KR100375594B1 - 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법 - Google Patents

티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100375594B1
KR100375594B1 KR1019950061156A KR19950061156A KR100375594B1 KR 100375594 B1 KR100375594 B1 KR 100375594B1 KR 1019950061156 A KR1019950061156 A KR 1019950061156A KR 19950061156 A KR19950061156 A KR 19950061156A KR 100375594 B1 KR100375594 B1 KR 100375594B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hydrogen
diethylthiophosphoryl
thia
dia
formula
Prior art date
Application number
KR1019950061156A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970042571A (ko
Inventor
손웅락
김성년
손희성
Original Assignee
주식회사 엘지생명과학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지생명과학 filed Critical 주식회사 엘지생명과학
Priority to KR1019950061156A priority Critical patent/KR100375594B1/ko
Publication of KR970042571A publication Critical patent/KR970042571A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100375594B1 publication Critical patent/KR100375594B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/06Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/16Esters of thiophosphoric acids or thiophosphorous acids
    • C07F9/165Esters of thiophosphoric acids
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 일반식 (II) 의 유기산을 용매중에서 염기 및 촉매의 존재하에 하기 일반식 (III) 의 클로로티오포스페이트 유도체와 반응시킴을 특징으로 하여 β-락탐계 항생제의 제조시에 유용한 하기 일반식 (I) 의 티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트 유도체를 제조하는 방법에 관한 것이다:
상기식에서,
R1 은 수소 또는 아미노 보호기이고;
R2 는 수소, C1-C4알킬기 또는 -C(Ra)(Rb)CO2Rc이며, 여기에서 Ra와 Rb는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬기를 나타내거나, Ra와 Rb가 그들이 결합되어 있는 탄소원자와 함께는 C3-C7시클로알킬기를 형성할 수 있으며, Rc는 수소 또는 카르복시 보호기이고;
R3는 C1∼C4알킬기 또는 페닐기를 나타내거나, 그들이 결합되어 있는 산소 및 인 원자와 함께 5 내지 6원 복소환식 고리를 형성할 수 있으며;
Q는 N 또는 CH이다.

Description

티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트 유도체의 신규한 제조방법
본 발명은 β-락탐계 항생제의 제조시에 매우 효과적으로 사용될 수 있는 하기 일반식 (I) 로 표시되는 티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트(이하, "반응성 유기산 유도체"라 함)의 새로운 제조방법에 관한 것이다.
상기식에서,
R1은 수소 또는 아미노 보호기이고;
R2는 수소, C1-C4알킬기 또는 -C(Ra)(Rb)CO2Rc이며, 여기에서 Ra와 Rb는 서로 동일하거나 상이하며 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬기를 나타내거나, Ra와 Rb가 그들이 결합되어 있는 탄소원자와 함께는 C3-C7시클로알킬기를 형성할수 있으며, Rc는 수소 또는 카르복시 보호기이고;
R3는 C1-C4알킬기 또는 페닐기를 나타내거나, 그들이 결합되어 있는 산소 및 인원자와 함께 5내지 6원 복소환식 고리를 형성할 수 있으며;
Q 는 N 또는 CH 이다.
일반적으로, β-락탐 항생제를 제조할 수 있는 방법들은 선행문헌이나 선행특허에 보고되어 있는데, 이러한 선행방법들은 공통적으로 하기 일반식 (II) 로 표시되는 유기산을 출발물질로 하여, 이를 반응성 유도체로 전환시킨 다음 β-락탐핵의 아미노기와 아실화반응시킴으로서 β-락탐 항생제를 제조하고 있다.
상기식에서 R1, R2및 Q 는 전술한 바와 동일하다.
