KR100446408B1 - 적외선 레이저로 상 형성가능한 석판 인쇄 부재를 준비하고 상 형성하는 방법 - Google Patents

적외선 레이저로 상 형성가능한 석판 인쇄 부재를 준비하고 상 형성하는 방법 Download PDF

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Abstract

습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법에 있어서, 기판과 친수성 층과 적외선 흡수 층과 선택적으로 잉크 수용 표면 층을 포함하는 양화 작동 인쇄 부재를 준비하는 단계와, 인쇄 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선에 노출시켜 적외선 흡수층이 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 레이저 노출 영역의 표면층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 융제에 의해 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량%, 바람직하게는 0중량% 보다 많이 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와, 적외선 흡수 층과 선택적 잉크 수용 표면층의 레이저 노출 영역을 물로 제거하여 아래의 친수성 층을 노출시키는 단계를 포함하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재를 결상하는 방법이 제공된다. 이들 방법은 레이저 결상 동안 부유 데브리스와 증기를 감소시키고, 레이저 결상의 속도를 증가시키고, 우수한 세정 능력 및 화질을 제공하는 점에서 이점이 있다. 이 인쇄 부재는 기본 층 내에 존재하는 접착 촉진제를 갖는 적외선 흡수 층 아래에 놓이는 기본 층을 더 포함할 수도 있다. 또한, 본 발명의 방법에 따라 마련된 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재와 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법이 제공된다.

Description

적외선 레이저로 상 형성가능한 석판 인쇄 부재를 준비하고 상 형성하는 방법{Methods of Preparing and Imaging Infrared Laser-imagable Lithographic Printing Members}
본 발명은 일반적으로 석판인쇄(lithography)에 관한 것이며, 보다 상세히 설명하면 디지털 제어식 레이저 출력을 이용하여 석판인쇄 플레이트를 제조하기 위한 시스템에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 습식 석판인쇄 프레스로 직접 상을 비추고 이용하기에 특히 적합한 석판인쇄 플레이트를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 방법에 따라 제조된 습식 석판인쇄 플레이트에 관한 것이다.
기록 재료 상에 인쇄된 상을 도입시키기 위한 종래 기술은 활판 인쇄 및 오프셋 석판인쇄를 포함한다. 이러한 두가지 인쇄 방법은 플레이트를 필요로 한다. 상의 패턴 내에 잉크를 이송하기 위해서는, 플레이트는 통상적으로 효율성을 위해 회전 프레스의 판형 실린더 상에 로딩된다. 활판 인쇄에서, 상 패턴은 플레이트 상에 잉크를 수용하고 이를 인쇄에 의해 기록 매체 상에 이송하는 상승 영역의 형태로 나타난다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "석판 인쇄"는 오프셋, 오프셋 석판 인쇄, 평판 인쇄, 및 그 외의 동일하게 사용되는 다양한 용어를 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "습식 석판 인쇄"는 인쇄가 오일과 물의 혼합불가성에 기초한 석판인쇄 플레이트의 형태를 의미하며, 유성 재료 또는 잉크는 우선적으로 상 영역에 머무르며 물 또는 잉크 용액은 우선적으로 상이 형성되지 않는 영역에 머무른다. 적합하게 제조된 표면이 물로 축축하게 되며 그리고 나서 잉크가 도포될 때, 배경 또는 상이 형성되지 않는 영역이 물을 보유하고 잉크를 밀어내는 반면, 상 영역은 잉크를 보유하고 물을 밀어낸다. 상 영역 상의 잉크는 종이, 천 등의 상이 재현되는 재료 표면 상으로 전달된다. 통상적으로, 잉크는 상이 재생됨에 따라 재료의 표면에 잉크를 차례로 전달하는 블랭킷으로 불리우는 중간 재료로 이송된다. 물을 이용하지 않는 건식 석판인쇄 시스템에서, 플레이트는 간단하게 잉크가 주입되며 상은 기록 재료 상에 직접적으로 전달되며 블랭킷 상으로 이송되어 기록 재료 상으로 이송된다.
알루미늄은 석판 인쇄 플레이트에 대한 지지부로서 수년동안 이용되어져 왔다. 이러한 용도에 따라 알루미늄을 제조하기 위해서는, 일반적으로 입자화 공정(graining process) 및 연속 양극처리 공정을 거치게 된다. 그레인 공정은 플레이트에 상의 부착을 개선시키고 인쇄 플레이트의 배경 영역의 친수성을 강화시킨다. 그레이닝 및 양극처리 공정은 인쇄 플레이트의 성능 및 내구성에 영향을 미친다. 기계식 및 전해질 그레이닝 공정은 공지되어 있으며 석판인쇄 플레이트의 제조시 널리 이용된다. 양극 산화물 코팅물을 형성하기 위해 알루미늄을 양극처리하고 규산염화(silication) 등의 기술에 의해 양극처리된 표면을 친수화시키기 위한 공정은 공지되어 있으며, 본 명세서에서 더 이상 설명하지 않는다. 알루미늄 지지부는 다공성의 내마모성 친수성 표면을 가지며, 석판인쇄 특히 긴 프레스 운영이 요구되는 경우에 특히 적합하다.
석판인쇄 프레스용 플레이트는 통상적으로 사진술로 제조된다. 전술한 알루미늄 기판은 일반적으로 사진석판 인쇄 공정에서 이용되는 상을 형성하기에 적합한 감광 재료로 코팅된다. 이러한 형태의 사진석판 인쇄는 부가적으로 상당량의 유기 용제를 포함하는 수용성 염기 현상액으로 현상된다.
일반적인 음화 작동 감 공정(negative working subtractive process)을 이용하여 습식 플레이트를 제조하기 위해서는, 원래의 서류는 사진 원판을 제조하기 위해 촬영된다. 이러한 원판은 광중합체로 코팅된 친수성 산화물 표면을 갖는 알루미늄 플레이트 상에 위치된다. 원판을 통과하여 광 또는 복사에 노출되자 마자, (원 서류의 음영 또는 인쇄 영역에 대응하는) 복사에 노출된 코팅물의 영역은 내구성을 갖는 친유성 상태(oleophilic state)로 경화된다. 상기 플레이트는 코팅물의 비경화 영역(즉, 원 서류의 상이 형성되지 않는 영역 또는 배경 영역에 대응하는 복사에 노출되지 않은 영역)을 제거시키는 현상 공정을 거쳐, 알루미늄 플레이트의 친수성 표면을 노출시킨다.
상기 출원 전체에 걸쳐, 다양한 문헌, 특허, 및 공개된 특허 출원 등에 관련된 인용 문헌으로 언급되어 있다. 상기 출원에서 제시된 문헌, 특허, 공개된 특허 출원의 명세서는 본발명과 관련된 기술을 보다 상세히 설명하기 위해 참고로 합체되어져 있다.
전술한 기술로부터 보다 명백한 바와 같이, 사진 플레이트 제조 공정은 시간 소모적이며 필요한 화학적 성질을 지지하기에 적합한 설비를 필요로 한다. 수용성명기 또는 현상 용제를 요하지 않거나 현상수만을 이용하는 인쇄 플레이트를 제조하기 위한 노력이 수년동안 있어왔다. 또한, 견습자들이 일부만이 인쇄에 이용가능한 플레이트 상의 대안으로 다수의 전자장치를 개선시켜 왔다. 이러한 시스템으로 인해, 디지털 제어식 장치는 인쇄되어질 상을 나타내는 패턴 내에 블랭크 플레이트의 잉크 수용성을 변경시킨다. 이러한 상 장치는 플레이트 블랭크 상에 물리적 및/또는 화학적 변화를 발생시키는 하나 이상의 레이저원 또는 비 레이저원, 플레이트 블랭크 상에 잉크를 차단하거나 잉크를 수용하는 스폿을 직접적으로 증착하는 잉크 제트 설비, 및 플레이트 블랭크에 접하거나 근접 이격된 전자가 플레이트 블랭크의 형태를 물리적으로 변경시키기 위해 전기 스파크를 발생시키는 스파크 방출 설비에 의해 제조되는 전자기 복사원을 포함하며, 그 결과 예를 들어 미국 특허 제4,911,075호에 개시된 소정의 상을 총괄적으로 형성하는 도트를 생성시킨다. 레이저 설비의 이용가능성 및 디지털 제어를 따름으로써, 레이저 계 상 시스템의 개선에 상당한 노력이 가해졌다.
이러한 시스템에서, 아르곤 이온, 주파수 결합식 Nd-YAG, 및 다른 적외선 레이저는 미국 특허 제3,506,779호, 제4,020,762호, 제4,868,092호, 제5,153,236호, 제5,372,915호, 및 제5,629,354호에 기술되어진 예로서, 일반적인 화학 처리용 감광 블랭크를 노출시키기 위해 이용된다. 상기 접근에 대한 대안으로서, 감광성 플레이트 블랭크를 덮고 있는 불투명한 코팅물을 상 방향(imagewise)으로 총괄적으로 제어하기 위해 레이저가 이용된다. 플레이트는 미국 특허 제4,132,168호에 기술되어진 예로서, 플레이트의 도달 하부로부터 복사를 방지하는 마스크로서 작동하는 제거되지 않은 재료를 복사원에 노출시킨다. 그러나, 산업상 바람직한 저전압 레이저의 구속으로 결합된 고속의 쓰기 속도에 대한 요구로 매우 큰 감광성을 갖는 인쇄 플레이트를 필요로 한다. 불행히도, 고감광성은 이러한 부품의 단(shelf) 수명을 항상 감소시키는 단점을 갖는다.
레이저 상에 대한 또 다른 접근은 미국 특허 제3,945,318호, 제3,962,513호, 제3,964,389호, 제4,395,946호, 및 제5,395,729호에 기술되어진 예로서, 열전달 재료를 이용한다. 전술한 시스템으로 인해, 레이저에 의해 방출된 복사를 통과시키는 중합체 시트는 이송가능한 재료로 코팅된다. 이러한 구조물의 열전달면은 수용체 시트와 접하며, 열전달 재료는 총괄적으로 투명층을 통해 복사된다. 복사로 인해 열전달 재료가 수용체 시트에 우세하게 부착되도록 한다. 열전달 및 수용체 재료는 잉크통의 용액 및/또는 잉크에 다른 친화력을 나타내며, 상기 시트 상에 복사되지 않은 열전달 재료를 갖는 투명 중합체 시트의 제거로 인해 적절히 상을 이룬 완성된 플레이트를 초래한다. 일반적으로, 열전달 재료는 친유성이며, 수용체 재료는 친수성을 갖는다. 열전달 시스템으로 제조된 플레이트는 효과적으로 이송이 가능한 재료의 제한된 량으로 인해 단기간의 유용한 수명을 나타내는 경향이 있다. 특정 구조물에 따라 공기운반식 오염물이 상의 품질에 문제를 초래할 수 있다. 또한, 열전달 공정이 재료의 용해 및 재경화와 관련되어 있음으로, 상의 품질은 다른 방법에서 얻어진 것 보다 육안으로 더 떨어지는 경향이 있다.
또 다른 특허들은 지지부 및 친수성 상 층을 포함하는 석판인쇄 플레이트를 기술하고 있으며, 미국 특허 제3,793,033호, 제4,034,183호, 제4,081,572호, 및제4,693,958호에 개시되어진 예로서, 상 형성식의 레이저가 노출되는 경우 노출된 영역은 친유성을 가지며 비노출 영역은 친수성을 갖는다. 그러나, 이러한 형태의 석판인쇄 플레이트는 친유성 상 영역과 상이 형성되지 않는 친수성 영역 사이의 식별 정도의 결핍으로 어려움을 겪으며, 그 결과 인쇄 화질이 떨어진다.
미국 특허 제3,506,779호 및 제4,347,785호에 기술되어진 예로서, 초기의 실시예들은 음각인쇄(intaglio) 또는 활판인쇄 패턴을 형성하기 위해 플레이트 블랭크로부터 재료를 에칭하기 위해 레이저가 이용되었다. 이러한 접근 방법은 미국 특허 제4,054,094호에 기술되어진 예로서, 친유성 하부층을 드러내기 위해 친수성 표면을 제거함으로써 석판인쇄 플레이트의 제조를 연장시키는 방법이다. 그러나, 이러한 초기의 시스템들은 높은 전력의 레이저를 필요로 하고 있으며, 고가이며 진행이 느린 단점을 갖는다.
석판인쇄 플레이트의 상을 비추기 위한 다른 적외선 레이저 융제계 시스템(laser ablation based system)이 개선되어져 왔다. 이는 금속 지지부 상에서 유기 코팅물 층의 레이저에 의해 유도된 융제에 의해 작동되며, 폴리에스테르/금속 라미네이트 등의 기판 상에 또는 중합체 코팅물 상에 코팅된다. 융제 코팅물과 열 흡수 금속 지지부 사이의 폴리에스테르 또는 중합체 코팅 재료의 이용은 캐나다 특허 제1,050,805호와 미국 특허 제5,339,737호 및 제5,353,705호에 개시되어진 예로서, 융제 흡수층과 임의의 상부 표면 층을 제거하기 위해 요구되는 레이저 에너지의 양을 감소시키는 온도 방벽 재료를 제공한다. 레이저 노출은 하나 이상의 플레이트 층을 제거시키며, 플레이트 상에 상 형식의 특성물의 패턴을 초래한다. 레이저 융제에 의해 제거된 층이 잉크를 수용하는 상 영역일 때, 플레이트는 네가티브 작동을 한다. 대형 스폿 크기의 레이저가 음화 작동 플레이트의 상을 비추기 위해 이용될 때, 최소 인쇄 도트의 크기는 대략 스폿 크기와 같다. 결과적으로, 인쇄시 상의 품질은 우수하지 못하다. 예를 들어, 35 마이크론 레이저 스폿 크기는 음화 작동 플레이트를 구비하고 대략 35 마이크론에서 최소 도트 크기로 인쇄되어질 것이다. 망판 스크린 1인치당 200라인 상에서, 5% 내지 6%의 도트에 상응한다.
미국 특허 제5,353,705호는 친수성 금속 기판 및 복사 흡수 및 융제에 적합한 흡수 표면 층 등의 기판과 표면 층 사이의 중간에 보조 융제층을 갖는 석판인쇄 플레이트의 기본 플레이트 구성을 기술하고 있다. 보조 융제 층은 상 복사의 온도 효과로부터 기판을 차단하는 보호 또는 온도 방벽 기능을 수행한다. '705 특허의 보조 융제 또는 온도 방벽 층은 융제에 적합한 흡수 층의 융제에 반응하여 부분적으로만 융제에 적합하며, 바람직하게 레이저 복사를 통과시켜 상 복사의 융제 흡수를 특징화하지 않으며, 잉크를 구성하는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 인쇄 유체 및 잉크를 차단하는 유체에 대한 친화력에서 표면층과는 구별된다. 즉, 표면층이 잉크를 수용하거나 잉크 용기 용액에 반응하지 않을 때, 온도 방벽 층은 각각 잉크를 수용하지 않거나 잉크 용기 용액을 수용하지 않는다. '705 특허에서 개시된 기본 플레이트 구성이 잉크 수용 표면 층을 가지고 있을 때, 온도 방벽 및 보조 융제 층은 잉크 용기 용액을 수용하고 잉크를 수용하지 않으며, 포지티브 작동의 습식 석판인쇄 플레이트는 융제에 의해 제거되지 않음으로 잉크를 수용하는 상 영역의 결과를 갖는다. '705 특허의 보조 융제 층에 대한 적합한 중합체 재료는 폴리메틸 메타크리레이트(polymethyl methacrylates), 셀룰로오스 에테르(cellulosic ethers) 및 에스테르, 폴리에스테르, 및 폴리우레탄 등을 포함하나 이로 제한되지 않는다. p-톨루엔황산(p-toluenesulfonic acid)을 포함하는 헥사메톡시메틸멜라민 (hexamethoxymethylmelamine)이 상기 중합체 재료에 부가될 수 있다.
미국 특허 제5,493,971호는 이러한 포지티브 작동식의 습식 석판인쇄 플레이트에 대한 실시예를 개시하고 있다. 이러한 플레이트 구성은 친수성 금속 기판을 포함하며, 상 복사의 융제에 적합한 흡수를 특징화하는 잉크 수용 친유성 표면층, 부착 촉진 프리머로 제공될 수 있는 친수성 금속 기판, 중합체, 친수성 보호 또는 온도 방벽 코팅물을 포함한다. 상 레이저는 융제를 초래하는 융제 표면 층과 상호작용한다. '971 특허의 도2에 도시된 바와 같이 친수성 보호 층의 적어도 일부 및 적어도 표면층을 제거시키는 레이저 융제 상 이후에, 플레이트는 레이저 노출 영역 내에 남아있는 친수성 보호 층 부분을 제거하기 위해 물 등의 적합한 용제로 세정된다. 친수성 보호 층이 '971 특허에서 부분적으로 융제되나, 상 복사의 융제 흡착에 특징화되지 않으며, 이러한 친수성 보호층은 레이저 상 복사를 흡수해서는 안된다. 따라서, 부분적으로 융제되며 레이저 상 복사가 통과되며 표면층의 융제에 적합한 흡착으로 특징화되지 않는 '705 특허의 보조 융제 층과 유사하다. '971 특허에서, 물 등의 세정 용제내의 부분적으로 제거된 친수성 보호층의 잔류플러드의 용해 특성에 따라, 세정 단계는 원 두께 보다 낮은 친수성 보호 코팅물을 가지며, 친수성 보호 코팅물이 세정 단계에 의해 완전하게 제거되는 영역 내에서 친수성 금속 기판을 드러낸다. 세정 이후에, 플레이트는 인쇄 프레스 상에서 종래의 포지티브 작동식의 습식 석판인쇄 금속 플레이트와 유사하게 거동한다.
그러나, 친수성 보호층으로의 잔류된 잉크 수용면 코팅의 부착은 극복하기 어려운 문제임이 판명되었다. 판의 상 또는 인쇄 영역에서의 보호성 및 친수성 열 장벽층이 '971 특허의 레이저 상 형성 및 세척 공정 동안에 손상 또는 품질 저하되면 부착의 손실이 발생할 수 있다. 예컨대, 과도한 용매 또는 프레스에서의 세척 용액 또는 파운틴 용액에 의한 용해 작용은 화상 영역의 벽들을 침식시켜, 화상부의 주연 주위의 친수성 장벽층에 의해 제공되는 아래에 놓인 지지부를 제거시키고 작은 화상 요소의 품질을 저하시킬 수도 있다. 이는 친수성 보호 코팅층이 부분적으로 제거되고 상기 보호성 코팅층의 원래 표면이 제거되도록 세척 단계 및 파운틴 용액의 작용에 의해 추가로 제거될 수도 있는 경우에 특히 문제이다. 이는 화상부의 모서리에서 친수성 보호 코팅층의 일부의 벽뿐만 아니라 잉크 수용층과 친수성 보호 코팅층 사이의 계면을 상기 습식 세척 및 파운틴 용액에 완전히 노출시킨다. 이는 화상 품질의 주요 손실을 유발할 수도 있다. 작은 점 및 활자는 세척 단계 동안에 또는 인쇄 작업 초기에 제거될 수도 있다. 레이저로 제거 가능한 표면 코팅의 부착성 및/또는 인쇄 수명을 길게 하는 내구성을 개선시키려는 노력은 전형적으로 판을 상 형성하는 데 요구되는 레이저 에너지의 상당한 증가를 유발한다. 국제 공개 제WO 99/37481호는 신규한 습식 양화 작동 석판 인쇄판 및 상기 석판 인쇄판을 제조하는 방법을 개시하고 있으며, 이는 상기 부착 문제를 극복한다.
