율 좋게 일으키기 위해 1-벤질-2-메틸이미다졸 등의 염기 촉매를 첨가할 수 있다.
또한, 본 발명의 액정 배향제는 기판과의 접착성을 개선하기 위해 관능성 실란 함유 화합물을 함유할 수 있다. 관능성 실란 함유 화합물으로는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있으며, 또한 일본 특허 공개 제88-291922호 공보 기재의 테트라카르복실산 2무수물과 아미노기 함유 실란 화합물의 반응물 등을 들 수 있다.액정 배향제
본 발명의 액정 배향제를 사용하여 액정 배향막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 다음 방법이 있다. 먼저, 투명 도전막이 설치된 기판의 투명 도전막 측에 본 발명의 액정 배향제를 롤 코팅법, 스피너법, 인쇄법 등으로 도포하고, 40 내지 200℃의 온도에서 가열하여 도막을 형성시킨다. 이 도막의 막 두께는 통상 0.001 내지 1 ㎛, 바람직하게는 0.005 내지 0.5 ㎛이다.
상기 기판으로서는, 예를 들면, 플로트 유리, 소다 유리와 같은 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카르보네이트 등의 플라스틱 필름 등으로부터 이루어진 투명기판을 사용할 수 있다.
상기 투명 도전막으로서는 SnO2로 이루어진 NESA막, In2O3-SnO2로 이루어진 ITO막 등을 사용할 수 있으며, 이들의 투명 도전막의 패턴화는 포토 엣칭법 및 미리 마스크를 사용하는 방법 등이 사용된다.
액정 배향제의 도포시에 있어서는, 기판 및 투명 도전막과 도막과의 접착성을 더욱 양호하게 하기 위하여 기판 및 투명 도전막 상에 미리 관능성 실란 함유 화합물, 티타네이트 등을 도포할 수도 있다.
이어서, 상기 도막에 직선편광 광선을 조사하고, 경우에 따라서는 다시 150 내지 250℃의 온도에서 가열처리를 실시하여 액정 배향능을 부여한다. 사용되는 방사선은 통상 150 nm 내지 800 nm의 파장을 갖는 자외선 및 가시 광선으로서, 바람직하게는 240 nm 내지 450 nm의 파장을 갖는 자외선, 특히 바람직하게는 320 nm 내지 450 nm의 파장을 갖는 자외선이 사용된다.
상기 광원으로서 예를 들면, 저압수은 램프, 고압수은 램프, 중수소 램프, 메탈할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 크세논 램프, 엑시머 레이저 등이 사용된다. 상기의 특히 바람직한 파장 영역의 자외선은 필터, 회절 격자 등을 상기 광원과 병용하는 등의 수단에 의해 수득할 수 있으나, 간편하게는 편광판으로서 파이렉스 유리로 이루어진 편광판 등 320 nm보다 짧은 파장의 자외선을 투과시키지 않는것을 상기 광원과 함께 사용하여도 좋다.
액정 표시 소자
본 발명의 액정 배향제를 사용하여 형성되는 액정 표시 소자는, 상기 액정 배항막이 형성된 기판 2장을 액정 배향막을 조사한 직선편광 방사선의 편광 방향이 소정의 각도가 되도록 대향시켜, 기판 사이의 주변부를 밀봉제로 밀봉하고, 액정을 충전시키고, 충전 구멍을 봉하여 액정셀을 구성한다. 그리고, 액정셀의 양면에 편광판의 편광 방향이 각각 기판의 액정 배향막을 조사한 직선편광 방사선의 편광 방향과 소정의 각도가 이루어지도록 편광판을 서로 부착시킴으로써 액정 표시 소자를 이루게 한다. 액정 배향막이 형성된 2장의 기판에 있어서, 조사한 직선편광 방사선의 편광 방향이 이룬 각도 및 각각의 기판과 편광판과의 각도를 조정하여 TN형 또는 STN형 액정셀을 갖는 액정 표시 소자를 임의로 수득할 수 있다.
상기 밀봉제로서는, 예를 들면, 경화제 및 스페이서로서의 산화 알루미늄 구(球)를 함유한 에폭시 수지 등을 사용할 수 있다.