이러한 방법들에 의하여 현재까지 알려진 상기 일반식 (Ⅱ) 화합물의 반응성 유도체로는 산염화물, 반응성 에스테르, 반응성 아미드 또는 혼합 산무수물 등이 있다. 그러나 이러한 반응성 유도체들이 산염화물 또는 혼합 산무수물인 경우에는 까다로운 반응조건하에서 제조될 뿐 아니라 생성된 반응성 유도체들에 불안정하여 통상 분리되지 않은 채 그대로 아실화 반응에 이용됨으로써 부산물 생성의 주된 원인이 된다는 등의 단점이 있다. 또한, 상기 일반식 (II) 화합물의 반응성 에스테르나 반응성 아미드는 제조시 수율이 저조할 뿐만 아니라 이들 반응성 유도체의 반응성도 너무 낮아서 아실화 반응시 반응시간이 길고, 더욱이 반응후 생성되는 1-하이드록시벤조트리아졸과 같은 하이드록시 유도체나 2-머캅토벤조티아졸과 같은 티올 유도체들은 용이하게 제거하기 힘들다는 문제점이 있다.
한편, 일본국 특개소 제(소) 57-175196 호에는 상기 일반식 (Ⅱ) 의 우기산과 클로로포스페이트 유도체로부터 제조할 수 있는 하기 일반식 (A) 의 화합물이 언급되어 있다.
상기식에서 R1, R2, R3및 Q 는 전술한 바와 같다.
그러나 상기 일반식 (A) 의 화합물은 분리할 수 없는 불안정한 반응성 혼합 산무수물이므로 다음 단계의 반응에 나쁜 영향을 미칠 수 있다.
이에, 본 발명자들은 전술한 공지의 반응성 유도체들이 갖는 단점들을 해결하기 위해 연구를 계속한 결과, 상기 일반식 (II) 의 유기산과 클로로티오포스페이트 유도체로부터 적절한 반응성과 안정성을 갖는 반응성 유도체를 상당히 간편하게 고수율로 제조할 수 있음을 밝혀내고 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명은 하기 일반식 (Ⅱ) 의 유기산을 용매중에서 염기 및 촉매의 존재하에 하기 일반식 (Ⅲ) 의 클로로티오포스페이트 유도체와 반응시킴을 특징으로하여 하기 일반식 (I) 로 표시되는 티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트 유도체를 제조하는 신규한 방법을 제공한다.
상기식에서,
R1은 수소 또는 아미노 보호기이고;
R2는 수소, C1-C4알킬기 또는 -C(Ra)(Rb)CO2Rc이며, 여기에서 Ra와 Rb는 서로 동일하거나 상이하며 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬기를 나타내거나, Ra와 Rb가 그들이 결합되어 있는 탄소원자와 함께는 C3-C7시클로알킬기를 형성할 수 있으며, Rc는 수소 또는 카르복시 보호기이고;
R3는 C1-C4알킬기 또는 페닐기를 나타내거나, 그들이 결합되어 있는 산소및 인원자와 함께 5 내지 6 원 복소환식 고리를 형성할 수 있으며;
Q는 N또는 CH이다.
본 발명에 따른 일반식 (I) 의 화합물중에서 바람직한 화합물은 R1이 수소 또는 트리페닐메틸이고, R2가 수소, 메틸, 에틸 또는 t-부톡시카르보닐이소프로필이며, R3가 메틸, 에틸 또는 페닐인 화합물이다.
본 발명에 따른 일반식 (I) 의 화합물중에서 특히 바람직한 화합물의 예로는 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)이소프로폭시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)이소프로폭시이미노아세테이트 또는 디에틸티오포스포릴 (Z)-(3-아미노-1,2.4-티아디아졸-5-일)에톡시이미노아세테이트 등이 언급될 수 있다.
본 발명에 따르는 일반식 (I) 의 반응성 유기산 유도체의 제조방법을 반응식으로 표시하면 다음과 같다.
상기식에서 R1, R2, R3및 Q 는 전술한 바와 같다.