미국 특허 제5,605,780호는 필름을 형성하는 시아노아크릴레이트 중합체 결합제에 분산된 적외선 흡수제를 포함하는 친유성 상 형성층을 위에 갖는 산화막이 형성된 알루미늄 지지부를 포함하는 레이저로 제거 가능한 석판 인쇄판을 개시하고 있다. 친수성 보호층은 제거되었다. '780 특허는 낮은 요구의 레이저 에너지, 양호한 잉크 수용성, 지지부에 대한 양호한 부착성 및 양호한 마모 특성을 기재하고 있다. 8200회를 넘는 인쇄 작업이 실시예에 나타나 있다.
미국 특허 제5,339,733호 및 재발행 특허 제35,512호는 레이저 다이오우드 상 형성 장치와 사용되는 다양한 제거형 석판 플레이트 구성을 기재하고 있다. 상기 구성은 적외선 상 형성 복사선에 따라 기상 및 입상 데브리스(debris)로 휘발되는 제거층을 포함한다. 여기에서 사용된 바와 같이, 용어 "융제(ablation)"는 상 형성 복사선에 의한 기상 및 입상 데브리스로의 휘발을 말한다. 예컨대, 미국 특허 제5,493,971호는 레이저 제거 상 형성 공정 동안에 제거층의 완전하거나 100% 제거 손실을 기재하고 있고, 국제 공개 제WO 99/37481호는 레이저 제거 상 형성 공정 동안에 제거 가능한 층의 약 50% 이상의 부분적인 제거 손실을 기재하고 있다.
석판 인쇄 부재는 이제 저전력 레이저 제거 상 형성 기구에 의해 흔히 상이 형성된다. 석판 플레이트를 상 형성하는 상기 적외선 레이저 제거계 시스템의 주요 문제는 환경적인 것이다. 기판 위에 놓인 하나 이상의 층들로 코팅된 유기 중합체 및 다른 유기 또는 무기 재료의 레이저로 인해 유도된 파괴 또는 제거에 의해 작동되기 때문에, 상 형성 동안에 레이저 장비 및 장비를 작동시키는 작업자에게 위험할 수도 있는 부유 데브리스 및 증기가 발생된다. 데브리스를 억제하고 가스를 포획하는 비싼 장비가 일반적으로 요구된다.
레이저로 상 형성 가능한 습식 석판 인쇄판의 개발을 위한 많은 노력에도 불구하고, 알칼리 또는 용매 현상 용액을 요구하지 않으며 프레스에서 종래의 석판 인쇄판과 같이 수행하며 700 ㎚ 내지 1150 ㎚ 등의 레이저 에너지의 광폭 스펙트럼에 민감하며 고해상도 및 내구성 화상을 제공하며 비싸고 복잡한 억제 장비를 요구하는 데브리스 및 증기를 발생시키지 않는 판에 대한 필요성이 여전히 남아 있다.
도1은 흡착 및 융제 가능한 상부층, 보호층 및 친수성 금속 기판을 갖는 습식 석판을 상 형성하고 세척하기 위한 종래 기술에서 알려진 기구의 확대 단면도.
도2는 적외선 흡수, 잉크 수용 표면층, 친수성 층 및 기판을 갖는 석판 인쇄 부재의 확대 단면도.
도3a 및 도3b는 각각 적외선 레이저 상 방사에 노출된 후에 그리고 세척 후에 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법의 한 실시예에서 도2의 석판 인쇄 부재의 확대 단면도.
도4는 잉크 수용 표면층, 적외선 흡수층, 친수성 층 및 기판을 갖는 석판 인쇄 부재의 확대 단면도.
도5a 및 도5b는 각각 적외선 레이저 상 방사에 노출된 후에 그리고 세척 후에 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법의 한 실시예에서 도4의 석판 인쇄 부재의 확대 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
102 : 적외선 흡수층
104 : 친수성 층
106 : 기판
108 : 노광 영역
본 발명의 하나의 실시예는 습식 석판 인쇄 부재를 상 형성하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 (a) 기판, 기판 위에 놓인 친수성 층, 친수성 층 위에 놓인 잉크 수용 및 적외선 흡수 표면층을 포함하는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는데, 표면층은 적외선 상 형성 복사선을 흡수한다는 것, 적외선 상 형성 복사선의 흡수 전에 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않는다는 것, 및 아래에 놓인 친수성 층을 노출시키기 위해 흡수 가능한 적외선 복사선으로의 화상 방향 노출과 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의한 표면층의 노출 영역의 후속 제거의 결과로써 습식 석판 인쇄면을 형성하는 데 적합하다는 것을 특징으로 하고, 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 불가능하다는 것을 특징으로 하는 단계와, (b) 레이저 노출 영역이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 가능하게 하는 데 충분하지만 레이저 노출 영역의 표면층의 10 중량%를 초과하는 표면층 재료를 융제에 의해 제거하는 데 불충분한 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선 복사선의 흡수를 수행하기 위해 적외선 방출 레이저를 사용하여 단계 (a)의 양화 작동 부재를 흡수 가능한 적외선 복사선에 노출시키는 단계와, (c) 아래에 놓인 친수성 층을 노출시키기 위해 표면층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 상기 방법들 중 하나의 실시예에서, 친수성 층은 단계 (b) 및 (c) 동안에 레이저 노출 영역에서의 친수성 층의 제거가 없다는 것을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선의 흡수는 레이저 노출 영역에서의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 가능하게 하는 데 충분하지만 레이저 노출 영역에서의 5 중량%를 초과하는, 바람직하게는 2 중량%를 초과하는, 가장 바람직하게는 0 중량%의 표면층을 융제로써 제거하는 데 불충분하다. 이와 같이, 본 발명의 방법은 습식 석판 인쇄 부재에 레이저 상 형성 동안에 매우 낮거나 0 수준의 가스 및 부유 데브리스의 방출을 제공하며, 여기에서 설명된 바와 같이 물 또는 동등한 환경적으로 수용 가능한 수용액에 의한 레이저 노출 영역의 우수한 세척성과, 적외선 흡수 및 친수성 레이저의 성질 및 인터페이스로 인한 내구성을 달성한다.
본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 상 형성하는 방법들 중 또 다른 실시예는 여기에서 개시된 바와 같이 레이저 상 형성 동안에 발생되는 부유 재료의 양, 레이저 상 형성의 속도, 레이저 노출 영역의 제거 동안에 물에 의해 세척의 용이성, 해상도 및 내구성에 크게 영향을 주는 적외선 흡수층 및 친수성 층과 그 계면의 바람직한 성질을 추가로 향상시키기 위해 친수성 층 및 적외성 흡수층 사이에 개재된 프리머층의 포함에 관한 것이다. 상기 방법들 중 하나의 실시예에서, 프리머층은 상기된 본 발명의 방법의 단계 (a)에서 친수성 층과 표면층 사이에 개재되며, 프리머층은 접착 증진제를 포함한다. 하나의 실시예에서, 단계 (a)의 프리머층의 두께는 0.01 내지 0.1 미크론이다. 하나의 실시예에서, 프리머층의 접착 증진제는 친수성 중합체 및 교차 연결제의 교차 연결된 중합체 반응 생성물을 포함하며, 바람직하게는 촉매를 추가로 포함한다. 하나의 실시예에서, 프리머층은 유기 술폰산 성분을 포함한다. 하나의 실시예에서, 프리머층은 지르코늄 화합물을 포함한다.
여기에서 사용된 바와 같은 용어 "인쇄 부재"는 용어 "판"과 일치하고, 잉크 및/또는 파운틴 용액을 위한 차별적인 친밀성을 나타내는 구역에 의해 형성된 화상을 기록할 수 있는 소정 종류의 인쇄 부재 또는 표면에 관한 것이다. 여기에서 사용된 바와 같은 용어 "세척 용액"은 본 발명의 방법들 중 인쇄 부재의 레이저 노출 영역으로부터 코팅을 세척 또는 제거하는 데 사용되는 용액에 관한 것으로, 적어도 90% 물 및 10% 이하의 유기 용매와, 알코올, 계면 활성제, 글리콜 등의 첨가제와, 습식 석판 인쇄를 위한 파운틴 수용액의 분야에서 공지된 바와 같은 완충 또는 염을 포함한 중성 또는 거의 중성의 수용액의 조합으로 된 물일 수도 있다. 여기에서 사용된 바와 같은 용어 "세척 용액"은 pH가 약 10을 초과하는 알칼리 수용액, pH가 약 3.5 미만인 산성 수용액 또는 적어도 90 중량%의 물이 존재하지 않는 유기 용매를 포함하지 않는다. 양호한 실시예에서, 레이저에 의해 노출되지 않는 영역에서의 표면층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 불가능하다는 것과, 습식 석판 인쇄 프레스의 내구성을 추가적인 특징으로 한다.
하나의 실시예에서, 본 발명의 방법들 중 인쇄 부재의 적외선 흡수층의 중량은 약 0.05 내지 약 1.0 g/㎡이다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층의 중량은 약 0.1 내지 약 0.5 g/㎡이다.
본 발명의 방법들 중 하나의 실시예에서, 기판의 친수성 층 및 적외선 흡수층의 2개의 층형 판 구성으로 된 표면층인 적외선 흡수층은 하나 이상의 중합체 및 적외선 흡수 감광제를 포함한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 카본 블랙(carbon black)이다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 카본 블랙의 표면에 술폰기를 갖는 술폰화 카본 블랙, 카본 블랙의 표면에 카르복시기를 갖는 카르복실화 카본 블랙 및 1.5 mmol/g 미만의 표면 활성 수소 함량을 갖는 카본 블랙으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 카본 블랙을 포함한다. 양호한 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 CAB-O-JET 200이다. 또 다른 양호한 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 BONJET BLACK CW-1이다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 적외선 흡수층 중 55 중량%를 초과하는 양으로 존재한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 적외선 흡수층 중 65 중량%를 초과하는 양으로 존재한다.
본 발명의 방법들 중 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층의 하나 이상의 중합체들 중 하나의 중합체는 폴리비닐 알코올, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 비닐 중합체, 아크릴 중합체, 셀룰로오스로 구성된 군으로부터 선택된 중합체를 포함한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 폴리비닐 알코올을 포함한다. 하나의 실시예에서, 폴리비닐 알코올은 적외선 흡수층에 존재하는 중합체의 전체 중량 중 20 내지 95 중량%의 양으로 존재한다. 여기에서 사용된 바와 같이, 소정의 재료의 중량%를 결정하기 위해, 용어 "중합체"는 예컨대 단량체 교차 연결제 등의 중합체 종류와 중합 또는 결합되는 단량체 종류를 포함하는 중합체 필름 형성제인 모든 재료를 포함한다. 하나의 실시예에서, 폴리비닐 알코올은 적외선 흡수층에 존재하는 중합체의 전체 중량 중 25 내지 75 중량%의 양으로 존재한다. 적외선 흡수층에서 폴리비닐 알코올과의 결합에 사용되는 적절한 중합체로는 폴리우레탄, 셀룰로오스, 에폭시 중합체, 아크릴 중합체 및 비닐 중합체 등의 물에서 용해 또는 분산 가능한 다른 중합체가 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 방법들 중 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 교차 결합제 바람직하게는 멜라민을 포함한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층의 하나 이상의 중합체는 중합체 및 교차 결합체의 교차 결합된 중합체 반응 생성물을 포함한다. 양호한 실시예에서, 교차 결합된 중합체 반응 생성물은 교차 결합제와 다음의 중합체의 교차 결합된 반응 생성물을 구성하는 셀룰로오스 중합체; 폴리우레탄; 에폭시 중합체; 아크릴 중합체; 비닐 중합체 등의 군으로부터 선택된다.
본 발명의 방법들 중 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 하나 이상의 중합체 및 적외선 흡수 감광제에 부가하여 촉매를 추가로 포함한다.
본 발명의 방법들 중 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 하나 이상의 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 유기 술폰산 성분, 바람직하게는 아민 차단된 p-톨루엔 술폰산 성분을 포함한다. 하나의 실시예에서, 유기 술폰산 성분은 본 발명의 방법의 인쇄 부재의 적외선 흡수층에 존재하는 중합체의 전체 중량 중 25 내지 75 중량%의 양으로 존재한다. 또 다른 실시예에서, 유기 술폰산 성분은 적외선 흡수층에 존재하는 중합체의 전체 중량 중 35 내지 55 중량%의 양으로 존재한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 5 중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함한다. 하나의 실시예에서, 적외선 흡수층은 12 중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함한다.
본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 친수성 중합체와 제1 교차 결합제의 교차 결합된 중합 반응물을 포함한다. 교차 결합된 중합 반응물을 위한 적절한 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올과 셀룰로오스를 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 양호한 실시예에서, 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올이다. 일 실시예에서, 제1 교차 결합제는 지르코늄 화합물이다. 양호한 실시예에서, 제1 교차 결합제는 암모늄 지르콘 카보네이트이고, 암모늄 지르콘 카보네이트는 폴리비닐 알코올 중량의 10 %보다 많은 양으로, 보다 바람직하게는 폴리비닐 알코올의 중량의 20 내지 50 %의 양으로 존재한다. 다른 양호한 실시예에서, 친수성 층은 제2 교차 결합제를 추가로 포함한다. 일 실시예에서, 친수성 층은 폴리비닐 알코올과 제2 교차 결합제의 교차 결합된 중합 반응물을 추가로 포함한다. 일 실시예에서, 제2 교차 결합제는 멜라민이다. 일 실시예에서, 친수성 층은 제2 교차 결합제를 위한 촉매를 추가로 포함한다. 일 실시예에서, 촉매는 유기 술폰산(sulfonic acid) 화합물이다. 일 실시예에서, 친수성 층은 바람직하게는 산화지르코늄 크세로겔(zirconium oxide xerogel)을 갖는 무기 크세로겔 층을 포함한다.
본 발명의 방법의 인쇄 부재의 일 실시예에서, 친수성 층의 두께는 약 1 내지 약 40 미크론(micron)이다. 일 실시예에서, 친수성 층의 두께는 약 2 내지 약25 미크론이다.
본 발명의 습식 석판 인쇄판 부재를 준비하는 방법의 인쇄 부재의 일 실시예에서, 적절한 기판은 비금속 기판과 비친수성 기판, 양호하게는 종이, 중합체 필름 및 비친수성 알루미늄과 같은 비친수성 금속을 포함한다. 일 실시예에서, 기판은 폴리에스테르, 폴리카보네이트 및 폴리스티렌으로 구성된 중합체 필름의 군으로부터 선택된다. 일 실시예에서, 폴리에스테르 중합체 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이다. 일 실시예에서, 비친수성 금속 기판은 비친수성 금속 기판의 적어도 하나의 표면 상의 비친수성 중합체 층을 포함한다. 일 실시예에서, 기판은 친수성 금속이다. 친수성 금속 기판을 위한 적절한 금속은 알루미늄, 구리, 강철 및 크롬을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 양호한 실시예에서, 금속 기판은 입자화(grained), 양극화(anodized), 규산화(silicated)되거나, 또는 이들이 조합되어 처리된다. 일 실시예에서, 금속 기판은 알루미늄이다. 양호한 실시예에서, 금속 기판은 균일한 비방향성 거칠기 및 초미세 함몰부를 갖고 친수성 층과 접촉하는 표면을 포함하는 알루미늄 기판이고, 보다 바람직하게는 알루미늄 기판의 상기 표면은 20 마이크로인치의 전체 밴드폭의 상부 및 하부로 연장하는 직선 인치(linear inch)당 300 내지 450 개의 정점의 범위 내의 정점의 총개수를 갖는다.
본 발명의 다른 태양은 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은, (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 기판을 코팅하는 단계, (b) 제1 액체 매체를 제거하고, 존재하는 제1 교차 결합제의 일부분을 반응시키며, 친수성 층을 형성하도록, 상기 (a) 단계에서 형성된 층을 건조시키는 단계, (c) 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제, 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계, (d) 제2 액체 매체를 제거하고, 친수성 층 내에 존재하는 제2 교차 결합제의 추가의 부분을 반응시키며, 잉크를 수용하고 적외선을 흡수하는 표면 층을 형성하여 양화 작동(positive working) 석판 인쇄 부재를 형성하도록, 그리고 상기 표면 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않도록, 상기 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계, (e) 표면 층의 레이저 노출된 영역 내의 적외선 복사의 흡수를 수행하도록, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되기에 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 10 %보다 많이 융제에 의해 제거되기에는 불충분한 적외선 방사 레이저를 사용하는 흡수 가능한 적외선 복사에 상기 (d) 단계의 양화 작동 부재를 노출시키는 단계, 및 (f) 아래의 친수성 층을 드러내도록, 표면 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 상기 방법의 일 실시예에서, 단계 (b)에 연속하고 단계 (c)에 앞서, (i) 액체 매체 및 접착 촉진제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계와, (ii) 단계 (i)의 액체 매체를 제거하고 초벌 층(primer layer)을 형성하도록, 단계 (i)에서 형성된 층을 건조시키는 단계의 2단계가 있고, 그 후에 단계 (c)는 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 초벌 층을 코팅하는 단계를 포함한다. 상기 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 단계 (e) 및 (f) 중의 레이저 노출된 영역 내에서의 친수성 층의 제거 단계가 없는 것을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계 (e)의 레이저 노출 영역 내의 적외선 복사의 흡수는 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되기에 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 5 %, 보다 바람직하게는 2 %, 가장 바람직하게는 0 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분하다. 일 실시예에서, 본 발명의 방법의 인쇄 부재의 적외선 흡수 층의 중량은 약 0.05 내지 약 1.0 g/m2이다. 양호한 실시예에서, 적외선 흡수 층의 중량은 약 0.1 내지 약 0.5 g/m2이다.
본 발명의 다른 태양은 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법에 속하고, 상기 방법은, (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 기판을 코팅하는 단계, (b) 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 상기 단계 (a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계, (c) 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제, 및 일부분이 친수성 층으로 스며드는 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계, (d) 제2 액체 매체를 제거하고, 친수성 층 내에 존재하는 제2 교차 결합제의 일부분을 반응시키며, 잉크를 수용하고 적외선을 흡수하는 표면 층을 형성하여 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하도록, 그리고 상기 표면 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않도록, 상기 단계 (c)에서 형성된 층 및 아래의 친수성 층을 건조시키는 단계, (e) 표면 층의 레이저 노출된 영역 내의 적외선 복사의 흡수를 수행하도록, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되기에 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 10 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 방사 레이저를 사용하는 흡수 가능한 적외선 복사에 상기 (d) 단계의 양화 작동 부재를 노출시키는 단계, 및 (f) 아래의 친수성 층을 드러내도록 표면 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 상기 방법의 일 실시예에서, 단계 (b)에 연속하고 단계 (c)에 앞서, (i) 액체 매체 및 접착 촉진제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계와, (ii) 단계 (i)의 액체 매체를 제거하고 초벌 층을 형성하도록, 단계 (i)에서 형성된 층을 건조시키는 단계의 2단계가 있고, 그 후에 단계 (c)는 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 초벌 층을 코팅하는 단계를 포함한다. 상기 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 단계 (e) 및 (f) 중의 레이저 노출된 영역 내에서의 친수성 층의 제거 단계가 없는 것을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계 (e)의 표면 층의 레이저 노출된 영역 내의 적외선 복사의 흡수는 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되기에는 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 5 %, 보다 바람직하게는 2 %, 가장 바람직하게는 0 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분하다. 일 실시예에서, 적외선 흡수 층의 중량은 약 0.05 내지 약 1.0 g/m2이다. 양호한 실시예에서, 적외선 흡수 층의 중량은 약 0.1 내지 약 0.5 g/m2이다.