상기 액정으로서는 네마틱형 액정, 스멕틱형 액정 등을 사용할 수 있다. TN형 액정셀의 경우, 네마틱형 액정을 형성시키는 것이 바람직하며, 예를 들면, 쉬프 염기계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐시클로헥산계 액정, 에스테르계 액정, 터페닐계 액정, 비페닐시클로헥산계 액정, 피리미딘계 액정, 디옥산계 액정, 비시클로옥탄계 액정, 큐반계 액정 등이 사용된다. 또한, STN형 액정셀의 경우, 상기 액정에 예를 들면, 콜레스틸클로라이드, 콜레스테릴노나에이트, 콜레스테릴카보네이트 등의 콜레스테릭 액정이나 상품명 C-15, CB-15 (머크사 제품)로서 판매되고 있는 바와 같은 키랄제 등을 추가로 첨가하여 사용할 수도 있다. 또한, p-데실옥시벤질리덴-p-아미노-2-메틸부틸신나메이트 등의 강유전성 액정도 사용할 수 있다.
액정셀의 외측에 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐알콜을 연신 배향하면서 요오드를 흡수시킨 H막이라 불리우는 편광막을 아세트산셀룰로즈 보호막으로 끼운 편광판 또는 H막 그 자체로 이루어진 편광판 등을 들 수 있다.
<작용>
본 발명의 액정 배향제를 사용하여 상기 방법에 의해 액정 배향막을 형성하면, 종래의 러빙처리할 때에 발생하는 정전기에 의한 먼지의 부착, TFT 소자의 회로 파괴가 발생하지 않으므로, 높은 수율로 액정 배향막을 형성할 수 있다.
<실시예>
이하, 본 발명을 실시예로 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 이들 실시예로 제한되는 것은 아니다.
합성예 1
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 0.1 몰 (22.4 g)과 4(4-펜틸페닐)-4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘 0.1 몰 (47.6 g)을 N-메틸-2-피롤리돈 400 g에 용해시켜, 60 ℃에서 6 시간 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 1a(65 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 1a (15.0 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 300 g, 피리딘 8.2 g 및 무수 아세트산 9.6 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 1b (11.5 g)를 수득하였다.
합성예 2
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 0.1 몰 (22.4 g)과 p-페닐렌디아민 0.05 몰 (5.4 g) 및 4'(3,5-디아미노펜옥시)칼콘 0.05 몰 (16.5 g)을 N-메틸-2-피롤리돈 350 g에 용해시켜, 60℃에서 6시간 동안 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 2a (43 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 2a (20.0 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 320 g, 피리딘 8 g 및 무수 아세트산 10 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다.그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 2b (15 g)를 수득하였다.
합성예 3
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 0.1 몰 (22.4 g)과 4,4'-디아미노칼콘 0.1 몰 (23.8 g)을 N-메틸-2-피롤리돈 400 g에 용해시켜, 60℃에서 6시간 동안 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 3a (38 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 3a (20 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 380 g, 피리딘 8 g 및 무수 아세트산 10 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 3b (16 g)를 수
합성예 4
폴리메타크릴레이트의 합성
4'-메타크릴로일옥시칼콘 (2 g) 및 아조비스이소부티로니트릴 (50 mg)을 테트라히드로푸란 (10 ml)에 용해시키고, 질소 분위기 하에서 10시간 동안 가열 환류하였다. 점성의 반응 혼합물을 메탄올에 투입하여 중합체를 침전시키고, 건조한 후 2.2 g의 중합체 4b를 수득하였다.
합성예 5
폴리메타크릴레이트의 합성
4-(4-펜틸페닐)-4'-메타크릴로일옥시칼콘 (2.5 g) 및 아조비스이소부티로니트릴 (50 mg)을 테트라히드로푸란 (10 ml)에 용해하고, 질소 분위기 하에서 10시간 동안 가열 환류하였다. 점성의 반응 혼합물을 메탄올에 투입하여 중합체를 침전시키고, 건조한 후 2.0 g의 중합체 5b를 수득하였다.
합성예 6
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 0.1 몰 (22.4 g)과 4'(4-펜틸페닐)-4(3,5-디아미노펜옥시)칼콘 0.1 몰 (47.6 g)을 N-메틸-2-피롤리돈 400 g에 용해시켜, 60℃에서 6시간 동안 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 6a (62 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 6a (15.0 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 300 g, 피리딘 8.2 g 및 무수 아세트산 9.6 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 6b (10.5 g)를 수득하였다.