상기 반응식에서 R1 이 아미노 보호기인 경우에, 그 아미노 보호기로는 아실, 치환 또는 비치환된 아르(저급)알킬기 (예: 벤질, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 4-메톡시벤질 등), 할로(저급)알킬 (예: 트리클로로메틸, 트리클로로에틸 등), 테트라히드로피라닐, 치환된 페닐티오, 치환된 알킬리덴, 치환된 아르알킬리덴, 치환된 시클로리덴 등과 같은 통상의 아미노 보호기가 언급될 수 있다. 아미노 보호기로 적당한 아실은 지방족 아실기 및 방향족이나 복소환을 갖는 아실기일 수 있다. 이러한 아실기의 예로는 탄소수 1 내지 6 개의 저급알카노일 (예: 포르밀, 아세틸 등), 탄소수 2 내지 6 개의 알콕시카르보닐 (예: 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐 등), 저급알칸술포닐 (예: 메탄술포닐, 에탄술포닐 등) 또는 아르(저급)알콕시카르보닐 (예: 벤질옥시카르보닐 등) 등을 들 수 있다. 상기한 아실은 할로겐, 히드록시, 시아노, 니트로 등과 같은 1 내지 3 개의 적당한 치환기를 가질 수 있으며, 상기 이외에 실란, 보론, 인 화합물과 아미노기의 반응생성물도 보호기가 될 수 있다.
한편, R2가 -C(Ra)(Rb)CO2Rc이고 Rc가 카르복실 보호기인 경우에, 카르복실 보호기의 적당한 예로는 (저급)알킬 에스테르 (예: 메틸 에스테르, t-부틸 에스테르 등), (저급)알케닐 에스테르 (예: 알릴 에스테르 등), (저급)알콕시(저급)알킬에스테르 (예: 메톡시메틸 에스테르 등), (저급)알킬티오(저급)알킬 에스테르 (예: 메틸티오메틸 에스테르 등), 할로(저급)알킬 에스테르 (예: 2,2,2-트리클로로에틸 에스테르 등), 치환 또는 비치환된 아르알킬 에스테르 (예: 벤질 에스테르, p-니트로벤질에스테르 등) 또는 실릴 에스테르 등이 있다.
본 발명의 방법에 따라, 일반식 (I)의 반응성 혼합 산무수물을 제조함에 있어서 일반식 (Ⅲ) 화합물의 사용량은 일반식 (Ⅱ) 의 유기산에 대해 0.5 내지 2.0 당량, 바람직하게는 1.0 내지 1.3 당량 정도이며, 촉매없이 단독으로 사용해도 반응은 진행되나 반응시간이 길고 반응부산물도 생성되는 반면에 적당한 촉매를 사용하면 부산물이 생성되지 않고 온화한 조건에서도 단시간내에 반응이 완결될 수 있다.
본 발명에서 사용될 수 있는 적당한 촉매로는 3 급 아민류, 4급 암모니움 또는 포스포니움 화합물 등이 있으나, 사용된 일반식 (Ⅱ) 의 유기산, 촉매의 종류및 양에 따라 반응 진행정도가 달라지므로 최적의 선택을 하여야 한다. 3 급 아민류의 예로는 2,4-디메틸-2,4-다이아자펜탄, 2,5-디메틸-2,5-다이아자헥산, N,N,N',N'-테트라메틸-1,2-디아미노사이클로헥산, 1,4-디메틸-1,4-다이아자사이클로헥산, 2,7-디메틸-2,7-다이아자-4-옥탄, 1,4-다이아자바이사이클로[2,2,2]옥탄, 2,6-디메틸-2,6-다이아자헵탄, 2,9-디메틸-2,9-다이아자데칸, 2,5,8,11-테트라메틸-2,5,8,11-테트라아자도데칸 등을 들 수 있다. 또한 4 급 암모니움 화합물의 예로는 테트라 n-부틸암모니움브로마이드, 테트라-n-부틸암모니움클로라이드, 세틸트리메틸암모니움브로마이드, 테트라-n-부틸암모니움아이오다이드, 메틸트리(탄소수 8 내지 10 의)알킬암모니움클로라이드, 메틸트리-2-메틸페닐암모니움클로라이드 등을 들 수 있다. 또한, 포스포니움 화합물로는 테트라-n-부틸포스포니움브로마이드를 사용하는 것이 바람직하다. 촉매의 사용량은 일반식 (Ⅱ) 의 유기산에 대해 몰비율로 0.1 내지 50% 정도, 바람직하게는 0.5 내지 5% 정도가 사용된다.