본 발명의 또 다른 태양은 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은, (a) 제1 액체 매체, 하나 이상의 친수성 중합체, 및 하나 이상의 친수성 중합체의 중량의 10 %보다 많은 양으로 존재하는 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 기판을 코팅하는 단계, (b) 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록, 상기 단계 (a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계, (c) 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계, (d) 제2 액체 매체를 제거하고 잉크를 수용하고 적외선을 흡수하는 표면 층을 형성하며, 감광제는 표면 층의 중량의 25 내지 80 %의 양으로 존재하고, 하나 이상의 중합체는 표면 층의 중량의 10 내지 60 %의 양으로 존재하여, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하도록, 그리고 상기 표면 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거될 수 없도록, 상기 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계, (e) 표면 층의 레이저 노출된 영역 내의 적외선 복사의 흡수를 수행하도록, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되기에는 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 10 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 방사 레이저를 사용하는 흡수 가능한 적외선 복사에 상기 (d) 단계의 양화 작동 부재를 노출시키는 단계, 및 (f) 아래의 친수성 층을 드러내도록, 표면 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 상기 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 단계 (e) 및 (f) 중의 레이저 노출된 영역 내에서의 친수성 층의 제거 단계가 없는 것을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계 (b)의 표면 층의 레이저 노출 영역 내의 적외선 복사의 흡수는 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되도록 하기엔 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 표면층의 중량의 5 %, 보다 바람직하게는 2 %, 가장 바람직하게는 0 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분하다. 일 실시예에서, 적외선 흡수 표면 층의 중량은 약 0.05 내지 약 1.0 g/m2이다. 일 실시예에서, 적외선 흡수 표면 층의 중량은 약 0.1 내지 약 0.5 g/m2이다. 단계 (c) 및 단계 (d)의 잉크를 수용하고 적외선을 흡수하는 층을 형성하는 적절한 중합체는 폴리비닐 알코올, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 비닐 중합체, 아크릴 중합체 및 셀룰로오스를 포함하지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 습식 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법의 다른 태양은 기판 상에 잉크 수용 표면 층/적외선 흡수 층/친수성 층의 3개의 기본 층 생성 설계를 제공하도록, 적외선 흡수 층 위에 놓인 부가적인 잉크 수용 표면 층을 포함하는 것에 관한 것이다. 이러한 부가적인 잉크 수용 표면 층은 레이저 상 형성의 속도의 증가, 레이저 노출된 영역의 제거 중에 물에 의한 용이한 세척성, 및 특히 화상 해상도 및 지속성과 같은 특성의 전체적인 최상의 균형을 달성하는 데 유용할 것이다. 일 실시예에서, 습식 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법은, (a) 기판, 기판 위의 친수성 층, 친수성 층 위의 적외선 흡수 층, 및 적외선 흡수 층 위의 잉크 수용 표면 층을 포함하고, 표면 층은 적외선 상 형성 복사의 흡수로부터의 융제가 없는 것을 특징으로 하고, 적외선 흡수 층은 상 형성 복사의 흡수를 특징으로 하며, 표면 층과 적외선 흡수 층은 적외선 상 형성 복사의 흡수에 앞서 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거될 수 없고 흡수 가능한 적외선 복사에 대한 화상 방향으로의 노출 및 연속하여 아래의 친수성 층을 드러내도록 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 적외선 흡수 층과 표면 층의 노출 영역을 제거하는 것을 특징으로 하고, 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않는 것을 특징으로 하는, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계와, (b) 적외선 흡수 층의 레이저 노출 영역 내의 적외선 복사의 흡수를 수행하여, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층과 적외선 흡수 층을 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되도록 하기엔 충분하지만 레이저 노출된 영역 내의 조합된 표면 층과 적외선 흡수 층의 중량의 10 %보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 방사를 사용하는 흡수 가능한 적외선 복사에 상기 단계 (a)의 양화 작동 부재를 노출시키는 단계, 및 (c) 아래의 친수성 층을 드러내도록, 표면 층과 적외선 흡수 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명의 3개의 기본 층 생성 설계에 의한 습식 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법의 다른 태양은, 본 명세서에 개시된 바와 같이, 레이저 상 형성 중에 생성된 공기에 의해 운반되는 재료의 양, 레이저 상 형성의 속도, 레이저 노출된 영역의 제거 중의 물에 의한 세척 용이성, 및 화상 해상도와 지속성에 크게 영향을 미치는 적외선 흡수 층, 친수성 층 및 이들의 경계면의 요구되는 특성을 추가로 향상시키도록, 친수성 층과 적외선 흡수 층 사이에 개재된 초벌 층을 포함하는 것에 관한 것이다. 상기 방법의 일 실시예에서, 초벌 층은 상기 방법의 단계 (a)의 친수성 층과 적외선 흡수 층 사이에 개재되고, 상기 초벌 층은 접착 촉진제를 포함한다.일 실시예에서, 단계 (a)의 초벌 층의 두께는 0.01 내지 0.1 미크론이다. 일 실시예에서, 초벌 층의 접착 촉진제는 친수성 중합체와 교차 결합제의 교차 결합된 중합 반응물을 포함하고, 바람직하게는 촉매를 추가로 포함한다. 일 실시예에서, 초벌 층은 유기 술폰산 화합물을 포함한다. 일 실시예에서, 초벌 층은 지르코늄 화합물을 포함한다.
본 발명의 선택적 주요 층을 갖는 3개 층의 제품 설계를 구비한 습식 석판 인쇄 부재를 상 형성하는 방법에 있어서, 잉크 수용 표면층은 중합체 및 교차 결합제의 교차 결합된 중합체 반응 제품을 포함한다. 교차 결합된 중합 반응 제품으로 적합한 중합체는 섬유소, 아크릴 중합체, 폴리우레탄 및 에폭시 중합체 등이 있으나, 이들로 제한되는 것은 아니다. 한 실시예에서, 잉크 수용 표면 층은 유기 술폰산 성분을 더 포함한다. 한 실시예에서, 잉크 수용 표면 층의 중량은 약 0.05 내지 0.5 g/m2이다. 양호한 실시예에서, 잉크 수용 표면 층의 중량은 약 0.1 내지 약 0.3 g/m2이다. 그 방법들 중 한 실시예에서, 친수성 층은 단계 (b) 및 (c) 중에 레이저 노광 영역에서 친수성 층이 제거가 수행됨을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계 (b)의 적외선 흡수층의 레이저 노광 영역에서 적외선 방사의 흡수는 레이저 노광 영역에서 레이저 수용 표면층 및 적외선 흡수 층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되도록 하기엔 충분하지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역에서 융제에 의해 표면층과 적외선 흡수층 조합의 5중량%, 보다 양호하게는 2중량%, 가장 양호하게는 0중량% 보다 많이 제거되도록 하기엔 불충분하다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 3개의 기초층 제품 설계를 갖는 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법은, a) 제1 액체 매체와, 친수성 중합체와, 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판에 코팅하는 단계와, b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 제공된 제1 교차 결합제의 일부가 반응하도록 그리고 친수성 층을 형성하도록 상기 단계 a)에서 형성된 층을 건조하는 단계와, c) 제2 액체 매체와, 중합체와, 적외선 흡수 감광제와, 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층에 코팅하는 단계와, d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 친수성 층에 제공된 제1 교차 결합제의 추가 부분이 반응되게 하고 제공된 제2 교차 결합제의 일부분이 반응되게 하고 그리고 적외선 흡수층을 형성하도록 상기 단계 c)에 형성된 층을 건조하는 단계와, e) 잉크 수용 중합체 및 제3 액체 매체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 적외선 흡수층에 코팅하는 단계와, f) 상기 제3 액체 매체를 제거하도록 그리고 잉크 수용 표면 층을 형성하도록 단계 e)에서 형성된 층을 건조시켜, 상기 표면 층과 적외선 흡수 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않는, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계와, g) 상기 레이저 노광 영역에서 상기 표면 층 및 적외선 흡수 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되도록 하기엔 상기 레이저 노광 영역에서 표면층 및 적외선 흡수층의 조합의 10중량% 이상 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역에서 적외선 방사의 흡수를 수행하도록 적외선 방사 레이저를 이용하여 상기 단계 (f)의 양화 작동 습식 석판 인쇄 부재를 흡수 가능한 적외선 방사에 노출시키는 단계와, h) 아래의 친수성 층을 노출하도록 상기 표면 층 및 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역을 물 또는 상기 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 본 발명의 한 실시예에서, 단계 (b) 다음에 그리고 단계(c) 전에, (i) 액체 매체 및 흡수 촉진제를 포함하는 액체 혼합물을 친수성 층에 코팅하는 단계와, (ii) 단계 (i)의 액체 매체를 제거하고 주요 층을 형성하도록 단계 (i)에 형성된 층을 건조하는 단계의 2가지 단계가 있고, 이 때 단계 (c)는 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 주요 층에 코팅하는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 3개 층 제품 설계를 갖는 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법은, a) 제1 액체 매체와, 친수성 중합체와, 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판에 코팅하는 단계와, b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 상기 단계 a)에서 형성된 층을 건조하는 단계와, c) 제2 액체 매체와, 중합체와, 적외선 흡수 감광제와, 일부가 친수성 층으로 통과하는 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층에 코팅하는 단계와, d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 친수성 층에 제공된 제2 교차 결합제의 일부가 반응되게 하고 그리고 적외선 흡수층을 형성하도록 상기 단계 c)에 형성된 층과 그 아래의 친수성 층을 건조하는 단계와, e) 잉크 수용 중합체 및 제3 액체 매체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 적외선 흡수층에 코팅하는 단계와, f) 상기 제3 액체 매체를 제거하도록 그리고 잉크 수용 표면 층을 형성하도록 단계 e)에서 형성된 층을 건조시켜, 상기 표면 층과 적외선 흡수 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거가능하지 않은, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계와, g) 상기 레이저 노광 영역에서 상기 표면 층 및 적외선 흡수 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되도록 하기엔 충분하지만 상기 레이저 노광 영역에서 표면층 및 적외선 흡수 층의 조합의 10중량% 이상 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역에서 적외선 방사의 흡수를 수행하도록 적외선 방사 레이저를 이용하여 상기 단계 (f)의 양화 작동 습식 석판 인쇄 부재를 흡수 가능한 적외선 방사에 노출시키는 단계와, h) 아래의 친수성 층을 노출하도록 상기 표면 층 및 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역을 물 또는 상기 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 본 발명의 한 실시예에서, 단계 (b) 다음에 그리고 단계(c) 전에, (i) 액체 매체 및 흡수 촉진제를 포함하는 액체 혼합물을 친수성 층에 코팅하는 단계와, (ii) 단계 (i)의 액체 매체를 제거하고 주요 층을 형성하도록 단계 (i)에 형성된 층을 건조하는 단계의 2가지 단계가 있고, 이 때 단계 (c)는 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 주요 층에 코팅하는 단계를 포함한다.
한 실시예에서, 본 발명의 방법들 중 인쇄 부재들의 3개의 층들의 설계의 적외선 흡수 층은 잉크를 수용한다. 한 실시예에서, 본 발명의 방법들 중 인쇄 부재들의 3개의 층들의 설계의 적외선 흡수 층은 습식 석판 인쇄 프레스에서 잉크를 수용하지 않고 물을 수용하는 것을 또한 특징으로 한다.
본 발명의 다른 태양에 따르면, 양화 작동 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법들은 2개의 층 및 3개의 층 제품 설계가 높은 교차 결합 층들을 갖고 인접한 적외선 흡수 층 및 친수성 층 사이의 계면 반응에 의한 교차 결합의 화학적 상호 작용에 대한 다양한 접근책을 갖는다. 본 발명의 높은 교차 결합 층들로 사용되는 적외선 흡수 층에서의 적외선 흡수 감광제는 카본 블랙 및 유기 염료와 같은 유기 감응제로 제한되지는 않고 무기 및 금속 감광제를 포함할 수도 있다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 본 발명의 방법들에 따라 제조된 습식 석판 인쇄 부재들을 포함한다.
본 발명의 이점은 석판 인쇄 부재 또는 판이 적외선 흡수 층 및 잉크 수용 표면 층의 융제가 제거되는 매우 낮은 레이저 동력에서 이미지될 수 있고, 따라서 거의 모든 독성 기체 및 공기중 불순물 또는 그 전부를 제거할 수 있다는 데 있다. 습식 석판 인쇄 프레스 상의 수용액이 레이저 노광된 적외선 흡수 층 및 (만약 그 판으로부터 제공된다면) 잉크 수용 표면 층을 용이하게 세척할 수 있으므로, 판은 프레스 상 형성 및 직접 인쇄에 적합하다. 또한, 장시간의 인쇄 과정에서, 친수성 층은 수용액에 의해 용해되지 않고 비친수성 기판이 이용될 수 있다. 또한, 본 발명의 비노광 화상 영역 아래의 친수성 층은 씌워진 잉크 수용 이미지 층에 대해 우수한 접착성을 제공하는 데 그 이유는 계면에서 적외선 흡수 층을 포함해서 특히 친수성 층이 높은 수준으로 교차 결합될 때 용해를 통해 거의 절제될 수 없기 때문이다.
종래에 공지된 것들에 비해 본 발명의 방법 및 석판 인쇄 부재들의 우수성은 특히 큰 스폿 크기를 갖는 비교적 고가의 다이오드 레이저로서 신속하게 이미지될 수 있는 성능과, 낮은 레이저 동력 상 형성 특성, 상 형성 중에 독성 기쳬 및 공기중 불순물의 제거능, 세척의 용이성, 우수한 화상 용해 및 인쇄능, 우수한 내구성및 인쇄 프레스 상의 이미지 부착능을 제공하는 물에 대한 저항성, 및 제조 비용의 낮음에 있다.
본 기술 분야의 당업자는 본 발명의 한 실시예의 특징 및 태양이 본 발명의 다른 실시예 및 태양에 응용될 수 있음을 이해할 수 있다. 본 기술 분야의 당업자는 본 발명의 전술한 특징 및 이점과 기타 특징 및 이점들을 다음의 상세한 설명 및 도면으로부터 이해할 수 있다.
전술한 설명은 첨부된 도면들과 관련한 다음의 상세한 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.
2개의 층 제품 구성을 갖는 석판 인쇄 부재들을 마련하고 상 형성하는 방법
레이저 상 형성에 의해 석판 인쇄 부재들을 마련하는데 있어서, 융제 레이저 상 형성에서 발생된 기체 및 공기중 불순물을 제거하거나 또는 크게 줄이는 것이 매우 바람직하다. 예를 들어, 도1에 도시된 바와 같이, 미국 특허 제5,493,971호는 보호층 재료의 잔류 플러그를 남겨두면서 보호층(12)의 적어도 일부 및 표면층(10)을 충분하게 제거하는 레이저 융제 상 형성 공정을 설명한다. 레이저 상 형성 공정 중에 적어도 하나의 층의 전체적인 융제의 존재는 공기중 불순물 및 유해하거나 독성인 기체 및 발향물에 기인하고, 따라서 레이저 상 형성 시스템에 고가 및 복잡한 환경 제어 장치가 설치되어야 한다. 본 발명은 레이저 상 형성 노출 중에 어떤 융제 또는 적어도 거의 모든 융제를 제거하는 레이저 상 형성 방법 및 시스템을 제공함으로써 석판 인쇄 부재를 마련하는 융제 레이저 상 형성 방법 및 시스템들의 이러한 한계를 해결한다.
본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법에 이용되는 석판 인쇄 부재용의 2개의 층의 제품 구성은 도2에 도시되어 있다. 이러한 2개의 층 제품 구성은 기판(106) 상에 적외선 흡수 및 잉크 수용 표면 층(102)과 친수성 층(104)을 포함한다. 도3a 및 도3b는 도2의 석판 인쇄 부재를 위한 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법들 중 한 실시예를 도시한다. 도3a에 도시된 바와 같이, 레이저 상 형성 방사는 공기중 불순물 및 기체와 같은 융제 부산물을 발생시킴없이 층(102, 104)과 상호 작용하고 친수성 층(104) 상에 레이저 노광 영역(108)을 남겨둔다. 도3b에 도시된 바와 같이, 그 다음에 레이저 노광 영역(108)을 제거하기 위해 레이저 상 형성 판이 물 등의 세척 용액으로 세척되고 이로써 친수성 층(104)의 표면(110)을 노출시킨다. 이러한 친수성 층(104)은 도3a에 도시된 바와 같이 레이저 상 형성 단계들 중에 융제되지 않는다. 또한, 이러한 친수성 층(104)은 도3b에 도시된 바와 같이 세척 단계 중에 제거되지 않는다. 이러한 친수성 층의 융제에 대한 저항성과 세척에 대한 저항성 및 친수성 및 적외선 흡수 층들 사이의 계면 특성은 본 명세서에 기술된 바와 같이 본 발명의 주요 특징 중 하나이다.
따라서, 습식 석판 인쇄 부재 상 형성 방법에 관련된 본 발명의 일측면은 a) 기판과, 기판을 덮는 친수성 층과, 친수성 층을 덮는 잉크 수용층과 적외선 흡수층을 포함하고, 표면층은 적외선 상 형성 방사를 흡수하고 제거되지 않고, 적외선 상 형성 방사를 흡수하기 전에 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 되고, 흡수가능한 적외선 방사로의 화상 노광(imagewise exposure) 및 물 또는 상기 세척 용액으로 세척하여 아래의 친수성 층을 노출함으로써 상기 표면층의 노출 영역의 후속 제거의 결과, 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 되고, 상기 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능한, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계와, (b) 레이저 노출 영역의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거가능하게 되기에 충분하지만 레이저 노출 영역의 표면층의 중량의 10%를 초과하여 융제에 의해 제거되기에는 불충분한 표면층의 레이저 노출 영역에서 적외선 방사를 흡수하게 하도록 적외선 방출 레이저를 사용하여 흡수가능한 적외선 방사에 단계 (a)의 양화 작동 부재를 노출시키는 단계와, (c) 아래에 있는 친수성 층을 노출시키도록 표면층의 레이져 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 발법의 일실시예에 있어서, 친수성 층은 단계 (b) 및 단계 (c) 중에 레이져 노출 영역의 친수성 층을 제거하지 않는 것을 특징으로 한다. 양호한 실시예에 있어서, 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선 방사의 흡수는 레이져 노출 영역의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척됨으로써 제거가능하게 되는 데에 충분하지만 레이저 노출 영역의 표면층 또는 적외선 흡수층의 중량의 5%를 초과하는, 바람직하게는 2%를 초과하는, 가장 바람직하게는 0%를 융제에 의해 제거하는 데 불충분하다. 따라서, 본 발명의 방법은 레이저 상 형성 동안에 매우 낮거나 0 수준의 가스 및 부유 데브리스의 방출을 습식 석판 인쇄 부재에 제공하며, 본원에서 설명된 바와 같이 물 또는 동등한 환경적으로 수용가능한 수용액에 의한 레이저 노출 영역의 우수한 세척성과, 적외선 흡수층 및 친수성 층의 특성 및 인터페이스의 특성으로 인한 우수한 화면 해상도와 내구성을 달성한다.
일 실시예에 있어서, 본 발명의 방법의 인쇄 부재의 적외선 흡수층의 중량은약 0.05 내지 약 1.0 g/m2이다. 양호한 실시예에 있어서, 적외선 흡수층은 약 0.1 내지 약 0.5 g/m2이다. 이 중량은, 예컨대 캐나다 특허 제1,050,805호 및 미국 특허 제5,493,971호에 기재된 바와 같이 용재 레이져 화상 형상가능한 석판 인쇄 부재의 적외선 흡수층에 통상 사용되는 것과 유사하거나 이보다 적다. 따라서, 중량의 10%이하인 것과 같이 적외선 흡수층의 소량의 용제가 레이저 상 형성 동안에 발생하는 본 발명의 실시예에 있어서, 특히 중량이 적어도 0.5g/m2이하의 얇은 적외선 흡수층으로부터의 용제의 부가 생성물은 매우 소량이며 두꺼운 자외선 흡수 층의 모든 용제와 관련된 용제의 상 형성 방법과 비교하여 심각한 환경 오염 문제를 나타내지 않는다.