합성예 7
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 0.1 몰 (22.4 g)과 p-페닐렌디아민 0.05 몰 (5.4 g) 및 4(3,5-디아미노펜옥시)칼콘 0.05 몰 (16.5 g)을 N-메틸-2-피롤리돈 (350 g)에 용해시켜, 60℃에서 6시간 동안 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 7a (43 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 7a (20.0 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 320 g, 피리딘 8 g 및 무수 아세트산 10 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 7b (15 g)를 수득하였다.
합성예 8
폴리메타크릴레이트의 합성
4-메타크릴로일옥시칼콘 2.5 g 및 아조비스이소부틸로니트릴 20 mg을 디글라임 7.5 ml에 용해하고, 질소 분위기 하에 60℃에서 10시간 동안 반응시켰다. 점성의 반응 혼합물을 메탄올에 투입하여 중합체를 침전 및 건조시켜, 중합체 8b (2.5 g)를 수득하였다.
합성예 9
폴리메타크릴레이트의 합성
4-메타크릴로일옥시-4'-(4-펜틸페닐)칼콘 2.5 g 및 아조비스이소부티로니트릴 50 mg을 테트라히드로푸란 10 ml에 용해하고, 질소 분위기 하에서 10시간 동안 가열 환류하였다. 점성의 반응 혼합물을 메탄올에 투입하여 중합체를 침전시키고, 건조하여, 중합체 9b (2.0 g)를 수득하였다.
비교 합성예
폴리아미드산의 중합
2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2무수물 22.42 g과 p-페닐렌디아민 10.81 g을 N-메틸-2-피롤리돈 300 g에 용해시켜, 60℃에서 6시간 동안 반응시켰다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 40℃에서 15시간 동안 건조시켜, 중합체 Aa (27.44 g)를 수득하였다.
이미드화 반응
수득된 중합체 Aa (20.00 g)에 N-메틸-2-피롤리돈 380 g, 피리딘 9.52 g 및 무수 아세트산 12.29 g을 첨가하고, 120℃에서 4시간 동안 이미드화 반응을 수행하였다.
이어서, 반응 혼합물을 과량의 메탄올에 넣고, 반응 생성물을 침전시켰다. 그 후, 메탄올로 세정하고, 감압하에 15시간 동안 건조시켜, 중합체 Ab (15.27 g)를 수득하였다.
참고예
합성예 1에서 수득된 중합체 1b를 γ-부티로락톤에 용해시켜, 고형분 농도 4 중량%의 용액으로 하고, 이 용액을 공극 1 ㎛의 필터로 여과하여, 액정 배향제 용액을 제조하였다.
이 용액을 ITO막으로 이루어진 투명전극이 부착된 유리기판 상에서 투명 전극면에 막두께가 0.1 ㎛가 되도록 스피너를 사용하여 도포하고, 180℃에서 1시간 동안 건조하여 박막을 형성하였다.
이 박막에 나일론으로 이루어진 천을 감아붙인 롤이 있는 러빙기로 롤의 회전수 500 rpm, 스테이지의 이동속도 1 cm/초로 러빙처리를 실시하였다.
다음에, 한 쌍의 러빙처리된 기판의 액체 배향막을 갖는 각각의 외부 가장자리에 직경 17 ㎛의 산화 알루미늄 구슬이 들어있는 에폭시 수지 접착제를 스크린 인쇄 도포한 후, 한 쌍의 기판을 액정 배향면이 서로 대향하도록 하고, 또한 러빙 방향이 직교하도록 겹치게 하여 압착하고, 접착제를 경화시켰다.
이어서, 액정 주입구로 한 쌍의 기판 사이에 네마틱형 액정 (머크사 제품, ZLI-1565)를 충전한 후, 에폭시계 접착제로 액정 주입구를 밀봉하고, 기판의 외측 양면에 편광판을, 편광판의 편광 방향이 각각의 기판의 액정 배향막의 러빙 방향과 일치하도록 붙여, 액정 표시 소자를 제조한 결과, 액정의 배향성은 양호하였다.전압 5V를 인가한 결과, 인가된 전압의 온-오프 (ON-OFF)에 응답하여, 액정 표시 소자의 명암 변화가 관찰되었다.
실시예 1
합성예 1에서 수득된 중합체 1b를 사용하여, 참고예와 동일하게 기판상에 박막을 형성하였다.