본 발명에 사용되는 용매로는 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 톨루엔, 크실렌, 아세토니트릴, 에틸아세테이트, 디옥산, 테트라하이드로퓨란, 아세톤, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 이소프로필알콜, 에틸아세테이트, 물 등의 극성 또는 비극성 유기용매를 모두 사용할 수 있으나 반응성 및 생성물의 수율의 최적화를 위하여 둘이상의 혼합용매를 사용할 수도 있다.
본 발명에 사용되는 염기로는 무기염기 및 유기염기가 모두 가능하며 무기염기의 예로는 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨 및 탄산칼륨 등과 같은 알칼리토금속의 탄산염이나 중탄산염이 사용된다. 또한 유기염기의 예로는 트리에틸렌디아민, 트리-(n-부틸)아민, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, N,N-디메틸아닐린 등의 3 급 아민이 사용가능하나 디이소프로필에틸아민 또는 트리-n-부틸아민이 가장 바람직하게 사용된다.
본 발명에서의 반응온도는 -40℃ 내지 60℃ 사이에서 선택할 수 있으나, -15℃ 내지 25℃ 범위의 온도가 바람직하며, 특히 0℃ 내지 20℃ 의 반응온도에서는 1 내지 4시간내에 반응이 완결되어 목적화합물을 온화한 조건에서 용이하게 얻을 수 있다.
본 발명의 방법에 따라 제조된 일반식 (I) 의 반응성 유기산 유도체는 물리적, 화학적 성질이 독특하여 극성 또는 비극성 유기용매에 대한 용해도가 매우 좋고, 이러한 용매에 용해된 상태에서 산성, 염기성, 중성의 물로 수세하여도 유기산으로 분해되지 않는 뛰어난 안정성을 나타낸다. 또한 β-락탐핵의 아미노기와의 아실화반응에서는 온화한 조건하에서도 반응이 용이하게 진행될 뿐 아니라 반응후 생성되는 인산 유도체는 수층에 용해된 상태로 남아서 쉽게 제거되므로 고순도의 최종 β-락탐 항생제를 높은 수율로 합성할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 상기 일반식 (I) 의 화합물은 필요하다면 일반식 (Ⅱ) 화합물의 R1에 아미노 보호기를 도입한 후에 반응시켜 제조될 수도 있지만, 보호기가 없어도 아무런 제약없이 제조될 수 있음은 물론 아실화 반응단계에서도 보호기없이 용이하게 사용될 수도 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 열거하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 기술적 범위가 이들 실시예로 제한되는 것은 아니다.
실시예 1
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(2-아미노티아졸-4-일)-메톡시이미노아세트산 (20.1g) 및 1,4-다이아자바이사이클로[2,2,2]옥탄 (0.11g)을 N,N-디메틸아세트아미드 (100㎖)에 현탁시킨 후 질소 분위기하에서 용액을 0℃ 내지 5℃ 로 냉각 유지하면서 디에틸클로로티오포스페이트 (24.52g)를 적가하고 트리-n-부틸아민 (24.10g)을 1 시간 동안 적가한후 2 시간 동안 더 교반하였다. 반응완료후, 반응용액에 이소프로필알콜 (100㎖)을 가하고 증류슈 (300㎖)를 30 분에 걸쳐 적가하여 결정을 석출시켰다. 결정을 충분히 석출시킨 후 여과하여 수세하고 건조시켜 횐색 고체인 표제화합물 33.70g(수율: 95.0%)을 수득하였다.