석판 레이저 인쇄 부재를 제조하여 상 형성하는 방법을 위한 친수성 층
예컨대, 도2, 도3a 및 도3b에 도시된 바와 같이, 친수성 층(104)은 특히 기판이 알루미늄과 같은 금속일 때 열 손실과 기판(106)의 손실을 방지하도록 레이져 노출 중에 열 배리어를 제공한다. 또한, 친수성 층은 상 형성된 습식 석판 평판 상의 배경 친수성 영역 또는 수분-친화 영역과 같은 기능을 할 수도 있도록 친수성이다.
친수성 층(104)은 기판(106)과 적외선 흡수층(102)에 잘 부착되어야 한다. 통상, 이러한 기준을 충족하는 중합체 재료는 예컨대 하이드로실기 또는 카르복실기와 폴리비닐 알코올 중합체를 상호 작용시키도록 변형된 셀룰로즈와 같은 하이드록실기 또는 카르복실기와 같은 노출된 극성 부분들을 갖는 것을 구비한다.
친수성 제3 층(104)은 대체로 저하 또는 용해없이 인쇄되는 중에 파운틴 용액을 반복적으로 적용하는 것을 견딘다. 인쇄 중에 파운틴 용액의 반복된 적용을 건디는 하나의 시험은 본 발명의 실예2에 기술된 것과 같은 습식 마찰 저항 시험이다. 파운틴 용액의 반복된 적용을 견디는 내구성에서 만족할 만한 결과를 얻었고 본 발명에 대해 본원에서 기술된 바와 같이 물에 용해되지 않는다는 것은 습식 마찰 저항 시험에서 3% 도트를 보유한다는 것이다.
적절한 폴리비닐 알콜계 코팅은, 예컨대 펜실베니아주 알렌타운 소재의 에어 프로덕트 앤드 케미칼사로부터 입수가능한 폴리비닐 알코올 중합체를 위한 상표명 에어볼125 폴리 비닐 알코올, 뉴저지주 플레밍톤소재의 마그네슘 엘렉트론으로부터 입수가능한 암모니움 지르코닐 카보네이트 용액을 위한 상표명 베이코트 20, 미국 펜실베니아주 필라델피아 롬 앤드 하스로부터 입수가능한 계면활성제를 위한 상표명 더블유에스 및 트리톤 엑스-100을 결합함으로써 달성될 수도 있다.
하이드록실기 및 카트복실기를 갖는 교차 결합 중합체에 대한 성능에 부가하여, 암모니움 지르코닐 카보네이트는 가열시 콜로이달 산화지르코니움 솔 및 산화지르코니움 솔-겔 또는 크세로겔 층과의 배열의 프리커서(precursor)로 공지되어 있다. 본 발명의 방법의 석판 인쇄 부재의 친수성 층에 있어서, 암모니움 지르코닐 카보네이트와 같은 다량의 솔-겔 또는 크세로겔 프리커서를 상호 작용하는 것은 레이저 상 형성 중에 용제에 의한 제거와 기판과 아래에 놓인 코팅층과의 우수한 접착력과 함께 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의한 제거에 대항하는 내구성과 친수성 성질 및 도3b에 도시된 바와 같이 레이저 노출 영역의 친수성 층의 표면으로부터 용제가 없는 적외성 흡수층의 용이한 세척성을 함께 제공하는 데에 유리하다. 친수성 층에 암모니움 지르코닐 카보네이트와 같은 제1 교차 결합제를 사용하고, 바람직하게는 제공된 중합체 상의 사용가능한 교차 결합가능한 군을 교차 결합하는 데에 필요하것 보다 많은 양의 암모니움 지르코닐 카보네이트와 같은 크세로겔 프리커서를 사용하는 데에 더하여, 핀수성 층을 더욱 교차 결합하고 친수성 층과 적외선 흡수층 사이의 인터페이스에서의 세척의 용이성을 향상시키도록 멜라민과 같은 제2 교차 결합제를 첨가하는 것이 바람직하다. 본원에서 한정된 바와 같은 유기 술폰산 성분과 같은 촉매는 제1 및/또는 제2 교차 결합제의 작용율을 증가시키도록 친수성 층에 첨가될 수도 있다. 제2 교차 결합제와 촉매는 친수성 층의 코팅 공식에 있을 수도 있고 적외선 흡수층과 같은 중첩 층의 공식에 있을 수도 있다. 후자의 경우에 있어서, 제2 교차 결합제와 촉매는 친수성 층 내로 중첩 층의 액체 코팅 혼합제가 관통함으로써 친수성 층으로 도입된다. 이 경우에 있어서, 세척의 용이함과 화상 해상도 및 내구성과 같은 양호한 특성의 최적 균형을 달성하도록 중첩 층을 적용하기 전에 친수성 층의 경화 정도를 제어하는 것이 통상 중요하다. 그런 후, 제공된 제1 및 제2 교차 결합제로 친수성 층을 추가적으로 경화하는 것은 중첩 층의 건조 및/또는 임의의 후속 사후 가열 단계 중에 가열함으로써 달성될 수도 있다.
따라서, 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재를 제조하는 방법의 일 실시예에 있어서, 친수성 층은 친수성 중합체와 제1 교차 결합제의 교차 결합된 중합체 반응 생성물을 포함한다. 교차 결합된 중합체 반응 생성물을 위한 적절한 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올과 셀룰로즈에 제한되지는 않는다. 양호한 실시예에 있어서, 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올이다. 일실시예에 있어서, 제1 교차 결합제는 지르코니움 혼합물이다. 일실시예에 있어서, 제1 교차 결합제는 암모니움 지르코닐 카보네이트이다. 일실시예에 있어서, 제1 교차 결합제는 암모니움 지르코니움 카보네이트이고, 암모니움 지르코닐 카보네이트는 폴리비닐 알코올의 중량의 10%보다 더 제공되고, 보다 바람직하게는 폴리비닐 알코올의 중량의 20 내지 50% 더 많이 제공된다. 다른 실시예에 있어서, 친수성 층은 제2 교차 결합제를 더 포함한다. 일실시예에 있어서, 친수성 층은 폴리비닐 알코올과 제2 교차 결합제의 교차 결합된 중합체 반응 생성물을 더 포함한다. 일실시예에 있어서, 제2 교차 결합제는 멜라민이다. 일실시예에 있어서, 친수성 층은 제2 교차 결합제를 위한 촉매를 더 포함한다. 일실시예에 있어서, 촉매는 유기 술폰 산화 성분이다. 일실시예에 있어서, 친수성 층은 비유기 크세로겔 층을 포함하고, 이 층은 산화지르코니움 크세로겔인 것이 바람직하다.
친수성 층은 본 발명에서 두께가 통상 약 1 내지 약 40 미크론의 범위로 코팅되고, 보다 바람직하게는 두께가 약 2 내지 25미크론의 범위로 코팅된다. 코팅 후에, 친수성 층은 코팅 혼합물로부터 휘발성 액체를 제거하기 위해 다양한 온도로 건조될 수도 있다. 친수성 층을 경화하기 위한 온도 조건은 층의 개별 재료와 같은 다양한 인자와, 후속의 코팅 적용예로부터의 교차 결합제 및/또는 촉매가 친수성 층을 관통하여 더욱 경화시키는 것이 필요한가에 따라 결정된다. 예컨대, 후속의 코팅 적용예로부터의 제2 교차 결합제와 촉매가 친수성 층을 관통하여 이를 더욱 경화시키는 경우에 있어서, 친수성 층은 135℃ 내지 155℃의 온도로 건조될 수도 있고, 10초 내지 3분 동안 145℃ 내지 185℃의 온도로 대체로 부분적으로만 경화될 수도 있고, 보다 바람직하게는 30초 내지 2분 동안 145℃ 내지 165℃ 사이의 온도로 건조될 수도 있다.
석판 인쇄 부재를 구비하여 상 형성하는 방법을 위한 적외선 흡수층
적외선 흡수층의 주요 특성은 상업적으로 실용적인 레이저 상 형성 장치를 사용하여 적외선 레이저 상 형성 방사를 흡수하고 이에 감광하고, 수명이 긴 평판을 제공하도록 친수성 층에 충분히 접착되고, 프레스 상에서 작동할 때 망점 화상에 작은 150lpi 2% 및 3% 도트를 보유한다는 것이다. 또한, 적외선 흡수층은 적외선 상 형성 방사를 흡수하기 전에 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거할 수 없다는 것을 특징으로 한다. 적외선 흡수층은 적외선 흡수층의 융제가 발생하지 않는 낮은 상 형성 레이저 전원 수준으로 화상을 형성하는 것이 또한 바람직하고, 적외성 흡수층의 레이저 노출 영역은 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 대체로 용이하게 제거될 수 있다. 친수성 층으로의 접착은 화학 구조와 레이져 상 형성 방사를 흡수하는 재료의 양과 적외선 흡수층의 중합체에 상에서 사용가능한 접합 사이트에 따라 부분적으로 결정된다.
적외성 흡수층의 중합체 및 기타 재료에 의한 접합은 친수성 층에 적당한 접착을 제공하기에 충분히 강력하지만, 레이저에 충분히 노출되는 동안 화학적으로 변환되어 그결과, 친수성 층으로부터 적외선 흡수층의 제이저 노출 영역을 대체로 용이하게 세척한다는 것이 중요하다. 예컨대, 폴리비닐 알코올과 같은 비닐 형태 중합체는 이러한 두가지 특성 사이에서 적절한 균형을 깨뜨린다. 예컨대, 상 형성 후에 용이한 세척뿐만 아니라 친수성 층으로의 향상된 접착이 적외성 흡수층으로 상호 작용하는 에어볼 125와 에어볼 325와 같은 폴리비닐 알코올을 사용함으로써 제공된다. 교차 결합제가 또한 첨가될 수도 있다. 적외선 방사 흡수 혼합물 또는 감광제(sensitizer)가 적외성 흡수층의 성분에 첨가되어 그 내부에서 분산된다. 다양한 적외선 흡수 혼합물이 공지되고 본 발명의 방사선 흡수 감광제로서 사용될 수도 있다. 검토되는 적외선 감광제 중에서, 매사츄세스주 베드 포드 소재의 캐봇 코포레이션으로부터 입수가능한 표면 변형 카본 블랙을 위한 상표명 캡-오-제트 200과, 뉴저지주 스프링필드 소재의 오리엔트 코포레이션으로부터 입수가능한 표면 변형 카본 블랙 수용성 분산제를 위한 본제트 블랙 씨더블유-1은 상 형성을 위해 적절한 감광성을 제공하는 데에 필요한 양으로 친수성 층으로의 접착에 의외로 적게 영향을 미친다. 따라서, 예컨데 본제트 블랙 씨더블유-1은 양호한 적외선 감광 특성을 가지고 친수성 층으로의 향상된 접착을 허용하고 용이한 세척 및 본 발명의 용제가 없는 상 형성 조건 하에서 레이져 노출 후에 적외선 흡수층의 레이저 상 형성된 영역의 제거를 의외로 허용한다.
친수성 층 및 적외선 층 모두에 적합한 코팅은 공지된 혼합 방법에 의해 제조될 수도 있다. 예컨대, 적외선 흡수층에 대해, 기부 코팅 혼합제는 임의의 교차 결합 촉매를 구비하지 않는 것을 제외하고 물, 2-부톡시에탄올, 에어볼 125 폴리비닐 알코올, 시멜 303 헥사메톡시메틸멜라민 교차 결합제, 위트코 코포레이션으로부터 입수가능한 수분계 폴리우레탄 분산제를 위한 상표명인 위트코본드 240, 및 본제트 씨더블유-1 카본 블랙과 같은 모든 성분을 먼저 혼합함으로써 형성될 수도 있다. 코팅 공식의 안정성을 확장하기 위해서는, 네이큐어 2530과 같은 임의의 교차 결합제는 코팅 적용 전에 기부 코팅 혼합제 또는 분산제에 첨가될 수도 있다. 코팅 혼합제 또는 분산제는 임의의 공지된 코팅 방법에 의해 적용될 수도 있다. 그러나, 본 발명의 이익을 가장 잘 달성하기 위해서는, 친수성 층 아래에 있는 적외선 흡수 코팅층의 적용은 제어된 방법으로 수행되어하는 것이 바람직하다. 예컨대, 코팅을 건조하기 전에 적용된 코팅 양과 고체율와 습기 휴지 시간(wet dwell time)은 부분적으로 경화된 친수성 코팅이 적용될 때 정확하게 제어되어야 한다. 전형적으로, 친수성 코팅 층이 다량의 적외선 흡수 코팅 혼합제에 의해 젖지 않고 습기 휴지 시간이 1 내지 12초 사이로, 바람직하게는 1 내지 6로 사이로 유지될 때 양호한 결과가 달성된다. 예컨대, 와이어 권취 로드 코팅(wire wound rod coating), 역지 롤 코팅, 그래뷰 코팅(gravure coating), 스퀴즈 코팅 및 슬롯 다이 코팅과 같은 다양한 적용 방법이 모두 사용될 수도 있다. 휘발성 액체를 제거하고 소정의 경화 수준을 제공하도록 건조된 후에, 솔리드 코팅층이 형성된다.
일실시예에서, 적외선 흡수층의 중량은 약 0.05 내지 1.0g/m2이다. 바람직한 실시예에서, 적외선 흡수층의 중량은 약 0.1 내지 0.5g/m2이다. 다양한 건조 상태가 적외선 흡수층으로부터 휘발성 액체를 제거하고, 적외선 흡수층을 경화하고, 필요하다면 친수성층을 더 경화하는 데 이용될 수 있다. 일예로, 코팅 후에, 그층은 건조될 수 있고 계속해서 10초 내지 3분 동안 135 내지 185℃ 사이의 온도로 경화되고 더 바람직하게는 30초 내지 2분 동안 145 내지 175℃ 사이의 온도로 경화될 수 있다.
일실시예에서, 본 발명의 방법의 인쇄 부재의 적외선 흡수층은 잉크를 수용한다. 본 발명의 잉크-수용 적외선 흡수층은 일예로 도2, 도3a, 도3b 및 예2에서 층(102)으로서 도시되어 있다.
또 다른 실시예에서, 적외선 흡수층은 습식 석판술 인쇄 프레스 상에 잉크를 수용하지 않고 물을 수용하는 것을 특징으로 한다. 실제 가공에 사용되는 경우에, 습식 석판술 인쇄 부재 적용, 잉크-수용 보호막층이 이러한 구성에 이용된다.
본 발명의 방법의 일실시예에서, 친수성층과 기판 상에서 적외선 흡수층의 2개의 층판 구성에서 표면층인 적외선 흡수층은 한 개 이상의 중합체와 적외선 흡수 감광제를 포함한다. 일실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 카본 블랙이다. 일실시예에서, 적외선 흡수층은 카본 블랙의 표면 상에 술폰화 군을 갖는 술폰화 카본 블랙과, 카본 블랙의 표면 상에 카르복실기 군을 갖는 카르복실 카본 블랙과, 1.5mmol/g 이상의 표면 활성 수소 함량을 갖는 카본 블랙으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 카본 블랙을 포함한다. 1.5mmol/g 이상의 표면 활성 수소 함량을 갖는 카본 블랙은 일예로 미국 특허 제5,609,671호에 개시되어 있다. 바람직한 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 CAB-O-JET 200이다. 또 다른 바람직한 실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 BONJET BLACK CW-1이다. 일실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 적외선 흡수층 중량의 55% 이상의 양으로 존재한다. 일실시예에서, 적외선 흡수 감광제는 적외선 흡수층 중량의 65% 이상의 양으로 존재한다.
본 발명의 방법의 일실시예에서, 적외선 흡수층의 하나 이상의 중합체 중 하나는 폴리비닐 알콜, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 비닐 중합체, 아크릴 중합체 및 셀룰로우즈로 구성된 군으로부터 선택된 중합체를 포함한다. 본 명세서에 이용된 대로, "아크릴 중합체"라는 용어는 아크릴산, 아크릴 또는 메타아크릴 군을 포함하는 중합체에 속하게 된다. 일실시예에서, 적외선 흡수층은 폴리비닐 알콜을 포함한다. 일실시예에서, 폴리비닐 알콜은 적외선 흡수층 내에 존재하는 중합체 총중량의 20 내지 95 중량 퍼센트의 양으로 존재한다. 일실시예에서, 폴리비닐 알콜은 적외선 흡수층 내에 존재하는 중합체 총중량의 25 내지 75 중량 퍼센트의 양으로 존재한다. 적외선 흡수층 내의 폴리비닐 알콜과 결합하여 사용되는 적절한 중합체는 일예로 폴리우레탄, 셀룰로우즈, 에폭시 중합체, 아크릴 중합체 및 비닐 중합체를 포함하지만 이와 같은 다른 수용성 중합체 또는 물 분산 중합체에 한정되지 않는다.
본 발명의 방법의 일실시예에서, 적외선 흡수층은 교차 결합제, 바람직하게는 멜라민을 포함한다. 일실시예에서, 적외선 흡수층의 하나 이상의 중합체는 중합체 및 교차 결합제의 교차 결합된 중합 반응 생성물을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 교차 결합된 중합 반응 생성물은 다음의 중합체, 즉 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜과 비닐 중합체, 셀룰로우즈 중합체, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 아크릴 중합체 및 비닐 중합체와 교차 결합제의 교차 결합된 반응 생성물로 구성된 군으로부터 선택된다.
본 발명의 방법의 일실시예에서, 적외선 흡수층은 하나 이상의 중합체 및 적외선 흡수 감광제 외에 촉매를 더 포함한다.
본 발명의 방법의 일실시예에서, 적외선 흡수층은 하나 이상의 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 유기물 술폰산 성분, 바람직하게는 아민 차단된 p-툴루엔술폰산을 포함한다. 본 명세서에 사용된 "유기물 술폰산"이라는 용어는 유기물 컴파운드의 탄소 원자에 공유 결합된 적어도 하나의 술폰산 일부인 SO3H를 갖는 유기물 컴파운드를 말한다. 본 명세서에 사용된 "유기물 술폰산 성분"이라는 용어는 자유 유기물 술폰산에 속하고 또한 그 기술 분야에서 잘 알려진 바와 같이 원하는 경화 반응을 촉진시키는 자유롭거나 또는 방해받지 않는 유기물 술폰산을 형성하기 위해 폐색되거나 또는 잠재 유기물 술폰산 촉매가 열에 의해 또는 방사에 의해 분해될 때 형성된 자유 유기물 술폰산에 속하게 된다. 폐색되거나 또는 잠재 유기물 술폰산 촉매로부터 얻을 수 있는 자유 유기물 술폰산의 중량은 코팅층 내에 존재하는 중합체의 총중량을 기초로 한 유기물 술폰산 성분의 중량 퍼센트를 계산하기 위해 본 명세서에 사용된다. 그 기술 분야에서 잘 알려진 바와 같이, 폐색 유기물 술폰산 촉매는 부가 생성물 또는 아민과 같은 합성 재료와 유기물 술폰산의 합성물로 될 수 있고, 유기물 술폰산과 합성 재료의 몰비는 일예로 1.0:0.5 내지 1.0:2.0과 같이 광범위하게 가변될 수 있다. 달리, 폐색 유기물 술폰산 촉매는 유기물 술폰산의 에스테르 형태의 폐색 촉매를 제공하기 위해 일예로 알콜과 같은 적절한 재료와 유기물 술폰산의 반응 생성물로 될 수 있다. 매우 다양한 폐색되거나 또는 잠재 유기물 술폰산 촉매는 공지되어 있고 유기물 술폰산 성분을 제공하기 위해 본 발명에 이용될 수 있다. 적절한 유기물 술폰산 성분을 제공하는 적절한 폐색되거나 또는 잠재 유기물 술폰산 촉매의 예들은 일예로 미국 특허 제4,075,176호, 제4,200,729호, 제4,632,964호, 제4,728,545호, 제4,812,506호, 제5,093,425호, 제5,187,019호, 제5,681,890호 및 제5,691,002호에 개시된 것과 같은 아민 차단된 유기 술폰산과, 미국 특허 제4,192,826호, 제4,323,660호, 제4,331,582호, 제4,618,564호, 제5,102,961호, 제5,364,734호 및 제5,716,756호에 개시된 것과 같은 유기물 술폰산의 에스테르와, 미국 특허 제4,839,427호에 개시된 것과 같은 유기물 술폰산과 글리시드아미드의 반응 생성물과, 미국 특허 제4,618,526호에 개시된 것과 같은 유기물 술폰산의 아미드를 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 기판에 도포되는 코팅액 내의 자유롭거나 방해받지 않는 유기물 술폰산 대신에, 폐색되거나 또는 잠재의 유기물 술폰산 촉매가 완성 코팅층 내에서 종종 얻게된 더 양호한 코팅 균일성 및 물 저항과 너무 이른 교차 결합으로 인한 점성 생성을 줄임으로써 코팅 용액에 안정된 선반 수명을 제공하기 위해 교차 결합 코팅에 대개 이용된다.