박막 표면에 Hg-Xe 램프로, 그랜 레이저 프리즘 GLP-0-10-15-AN (시그마 광기 제품)에 의해 365 nm의 파장을 주로 하는 직선 편광된 자외선 0.5 J/cm2를 조사하였다.
다음에, 액정 배향막을 겹친 방향을 러빙 방향 대신 자외선의 편광 방향으로 따른 것 이외는, 참고예와 동일한 방법으로 액정 표시 소자를 제조한 결과, 액정의 배향성은 양호하였다. 비교예 1과 동일한 조건으로 전압을 인가한 결과, 인가한 전압의 ON-OFF에 응답하여, 액정 표시 소자의 명암 변화가 관찰되었다.
실시예 2 내지 9
합성예 2 내지 9에서 수득된 중합체 2b 내지 9b를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 액정 표시 소자를 제조한 결과, 모두 액정의 배향성은 양호하였다. 실시예 1과 동일한 조건으로 전압을 인가한 결과, 인가한 전압의 ON-OFF에 응답하여, 액정 표시 소자의 명암 변화가 관찰되었다.
실시예 10 내지 13
합성예 6 내지 9에서 수득된 중합체 6b 내지 9b를 사용하고, 또한, 자외선조사시에 파이렉스 유리로 이루어진 편광판 SPF-50C-32 (시그마 광기 제품)를 사용하여, 320 nm보다 단파장의 파장을 포함하지 않은, 직선 편광된 자외선 0.5 J/cm2를 조사한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 액정 표시 소자를 제조한 결과, 모두 액정의 배향성은 양호하였다. 실시예 1과 동일한 조건으로 전압을 인가한 결과, 인가한 전압의 ON-OFF에 응답하여, 액정 표시 소자의 명암 변화가 관찰되었다.
비교예
비교 합성예에서 수득된 중합체 Ab를 사용하고, 실시예 1과 동일하게 기판상에 박막을 형성하고, 직선편광 자외선을 조사하여 액정 배향막을 제조한 후, 이것을 사용하여 액정 표시 소자를 제조한 결과, 액정의 배향은 관찰되지 않았다.
본 발명의 액정 배향제를 사용한 액정 배향막의 형성 방법에 의하면, 종래의 러빙 처리시에 발생하는 정전기에 의한 먼지의 부착, TFT 소자의 회로 파괴가 발생하지 않으므로, 높은 수율로 액정 배향막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 액정 배향제를 사용하여 형성된 액정 배향막은 면내의 균일성이 우수하기 때문에, TN형, STN형 등의 표시용으로 사용한 경우, 높은 표시 품위를 갖는 액정 표시 소자가 수득되어, 여러 장치에 유효하게 사용될 수 있으며, 예를 들면, 탁상 계산기, 팔목 시계, 탁상 시계, 계수 표시판, 워드 프로세서, 퍼스널 컴퓨터 및 액정 텔레비젼 등의 표시 장치에 바람직하게 사용된다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1 내지 화학식 5로부터 선택되는 적어도 하나의 구조를 갖는 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제.
    <화학식 1>
    <화학식 2>
    <화학식 3>
    <화학식 4>
    <화학식 5>
    식 중,
    P1, P2, P3, P4, P5, Q1, Q2, Q3, Q4및 Q5는 방향족 고리를 함유하는 유기기를 나타내고,
    P1, P4, Q1및 Q3은 2가의 유기기를 나타내며,
    P2, P3, Q4및 Q5는 1가의 유기기를 나타내고,
    P5및 Q2는 3가의 유기기를 나타내며,
    R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9및 R10은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 화학식 6 및 7로부터 선택되는 적어도 하나의 구조를 갖는 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제.
    <화학식 6>
    <화학식 7>
    식 중,
    P4, P5, Q4및 Q5는 제1항 기재의 화학식 4 및 5와 동일하다.
  3. 제1항에 있어서, 중합체가 폴리이미드인 액정 배향제.
  4. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리이미드인 액정 배향제.
  5. 제1항에 기재된 액정 배향제로부터 수득되는 액정 배향막에 직선 편광된 광선을 조사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 액정 표시 소자의 제조 방법.
  6. 제2항에 기재된 액정 배향제로부터 수득되는 액정 배향막에 320 nm 보다 긴 파장의 성분으로 이루어지는 직선 편광된 자외선을 조사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 액정 표시 소자의 제조 방법.
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