융 점 : 87 내지 88℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.38(t, 6H), 4.05(s, 3H), 4.31(m, 4H), 5.49(bs, 2H), 6.87(s, 1H)
실시예 2
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트의 합성
이소프로필알콜 대신에 에틸아세테이트 (50㎖)를 사용하는 것을 제외하고는실시예 1 과 유사한 방법으로 공정을 수행하여 표제화합물 31.80g (수율: 90%)을 수득하였다.
실시예 3
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)-이소프로폭시이미노아세테이트이 합성
(Z)-(2-아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)-이소프로폭시이미노아세트산 (32.9g), 트리-n-부틸아민 (22.25g) 및 1,4-다이아자바이사이클로[2,2,2]옥탄 (0.11g)을 무수 N,N-디메틸아세트아미드 (100㎖)에 가한 용액을 0℃ 내지 5℃ 로 냉각 유지하면서 디에틸클로로티오포스페이트 (22.63g)를 20분에 걸쳐 적가한 후 2시간 동안 더 교반하였다. 반응용액에 이소프로필알콜 (100㎖) 및 증류슈 (300㎖)를 가해 결정을 석출시켰다. 결정을 충분히 석출시킨 후에 여과하여 수세하고 건조시켜 흰색 고체인 표제화합물 44.26g(수율: 92%)을 수득하였다.
융 점 : 114 내지 115℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.39(t, 6H), 1.46(s, 9H), 1.50(s, 6H), 4.32(m, 4H), 6.74(s, 1H), 6.79(bs, 2H)
실시예 4
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(2-아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세트산 (21.5g)을 사용하여 실시예3 의 방법과 유사하게 공정을 수행하여 표제화합물 33.04g (수율: 90%)을 수득하였다.
융 점 : 118 내지 119℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.35(m, 9H), 4.32(m, 6H), 5.67(bs, 2H), 6.82(s, 1H)
실시예 5
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세트산 (45.7g)을 사용하여 실시예 1 의 방법과 유사하게 공정을 수행하여 표제화합물 57.2g 을 수득하였다.
융 점 : 98 내지 99℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.35(m, 9H), 4.32(m, 6H), 6.62(s. 1H), 7.02(bs, 1H), 7.32(m, 15H)
실시예 6
디에틸티오포스포릴 (Z)(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세트산 (44.3g)을 사용하여 실시예 1 의 방법과 유사하게 공정을 수행하여 표제화합물 57.4g 을 수득하였다.
융 점 : 101 내지 103℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.32(m, 6H), 4.02(s, 3H), 4.28(m, 4H), 6.62(s, 1H), 7.00(bs, 1H), 7.28(m, 15H)
실시예 7
디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)-이소프로폭시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)이소프로폭시이미노아세트산 (57.1g)을 사용하여 실시예 1 의 방법과 유사하게 공정을 수행하여 표제화합물 68.46g 을 수득하였다.
융 점 : 101 내지 103℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.33(t, 6H), 1.41(s, 9H), 1.52(s, 6H), 4.30(m, 4H), 6.63(s, 1H), 6.80(bs, 1H), 7.25(m, 15H)
실시예 8
디에틸티오포스포릴 (Z)(3-아미노-1,2,4-티아디아졸-5-일)에톡시이미노아세테이트의 합성
(Z)-(3-아미노-1,2,4-티아디아졸-5-일)에톡시이미노아세트산 (21.6g)을 사용하여 실시예 1 의 방법과 유사하게 공정을 수행하여 표제화합물 33g을 수득하였다.