아민 차단된 p-툴루엔술폰산(PTSA)의 예는 코넷티컷주 노워어크 소재의 킹 인더스트리즈(King Industries)사로부터 입수 가능한 촉매인 상표명 NACURE 2530이다. 이들 PTSA계 촉매는 뉴저지주 웨인 소재의 사이텍 인더스트리즈 인크(Cytec Industries, Inc.)로부터 입수 가능한 멜라민 교차 결합제인 상표명 CYMEL 303과 적외선 흡수층 내의 중합체 및, 친수성층과 같은 기초층 내로 촉매가 침투할 때의 이들 기초층 내의 중합체와의 경화를 지원한다. 이들 교차 결합 가능한 중합체의 예들로서 펜실베니아주 알렌타운 소재의 에어 프러덕트(Air Product)사로부터 입수 가능한 상표명 AIRVOL 125인 폴리비닐 알콜 중합체와, 코넷티컷주 댄버리 소재의 유니온 카비이드사(Union Carbide Corporation)로부터 입수 가능한 상표명 UCAR WBV-110인 수성계 비닐 중합체가 있다. 본 발명의 적외선 흡수층 내의 유기물 술폰산 성분의 중량 퍼센트를 계산하기 위해, (본 발명의 예에서 NACURE 2530의 25 중량 퍼센트를 구성하는 p-툴루엔술폰산) 유기물 술폰산 성분의 중량은 교차 결합제의 결합 중량을 기초로 존재하는 중합체 및 존재하는 임의의 중합체의 총 건조 중량에 의해 분할된다.
다양한 유기물 술폰산 성분은 공지되어 있고 본 발명에 이용될 수 있다. 적절한 유기물 술폰산 성분의 예들은 일예로 p-툴루엔술폰산, 12 벤젠술폰산, 디노닐나프탈렌 술폰산, 트리드실 벤젠술폰산, 메탄 술폰산, 폴리스틸렌 술폰산 및 12 벤젠디술폰산과 같은 4 이하의 pK를 갖는 유기물 술폰산을 포함하나 이에 한정되지 않는다. 일실시예에서, 본 발명의 유기물 술폰산 성분은 방향성 술폰산이다. 바람직한 실시예에서, 유기물 술폰산 성분은 p-툴루엔술폰산(PTSA)이다. 일실시예에서, 본 발명의 유기물 술폰산 성분은 폐색되거나 또는 잠재의 유기물 술폰산 촉매, 바람직하게는 아민 차단된 유기 술폰산의 성분이다. 본 명세서에 사용된 "아민"이라는 용어는 포화 링을 갖는 이종 환식 아민을 포함하는 제1 및 제2 지방 및 제3 아민 뿐만 아니라 암모니아에 속하게 된다.
놀랍게도, NACURE 2530 내의 p-툴루엔술폰산과 같은 유기물 술폰산 성분을 다량의 물 분산 적외선 흡수층과 결합하여 존재하는 중합체 총중량의 12% 이상의중량 퍼센트로 바람직하게는 25% 이상의 중량 퍼센트로, 적외선 흡수층 내의 카본 블랙 감광제를 건조층 중량의 55% 이상의 감광제의 중량 퍼센트로 현저히 증가시킴으로써 레이저 노출 구역의 세척의 용이함과, 장시간의 압축 가동 중에 잉크 수용 구역의 내구성 및 접착성에 영향을 주지 않으면서 상 형성에 요구되는 레이저 동력의 현저한 감소 및 달성될 수 있는 미세 화상 해상도 및 인쇄 화질을 현저히 개선시킴을 발견하게 되었다. 한층 더 놀랍게도, 레이저 상 형성 동력을 크게 줄임으로써 상 형성 온도를 더 낮추게 되고 가장 중요한 점은 적외선 흡수층을 제거하지 않고도 상 형성 온도가 더 낮아진다는 것이다. 상 형성 중에 적외선 흡수층을 제거하지 않음으로써 유해한 증기 및 공중 잔해의 현저한 감소를 가져오게 되고, 따라서 값 비싼 증기와 잔해 제거 및 레이저 상 형성 시스템 상의 포집 장치에 대한 필요성을 제거한다. 높은 수준의 유기물 술폰산 성분으로부터의 이러한 이득은 물, 수원액 또는 청정액에 의해 용해 또는 제거에 대한 화상 저항의 손실과 같은 임의의 현저한 단점 없이도 얻어질 수 있다.
따라서, 바람직한 실시예에서, 적외선 흡수층은 25 중량 % 이상의 유기물 술폰산 성분을 포함한다. 일실시예에서, 유기물 술폰산 성분은 본 발명의 방법의 인쇄 부재의 적외선 흡수층 내에 존재하는 중합체 총중량의 25 내지 75 중량 퍼센트의 양으로 존재한다. 또 다른 실시예에서, 적외선 흡수층 내에 존재하는 중합체 총중량의 35 내지 55 중량 퍼센트의 양으로 존재한다. 일실시예에서, 적외선 흡수층은 5중량 % 이상의 유기물 술폰산 성분을 포함한다. 일실시예에서, 적외선 흡수층은 12중량 % 이상의 유기물 술폰산 성분을 포함한다.
석판술 인쇄 부재를 준비하고 상 형성하는 방법용 기판
본 발명의 방법의 석판술 인쇄 부재의 지지 기판에 적절한 기판은 일예로 금속, 종이 및 중합체막과 같은 석판술 인쇄판용 기판으로서 그 기술 분야에 공지된 것을 포함하여 다양한 상이한 재료로 될 수 있다. 도2, 도3a 및 도3b에 도시된 친수성층(104)은 물, 청정액 또는 청정액 내에서 용해되지 않고 또한 레이저 상 형성 및 세척 공정 중에 제거되지 않기 때문에, 기판(106)은 표면층의 잉크 수용 또는 비친수성 화상 영역과 습식 석판술 인쇄에 필요한 판의 물 수용 또는 친수성 바탕 영역 간을 구별하도록 친수성으로 될 필요는 없다. 본 명세서에 사용된 "친수성"이라는 용어는 판의 표면 상에 비친수성, 잉크 수용 재료 또는 재료 합성물이 오일 재료 또는 잉크를 선택적으로 보유하는 한편 습식 석판술 인쇄에서 물 또는 수원액을 선택적으로 보유할 수 있게 하는 재료의 특성 또는 재료의 합성물에 속하게 된다. 따라서, 기판(106)은 친수성층(104)과 같은 친수성층이 적외선 흡수층과 기판 사이에 개재될 때 친수성으로 되거나 비친수성/잉크 수용성으로 될 수 있다. 일예로, 기판은 비친수성 금속 기판을 제공하도록 기판의 적어도 하나의 표면 상에 비친수성 중합체층을 포함하는 알루미늄과 같은 금속 기판으로 될 수 있다.
적당한 금속들은 양호하게는 입상화 처리(graining) 또는 다른 처리법을 통해 친수성을 갖게 된 알루미늄, 구리, 스틸, 및 크로뮴을 포함하지만, 여기에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 인쇄 부재는 양호하게는 산화 처리(anodized) 알루미늄 지지 기판을 사용한다. 이러한 지지부의 예들은 사전 입상화 처리 없이 산화처리된 알루미늄, 입상화 처리와 산화 처리된 알루미늄, 및 입상화 처리와 산화 처리 및 기판이 친수성을 갖게 만드는 작용제, 예를 들어 실리케이트 층을 형성하는 처리법으로 처리되는 알루미늄을 포함하지만, 여기에 제한되지는 않는다.
본 발명에서는 입상화 처리, 산화 처리, 및 친수성 재료로 처리된 알루미늄을 사용하는 것이 바람직하다. 더욱 용이하게 세척하고 보다 나은 화상 해상도를 위해서, 양호한 실시예에서 금속 기판은 균일하고 비방향성의 조도 및 미세한 함몰부의 표면을 포함하는 알루미늄 기판이고, 그 표면은 친수성 층과 접촉하며, 보다 양호하게는 알루미늄 기판의 표면이 예를 들어 국제 공개 공보 WO 97/31783호에 개재된 바와 같이, 선형 인치당 300 내지 450 피크의 범위의 피크 카운트를 갖고, 20 마이크로인치의 전체 밴드폭 만큼 상하로 연장한다. 일 실시예에서, 알루미늄 기판은 알코아, 인크., 피츠버그, 피에이(Alcoa, Inc., Pittsburgh, PA)에서 제조된 알루미륨 시트용 상표인 STAIN FINISH 알루미늄 리소 시트이다.
여러 가지 다양한 종이들이 사용될 수도 있다. 통상, 이들 종이들은 습식 석판 인쇄 동안 치수 안정성, 내수성, 및 강도를 향상시키도록 중합 처리법으로 처리 또는 포화된다. 적절한 중합 막의 예들은 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 폴리에틸렌 나프탈레이트와 같은 에스테르, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리술폰, 및 셀룰로오스 아세테이트를 포함하지만, 여기에 제한되지는 않는다.
양호한 중합 막은 예를 들어 MYLAR 상표로 제조된 폴리에스테르 막과 E.I. Dupont de Nemours, Co., Wilmington, DE에서 제조된 MELINEX 폴리에스테르 막과 같은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막이다. 중합 막 기판은 수성 코팅 유체에 의해 젖을 수 있고 친수성 중합체에 부착 가능한 것이 바람직하다.
중합 막을 상업적으로 공급하는 다수의 공급자들이 이들 특성을 갖는 제품을 제공하고 있다. 지지 기판(106)을 위한 양호한 두께는 0.00762 내지 0.0508㎝(0.003 내지 0.02inch)의 범위에 있고, 0.0127 내지 0.0381cm(0.005 내지 0.015inch)의 범위의 두께가 특히 양호하다.
프라이머 층을 갖는 2개의 층으로 된 제품 형태를 구비한 석판 인쇄 부재의 준비 및 상 형성 방법
본 발명은 레이저 상 형성 감응성, 융제의 없음, 부유 부산물, 인쇄질, 세척성, 내압축성, 잉크-수용 이미지 부착, 및 석판 인쇄판의 정밀한 도트 해상도를 향상시키도록 이들 2개의 층들 사이의 경계면에 특히 주의하면서 신규한 적외선 흡수 층 및 친수성 층을 사용한다. 도2를 참조하면, 본 발명의 또 다른 태양은 적외선흡수 층(102)과 친수성 층(104) 사이에 개재된 프라이머 층의 합체물이고, 프라이머 층은 접착 증진제를 포함하고 있다. 적절한 접착 증진제는 유기 술폰산 성분, 지크로늄 성분, 타이타네이트, 및 실레인을 포함하지만, 여기에 제한되지는 않는다. 일 실시예에서, 프라이머 층의 접착 증진제의 유기 술폰산 성분은 아로메틱 술폰산이다. 양호한 실시예에서, 프라이머 층의 접착 증진제의 유기 술폰산 성분은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시예에서, 적외선 흡수 층(102)과 친수성 층(104) 사이에 개재된 프라이머 층의 유기 술폰산 성분은 프라이머 층의 2 내지 100 질량 퍼센트의 양으로, 양호하게는 프라이머 층의 50 내지 100 질량 퍼센트의 양으로, 그리고 가장 양호하게는 프라이머 층의 80 내지 100 질량 퍼센트의 양으로 존재한다.
일 실시예에서, 적외선 흡수 층(102)과 친수성 층(104) 사이에 개재된 프라이머 층의 두께는 약 0.01미크론으로부터 약 2미크론 까지이고, 양호하게는 약 0.01미크론으로부터 0.1미크론 까지이다. 유기 술폰산 성분을 포함하는 프라이머 층이 존재할 때, 적외선-흡수 층(102)의 유기 술폰산 성분의 증가된 레벨이 필요 없게 되어 바람직한 다중의 이점을 제공하고, 적외선 흡수 층(102)의 유기 술폰산 성분의 레벨은 적외선-흡수 층에 존재하는 중합체의 전체 질량의 25 질량 퍼센트 보다 작거나 또는 무시할 수도 있다.
일 실시예에서, 프라이머 층의 접착 촉진제는 예를 들어, BACOTE 20과 같은 암모늄 질코닐 카보네이트이다. BACOTE 20은 20%의 질코늄 옥사이드와 등가의 질량을 갖는 Magnesium Elektron, Inc.,에서 제조된 질코니아 졸이다. 도포된 BACOTE 20 용액의 치료된 잔류물은 물-불용성(water-soluble)이고 크롬 기판에 대한 우수한 부착성과 광중합체 코팅 석판 인쇄판의 광중합체 코팅을 갖는 것으로 보고되고 있고, 미국 특허 제4,522,912호 및 제4,581,825호에 기재된 바와 같이, 중첩 코팅에 따라 친수성 특성을 또한 가질 수도 있다. 다른 실시예에서, 프라이머 층의 접착 촉진제는 질코늄 프로피오네이트이다. 본 발명의 프라이머 층의 다른 적절한 질코늄 화합물은 "The Use of Zirconium in Surface Coatings," Application Information, Sheet 117 (Provisional), by P. J. Moles, Magnesium Elektron, Inc., Flemingtion, NJ.에 기재된 이들 질코늄을 베이스로 한 접착 촉진제를 포함하지만, 여기에 제한되지는 않는다.
따라서, 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재 상 형성 방법의 일 태양은 본원 명세서에서 설명된 바와 같이, 적외선-흡수 층과 친수성 층 및 레이저 상 형성 동안 발생된 부유 물질의 양에 크게 영향을 미치는 그들의 경계면의 바람직한 특성, 레이저 상 형성의 속도, 레이저-노광 영역의 제거 동안 물에 의한 세척의 용이함, 및 이미지 해상도와 내구성을 더욱 향상시키기 위한 친수성 층과 적외선-흡수 표면층 사이에 개재된 프라이머 층의 포함에 관한 것이다. 일 실시예에서, 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재 상 형성 방법은 (a) 기판과 기판을 덮는 친수성 층과 친수성 층을 덮는 잉크 수용 및 적외선 흡수 층과, 친수성 층과 표면 층 사이에 개재된 프라이머 층을 포함하며, 표면 층은 적외선 상 형성 방사를 흡수하며, 표면층은 적외선 상 형성 방사의 흡수 전 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 되며, 흡수 가능한 적외선 방사에 화상 노광(imagewise exposure) 및 물 또는 세척 용액으로 세척하여 아래의 친수성 층을 노출함으로써 표면 층의 노출된 영역의 후속 제거의 결과 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 되며, 프라이머 층은 접착 증진제를 포함하고, 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능한, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계와, (b) 레이저 노광 영역에서의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되도록 하기엔 충분하지만 레이저 노광 영역에서 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량% 보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역에서 적외선 방사의 흡수를 수행하도록 단계(a)의 양화 작동 부재를 적외선 방출 레이저를 사용하는 흡수 가능한 적외선 방사에 노출시키는 단계와, (c) 아래의 친수성 층을 노출하도록 표면 층의 레이저 노광 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다.
일 실시예에서, 프라이머 층의 두께는 약 0.01미크론으로부터 약 0.1미크론 까지이다. 일 실시예에서, 접착 증진제는 친수성 중합체와 교차제의 교차 결합된 중합 생성물을 포함한다. 일 실시예에서, 촉매를 더 포함한다. 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 단계(b)와 (c) 동안 레이저 노광 영역에서 친수성 층의 제거가 없음을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계(b)의 표면층의 레이저 노광 영역의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면 층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되도록 하기에 충분하지만 레이저 노광 영역에서 표면층과 적외선 흡수층 조합의 5중량%, 보다 양호하게는 2중량%, 가장 양호하게는 0중량% 보다 많이 융제에 의해 제거되도록 하기에는 불충분하다.
3개의 층으로 된 제품 형태를 구비한 석판 인쇄 부재 준비 및 상 형성 방법
본 발명의 습식 석판 부재 준비 방법의 사용시 석판 인쇄 부재용 3개 층으로된 형태가 도4에 도시되어 있다. 이 3개의 층으로 된 제품 형태는 기판(106) 상에 잉크 수용 표면 레이저(100), 적외선 흡수 층(102), 및 친수성 층(104)을 포함한다. 도5의 (a)와 (b)는 도4의 석판 인쇄 부재를 위한 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재 준비 방법의 일 실시예를 도시하고 있다. 도5의 (a)에 도시된 바와 같이, 레이저 상 형성 방사는 부유 파편, 증기와 같은 융제 부산물을 발생시키지 않고 레이저(100, 102, 및 104)와 상호 작용하고, 친수성 층(104) 상의 레이저 노광 영역(108)을 떠난다. 도5의 (b)에 도시된 바와 같이, 다음에 레이저 상 형성 판은 레이저 노광 영역(108)을 제거하기 위해서 물과 같은 세척 용액으로 세척되고, 이렇게 함으로써 친수성 층(104)의 표면(110)을 노출시킨다. 친수성 층(104)이 없는 것은 도5의 (a)에 도시된 바와 같이 레이저 상 형성 단계동안 융제된다. 또한, 친수성 층(104)이 없는 것은 도5의 (b)에 도시된 바와 같이 세척 단계동안 제거된다. 이 친수성 층의 내융제성과 내세척성, 그리고 친수성 층과 중첩 적외선 흡수 층 사이의 경계면의 특성은 본원 명세서에 설명된 바와 같이 본 발명의 주요 특성들이다.
따라서, 본 발명의 습식 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법의 한 태양은 기판 상의 잉크 수용 표면층/적외선/친수성 층의 3개의 층 제품 형상을 제공하도록 근적외선-흡수 층 위에 놓이는 추가의 잉크 수용면 층의 포함에 관한 것이다. 이 추가의 잉크 수용면 층은 레이저 상 형성의 속도, 레이저 노광 영역의 제거 동안 물에 의한 세척의 용이성, 특히 이미지 해상도와 내구성과 같은 최상의 전체적인 균형을 달성하는 데 유용하다. 본 발명의 일 실시예에서, 습식 석판 인쇄 부재 상 형성 방법은 (a) 기판과 기판을 덮는 친수성 층과 친수성 층을 덮는 적외선 흡수 층과 적외선 흡수 층을 덮는 잉크 수용 표면 층을 포함하며, 표면 층은 적외선 상 형성 방사의 흡수에 의한 융제가 없으며, 적외선 흡수 층은 적외선 상 형성 방사를 흡수하며, 표면층 및 적외선 흡수 층은 적외선 상 형성 방사의 흡수 전 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 되며, 흡수 가능한 적외선 방사에 화상 노광(imagewise exposure) 및 물 또는 세척 용액으로 세척하여 아래의 친수성 층을 노출함으로써 표면 및 적외선 흡수 층의 노출된 영역의 후속 제거의 결과 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 되며, 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능한, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계와, (b) 레이저 노광 영역에서의 표면 층과 레이저 흡수 층이 물 또는 세척 용액으로 세척됨으로써 제거되도록 하기엔 충분하지만 레이저 노광 영역에서 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량% 보다 많은 양을 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역에서 적외선 방사의 흡수를 수행하도록 단계(a)의 양화 작동 부재를 적외선 방출 레이저를 사용하는 흡수 가능한 적외선 방사에 노출시키는 단계와, (c) 아래의 친수성 층을 노출하도록 표면 층 및 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함한다. 방법의 일 실시예에서, 친수성 층은 단계(b)와 (c) 동안 레이저 노광 영역에서의 친수성 층의 제거가 없음을 특징으로 한다. 양호한 실시예에서, 단계(b)의 적외선 흡수 층의 레이저 노광 영역에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노광 영역에서의 잉크 수용 표면층과 적외선 흡수 층이 물 또는 세척 용액으로 세척됨으로써 제거되도록 하기엔 충분하지만, 레이저 노광 영역에서 잉크 수용 표면층과 적외선 흡수층 조합의 5중량%, 보다 양호하게는 2중량%, 가장 양호하게는 0중량% 보다 많은 양이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분하다.
도4, 도5의 (a), 및 도5의 (b)에 도시된 바와 같이, 적절한 적외선 흡수 층, 친수성 층, 및 3개의 층으로 된 제품 형태들이 본 발명의 방법들에서의 석판 인쇄 부재의 2개의 층으로 된 제품 형태의 층에 상응하는 층으로 본원 명세서에 설명되고 있다. 예를 들어, 일 실시예에서, 3개의 층으로 된 설계의 적외선 흡수 층은 잉크를 수용식이다. 3개의 층으로 된 제품 형태의 표면 층이 잉크 수용식이기 때문에, 다른 실시예에서는, 3개의 층으로 된 설계의 적외선 흡수층은 잉크를 수용하지 않고 습식 석판 인쇄 프레스 상의 물을 수용하는 것을 특징으로 한다. 또한, 3개의 층으로 된 제품 형태는 2개의 층으로 된 제품 형태 상의 대응하는 프라이머 층으로서 본원 명세서에서 설명된 바와 같이 적외선 흡수 층과 친수성 층 사이에 개재된 프라이머 층을 선택적으로 가질 수도 있다.
3층 제품 형상을 갖는 석판 인쇄 부재를 준비해서 상 형성하는 방법을 위한 잉크 수용 표면 층
도4, 도5a 및 도5b에 도시된 잉크 수용 표면 층(100)의 주요 특성은 친유성 및 소수성과, 하부 적외선 흡수 층(102)과 결합해서 상 형성되는 능력과, 물, 세척 용액, 잉크 용액에 의한 용해 또는 제거에 대한 저항성과, 인쇄 프레스 시의 내구성이다. 예를 들어, 잉크 수용 표면 층은 유기 용제를 포함하는 프레스 화학제에 대해 저항성이어야 한다. 이러한 층에 사용되는 적절한 중합체는 적외선 흡수 층(102)에 대한 우수한 접착성과 높은 내마모성을 가져야 한다. 이들은 수계 또는 용제계 중합체일 수 있다. 잉크 수용 표면 층(100)은 적외선 흡수 감광제를 포함할 필요가 없고 적외선 상 형성 방사선에 의한 융제가 되지 않는 것이 특징이다. 이러한 층은 적외선 흡수 층(102)에 대한 개선된 접착과 극도로 긴 인쇄 공정에 있어서 판의 증가된 내구성을 제공하는 교차제를 포함할 수도 있다.
적절한 중합체는 니트로셀룰로오스, 아크릴 중합체, 폴리우레탄, 에폭시 중합체와 같은 셀룰로오스 물질을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 예를 들어, 폴리우레탄계 재료는 보통 인성이 매우 높고 열경화성 또는 자기-경화 능력을 가질 수 있다. 기술 분야에 공지된 혼합 및 코팅 인가 방법이 잉크 수용 표면 층을 준비하는 데 이용될 수 있다. 잉크 수용 표면 층을 위한 코팅의 한 가지 실례에서, 적절한 용제 배합물 내의 니트로셀룰로오스 중합체와 헥사메톡시메틸멜라민 교차제의 혼합물이 혼합되고, 최종 코팅 혼합물을 형성하기 위해 적절한 아민 차단된 p-톨루엔술폰산 촉매의 첨가가 뒤따른다. 그 다음 코팅 혼합물은 와이어 권취 로드 코팅, 역전 롤 코팅, 그라비어 코팅, 압착 코팅, 슬롯 다이 코팅과 같은 코팅 인가의 종래의 방법들 중 하나를 사용해서 적외선 흡수 층(102)에 도포되고, 이후에 휘발성 액체를 제거하도록 건조되고 코팅 층을 형성하도록 경화된다.
셀룰로오스 물질 또는 다른 1차 중합체 이외의 성분을 포함하는 중합체 시스템이 잉크 수용 표면 층(100)을 형성하도록 혼합될 수도 있다. 예를 들어, 에폭시 중합체가 교차제 및 촉매의 존재 시에 니트로셀룰로오스 중합체에 첨가될 수 있다. 코팅 후에, 층은 건조되어 양호하게는 75℃와 175℃ 사이의 온도에서 경화된다.
본 발명의 3층 제품 설계를 갖는 습식 석판 인쇄 부재를 상 형성하는 방법의 일 실시예에서, 잉크 수용 표면 층은 중합체와 교차제의 교차 결합된 중합 반응 제품을 포함한다. 교차 결합된 중합 반응 제품으로 적절한 중합체는 셀룰로오스 물질, 아크릴 중합체, 폴리우레탄, 에폭시 중합체를 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 일 실시예에서, 잉크 수용 표면 층은 유기 술폰산 성분을 또한 포함한다. 일 실시예에서, 잉크 수용 표면 층의 무게는 약 0.05에서 약 0.5 g/m2까지이다. 양호한 실시예에서, 잉크 수용 표면 층의 무게는 약 0.1에서 약 0.3 g/m2까지이다.
상 형성 장치
본 발명과 관련해서 사용하기에 적절한 상 형성 장치는 적외선 스펙트럼을 방출하는 적외선 레이저 장치와 같은 공지된 레이저 상 형성 장치를 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 실례로는 뉴햄프셔주 허드슨의 프레스텍, 인크.(Presstek, Inc.)로부터 구득 가능한 레이저 상 형성 장비의 상표인 펄세터 74(PEARLSETTER 74)와, 브리티쉬 컬럼비아의 버나비의 크레오, 인크.(Creo, Inc.)로부터 구득 가능한 레이저 상 형성 장비의 상표인 크레오 트렌드세터 1.7엑스(CREO TRENDSETTER 1.7X)가 있다. 레이저 출력은 렌즈 또는 다른 빔 안내 구성요소를 거쳐 판 표면으로 유도되도록 직접 제공될 수 있거나, 또는 광섬유 케이블을 사용해서 원격 위치된 레이저로부터 인쇄판의 표면으로 전달될 수 있다. 상 형성 장치는 판제조기로서 자체로 독립된 기능을 수행할 수 있거나, 또는 석판 인쇄 프레스 내로 직접 합체될 수 있다. 후자의 경우에, 세척 단계가 인쇄 작업의 개시 이전 또는 그 동안에 필요하다.
본 발명의 습식 석판 인쇄판의 레이저 유도식 상 형성은 적외선 파장의 연속 또는 펄스 레이저 광원을 사용하는 것을 포함하지만 이에 제한되지 않는 열 레이저 유도식 상 형성의 기술 분야에 공지된 매우 다양한 레이저 상 형성 시스템을 사용해서 수행된다. 양호하게는, 본 발명의 레이저 유도식 상 형성은 예를 들어 830 nm에서 방출되는 다이오드 레이저를 갖는 근적외 방사선의 연속 레이저 광원을 사용해서 수행된다.
상 형성 기술
본 발명의 방법의 석판 인쇄판은 상 형성을 표시하는 패턴으로 판에 걸쳐 스캐닝되는 상 형성 레이저의 출력에 선택적으로 노출된다. 도5a를 참조하면, 방사 레이저 출력은 요구되는 화상 패턴으로 적외선 흡수 층(102) 및 잉크 수용 표면 층(100)을 노출시킨다. 도5a의 실시예에 도시된 것처럼, 상 형성 방사선은 친수성 층(104) 상에 레이저 노출된 제거 가능한 영역(108)을 남기고서, 융제 파편 및 부유 입자와 같은 융제 생성물을 발생시키지 않으면서 층(100, 102)들을 변형시킨다. 그 다음 레이저 노출된 판은 레이저 노출된 영역(108)을 제거해서 도5b에 도시된 것처럼 영역(110) 내의 친수성 층(104)의 표면을 노출시키기 위해 물 또는 세척 용제로 세척된다.
유사하게, 2층 제품 형상에 대해, 도3a를 참조하면, 적외선 상 형성 방사선은 요구되는 화상 패턴으로 적외선 흡수 층(102)을 노출시킨다. 도3a의 실시예에 도시된 것처럼, 적외선 상 형성 방사선은 친수성 층(104) 상에 레이저 노출된 제거 가능한 영역(108)을 남기고서, 융제 파편 및 부유 입자를 발생시키지 않으면서 층(102)을 변형시킨다. 그 다음 레이저 노출된 판은 레이저 노출된 영역(108)을 제거해서 도5b에 도시된 것처럼 영역(110) 내의 친수성 층(104)의 표면을 노출시키기 위해 물 또는 세척 용제로 세척된다.
본 발명의 일 태양은 적외선 흡수 상 형성 층을 갖는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재에 관한 것이고, 부재는 상 형성 레이저의 레이저 융제 제거에 의한 석판 인쇄 표면을 형성하는 데 충분한 에너지를 사용하지 않고서 그리고 알칼리성 또는 용제 현상 용액을 사용하지 않고 상 형성될 수 있다. 방법은 (a) 기판과, 기판에 중첩된 친수성 층과, 적외선 상 형성 방사선의 흡수 이전에 물 또는 세척 용제로 세척함으로써 친수성 층으로부터 쉽게 제거되지 않으며 흡수 가능한 적외 방사선에 대한 화상 노출 및 이후에 물 또는 세척 용제로 세척해도 제거되는 않는 것이 특징인 친수성 층을 드러내도록 물 또는 세척 용제에 의해 표면 층의 노출된 영역의 용이한 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 된 적외 방사선 흡수, 열 감지식 중합체 표면 층을 포함하는, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계와, (b) 레이저 노출된 영역 내의 표면 층이 물 또는 세척 용제로 세척함으로써 제거 되도록 하기엔 충분하지만, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 10중량%, 양호하게는 5중량%, 더욱 양호하게는 2중량% 보다 많은 양이 융제에 의해 제거되도록 하기엔 불충분한 불충분한 표면 층의 레이저 노출된 영역 내에서 적외 방사선 흡수 및 열의 국부적인 발생을 달성하도록 적외선 방출 레이저를 사용해서 흡수 가능한 적외 방사선에 양화 작동 부재를 노출시키는 단계와, (c) 물 또는 세척 용제로 하부 친수성 층을 드러내도록 표면 층의 레이저 노출된 영역을 제거하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 태양은 본원에서 설명되고 예를 들어 도2, 도3a, 도3b, 도4, 도5a 및 도5b에 도시된 것처럼, 본 발명의 방법에 따라 준비된 습식 석판 인쇄 부재에 관한 것이다.
따라서, 예를 들어, 본 발명의 일 태양은 (a) 기판과, (b) 기판에 중첩된 친수성 층과, (c) 친수성 층에 중첩된 잉크 수용 표면 층을 포함하는 양화 작동 석판 인쇄 부재에 관한 것이고, 표면 층은 적외선 상 형성 방사선의 흡수와, 적외선 상 형성 방사선의 흡수 이전에 물로 세척함으로써 제거 가능한 것과, 레이저 노출된 영역 내의 표면 층의 중량의 10% 이하, 양호하게는 5% 이하, 더욱 양호하게는 2% 이하를 융제에 의해 제거하며 가장 양호하게는 레이저 노출된 영역 내의 표면 층을 융제에 의해 제거하지 않는 흡수 가능한 적외 방사선에 대한 화상 노출 및 이후에 하부 친수성 층을 드러내도록 물로 세척함으로써 표면 층의 레이저 노출된 영역의 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 된 것이 특징이고, 상기 친수성 층은 물로 세척해도 제거되지 않는 것이 특징이다.
실시예
본 발명의 몇몇 실시예가 다음의 실시예들 내에서 예시적이지만 제한적이지는 않게 설명될 것이다.
실시예1
본 발명에 따른 친수성 열 장벽 층을 갖는 석판 인쇄판 기판은 본원의 도2의 층(104)에 의해 도시된 것처럼, 입상화되고 양극산화되고 규화된 알루미늄의 웨브를 코팅함으로써 생산 라인에서 준비되었다. 친수성 열 장벽 층은 건조 중량을 기초로 해서 다음과 같은 성분을 가졌다.
친수성 층 성분
AIRVOL 325 4.28
BACOTE 20 1.75
GLYCEROL 0.17
TRITON X-100 0.07
BYK 333 0.10
AIRVOL 325는 에어 프로덕츠 & 케미칼, 인크.(Air Products & Chemical, Inc.)의 폴리비닐 알콜의 고도로 가수분해된 등급이다. BACOTE 20은 뉴저지주 플레밍턴의 마그네슘 일렉트론, 인크.(Magnesium Elektron, Inc.)의 20%의 ZrO2를 함유하는 안정화된 암모늄 지르코늄 카보네이트의 알칼리성 수용액이다. TRITON X-100은 롬 & 하스(Rohm & Haas)의 탄화수소 계면활성제이다. BYK 333은 코넥티컷주 웰밍포드의 비와이케이 케미 유에스에이(Byk Chemie USA)의 실리콘 계면활성제의 상표이다.
상기 성분들은 물과 혼합되어 6.3 중량%의 용액을 만든다. 이 용액은 #18 와이어 권취 로드에 의해 알루미늄 웨브에 도포되어 고온 공기로 141℃(285℉)에서 60초동안 건조된 다음 웨브의 온도를 154 내지 160℃(310 내지 320℉)까지 상승시키는 데 적절한 온도에서 60초동안 적외선 열을 사용해서 부분적으로 경화된다. 친수성 층의 경화의 정도는 마이애미주 월폴의 베라텍 코포레이션(Veratec Corporation)으로부터 구득 가능한 린트가 없는 천의 상표인 물로 습식된 WEBRIL 와이퍼로 매우 심하게 마찰시킴으로써 시험되었다. 습식 마찰은 각각 본 발명의 습식 마찰 저항 시험의 30회 내구성 마찰이 실제로 코팅 층을 가로질러 총 60회의 패스 또는 습식 마찰을 포함하도록 코팅 층을 가로지르는 전후로의 내구성 패스를 포함한다. 최종 상 형성된 판의 최적 성능 특성은 친수성 층을 코팅, 건조, 부분적으로 경화시킨 후에 그러나 이후의 코팅, 건조, 경화 단계 이전에 시험되었을 때 30회 이하의 내구성 마찰, 양호하게는 10 내지 15회의 내구성 마찰이 친수성 층을 기판까지 제거하는 데 필요한 경우의 몇몇 실시예에서 달성된다.
실시예2
2층 습식 석판 인쇄판은 도2에 도시된 것처럼, 다음과 같은 성분의 잉크 수용 적외선 흡수 층을 실시예1에 설명된 것처럼 준비된 친수성 열 장벽 코팅 알루미늄에 도포함으로써 준비되었다. 실시예2A는 융제 상 형성 공정에 의해서만 수용 가능하게 상 형성하는 습식 석판 인쇄판에 해당하는 비교 실시예이다. 실시예2B 내지 실시예2F는 본 발명에 따른 석판 인쇄판의 실시예들이다.
건조 코팅의 성분 (중량%)
2A 2B 2C 2D 2E 2F
AIRVOL A325 25.3 14.3 12.7 14.0 6.9 6.2
CYMEL 303 4.3 0.6 0.6 2.0 1.0 0.9
WITCOBOND 240 0.0 0.0 12.7 4.1 2.0 1.8
JONCRYL 540 0.0 0.0 0.0 0.0 50.6 45.5
결합제 소계 29.6 14.9 26.0 20.1 60.5 54.4
BONJET CW-1 53.1 69.6 60.2 69.0 34.0 40.7
TRITON X100 2.0 6.7 6.0 2.4 1.2 1.1
NACURE 2530 15.4 8.7 7.8 8.6 4.2 3.8
총계 100.0 99.9 100.0 100.1 99.9 100
CYMEL(303)은 사이텍 인더스트리스 인크(Cytec Industries, Inc.)에 의해 제공되는 헥사메톡시메틸멜라민(hexamethoxymethylmelamine) 교차 결합제이다. BONJET CW-1는 오리엔트 케미컬(Orient chemical)에 의해 제공되는 높은 활성 수소 내용물을 갖는 대략 100nm 탄소 입자의 자체 교차 결합 폴리 우레탄 분산용의 상표이다. NACURE 2530은 킹 인더스트리스 인크(King Industries, Inc.)에 의해 제공되는 이소 프로판/메탄올 혼합물 내의 아민 차단된 p-톨루엔 술폰 산성 촉매이고, JONCRYL 540은 에스. 시. 존슨, 레신, 더블유엘(S.C. Jhonson, Racine, WL)에 의해 제공되는 자극성 라텍스 중합체의 상표명이고, JONCRYL 540은 49 수의 산과 42 수의 수산기를 갖는다. 위의 여 섯개의 조성물은 건조 중량 기초이다. 이들 조성물은 물과 2-부톡시테놀(2-butoxythenol)의 추가 후에 아래에 설명되는 % 고체로 코팅되어 2-부톡시테놀과 이소프로페놀과 메탄올의 용제 혼합물의 중량의 5%와 물의 중량의 약 95%의 전체 용제 시스템을 제공한다. 용제 시스템 내의 중합체의 용해와 성분의 혼합과 코팅 적용이 이러한 형태의 물질과 코팅 형성에 대해 당업계에 공지된 방법을 이용하여 행해진다.
예 2A의 적외선 흡수 층은 친수성 장벽이 생산 코팅 기계 상에 감겨진 로드이고 2분 동안 145℃에서 건조된 #4 메이어(Meyer) 와이어를 이용하여 코팅된 알루미늄 기판에 인가된다. 100RPM 및 14와트(400mj/cm2노출 에너지)로 Creo TRENDSETTER 1.7X 레이저 결상 유닛 상에 노출되면, 레이저 노출 영역 내의 감소된 밀도와 표면으로부터의 방출되는 높은 수준의 냄새와 건조한 손가락으로 닦을 때 볼 수 있는 용이하게 검출된 산만한 파편에 의해 증명되는 바와 같이 중대한 융제가 발생한다. 이 레이저 노출 수준에 있어서, 판은 모레톤(molleton) 롤 열을 이용하여 물에 의해 문질러 질때 완전히 세정되지 않는다. 65 RPM 및 14와트(610mj/cm2노출 에너지)에 판을 노출시켜 레이저 노출 수준을 증가시킴으로써, 예 2A의 판은 완전히 세정되지만 건조한 손가락으로 닦여질 수 있는 증가된 수준의 산만한 파편에 의해 특히 증명되는 바와 같이 융제가 증가하게 된다.
예 2B와 2C와 2D의 적외선 흡수 층은 예 2A의 적외선 흡수 층보다 더 작은 폴리 비닐 알콜 접합제와 더 많은 물 분산 검정을 갖는다. 예 2B와 2C와 2D는 2.5% 고체로 각각 코팅된다. 이들 적외선 흡수 코팅의 모든 세 개는 감겨진 로드이고 2분 동안 145℃에서 건조된 #4 메이어(Meyer) 와이어를 이용하여 친수성 층에 인가된다. 물로 양호하게 세정된 이들 모두는 크레오(CREO) 레이저 결상 유닛 상에 결상될 때 예 2A에 사용된 것보다 빠른 결상 속도로 결상된다. 사용된 결상 속도는 예 2A에 사용된 결상 속도보다 40% 내지 100% 빠르다. 100RPM 및 14와트에서 결장될 때 적외선 흡수 층의 적어도 40%의 상당한 융제를 보여주는 예 2A와 대조적으로, 측정된 코팅 중량의 범위 이상의 예 2B와 2C와 2D는 140 내지 200 RPM 및 14와트 범위(200 내지 280 mj/cm2노출 에너지) 이상으로 결상될 때 10% 이하의 적외선 흡수 층 융제를 나타내고, 물로 레이저 노출 영역을 완전히 제거하는 탁월한 세정 능력을 나타내어 우수한 이미지 해상도와 상당한 내구력을 갖는 습식 석판 인쇄 판을 제공한다.
예 2D의 내구력은 2분 동안 145℃ 대신 175℃ 에서 2분 동안 적외선 흡수 층을 건조 및 경화시킴으로써 알맞은 정도에서 양호하게 향상된다. 예 1에서의 관찰 결과와 유사하게, 적외선 흡수 코팅 층에 대한 건조 및 경화 조건은 석판 인쇄 부재의 전체 질에, 특히 세정의 용이성과 이미지 해상도와 압력에 대한 내구력에 상당한 영향을 미친다. 일반적으로 이러한 건조 및 경화 조건과 석판 인쇄 부재를 준비하는 과정의 각 단계에서 각 코팅 층의 경화 정도는 실험에 의해 결정되어 전체 질을 최적화 하도록 선택된다. 또한, 레이저 노출과 레이저 노출 영역을 제거하는 세정 후, 인쇄 부재는 더욱 가열되어 압력에 대한 내구력을 증가시킨다. 압력에 대한 내구력은 습식 마찰 저항 시험에 의해 측정된다. 습식 마찰 저항은 물에 의해 적셔진 베러텍 코퍼레이션 월 폴 엠에이(Veratec Corporation, Walpole, MA)로부터 구입 가능한 린트(lint) 없는 천의 상표인 WEBRIL 천으로 50번 습식 마찰에 견딘 판 상의 가장 미세한 라인 또는 도트를 측정함으로써 평가된다. 습식마찰은 각각 결상된 영역을 가로 질려 전후방으로 두 번 지나가는 것을 포함하여 본 발명의 습식 마찰 저항 시험에 있어서의 50번 습식 마찰은 실제로 결상된 영역을 가로지르는 전체 100번의 통과 또는 습식 마찰을 포함한다. 습식 마찰 저항 시험은 또한 메탈 에틸 케톤으로 적셔진 WEBRIL 천으로 수행된다.
본 발명의 해상도와 습식 마찰 저항 시험에 있어서, 이미지 영역은 두 가지 형태이다: (1) 폭을 포함하는 픽셀의 수에 기초한 라인의 폭을 갖는 픽셀 열의 형태의 좁은 라인과 (2) 인치당 150 라인에 반색조 도트(lpi) 반색조 스크린 결상. 하나의 픽셀 라인은 15 마이크론 너비이고, 세 개의 픽셀 라인은 40 마이크론 너비이다. 2% 도트는 직경이 15 마이크론 이고 3% 도트는 직경이 20 마이크론이고, 4% 도트는 직경이 25 마이크론이고, 5% 도트는 직경이 35 마이크론이고, 10% 도트는 직경이 60 미이크론이다. 픽셀 라인의 폭이 작이 더 작고 도트 크기의 직경이 더 작은 것이 판 상에 달성되어 유지되는 것이 인쇄 질 및 허용 가능한 질을 갖는 압력 주행 길이을 위해 더 좋다. 이로 인해 습식 마찰 저항 시험을 통해 1 픽셀 너비 라인 이미지를 세정 및 유지 후에 1 픽셀 너비 라인 이미지를 달성하는 것이 인쇄 실을 위해서는 가장 좋은 결과이다. 유사하게, 습식 마찰 저항 시험을 통해 2% 도트 이미지를 세정 및 유지 후에 직경이 약 15 마이크론인 2% 도트 이미지 또는 도트를 달성하는 것이 인쇄 질을 위해 훌륭한 결과이고, 가장 좋은 도트 이미지로서 5% 또는 10% 도트만을 유지하는 것에 비교하여 더 더욱 바람직하다.
이미지 해상도는 레이저 결상 노출 및 후속의 세정 단계 후 판 상에 달성되는 가장 미세한 라인 또는 이미지의 도트 또는 잉크 수용 가능한 영역으로서 측정된다.
레이저 융제 결상으로부터의 금속 판의 중량 손실은 양적으로 측정하기 어렵지만, 레이저 노출 전후에 고 정밀 분석 균형 상에 측정된 폴리 에틸렌 테라 프탈린 필름과 같은 플라스틱 기판 상의 동일한 코팅으로부터 보정된 표준으로 비교함으로써 측정될 수 있다.
예 2E와 2F의 적외선 흡수 층은 예 2A의 적외선 흡수 층에 비교하여 낮은 범위와 유사한 코팅 중량으로 코팅된다. 예 2E는 4.8 % 고체로 코팅되고, 예 2F는 2.6%와 5.2% 고체로 코팅된다. 이들 모든 코팅은 #4 메이어 와이어가 감긴 로드를 이용하여 인가된다. 결상된 판의 이미지 해상도와 내구력을 증가시키기 위해, 코팅(2E, 2F)은 2분 동안 175℃에서 건조 및 경화된다. 존재하는 접합제의 증가된 양과 존재하는 물 분산 가능한 탄소 흑색의 낮은 양에도 불구하고, 예 2E와 2F는 120 내지 160 RPM(250 내지 330 mj/cm2노출 에너지)의 범위에 걸쳐 CREO 레이저 결상 유닛 상에 결상 후 물로 잘 세정된다. 물로 세정 전에 이들 판은 적외선 흡수 층의 융제의 10% 이하를 나타내고, 세정후에는 우수한 습식 석판 인쇄 판 특성, 특히 우수한 이미지 해상도와 우수한 내구력을 나타내었다.
5.2% 고체의 예 2F의 JONCRYL 540대신에 수산기 내용물과 60 수의 산성을 갖지 않는 JONCRYL 138로 대체하면, 결과는 유사하지만 예 2F에서 발견된 성능만큼 양호하지는 않다.
이들 결과는 적외선 흡수 층 형성과 본 발명의 비융제, 아주 높은 결상 속도, 및 용이하게 세정된 석판 인쇄 부재의 처리 조건과 방법에 대해 가능한 유연성을 보여준다.
상술된 레이저 노출 조건으로 Cero 레이저 결상 유닛상에 결상 될 때 적외선 흡수 층의 가시적 융제 중량 손실에 추가하여, 비교적 레이저 융제 예인 예 2A는 손가락 또는 천으로 건식 마찰에 의해 제거될 수 있는 레이저 노출 영역 내에 상당히 약하게 접합된 파편을 갖고, 또한 레이저 노출 직후 레이저 결상 유닛으로부터 이것을 제거한 후 평가될 때 강한 냄새를 갖는다. 대조적으로, 예 2B 내지 2F는 손가락 또는 천으로 건식 마찰에 의해 제거될 수 있는 약하게 접합된 파편을 아주 조금 갖거나 또는 갖이 않으며, 또한 상술된 바와 같이 결상될 때 레이저 노출 후 또는 노출 동안 어느 때라도 강한 냄새를 갖지 않는다.
만약 예 2B 내지 2F상의 레이저 노출 체류 시간이 65 RPM 내지 85 RPM 및 14와트(470 내지 610 mj/cm2노출 에너지)와 같이 Creo 레이저 결상 유닛 상에 상당히 증가되면, 몇몇 냄새의 향상과 레이저 노출 영역 내의 약하게 접합된 경감된 파편양과 함께 적외선 흡수 층의 융제의 20% 이상의 융제를 나타낼 것이다. 이로 인해, 본 발명의 인쇄 부재의 적외선 흡수 및 다른 코팅 층을 갖는 몇몇 판은 또한 통상 습식 인쇄 판으로서의 사용을 위해 레이저 융제 결상에 의해 결상될 수도 있다. 그러나, 이 대안은 본 발명의 방법의 더욱 높은 결상 속도와 아주 낮은 공수 방출을 갖거나 또는 아예 갖지 않는 비 융제 결상 처리와 우수한 세정능력과 이미지 질과 비교할 때 상업적으로 매력직이지 않다.
예 3
도4에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 석판 인쇄 판은 예 2D 판에 기초한건조 중량 상에 다음 조성물의 잉크 수용 층을 인가함으로써 준비된다.
잉크 수용 표면 층 조성물
6 교차 니트로 셀룰로오스 중합체 1.94
CYMEL 303 0.74
(PTSA로서) NACURE 2530 0.35
6 교차 니트로 셀룰로오스는 이소프로패놀과의 70% 혼합물로서 알드리치 케미컬 컴파니(Aldrich Chemical Company)로부터 얻을 수 있다.
상술된 구성 요소는 1-메톡시-2-프로페놀와 혼합되어 3% 고체 용액을 제공한다. 예 2D 판은 #3 와이어 권선 로드를 이용하여 이 용액으로 코팅되고, 175℉에서 1분 동안 고온 공기 내에서 건조된다.
이 세 층 판은 GATF 이미지로 140 RPM 및 14와트(280 mj/cm2의 노출)에서 Creo TRENDSETTER 1.7X 상에 노출된다. 아주 작은 양의 냄새가 판 표면으로부터 방출되는 것으로 검출되고, 레이저 노출 영역 내의 이미지는 건조한 손가락으로 닦을 때 볼 수 있는 아주 미세한 산만한 파편으로 약하게만 가시적이다. 노출된 판은 몰레톤 롤 열을 이용하여 물로 문지름으로써 용이하게 세정된다.
상이 형성되지 않는 배경 영역은 잔여 적외선 흡수 코팅을 나타내지 않고, 아주 미세한 주요 특징이 가시적이다. 이미지 영역은 우수한 내구력을 갖는다. 물에 젖은 WEBRIL 로의 50번의 격렬한 이중 마찰 후에 2% 150 lpi 반색조 도트와 0.05 포인트 라인이 완전히 유지되고, 고체 영역은 물에 적신 WEBRIL 와이프(wipe)로 50번의 격렬한 이중 마찰 또는 메틸 에틸 케톤으로 적신 WEBRIL 와이프로 50번의 격렬한 이중 마찰 후에 아주 미소한 변화를 나타냈다.
비록 본 발명이 특정적이고 일반적인 실시예를 참조하여 상세하게 설명되었지만, 본 발명의 사상과 기술 범위를 벗어나지 않는 다양한 변경 및 변형이 있을 수 있음이 당업자에게 명백하다.
본 발명에 의하면, 석판 인쇄 부재 또는 판이 적외선 흡수 층 및 잉크 수용 표면 층의 융제가 제거되는 매우 낮은 레이저 동력에서 상 형성될 수 있고, 따라서 거의 모든 독성 기체 및 공기중 불순물 또는 그 전부를 제거할 수 있다. 습식 석판 인쇄 프레스 상의 수용액이 레이저 노광된 적외선 흡수 층 및 (만약 그 판으로부터 제공된다면) 잉크 수용 표면 층을 용이하게 세척할 수 있으므로, 판은 프레스 상 형성 및 직접 인쇄에 적합하다. 또한, 장시간의 인쇄 과정에서, 친수성 층은 수용액에 의해 용해되지 않고 비친수성 기판이 이용될 수 있다. 또한, 본 발명의 비노광 화상 영역 아래의 친수성 층은 씌워진 잉크 수용 이미지 층에 대해 우수한 접착성을 제공한다.
더욱이, 본 발명은 특히 큰 스폿 크기를 갖는 비교적 고가의 다이오드 레이저로서 신속하게 상 형성되는 성능, 낮은 레이저 동력 상 형성 특성, 상 형성 중에 독성 기쳬 및 공기중 불순물의 제거능, 세척의 용이성, 우수한 화상 용해 및 인쇄능, 우수한 내구성 및 인쇄 프레스 상의 이미지 부착능을 제공하는 물에 대한 저항성, 및 저렴한 제조 비용 특성을 갖는다.

Claims (121)

  1. (a) 기판, 상기 기판 위에 배치되는 친수성 층, 상기 친수성 층 위에 배치되는 적외선 흡수층 및 상기 적외선 흡수층 위에 배치되는 잉크 수용 표면층을 구비하는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 준비하는 단계-(i) 상기 표면층은 적외선 상 형성 복사의 흡수로부터 제거되지 않고, (ii) 상기 적외선 흡수층은 적외선 상 형성 복사를 흡수하며, (iii) 상기 표면층 및 적외선 흡수층은, 적외선 상 형성 복사의 흡수 이전에 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 되고, 흡수성 적외선 복사에 대한 상 방향의 노출과 하부의 친수성 층의 노출을 위한 후속의 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 노출 영역의 물 또는 세척 용액에 의한 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄면을 형성하도록 되며, (iv) 상기 친수성 층은 물 또는 상기 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 됨-와,
    (b) 상기 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선에 노출시켜 상기 적외선 흡수층이 상기 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 상기 레이저 노출 영역의 상기 표면층이 물 또는 세척 용액에 의한 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와,
    (c) 하부의 친수성 층을 노출하도록 물 또는 세척 용액으로 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역을 제거하는 단계를 포함하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 표면층은 중합체 및 교차 결합제의 교차 결합된 중합 반응물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 교차 결합된 중합 반응물의 상기 중합체는 셀룰로오스, 아크릴 중합체, 폴리우레탄 및 에폭시 중합체로 구성된 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 표면층은 유기 술폰산 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 표면층의 중량은 0.05 내지 0.5g/m2인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 표면층의 중량은 0.1 내지 0.3g/m2인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 친수성 층은 단계 (b) 및 (c) 동안에 레이저 노출 영역 내의 상기 친수성 층의 제거가 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 5중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  11. (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판 상에 코팅시키는 단계와,
    (b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 단계 (a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (c) 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층 상에 코팅시키는 단계와,
    (d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 적외선 흡수층을 형성하도록 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (e) 제3 액체 매체 및 잉크 수용 중합체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 적외선 흡수층 상에 코팅시키는 단계와,
    (f) 상기 제3 액체 매체를 제거하고 잉크 수용 표면층을 형성하도록 단계 (e)에서 형성된 층을 건조시켜, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계-상기 표면층, 적외선 흡수층 및 친수성 층은 흡수성 적외선 방사에 노출되기 전에 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 불가능하게 됨-와,
    (g) 상기 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선에 노출시켜 상기 적외선 흡수층이 상기 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 상기 레이저 노출 영역의 상기 표면층이 물 또는 세척 용액에 의한 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와,
    (h) 하부의 친수성 층을 노출하도록 물 또는 세척 용액으로 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역을 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제2 교차 결합제의 일부분은 상기 친수성 층 내로 침투하며, 단계 (c)에서 형성된 층을 건조하는 단계는 하부의 친수성 층을 건조하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. (a) 기판, 상기 기판 위에 배치되는 친수성 층, 상기 친수성 층 위에 배치되는 적외선 흡수층, 상기 적외선 흡수층 위에 배치되는 잉크 수용 표면층 및 상기 친수성 층과 상기 적외선 흡수층 사이에 개재된 초벌 층을 구비하는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 준비하는 단계-(i) 상기 표면층은 적외선 상 형성 복사의 흡수로부터 제거되지 않고, (ii) 상기 적외선 흡수층은 적외선 상 형성 복사를 흡수하며, (iii) 상기 표면층 및 적외선 흡수층은, 적외선 상 형성 복사의 흡수 이전에 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 되고, 흡수성 적외선 복사에 대한 상 방향의 노출과 하부의 친수성 층의 노출을 위한 후속의 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 노출 영역의 물 또는 세척 용액에 의한 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄면을 형성하도록 되며, (iv) 상기 초벌 층은 부착 증진제를 포함하고, (v) 상기 친수성 층은 물 또는 상기 세척 용액으로 세척함으로써 제거 불가능하게 됨-와,
    (b) 상 방향의 패턴으로 단계 (a)의 상기 부재를 흡수성 적외선 복사에 노출시켜 상기 적외선 흡수층에 의한 흡수를 수행함으로써, 레이저 노출 영역에서의 상기 표면층 또는 적외선 흡수층의 상당한 융제 없이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 상기 레이저 노출 영역에서의 표면층, 적외선 흡수층 및 초벌 층이 제거 가능하게 되도록 하는 단계와,
    (c) 하부의 친수성 층을 노출하도록 물 또는 세척 용액으로 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역을 제거하는 단계를 포함하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법.
  14. 제13항에 있어서, 단계 (a)의 상기 초벌 층의 두께는 0.01 내지 0.1 미크론인 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 부착 증진제는 친수성 중합체 및 교차 결합체의 교차 결합된 중합 반응물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 초벌 층은 촉매를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제13항에 있어서, 상기 초벌 층은 유기 술폰산 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 상기 초벌 층은 지르코늄 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제13항에 있어서, 상기 친수성 층은 단계 (b) 및 (c) 동안에 상기 레이저 노출 영역 내의 상기 친수성 층의 제거가 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제13항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층의 조합의 5중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제13항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층의 조합의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제13항에 있어서, 단계 (b)의 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 방사의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거 가능하게 하는 데는 충분하지만, 상기 레이저 노출 영역의 표면층과 적외선 흡수층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  23. (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판 상에 코팅시키는 단계와,
    (b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 존재하는 상기 제1 교차 결합체의 일부분이 반응하게 하며 친수성 층을 형성하도록 단계 (a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (c) 제2 액체 매체 및 부착 증진제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층 상에 코팅시키는 단계와,
    (d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 초벌 층을 형성하도록 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (e) 제3 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 초벌 층 상에 코팅시키는 단계와,
    (f) 상기 제3 액체 매체를 제거하고 상기 친수성 층 내에 존재하는 상기 제1 교차 결합제의 추가 부분이 반응하게 하며 존재하는 제2 교차 결합제의 일부분이 반응하게 하고 잉크 수용층을 형성하도록 단계 (e)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (g) 제4 액체 매체 및 잉크 수용 중합체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 적외선 흡수층 상에 코팅시키는 단계와,
    (h) 제4 액체 매체를 제거하고 잉크 수용 표면층을 형성하도록 단계 (g)에서 형성된 층을 건조시켜, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계-상기 표면층, 적외선 흡수층 및 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 불가능하게 됨-와,
    (i) 단계 (h)의 상기 부재를 적외선 방사 레이저를 사용하여 흡수성 적외선 방사에 노출시켜, 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역에서의 적외선 방사의 흡수를 수행하며, 상기 적외선 방사의 흡수는 상기 레이저 노출 영역 내의 상기 표면층 및 적외선 흡수층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 가능하게 되게 하기에 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분하게 되는 단계와,
    (j) 하부의 친수성 층을 노출하도록 물 또는 세척 용액으로 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역을 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법.
  24. (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판 상에 코팅시키는 단계와,
    (b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 단계 (a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (c) 제2 액체 매체 및 부착 증진제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층 상에 코팅시키는 단계와,
    (d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 초벌 층을 형성하도록 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (e) 제3 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 초벌 층 상에 코팅시키는 단계-상기 제2 교차 결합제의 일부분은 상기 친수성 층 내로 침투함-와,
    (f) 상기 제3 액체 매체를 제거하고 상기 친수성 층 내에 존재하는 상기 제2 교차 결합제의 일부분이 반응하게 하며 적외선 흡수층을 형성하도록 단계 (e)에서 형성된 층과 하부의 초벌 층 및 친수성 층을 건조시키는 단계와,
    (g) 제4 액체 매체 및 잉크 수용 중합체를 포함하는 액체 혼합물을 상기 적외선 흡수층 상에 코팅시키는 단계와,
    (h) 제4 액체 매체를 제거하고 잉크 수용 표면층을 형성하도록 단계 (g)에서 형성된 층을 건조시켜, 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계-상기 표면층, 적외선 흡수층 및 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 불가능하게 됨-와,
    (i) 단계 (h)의 상기 부재를 적외선 방사 레이저를 사용하여 흡수성 적외선 방사에 노출시켜, 상기 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역에서의 적외선 방사의 흡수를 수행하며, 상기 적외선 방사의 흡수는 상기 레이저 노출 영역 내의 상기 표면층 및 적외선 흡수층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거 가능하게 되게 하기에 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층과 적외선 흡수층 조합의 10 중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분하게 되는 단계와,
    (j) 하부의 친수성 층을 노출하도록 물 또는 세척 용액으로 상기 표면층 및 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역을 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법.
  25. 제11항에 있어서, 단계 (a)에서 형성된 층의 건조는 제1 교차 결합제의 일부분이 반응하게 하며, 단계 (c)에서 형성된 층의 건조는 상기 친수성 층에 존재하는 상기 제1 교차 결합제의 추가 부분이 반응하게 하고 존재하는 제2 교차 결합제의 일부분이 반응하게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  26. (a) 기판, 기판 위에 놓인 친수성 층, 친수성 층 위에 놓인 잉크 수용 표면층을 포함하는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계-이 경우에, (i) 상기 표면층은 적외선 상 형성 복사선을 흡수하고 적외선 상 형성 복사선의 흡수 전에 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거될 수 없는 것을 특징으로 하고, (ii) 상기 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거될 수 없는 것을 특징으로 함-와,
    (b) 상기 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선 복사에 노출시켜 상기 표면층이 상기 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 상기 레이저 노출 영역의 상기 표면층이 물 또는 세척 용액에 의한 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와,
    (c) 하부의 친수성 층을 노출시키기 위해 표면층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재를 상 형성하는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 레이저 노출로는 상기 단계 (b) 및 (c) 동안에 친수성 층을 제거할 수 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 제26항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  29. 제26항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제26항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선의 흡수는 레이저 노출 영역의 표면층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  31. 제26항에 있어서, 표면층의 중량은 0.05 내지 1.0 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제26항에 있어서, 표면층의 중량은 0.1 내지 0.5 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제26항에 있어서, 표면층은 하나 이상의 중합체와 적외선 흡수 감광제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  34. 제33항에 있어서, 상기 감광제는 카본 블랙인 것을 특징으로 하는 방법.
  35. 제34항에 있어서, 상기 카본 블랙은 표면에 술폰기를 갖는 술폰화 카본 블랙, 표면에 카르복시기를 갖는 카르복실화 카본 블랙 및 1.5 mmol/g 이상의 표면 활성 수소 함량을 갖는 카본 블랙으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  36. 제33항에 있어서, 상기 감광제는 CAB-O-JET 200인 것을 특징으로 하는 방법.
  37. 제33항에 있어서, 상기 감광제는 BONJET BLACK CW-1인 것을 특징으로 하는 방법.
  38. 제33항에 있어서, 상기 감광제는 55 중량% 이상의 양으로 상기 표면층 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  39. 제33항에 있어서, 상기 감광제는 상기 표면층 중량의 65%를 초과하는 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  40. 제33항에 있어서, 상기 하나 이상의 중합체 중의 하나는 폴리비닐 알코올, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 비닐 중합체, 아크릴 중합체 및 셀루로스로 구성된 군으로부터 선택된 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  41. 제26항에 있어서, 상기 표면층은 폴리비닐 알코올인 것을 특징으로 하는 방법.
  42. 제41항에 있어서, 상기 폴리비닐 알코올은 표면층의 중합체 총중량의 20 내지 95 중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  43. 제41항에 있어서, 상기 폴리비닐 알코올은 표면층의 중합체 총중량의 20 내지 75 중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  44. 제33항에 있어서, 표면층은 교차 결합제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  45. 제44항에 있어서, 상기 교차 결합제는 멜라민인 것을 특징으로 하는 방법.
  46. 제44항에 있어서, 상기 하나 이상의 중합체는 중합체와 교차 결합제의 교차 결합 중합 반응 생성물인 것을 특징으로 하는 방법.
  47. 제46항에 있어서, 상기 교차 결합 중합 반응 생성물은 폴리비닐 알코올과, 폴리비닐 알코올 및 비닐 중합체와, 셀룰로오스 중합체와, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 아크릴 중합체 및 비닐 중합체의 중합체와 교차 결합제의 겨처 결합 반응 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  48. 제44항에 있어서, 상기 표면층은 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  49. 제48항에 있어서, 상기 촉매는 유기 술폰산 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  50. 제49항에 있어서, 유기 술폰산 성분은 아민 차단된 p-톨루엔 술폰산(amine-blocked p-toluenesulfonic acid)의 성분인 것을 특징으로 하는 방법.
  51. 제49항에 있어서, 유기 술폰산 성분은 표면층의 중합체 총중량의 25 내지 75 중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  52. 제49항에 있어서, 유기 술폰산 성분은 표면층의 중합체 총중량의 35 내지 55 중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  53. 제49항에 있어서, 표면층은 유기 술폰산 성분의 5 중량% 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  54. 제49항에 있어서, 표면층은 유기 술폰산 성분의 12 중량% 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  55. 제26항에 있어서, 친수성 층은 친수성 층 및 제1 교차 결합제의 교차 결합 중합 반응 생성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  56. 제55항에 있어서, 친수성 층은 폴리비닐 알코올 및 셀루로스로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  57. 제55항에 있어서, 친수성 층은 폴리비닐 알코올인 것을 특징으로 하는 방법.
  58. 제55항에 있어서, 제1 교차 결합제는 지르코늄 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  59. 제55항에 있어서, 제1 교차 결합제는 암모늄 지르코닐 카보네이트인 것을 특징으로 하는 방법.
  60. 제57항에 있어서, 제1 교차 결합제는 암모늄 지르코닐 카보네이트이고, 이 암모늄 지르코닐 카보네이트는 폴리비닐 알코올의 10 중량% 이상의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  61. 제57항에 있어서, 제1 교차 결합제는 암모늄 지르코닐 카보네이트이고, 이 암모늄 지르코닐 카보네이트는 폴리비닐 알코올의 20 내지 50 중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
  62. 제60항에 있어서, 친수성 층은 제2 교차 결합제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  63. 제62항에 있어서, 친수성 층은 폴리비닐 알코올 및 제2 교차 결합제의 교차 결합 중합 반응 생성물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  64. 제63항에 있어서, 상기 제2 교차 결합제는 멜라민인 것을 특징으로 하는 방법.
  65. 제62항에 있어서, 친수성 층은 제2 교차 결합제용 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  66. 제65항에 있어서, 촉매는 유기 술폰산 성분인 것을 특징으로 하는 방법.
  67. 제26항에 있어서, 친수성 층은 무기 크세로겔 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  68. 제67항에 있어서, 친수성 층은 산화지르코늄 크세로겔을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  69. 제26항에 있어서, 친수성 층은 1 내지 40 미크론의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  70. 제26항에 있어서, 친수성 층은 2 내지 25 미크론의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  71. 제26항에 있어서, 기판은 비금속 기판 및 비친수성 금속 기판으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  72. 제26항에 있어서, 기판은 종이 및 중합체 필름으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  73. 제26항에 있어서, 기판은 폴리에스테르, 폴리카보네이트 및 폴리스티렌으로 구성된 중합체 필름의 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  74. 제73항에 있어서, 폴리에스테르 중합체 필름은 폴리에틸렌 테르프탈레이트 필름인 것을 특징으로 하는 방법.
  75. 제26항에 있어서, 기판은 비친수성 금속인 것을 특징으로 하는 방법.
  76. 제75항에 있어서, 비친수성 금속 기판은 알루미늄인 것을 특징으로 하는 방법.
  77. 제75항에 있어서, 비친수성 금속 기판은 비친수성 금속 기판의 적어도 일 표면 상에 비친수성 중합체 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  78. 제26항에 있어서, 기판은 친수성 금속인 것을 특징으로 하는 방법.
  79. 제78항에 있어서, 금속 기판은 알루미늄, 구리, 강 및 크롬으로 구성된 금속의 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  80. 제78항에 있어서, 금속 기판은 입자화, 양극화, 규산화, 또는 조합적으로 처리되는 것을 특징으로 하는 방법.
  81. 제78항에 있어서, 금속 기판은 알루미늄인 것을 특징으로 하는 방법.
  82. 제81항에 있어서, 알루미늄 기판은 균일한 비방향성 거칠기 및 초미세 함몰부를 갖고 친수성 층과 접촉하는 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  83. 제82항에 있어서, 알루미늄 기판의 표면은 20 마이크로인치(microinch)의 전체 대역의 상부 및 하부로 연장하는 직선 인치당 300 내지 450 범위의 정점을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  84. (a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 기판을 코팅하는 단계와,
    (b) 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 상기 (a) 단계에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    (c) 제2 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물로 친수성 층을 코팅하는 단계와,
    (d) 제2 액체 매체를 제거하고 잉크 수용 표면층을 형성하기 위해 상기 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시켜서, 상기 표면층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의해 제거되지 않는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계와,
    (e) 상기 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선 복사에 노출시켜 상기 표면층이 상기 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 상기 레이저 노출 영역의 상기 표면층이 물 또는 세척 용액에 의한 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와,
    (f) 하부의 친수성 층을 노출시키기 위해 표면층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 준비하는 방법.
  85. 제84항에 있어서, 친수성 층은 상기 단계 (e) 및 (f) 중에 레이저 노출 영역 내에서 친수성 층 제거가 일어나지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
  86. 제84항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역의 표면층의 5중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  87. 제84항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역의 표면층의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  88. 제84항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  89. 제84항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.05 내지 1.0 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  90. 제84항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.1 내지 0.5 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  91. 제84항에 있어서, 제2 교차 결합제의 일부분이 친수성 층을 통과하고, 단계 (c)에서 형성된 층을 건조시키는 단계는 하부의 친수성 층을 건조시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  92. 제91항에 있어서, 친수성 층은 상기 단계 (e) 및 (f) 중에 레이저 노출 영역 내의 친수성 층의 제거가 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  93. 제91항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층의 5중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  94. 제91항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  95. 제91항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  96. 제91항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.05 내지 1.0 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  97. 제91항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.1 내지 0.5 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  98. 제84항에 있어서,
    (a) 기판에 코팅된 액체 혼합물은 하나 이상의 친수성 중합체를 포함하고, 제1 교차 결합제는 하나 이상의 친수성 중합체의 10 중량%보다 많은 양으로 존재하고, (b) 친수성 층에 코팅된 액체 혼합물은 하나 이상의 중합체를 포함하고, (c) 상기 감광제는 표면층의 25 내지 80 중량%의 양으로 존재하고, 상기 하나 이상의 중합체는 표면층의 10 내지 60 중량%의 양으로 존재하는
    것을 특징으로 하는 방법.
  99. 제98항에 있어서, 친수성 층은 상기 단계 (e) 및 (f) 중에 레이저 노출 영역 내의 친수성 층의 제거가 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  100. 제98항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층의 5중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  101. 제98항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  102. 제98항에 있어서, 상기 단계 (e)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 있기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  103. 제98항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.05 내지 1.0 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  104. 제98항에 있어서, 상기 단계 (d)의 표면층의 중량은 0.1 내지 0.5 g/㎡인 것을 특징으로 하는 방법.
  105. 제98항에 있어서, 상기 단계 (c)의 하나 이상의 중합체 중의 하나는 폴리비닐 알코올, 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 비닐 중합체, 아크릴 중합체 및 셀룰로오스로 구성된 군으로부터 선택된 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  106. (a) 기판, 기판 위의 친수성 층, 친수성 층 위의 잉크 흡수 층, 및 친수성 층과 표면층 사이에 개재된 초벌 층을 포함하는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 제공하는 단계-여기서, (i) 상기 표면층은 적외선 화상 형성 복사선을 흡수하고 이 적외선 화상 형성 복사선의 흡수 이전에 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되지 않고 하부의 친수성 층을 드러내도록 흡수가능한 적외선 화상 형성 복사선에 화상 형성 방향으로 노출되고 또한 물 및 세척 용액으로 세척함으로써 표면층의 노출 영역을 후속 제거한 결과 습식 석판 인쇄 표면을 형성하도록 구성되며, (ii) 상기 초벌 층은 접착 촉진제를 포함하며, (iii) 상기 친수성 층은 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되지 않음.-와,
    (b) 상기 부재를 상 방향 패턴으로 흡수성 적외선 복사에 노출시켜 상기 표면층이 상기 흡수성 적외선을 흡수하도록 함으로써, 상기 레이저 노출 영역의 상기 표면층이 물 또는 세척 용액에 의한 세척에 의해 제거 가능하게 되지만, 상기 흡수는 상기 레이저 노출 영역의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 단계와,
    (c) 하부의 친수성 층을 노출시키기 위해 표면층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재의 상 형성 방법.
  107. 제106항에 있어서, 상기 단계 (a)의 초벌 층의 두께는 0.01 내지 0.1 미크로인 것을 특징으로 하는 방법.
  108. 제106항에 있어서, 접착 촉진제는 친수성 층 및 교차 결합제의 교차 결합 중합 반응 생성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  109. 제108항에 있어서, 초벌 층은 축매를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  110. 제106항에 있어서, 초벌 층은 유기 술폰산 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  111. 제106항에 있어서, 초벌 층은 지르코늄 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  112. 제106항에 있어서, 친수성 층은 상기 단계 (b) 및 (c) 중에 레이저 노출 영역에서 친수성 층의 제거가 없는 것을 특징으로 하는 방법.
  113. 제106항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역에서의 적외선 흡수는 상기 레이저 노출 영역 내의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  114. 제106항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 상기 레이저 노출 영역 내의 표면층의 2중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  115. 제106항에 있어서, 상기 단계 (b)의 표면층의 레이저 노출 영역 내에서의 적외선 흡수는 상기 레이저 노출 영역 내의 표면층을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 것을 특징으로 하는 방법.
  116. a) 제1 액체 매체, 친수성 중합체 및 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판에 코팅하는 단계와,
    b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 존재하는 제1 교차 결합제의 일부가 반응하게 하고 그리고 친수성 층을 형성하도록 상기 단계 a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    c) 제2 액체 매체 및 접착 촉진제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층에 코팅하는 단계와,
    d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 초벌 층을 형성하도록 상기 단계 c)에 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    e) 제3 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제 및 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 초벌 층에 코팅하는 단계와,
    f) 상기 제3 액체 매체를 제거하고 친수성 층에 제1 교차 결합제의 추가 부분이 반응하게 하고 그리고 잉크 수용 표면층을 형성하도록 단계 e)에서 형성된 층을 건조시켜, 상기 표면층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 없는 상기 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계와,
    (g) 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 표면층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 표면층의 레이저 노출 영역 내의 적외선 흡수를 수행하도록 적외선 방출 레이저를 사용하여 흡수가능한 적외선 복사에 상기 (f) 단계의 상기 부재를 노출시키는 단계와,
    (h) 하부의 친수성 층을 드러내도록 표면 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법.
  117. a) 제1 액체 매체와, 친수성 중합체와, 제1 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 기판에 코팅하는 단계와,
    b) 상기 제1 액체 매체를 제거하고 친수성 층을 형성하도록 상기 단계 a)에서 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    c) 제2 액체 매체 및 접착 촉진제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 친수성 층에 코팅하는 단계와,
    d) 상기 제2 액체 매체를 제거하고 초벌 층을 형성하도록 상기 단계 c)에 형성된 층을 건조시키는 단계와,
    e) 제3 액체 매체, 중합체, 적외선 흡수 감광제, 및 그 일부가 친수성 층 및 초벌 층을 통과하는 제2 교차 결합제를 포함하는 액체 혼합물을 상기 초벌 층초벌 층하는 단계와,
    f) 상기 제3 액체 매체를 제거하고 친수성 층에 존재하는 제2 교차 결합제의 일부를 반응시키고 그리고 잉크 수용 표면층을 형성하도록 단계 e)에서 형성된 층을 건조시켜, 상기 표면 층과 친수성 층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거될 수 없는 양화 작동 석판 인쇄 부재를 형성하는 단계와,
    (g) 레이저 노출 영역 내의 표면층이 물 또는 세척 용액으로 세척함으로써 제거되기에는 충분하지만 레이저 노출 영역 내의 적외선 흡수층의 10중량%보다 많은 양을 융제에 의해 제거하기에는 불충분한 표면층의 레이저 노출 영역 내의 적외선 흡수를 수행하도록 적외선 방출 레이저를 사용하여 흡수가능한 적외선 복사에 상기 (f) 단계의 상기 부재를 노출시키는 단계와,
    (h) 하부의 친수성 층을 드러내도록 표면 층의 레이저 노출 영역을 물 또는 세척 용액으로 제거하는 단계를 포함하는 습식 석판 인쇄 부재를 마련하는 방법.
  118. 기판, 상기 기판 위에 배치되는 친수성 층, 상기 친수성 층 위에 배치되는 잉크 수용 표면층을 포함하고,
    상기 표면층은 적외선 상 복사를 흡수하고, 상기 적외선 상 복사의 흡수 전에 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의하여 제거되지 않고, 레이저 노출 영역의 상기 표면층의 10중량%보다 적은 양을 융제에 의해 제거하는 흡수성 적외선 복사에 대한 상 방향 노출과 하부의 친수성 층을 노출을 위한 후속의 상기 표면층의 레이저 노출 영역의 물 또는 세척 용액에 의한 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄면을 형성하게 되고,
    상기 친수성 층은 물 또는 상기 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거되지 않고,
    상기 세척 용액은 10이하의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재.
  119. 제118항에 있어서, 상기 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재는 상기 친수성 층과 표면층 사이에 개재된 초벌층을 더 포함하고, 상기 초벌층은 접착 촉진제를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재.
  120. 기판, 상기 기판 위에 배치되는 친수성 층, 상기 친수성 층 위에 배치되는 적외선 흡수층, 상기 적외선 흡수층 위에 배치되는 잉크 수용 표면층을 포함하고,
    상기 표면층은 적외선 상 복사의 흡수로부터 융제에 의해 제거되지 않고, 상기 적외선 흡수 층은 적외선 상 복사를 흡수하고, 상기 표면층과 적외선 흡수층은 상기 적외선 상 복사의 흡수 전에 물 또는 세척 용액으로의 세척에 의하여 제거되지 않고, 레이저 노출 영역의 상기 표면층과 적외선 흡수층의 10중량%보다 적은 양을 융제에 의해 제거하는 흡수성 적외선 복사에 대한 상 방향 노출과 하부의 친수성 층을 노출을 위한 후속의 상기 표면층과 적외선 흡수층의 레이저 노출 영역의 물 또는 세척 용액에 의한 제거의 결과로서 습식 석판 인쇄면을 형성하게 되고,
    상기 친수성 층은 물 또는 상기 세척 용액으로 세척하는 것에 의해 제거되지 않고,
    상기 세척 용액은 10이하의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재.
  121. 제120항에 있어서, 상기 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재는 상기 친수성 층과 표면층 사이에 개재된 초벌층을 더 포함하고, 상기 초벌층은 접착 촉진제를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 양화 작동 석판 인쇄 부재.
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