융 점 : 132 내지 133℃
NMR(δ, CDCl3) : 1.37(m, 9H), 4.36(m, 6H), 6.49(bs, 2H)

Claims (12)

  1. 하기 일반식 (Ⅱ)의 유기산을 용매 중에서 염기 및 촉매의 존재하에 하기 일반식 (Ⅲ) 의 클로로티오포스페이트 유도체와 반응시킨 후 반응용액에 이소프로필알콜 및 물을 가하여 하기 일반식 (I)의 티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트 유도체 결정을 석출시킴을 특징으로 하여 일반식 (I) 의 티아(디아)졸아세트산의 반응성 티오포스페이트 유도체를 제조하는 방법:
    상기 식에서,
    R1은 수소 또는 아미노 보호기이고;
    R2는 수소, C1-C4알킬기 또는 -C(Ra)(Rb)CO2Rc이며, 여기에서 Ra와 Rb는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬기를 나타내거나, Ra와 Rb가 그들이 결합되어 있는 탄소원자와 함께는 C3-C7시클로알킬기를 형성할 수 있으며, Rc는 수소 또는 카르복시보호기이고,
    R3는 C1-C4알킬기 또는 페닐기를 나타내거나, 그들이 결합되어 있는 산소 및 인 원자와 함께 5 내지 6 원 복소환식 고리를 형성할 수 있으며;
    Q 는 N 또는 CH 이다.
  2. 제 1 항에 있어서, R1이 수소 또는 트리페닐메틸이고; R2는 수소, 메틸, 에틸 또는 t-부톡시카르보닐이소프로필이며; R3은 메틸, 에틸 또는 페닐기인 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노니아졸-4-일)메톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노니아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)이소프로폭시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)에톡시이미노아세테이트, 디에틸티오포스포릴 (Z)-(2-트리페닐메틸아미노티아졸-4-일)-2-(t-부톡시카르보닐)이소프로폭시이미노아세테이트 및 디에틸티오포스포릴 (Z)-(3-아미노-1,2,4-티아디아졸-5-일)에톡시이미노아세테이트 중에서 선택되는 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 용매로 N,N-디메틸아세트아미드, 이소프로필알콜, 에틸아세테이트 또는 물을 단독으로 또는 2 이상을 혼합하여 사용함을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 염기가 알칼리토금속 탄산염 및 중탄산염, 및 3 급 아민 중에서 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 3 급 아민이 트리에틸아민, 트리(n-부틸)아민 또는 디이소프로필에틸아민임을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 촉매가 3 급 아민류, 4 급 암모니움 또는 포스포니움 화합물임을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 촉매가 1,4-다이아자바이사이클로[2,2,2]옥탄, 테트라-n-부틸암모니움브로마이드 또는 테트라-n-부틸포스포니움브로마이드임을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1 항, 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 촉매의 사용량이 일반식 (Ⅱ) 의 유기산을 기준으로 0.1 내지 50 몰% 임을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 촉매의 사용량이 일반식 (Ⅱ) 의 유기산을 기준으로 0.5 내지 5 % 임을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 1 항에 있어서, 반응온도가 -40 내지 60℃ 임을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 반응온도가 0 내지 20℃ 임을 특징으로 하는 방법.
KR1019950061156A 1995-12-28 1995-12-28 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법 KR100375594B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950061156A KR100375594B1 (ko) 1995-12-28 1995-12-28 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950061156A KR100375594B1 (ko) 1995-12-28 1995-12-28 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970042571A KR970042571A (ko) 1997-07-24
KR100375594B1 true KR100375594B1 (ko) 2003-04-23

Family

ID=37416837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950061156A KR100375594B1 (ko) 1995-12-28 1995-12-28 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100375594B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02264784A (ja) * 1989-04-03 1990-10-29 Sumitomo Chem Co Ltd 有機リン化合物の製造法
JPH06192282A (ja) * 1992-09-03 1994-07-12 Bayer Ag ホスホリルオキシピラゾール誘導体に基づく除草剤
EP0620228A1 (en) * 1993-04-10 1994-10-19 Lucky Ltd. Novel reactive thiophosphate derivatives of thia(dia)zole acetic acid and process for preparing the same
KR950013578A (ko) * 1993-11-04 1995-06-15 알베르투스 빌헬무스·요아네스 쩨스트 라덴 촉매, 및 그의 제조 및 사용 방법
JPH07238087A (ja) * 1993-12-14 1995-09-12 Bayer Ag リン酸誘導体

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02264784A (ja) * 1989-04-03 1990-10-29 Sumitomo Chem Co Ltd 有機リン化合物の製造法
JPH06192282A (ja) * 1992-09-03 1994-07-12 Bayer Ag ホスホリルオキシピラゾール誘導体に基づく除草剤
EP0620228A1 (en) * 1993-04-10 1994-10-19 Lucky Ltd. Novel reactive thiophosphate derivatives of thia(dia)zole acetic acid and process for preparing the same
KR950013578A (ko) * 1993-11-04 1995-06-15 알베르투스 빌헬무스·요아네스 쩨스트 라덴 촉매, 및 그의 제조 및 사용 방법
JPH07238087A (ja) * 1993-12-14 1995-09-12 Bayer Ag リン酸誘導体

Also Published As

Publication number Publication date
KR970042571A (ko) 1997-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950013578B1 (ko) 신규 티아(디아)졸 초산의 반응성 티오포스페이트 유도체 및 그의 제조방법
EP0175814B1 (en) Process for preparing cephem derivatives
KR100375594B1 (ko) 티아(디아)졸아세트산의반응성티오포스페이트유도체의신규한제조방법
EP0613480B1 (en) Process for the preparation of cephem derivatives
EP0246603A2 (en) 4-Halogeno-2-Oxyimino-3-Oxobutyric acids
EP0504404A1 (en) Process for producing 3-substituted thio-3-cephem compound
EP0030771B1 (en) Novel process for the preparation of 6-aminopenicillanic acid-1,1-dioxide and its salts
KR0161351B1 (ko) 신규 티아(디아)졸 초산의 반응성 포스페이트 유도체 및 그의 제조방법
US4008226A (en) Intermediates for preparing semi-synthetic cephalosporins and processes relating thereto
KR880001990B1 (ko) 페니실린과 세팔로스포린 화합물의 제조방법 및 이들의 제조에 사용한 새로운 중간체의 제조방법
EP0117872A1 (en) Process for preparing cephalosporin compounds
EP0022628B1 (en) Process for the preparation of oxazolinoazetidinones
IL92810A (en) The process of acylation of the history of nectar and intermediate material for this process
KR0129567B1 (ko) 반응성 유기산 유도체로부터 세팔로스포린 화합물의 제조방법
US4072676A (en) Process for preparation of 6-aminopenicillanic acid derivatives
CS203983B2 (en) Method of preparing ester of 7-acylamido-3-methyl-3-cephem-4-carboxylic acid
EP0253507B1 (en) Process for the preparation of cephalosporins
KR950013571B1 (ko) (6r, 7r)-7-[(z)-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-(2-카르복시프로프-2-옥시이미노)아세트아미도]-3-(1-피리디늄메틸)세프-3-엠-4-카르복실레이트 이염산염의 제조방법
KR0125806B1 (ko) (6R,7R)-7-[(Z)-2(2-아미노티아졸-4-일)-2-(2-t-부톡시카르보닐프로프-2-옥시이미노)아세트아미도]-3-(1-피리디늄메틸)-3-세펨-4-카르복실레이트의 제조방법
KR930001115B1 (ko) 세팔로스포린의 제조방법
KR790001399B1 (ko) 반합성 세팔로스포린 제조용 중간화합물의 제법
KR100241480B1 (ko) 포스포네이트 nmda 길항제를 제조하기 위한 n-트리틸 아스파트산 유도체
KR20010002705A (ko) 신규 티아졸 초산의 반응성 포스페이트 유도체의 제조방법
JPH0733709A (ja) シュウ酸モノエステル化合物の製法
KR100650207B1 (ko) 글루타릴 7-아미노-3-비닐-세팔로스포란산 유도체와 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130111

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131211

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee