KR100375184B1 - Ultrasonic cleaner and wet processing nozzle with the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 초음파 방사효율의 조절이 용이한 초음파 세정기 및 이를 구비하는 웨트처리 노즐을 제공하는 것이다.The present invention provides an ultrasonic cleaner and a wet treatment nozzle having the same, which can easily control the ultrasonic radiation efficiency.
중앙부가 오목하고 주위의 말단부 (11) 가 차양형상으로 형성된 제 1 함체 (11) 를 둘러싸고, 마찬가지로 중앙부가 오목하고 주위의 말단부 (12b) 가 차양형상으로 형성된 제 2 함체 (12) 를 배치하고, 또 이들 함체의 말단부 사이에 패킹 (13) 을 볼트 (18) 와 너트 (19) 에 의해 끼우고, 제 1 함체와 제 2 함체 사이에 공동부 (14) 를 형성한다. 공동부 (14) 에 공분방지 (空焚防止) 용 탈기한 물 (15; 통, 주전자, 솥 등이 비워져 있는 상태로 가열되는 것을 방지하는 탈기한 물) 을 채우고, 또 제 1 함체의 중앙부 표면에 초음파 진동자 (16) 를 배치한다. 그리고, 제 2 함체의 벽면 (12c) 에 이 벽면의 진동을 방지하는 추 (17) 를 설치한다. 추 (17) 에 의해 함체 벽면의 진동이 억지되기 때문에 진동 에너지는 물 (15) 을 통하여 함체의 중앙의 저면 방향으로 되돌아가고, 저면 (12c) 에서부터 초음파로서 고효율로 방사된다.The center part encloses the 1st enclosure 11 in which the center part was concave, and the peripheral end part 11 was formed in the shading shape, and similarly arrange | positions the 2nd enclosure 12 in which the center part was recessed and the peripheral end part 12b was formed in the shading shape, In addition, the packing 13 is sandwiched between the distal ends of these enclosures by the bolts 18 and the nuts 19, and a cavity 14 is formed between the first enclosure and the second enclosure. Fill the cavity 14 with deaerated water 15 (degassed water to prevent heating of the vat, kettle, pot, etc., empty) and the surface of the central portion of the first enclosure. The ultrasonic vibrator 16 is arrange | positioned at it. And the weight 17 which prevents the vibration of this wall surface is provided in the wall surface 12c of the 2nd enclosure. Since the vibration of the wall surface of the enclosure is suppressed by the weight 17, the vibration energy is returned to the bottom surface direction of the center of the enclosure via the water 15, and is radiated with high efficiency as ultrasonic waves from the bottom surface 12c.
Description
본 발명은 초음파 진동자에 의한 초음파를 세정액 중의 피세정물에 조사하는 초음파 세정기 및 이를 구비한 웨트처리 노즐 (wet treatment nozzle) 에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultrasonic cleaner for irradiating an object to be cleaned in a cleaning liquid with ultrasonic waves by an ultrasonic vibrator, and a wet treatment nozzle having the same.
종래, 액정 패널이나 반도체 웨이퍼를 한매씩 세정하는데 예를 들면, 도 21 에서 나타낸 바와 같은 초음파 샤워 세정기 (450) 가 사용되고 있다. 이 초음파 샤워 세정기 (450) 는, 도시되어 있는 것과 같이 함체 (451) 의 내부에 세정액 (S) 을 저류하는 공동부 (452) 가 형성되어 있고, 이 함체 (451) 의 측면 상부에는 상기 공동부 (452) 에 세정액 (S) 을 공급하는 급액구 (453) 가 형성되어 있다. 또, 함체 (451) 의 하부에는 세정액 (S) 을 방출하기 위한 노즐 (454) 이 설치되어 있고, 함체 (451) 의 상면에는 초음파 진동자 (455) 가 부착되어 있다. 세정 방법은 피세정물 (P) 을 이 초음파 샤워 세정기 (450) 밑을 통과시켜, 그 때의 도시하지 않은 초음파 발신 장치에 의해 초음파 진동자 (455) 를 구동하고, 세정액 (S) 을 피세정물 (P) 의 표면에 방사시켜서 세정을 행한다.Conventionally, for example, an ultrasonic shower cleaner 450 as shown in FIG. 21 is used to clean a liquid crystal panel or a semiconductor wafer one by one. As shown in the figure, the ultrasonic shower cleaner 450 is provided with a cavity 452 for storing the cleaning liquid S in the interior of the enclosure 451, and the cavity is formed on the upper side of the enclosure 451. The liquid supply port 453 which supplies the washing | cleaning liquid S to 452 is formed. Moreover, the nozzle 454 for discharging | cleaning the washing | cleaning liquid S is provided in the lower part of the enclosure 451, and the ultrasonic vibrator 455 is attached to the upper surface of the enclosure 451. In the cleaning method, the object to be cleaned P is passed under the ultrasonic shower cleaner 450, the ultrasonic vibrator 455 is driven by an ultrasonic transmitting device (not shown) at that time, and the cleaning liquid S is washed. It washes by irradiating to the surface of (P).
그런데, 이 세정방법에서는 세정액의 사용량이 많기 때문에, 절수형으로써 도 2 에 나타낸 초음파 세정기 (460) 가 고려된다. 이 초음파 세정기 (460) 는중앙부 (461a) 가 오목하고, 주위의 말단부 (461b) 가 차양형상으로 형성된 함체 (461) 를 갖추고 있으며, 이 함체 (461) 의 중앙부 표면에는 초음파 진동자 (462) 가 배치되어 있고, 이 초음파 진동자 (462) 를 진동시킴으로써 함체 (461) 의 하측의 세정액 (S) 중을 통과하는 피세정물 (P) 에 초음파를 조사하여 세정하도록 한 것이다.By the way, in this washing | cleaning method, since the usage-amount of washing | cleaning liquid is large, the ultrasonic cleaner 460 shown in FIG. 2 is considered as water saving type. The ultrasonic cleaner 460 has a housing 461 in which the center portion 461a is concave and the peripheral end portion 461b is formed in a sunshade shape, and an ultrasonic vibrator 462 is disposed on the central surface of the housing 461. By vibrating the ultrasonic vibrator 462, ultrasonic waves are irradiated and cleaned by washing the object P passing through the cleaning liquid S under the housing 461.
또, 이 세정방법과 유사하지만, 도 23 에 나타낸 초음파 세정기 (470) 도 고려된다. 이 초음파 세정기 (470) 는, 중앙부 (471a) 가 오목하고 주위의 말단부 (471b) 가 차양형상으로 형성된 제 1 함체 (471) 와, 이 제 1 함체 (471) 를 둘러싸고, 마찬가지로 중앙부 (472a) 가 오목하고 주위의 말단부 (472b) 가 차양형상으로 형성된 제 2 함체 (472) 를 가진다. 그리고, 이들 함체 (471, 472) 의 말단부 (471b, 472b) 사이에 패킹 (473) 이 끼워져 있어, 제 1 함체 (471) 와 제 2 함체 (472) 사이에 공동부 (474) 가 형성되어 있다. 또한, 이 공동부 (474) 에는 공분방지 (空焚防止) 를 위한 액체 (통, 주전자, 솥 등이 비워져 있는 상태로 가열되는 것을 방지하는 액체), 예를 들면 물 (475) 이 채워져 있으며, 동시에 제 1 함체 (471) 의 중앙부 표면에는 초음파 진동자 (476) 가 배치되어 있어, 이 초음파 진동자 (476) 를 진동시킴으로써 공동부 (474) 안의 물 (475) 을 통해 제 2 함체 (472) 의 하측의 세정액 (S) 중을 통과하는 피세정물 (P) 에 초음파를 조사하여 세정하도록 한 것이다.Similar to this cleaning method, an ultrasonic cleaner 470 shown in FIG. 23 is also contemplated. The ultrasonic cleaner 470 surrounds the first housing 471 in which the central portion 471a is concave and the peripheral end portion 471b is formed in the shape of a sunshade, and the first housing 471 surrounds the center portion 472a. The recessed and peripheral end portion 472b has a second housing 472 formed in a sunshade shape. The packing 473 is sandwiched between the distal ends 471b and 472b of the enclosures 471 and 472, and a cavity 474 is formed between the first enclosure 471 and the second enclosure 472. . The cavity portion 474 is also filled with a liquid for preventing conjugation (liquid preventing the heating of the vat, kettle, kettle, etc. in an empty state), for example, water 475, At the same time, an ultrasonic vibrator 476 is disposed on the central surface of the first enclosure 471, and the ultrasonic vibrator 476 is vibrated to lower the second enclosure 472 through the water 475 in the cavity 474. Ultrasonic wave is irradiated to the to-be-cleaned object P which passes through the washing | cleaning liquid S of this and it is made to wash.
그런데, 도 22 에 나타낸 초음파 세정기 (460) 의 경우, 절수형이긴 하나,초음파 진동자 (462) 의 진동 에너지는 함체 (461) 의 저면을 진동시켜 세정액 (S) 을 통해 피세정물 (P) 에 방사되는 것외에는, 함체 (461) 의 벽면을 진동시켜 버리는 에너지의 낭비가 발생한다.By the way, in the case of the ultrasonic cleaner 460 shown in FIG. 22, although it is water-saving, the vibration energy of the ultrasonic vibrator 462 vibrates the bottom of the enclosure 461 to the object to be cleaned P through the cleaning liquid S. Besides being radiated, waste of energy that vibrates the wall surface of the enclosure 461 is generated.
도 23 에 나타낸 초음파 세정기 (470) 의 경우, 패킹의 두께가 조임력에 의해 미묘하게 다르고, 그 결과 공동부 (474) 의 두께, 즉 내부에 채운 물의 깊이가 변화된다. 이 방식과 같이 물을 통해 피세정물에 초음파를 조사하는 방법에서는, 물의 깊이가 변함으로써, 초음파의 파장과 물의 깊이와의 관계에서 제 2 함체의 중앙부인 저면의 음파 방사면으로부터의 방사음압이 크게 변화한다. 즉, 패킹의 조임력에 의해 방사음압이 좌우되어 안정도가 떨어지게 된다. 이렇게 물의 깊이가 적당하지 않고 초음파 방사면으로부터의 방사음압이 적을 때, 초음파 진동자로부터 방사된 에너지 중 유효하게 이용되지 않는 부분이 제 2 함체의 벽면을 진동시키는 에너지로 사용되어 낭비될 뿐만 아니라, 함체의 진동에 의한 다른 장치로도 영향을 미칠 위험이 있다.In the case of the ultrasonic cleaner 470 shown in FIG. 23, the thickness of the packing is slightly different by the tightening force, and as a result, the thickness of the cavity 474, that is, the depth of the water filled therein, is changed. In the method of irradiating the object to be cleaned with water through water as in this manner, the depth of the water changes, so that the sound pressure from the sound wave emitting surface of the bottom surface, which is the center of the second enclosure, is related to the wavelength of the ultrasonic wave and the water depth. It changes greatly. That is, the radiation sound pressure is influenced by the tightening force of the packing, thereby reducing the stability. When the depth of water is not appropriate and the radiation pressure from the ultrasonic radiation surface is low, the portion of the energy radiated from the ultrasonic vibrator is not only used as energy to vibrate the wall of the second enclosure, but also wasted. There is a risk of affecting other devices due to vibration.
본 발명의 과제는 초음파 방사효율의 조절이 용이한 초음파 세정기 및 이를 구비한 웨트처리 노즐의 제공에 있다.Disclosure of Invention An object of the present invention is to provide an ultrasonic cleaner and a wet treatment nozzle having the same, which can easily control ultrasonic radiation efficiency.
도 1 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 1 실시 형태를 나타내고, 도 1 의 (a) 는 그 사시도, 도 1 의 (b) 는 도 1 의 (a) 의 Ib-Ib 선을 따른 확대종단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The 1st Embodiment of the ultrasonic cleaner which concerns on this invention is shown, FIG. 1A is a perspective view, FIG. 1B is an enlarged longitudinal cross-sectional view along the line Ib-Ib of FIG. .
도 2 는 도 1 에 나타낸 초음파 세정기에 의한 피세정물의 세정 상태를 나타내는 종단면도.FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view showing the cleaning state of the object to be cleaned by the ultrasonic cleaner shown in FIG. 1; FIG.
도 3 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 2 실시 형태를 나타내는 종단면도.3 is a longitudinal sectional view showing a second embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention;
도 4 는 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 3 실시 형태를 나타내는 종단면도.4 is a longitudinal sectional view showing a third embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention;
도 5 는 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 4 실시 형태를 나타내는 종단면도.Fig. 5 is a longitudinal sectional view showing a fourth embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention.
도 6 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 5 실시 형태를 나타내는 종단면도.6 is a longitudinal sectional view showing a fifth embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention;
도 7 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 6 실시 형태를 나타내는 종단면도.The longitudinal cross-sectional view which shows 6th Embodiment of the ultrasonic cleaner which concerns on this invention.
도 8 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 7 실시 형태를 나타내는 종단면도.8 is a longitudinal sectional view showing a seventh embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention.
도 9 는 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 8 실시 형태를 나타내는 종단면도.9 is a longitudinal sectional view showing an eighth embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention;
도 10 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 10 실시 형태를 나타내고, 도 10 의 (a) 는 그 사시도, 도 10 의 (b) 는 도 10 의 (a) 의 Xb-Xb 선을 따른 확대종단면도.10 shows a tenth embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention, FIG. 10A is a perspective view thereof, and FIG. 10B is an enlarged longitudinal sectional view along the line Xb-Xb in FIG. 10A. .
도 11 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 11 실시 형태를 나타내고, 도 11 의 (a) 는 그 사시도, 도 11 의 (b) 는 도 11 의 (a) 의 XIb-XIb 선을 따른 확대종단면도.Fig. 11 shows an eleventh embodiment of the ultrasonic cleaner according to the present invention, Fig. 11A is a perspective view thereof, and Fig. 11B is an enlarged longitudinal sectional view along the line XIb-XIb of Fig. 11A. .
도 12 는 본 발명에 관한 웨트처리 노즐의 일 실시 형태를 나타내고, 도 12 의 (a) 는 그 사시도, 도 12 의 (b) 는 도 12 의 (a) 의 XIIb-XIIb 선을 따른 확대종단면도.12 shows an embodiment of the wet processing nozzle according to the present invention, FIG. 12A is a perspective view thereof, and FIG. 12B is an enlarged longitudinal sectional view along the line XIIb-XIIb in FIG. 12A. .
도 13 은 도 12 에 나타낸 웨트처리 노즐에 의한 피세정물의 세정 상태를 나타내는 종단면도.FIG. 13 is a longitudinal cross-sectional view showing the cleaning state of the object to be cleaned by the wet treatment nozzle shown in FIG. 12. FIG.
도 14 는 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 1 실시 형태를 나타내고, 도 14 의 (a) 는 그 사시도, 도 14 의 (b) 는 도 14 의 (a) 의 XIVb-XIVb 선을 따른 확대종단면도.FIG. 14 shows a first embodiment of another ultrasonic cleaner according to the present invention, FIG. 14A is a perspective view thereof, and FIG. 14B is an enlarged longitudinal section along the XIVb-XIVb line of FIG. 14A. Degree.
도 15 은 도 14 에 나타낸 초음파 세정기에 의한 피세정물의 세정 상태를 나타내는 종단면도.FIG. 15 is a longitudinal sectional view showing the cleaning state of the object to be cleaned by the ultrasonic cleaner shown in FIG. 14; FIG.
도 16 은 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 2 실시 형태를 나타내는 종단면도.The longitudinal cross-sectional view which shows 2nd Embodiment of the other ultrasonic cleaner which concerns on this invention.
도 17 은 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 3 실시 형태를 나타내는 종단면도.The longitudinal cross-sectional view which shows 3rd Embodiment of the other ultrasonic cleaner which concerns on this invention.
도 18 는 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 4 실시 형태를 나타내고, 도 18 의 (a) 는 그 사시도, 도 18 의 (b) 는 도 18 의 (a) 의 XVIIIb-XVIIIb 선을 따른 확대종단면도.FIG. 18 shows a fourth embodiment of another ultrasonic cleaner according to the present invention, FIG. 18A is a perspective view thereof, and FIG. 18B is an enlarged longitudinal section along the line XVIIIb-XVIIIb in FIG. 18A. Degree.
도 19 는 본 발명에 관한 다른 웨트처리 노즐의 일 실시 형태를 나타내고, 도 19 의 (a) 는 그 사시도, 도 19 의 (b) 는 도 19 의 (a) 의 XIXb-XIXb 선을 따른 확대종단면도.FIG. 19 shows an embodiment of another wet treatment nozzle according to the present invention, FIG. 19A is a perspective view thereof, and FIG. 19B is an enlarged longitudinal section along the line XIXb-XIXb of FIG. 19A. Degree.
도 20 은 도 19 에 나타낸 웨트처리 노즐에 의한 피세정물의 세정 상태를 나타내는 단면도.FIG. 20 is a cross-sectional view illustrating a cleaning state of the object to be cleaned by the wet treatment nozzle shown in FIG. 19. FIG.
도 21 은 종래의 초음파 샤워 세정기의 종단면도.21 is a longitudinal sectional view of a conventional ultrasonic shower cleaner.
도 22 는 종래의 절수형 초음파 세정기의 종단면도.22 is a longitudinal sectional view of a conventional water-saving ultrasonic cleaner.
도 23 은 종래의 2 중 욕조 형식의 절수형 초음파 세정기의 종단면도.23 is a longitudinal cross-sectional view of a conventional double-bath type water-saving ultrasonic cleaner.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10 …초음파 세정기 11 …제 1 함체10... Ultrasonic cleaner 11. First enclosure
12 …제 2 함체 13 …패킹12... Second enclosure 13... packing
14 …공동부 15 …물14. Cavity 15. water
16 …초음파 진동자 17,21,31,41,51,61 …추16. Ultrasonic vibrators 17, 21, 31, 41, 51, 61... sinker
71,72,81,82,83,91 …추 110 …웨트처리 노즐71, 72, 81, 82, 83, 91... Weight 110. Wet Treatment Nozzle
111 …도입 통로 112 …배출 통로111. Introduction passage 112. Discharge passage
113 …진동 가이드 부재113. Vibration guide member
본 발명에 관한 초음파 세정기는, 단면이 오목형상인 함체를 구비하고, 이 함체의 오목 내면에 초음파 진동자를 배설하며, 상기 함체에 함체 벽면의 진동을 방지하는 추를 설치한 것을 특징으로 하고 있다.The ultrasonic cleaner according to the present invention is characterized by including an enclosure having a concave cross section, disposing an ultrasonic vibrator on the concave inner surface of the enclosure, and providing a weight for preventing vibration of the wall surface of the enclosure.
이러한 구성으로 하면, 벽면으로 초음파 에너지가 새어나가는 일이 없이 저면에서부터 초음파로서 고효율로 방사된다.With such a configuration, the ultrasonic energy is radiated with high efficiency from the bottom as ultrasonic waves without leaking ultrasonic energy to the wall surface.
상기 추는 함체의 강성을 높이기 위한 것으로, 내벽면, 외벽면 중 어느 쪽이라도 상관없기 때문에, 상기 함체의 외벽면 및 내벽면의 적어도 한쪽 이상에 설치되도록 할 수도 있다.The weight is for increasing the rigidity of the enclosure, and may be provided on at least one of the outer wall and the inner wall of the enclosure since either weight may be used.
또한, 상기 추는 초음파 진동자로부터의 에너지가 함체를 도피하지 않도록 하기 위한 것으로서, 초음파 진동자가 설치되어 있는 내저면에 있으면 추 설치부분으로부터 밖으로 초음파 에너지가 새어나가지 않게 되기 때문에, 상기 함체의 내저면이면서 상기 초음파 진동자에 의한 진동을 저해하지 않는 영역의 내저면에 설치되어 있을 수도 있다.In addition, the weight is intended to prevent the energy from the ultrasonic vibrator to escape the enclosure, so that the ultrasonic energy does not leak out from the weight installation portion when it is on the inner bottom where the ultrasonic vibrator is installed. It may be provided in the inner bottom face of the area | region which does not inhibit the vibration by an ultrasonic vibrator.
상기 추는 함체의 강성을 높이는 수단으로서 소정 부분의 두께를 다른 곳 보다 두껍게 해도 동일한 기능을 달성할 수 있기 때문에, 상기 함체 자체의 두께를 변경함으로써 형성할 수도 있다.The weight can be formed by changing the thickness of the enclosure itself since the same function can be achieved even if the thickness of the predetermined portion is made thicker than the other portion as a means of increasing the rigidity of the enclosure.
또, 상기 추는 함체의 강성을 높이고, 벽면의 고유 진동수를 진동입력의 주파수로부터 어긋나게 함으로써, 공진하지 않게 하여 벽면에 초음파 진동자로부터의 에너지가 전달 운반되는 것을 방지하기 위해 상기 함체의 벽면 전 주위에 걸쳐 설치하는 것이 바람직하다.In addition, the weight increases the rigidity of the enclosure and shifts the natural frequency of the wall from the frequency of the vibration input, so as not to resonate and to prevent the transfer of energy from the ultrasonic vibrator to the wall to prevent the transfer of energy to the wall. It is desirable to install.
본 발명에 관한 웨트처리 노즐은, 일측에 처리액을 도입하는 도입통로와 타측에 웨트처리 후의 처리액을 배출하는 배출통로를 구비함과 동시에, 상기 도입통로와 상기 배출통로의 사이에 피처리물에 대해 상기 도입통로에서 도입한 처리액을 가이드하고, 또 진동을 부여하면서 피처리물을 웨트처리하는 진동 가이드 부재를구비하며, 상기 진동 가이드 부재는 상술한 초음파 세정기인 것을 특징으로 하고 있다.The wet processing nozzle according to the present invention includes an introduction passage for introducing the processing liquid on one side and a discharge passage for discharging the processing liquid after the wet processing on the other side, and between the introduction passage and the discharge passage. And a vibration guide member for guiding the processing liquid introduced from the introduction passage to the air and wet processing the object to be treated while applying vibration, wherein the vibration guide member is the ultrasonic cleaner described above.
이러한 노즐에 의하면, 피처리면에 처리액이 공급됨과 동시에 사용이 끝난 처리액을 배출통로를 통해 적절히 배출할 수 있으므로, 항상 신선한 처리액으로 피처리면을 처리하는 것이 가능해지고, 사용이 끝난 처리액에 의한 피처리면의 재오염을 방지할 수 있다.According to such a nozzle, since the processing liquid is supplied to the surface to be treated and the used processing liquid can be properly discharged through the discharge passage, it is possible to always treat the processing surface with fresh processing liquid, It is possible to prevent recontamination of the surface to be treated.
또, 처리액이 피처리면과 진동 가이드 부재와의 틈새에 계면장력 등의 압력 밸런스로 유지될 수 있기 때문에, 최소 필요량의 처리액으로 피처리면을 웨트 처리할 수 있고, 동시에 확실하게 피처리면에 초음파 진동을 부여하는 것이 가능하다.In addition, since the processing liquid can be maintained at a pressure balance such as interfacial tension in the gap between the processing target surface and the vibration guide member, the processing surface can be wet-processed with the processing liquid of the minimum required amount, and at the same time, the ultrasonic treatment is performed on the surface to be treated reliably. It is possible to impart vibrations.
추를 설치한 초음파 세정기를 진동 가이드 부재로 사용하기 때문에, 웨트 처리에 필요한 초음파 에너지를 얻을 수 있고, 최소 필요량의 처리액으로 매우 양호한 처리가 가능해진다.Since the ultrasonic cleaner provided with the weight is used as the vibration guide member, the ultrasonic energy required for the wet treatment can be obtained, and a very good treatment can be performed with the processing liquid of the minimum necessary amount.
이 웨트처리 노즐에 있어서는, 피처리물에 접촉한 처리액이 웨트처리 후에 배출통로 밖으로 흐르지 않도록 피처리물과 접촉하고 있는 처리액의 압력과 대기압과의 차를 제어하기 위한 압력 제어 수단이 설치되어 있다. 이 압력 제어 수단은, 예를 들면 배출통로측 하류에 설치된 흡인 펌프와 도입통로측 상류에 설치된 급액 펌프로 구성되어 있고, 또 피처리물과 접촉하고 있는 처리액의 압력을 탐지하기 위한 압력 센서를 가지며, 이 압력 센서로부터의 신호에 의해 흡인 펌프 및 급액 펌프의 구동을 제어하기 위한 제어 장치를 갖추고 있다.In this wet processing nozzle, pressure control means for controlling the difference between the pressure of the processing liquid in contact with the processing object and the atmospheric pressure is provided so that the processing liquid in contact with the processing object does not flow out of the discharge passage after the wet processing. have. The pressure control means comprises, for example, a suction pump provided downstream of the discharge passage side and a liquid feed pump provided upstream of the introduction passage side, and a pressure sensor for detecting the pressure of the processing liquid in contact with the object to be processed. And a control device for controlling the driving of the suction pump and the liquid feed pump by the signal from the pressure sensor.
본 발명에 관한 다른 초음파 세정기는, 단면 형상이 오목형상이고 내부에 공동부를 갖는 함체를 구비하며, 이 함체의 오목 내면에 초음파 진동자를 배설하고, 상기 공동부에 상기 초음파 진동자로부터의 진동을 상기 함체의 오목 외면의 외저면에 전달하는 공분방지액을 넣고, 상기 함체에 함체 벽면의 진동을 방지하는 추를 설치한 것을 특징으로 한다.Another ultrasonic cleaner according to the present invention includes a housing having a concave cross-sectional shape and having a cavity therein, and disposing an ultrasonic vibrator on the concave inner surface of the enclosure, and applying vibrations from the ultrasonic vibrator to the cavity. The anti-conjugated liquid to be delivered to the outer bottom of the concave outer surface of the, characterized in that the weight is installed in the enclosure to prevent the vibration of the wall wall.
이렇게 구성하면, 예를 들어 패킹의 조임 정도에 따라 공동부의 두께, 즉 공분방지액, 예를 들면 물의 깊이가 초음파의 파장과 매치하지 않고, 초음파 진동자에 의해 발생한 에너지가 공분방지액을 통해 함체의 오목 외면의 저면을 진동시키려 해도 추에 의해 진동이 억제되기 때문에, 진동 에너지는 공분방지액을 통해 함체 중앙의 저면 방향으로 되돌아가서, 저면에서부터 초음파로서 고효율로 방사된다.In this configuration, for example, the thickness of the cavity, that is, the depth of the anticorrosion liquid, for example, water does not match the wavelength of the ultrasonic wave, and the energy generated by the ultrasonic vibrator passes through the anticorrosion liquid. Since the vibration is suppressed by the weight even when the bottom surface of the concave outer surface is vibrated, the vibration energy is returned to the bottom surface direction of the center of the enclosure through the antifouling liquid, and is radiated with high efficiency as ultrasonic waves from the bottom surface.
공분방지액으로는 탈기한 액을 사용하는 것이 바람직하다. 탈기함으로써 공분방지액의 유량 (냉각을 위한 순환) 도 대폭으로 저감할 수 있다. 만일 이 공분방지액 중에 기포가 다수 존재하면, 다시 공분과 동일한 현상이 발생하는 경우가 있기 때문이다.It is preferable to use the degassed liquid as an antifouling liquid. By degassing, the flow rate (circulation for cooling) of the antifouling liquid can also be greatly reduced. If a large number of bubbles are present in this antifouling liquid, the same phenomenon may occur again.
상기 추는 함체 자체의 강성을 높이기 위한 수단이기 때문에 외면의 외벽면 및 내벽면의 어느 곳이라도 상관없으므로, 함체의 상기 오목 외면을 이루는 외벽면과 내벽면의 적어도 한쪽에 설치되어 있는 것이 바람직하다.Since the weight is a means for increasing the rigidity of the enclosure itself, it may be anywhere on the outer wall surface and the inner wall surface of the outer surface. Therefore, the weight is preferably provided on at least one of the outer wall surface and the inner wall surface of the concave outer surface of the enclosure.
이 경우 추는 또한, 오목 내면의 벽면의 강성을 높이기 위해, 오목 내면에 설치한 초음파 진동자로부터의 초음파 진동 에너지가 벽면으로 도피하지 않도록 하기 위해, 함체의 상기 오목 내면을 이루는 외벽면 및 내벽면의 적어도 한쪽에 설치되어 있도록 할 수도 있다.In this case, in order to increase the rigidity of the wall surface of the concave inner surface, in order to prevent the ultrasonic vibration energy from the ultrasonic vibrator provided on the concave inner surface from escaping to the wall surface, at least the outer wall surface and the inner wall surface that form the concave inner surface of the enclosure. It can also be installed on one side.
상기 추는 오목 외면의 내저면에 있어서, 오목 내면에 설치된 초음파 진동자에 상당하는 면적의 외측에 설치함으로써, 오목 외면의 내저면의 주변에서 벽면으로 초음파 에너지가 새어나가는 것을 방지할 수 있는 것과, 오목 내면에 설치된 초음파 진동자의 외측에 설치함으로써, 오목 내면의 내저면으로부터 벽면으로의 초음파 에너지가 새어나가는 것을 방지하기 위해, 상기 함체의 상기 오목 외면의 내저면 및 상기 오목 내면의 저면 중 적어도 한쪽으로서 상기 초음파 진동자에 의한 진동을 저해하지 않는 영역의 내저면 또는 저면에 설치되어 있을 수도 있다.In the inner bottom face of the concave outer surface, the weight is provided outside the area corresponding to the ultrasonic vibrator provided on the concave inner surface, thereby preventing the ultrasonic energy from leaking from the periphery of the inner bottom face of the concave outer surface to the wall surface, and the concave inner surface. The ultrasonic wave is provided as at least one of an inner bottom surface of the concave outer surface and a bottom surface of the concave inner surface of the enclosure to prevent leakage of ultrasonic energy from the inner bottom surface of the concave inner surface to the wall surface by installing on the outer side of the ultrasonic vibrator provided at the inner side. It may be provided in the inner bottom or bottom of the area | region which does not inhibit the vibration by a vibrator.
상기 추는 함체 자체의 강성을 변화하기 위한 것으로서, 그 달성 수단으로는 새롭게 추를 더하는 방식과 필요한 부분을 적당한 두께로 하는 방식도 있기 때문에, 함체의 상기 외오목면 또는 상기 내오목면의 두께를 변경함으로써 형성할 수도 있다.The weight is for changing the rigidity of the enclosure itself, and the means for achieving the weight may include a method of adding a new weight and a method of appropriately adding necessary weight, so that the thickness of the outer or inner surface of the enclosure is changed. It may be formed.
상기 추는, 함체의 강성을 높이고, 벽면의 고유 진동수를 진동 입력의 주파수로부터 어긋나게 함으로써, 공진하지 않도록 하여 벽면에 초음파 진동자로부터의 에너지가 전달 운반하는 것을 방지하기 위해 상기 함체의 벽면 전 주위에 걸쳐 설치되어 있는 것이 바람직하다.The weight is provided over the entire wall surface of the enclosure to increase the rigidity of the enclosure and to shift the natural frequency of the wall from the frequency of the vibration input, thereby preventing resonance from being transmitted and carrying energy from the ultrasonic vibrator on the wall. It is preferable that it is done.
상기 함체는, 중앙부가 오목하고 주위의 말단부가 차양형상으로 형성된 제 1 함체를 둘러싸고, 마찬가지로 중앙부가 오목하고 주위의 말단부가 차양형상으로 형성된 제 2 함체를 배치하며, 또한, 이들 함체의 말단부 사이에 패킹을 끼워 이 제 1 함체와 제 2 함체 사이에 상기 공동부를 형성하여 이루어지는 것이 바람직하다.The enclosure surrounds a first enclosure in which the central portion is concave and the peripheral end portion is in the shape of a sunshade, and similarly arranges a second enclosure in which the central portion is concave and the peripheral end is in the shape of a sunshade, and between the end portions of these enclosures. It is preferable that the cavity is formed by sandwiching a packing between the first and second enclosures.
이러한 함체에 의하면, 이 공동부에 적당한 액체를 넣어, 이것에 의해 함체 하측에 웨트처리액이 없어도 공분이 발생되지 않고 초음파 진동자가 훼손되는 것을 방지할 수 있다. 또, 웨트처리액이 함체 하측에 있을 경우에는, 웨트처리액에 충분한 초음파 에너지를 전달 운반할 수 있다.According to such a housing | casing, a suitable liquid is put into this cavity part, and it can prevent that an ultrasonic vibrator is not damaged and a void is not generated even if there is no wet process liquid below a housing | casing. Moreover, when a wet process liquid exists under a housing | casing, sufficient ultrasonic energy can be transmitted and conveyed to a wet process liquid.
본 발명에 관한 상기한 것외의 다른 초음파 세정기에 있어서, 상기 패킹은 중앙부에 관통구멍을 갖는 탄성부재로 이루어지고, 상기 제 1 함체 및 제 2 함체는 판상부재로 이루어지며, 제 1 함체의 상기 차양형상의 말단부와 제 2 함체의 상기 차양형상의 말단부에 의한 탄성부재를 끼워 붙이는 것을 이들 말단부를 관통하는 볼트에 의해 행하고, 또한 볼트의 조임 조절에 의해 패킹의 두께를 변경할 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다.In the other ultrasonic cleaners other than those described above, the packing is made of an elastic member having a through hole at the center thereof, and the first housing and the second housing are made of a plate-like member, and the awning of the first housing is provided. It is preferable to configure the elastic member by the end portion of the shape and the end portion of the sunshade of the second enclosure by a bolt passing through the end portion and to change the thickness of the packing by tightening the bolt. .
이렇게 구성하면, 제 1 함체의 차양형상의 말단부와 제 2 함체의 차양형상의 말단부와의 사이에 끼워 붙이게 되어 있는 탄성 부재의 두께를 볼트의 조임 정도의 조절에 의해 조정할 수 있어, 초음파의 방사 강도의 조정을 용이하게 할 수 있다.When comprised in this way, the thickness of the elastic member clamped between the sunshade end of a 1st enclosure and the sunshade end of a 2nd enclosure can be adjusted by adjustment of the tightening degree of a bolt, and the radiation intensity of an ultrasonic wave Can be easily adjusted.
또, 본 발명에 관한 다른 웨트처리 노즐은, 한쪽에 처리액을 도입하는 도입통로와 다른 쪽에 웨트처리 후의 처리액을 배출하는 배출통로를 구비함과 동시에, 상기 도입통로와 상기 배출통로의 사이에, 피처리물에 대해 상기 도입통로에서 도입한 처리액을 가이드하고 또 진동을 부여하면서 피처리물을 웨트처리하는 진동 가이드 부재를 갖추고, 상기 진동 가이드 부재는 상술한 본 발명의 초음파 세정기인 것을 특징으로 한다.In addition, the other wet processing nozzle according to the present invention includes an introduction passage for introducing the processing liquid on one side and a discharge passage for discharging the processing liquid after the wet processing on the other side, and between the introduction passage and the discharge passage. And a vibration guide member for guiding the processing liquid introduced from the introduction passage to the processing object and wet processing the processing object while applying vibration, wherein the vibration guide member is the ultrasonic cleaner of the present invention described above. It is done.
이러한 노즐에 의하면, 피처리면에 처리액이 공급됨과 동시에 사용이 끝난처리액을 배출통로를 통해 적절히 배출할 수 있게 되므로, 항상 신선한 처리액으로 피처리면을 처리하는 것이 가능해지고, 사용이 끝난 처리액에 의한 피처리면의 재오염을 방지할 수 있다.According to such a nozzle, since the processing liquid is supplied to the surface to be treated and the used processing liquid can be properly discharged through the discharge passage, the processing surface can be always treated with fresh processing liquid, and the used processing liquid Recontamination of the to-be-processed surface by this can be prevented.
또, 처리액이 피처리면과 진동 가이드 부재와의 틈새에 계면장력 등의 압력 밸런스로 유지될 수 있기 때문에, 최소 필요량의 처리액으로 피처리면을 웨트 처리할 수 있으며, 확실하게 피처리면에 초음파 진동을 부여하는 것이 가능하다.In addition, since the processing liquid can be maintained at a pressure balance such as interfacial tension in the gap between the processing surface and the vibration guide member, the processing surface can be wet-processed with the processing liquid of the minimum necessary amount, and the ultrasonic vibration is surely performed on the processing surface. It is possible to give.
게다가 이 구성을 취함으로써, 만일 초음파 진동 가이드 부재와 피처리면과의 사이에 처리액이 부족하다고 해도 초음파 진동자와 초음파 진동 가이드 부재와의 사이에 공분방지액을 가지게 되므로, 초음파 진동자의 공분을 확실하게 방지할 수 있다.In addition, by adopting this configuration, even if the processing liquid is insufficient between the ultrasonic vibration guide member and the surface to be processed, the antifouling liquid is provided between the ultrasonic vibrator and the ultrasonic vibration guide member. It can prevent.
이 웨트처리 노즐에도, 상기와 같은 피처리물에 접촉한 처리액이 웨트처리 후에 배출통로 밖으로 흐르지 않도록 피처리물과 접촉하고 있는 처리액의 압력과 대기압과의 차를 제어하기 위한 압력 제어 수단이 설치된다.The wet processing nozzle also has pressure control means for controlling the difference between the pressure of the processing liquid in contact with the processing object and the atmospheric pressure so that the processing liquid in contact with the processing object does not flow out of the discharge passage after the wet processing. Is installed.
(발명의 실시 형태)(Embodiment of the Invention)
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 관한 초음파 세정기의 실시 형태에 대해 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the ultrasonic cleaner which concerns on this invention is described with reference to drawings.
도 1 은 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 1 실시 형태를 나타낸 것이다.1 shows a first embodiment of an ultrasonic cleaner according to the present invention.
이 초음파 세정기 (10) 는 중앙부 (11a) 가 오목하고, 주위의 말단부 (11b) 가 차양형상으로 형성된 욕조형상의 제 1 함체 (11) 와, 이 제 1 함체 (11) 를 둘러싸고, 마찬가지로 중앙부 (12a) 가 오목하고, 주위의 말단부 (12b) 가 차양형상으로 형성된 욕조형상의 제 2 함체 (12) 를 갖는다. 이들 함체 (11, 12) 의 차양형상의 말단부 (11b, 12b) 의 사이에 패킹 (13) 이 끼워져 있어, 제 1 함체 (11) 와 제 2 함체 (12) 의 사이에 공동부 (14) 가 형성되어 있다. 또, 패킹 (13) 은 제 1, 2 의 함체 (11, 12) 의 말단부 (11b, 12b) 사이의 전 주위에 걸쳐 배치되고, 복수의 볼트 (18) 와 너트 (19) 에 의해 조여져 있다.The ultrasonic cleaner 10 surrounds the tub-shaped first housing 11 in which the center portion 11a is concave, the peripheral end portion 11b is formed in the shape of a sunshade, and the first housing 11, and the center portion ( 12a) is concave, and the peripheral end part 12b has the bathtub-shaped 2nd enclosure 12 formed in the sunshade shape. The packing 13 is sandwiched between the sunshade-shaped end parts 11b and 12b of these enclosures 11 and 12, and the cavity part 14 is provided between the 1st enclosure 11 and the 2nd enclosure 12. FIG. Formed. Moreover, the packing 13 is arrange | positioned over the perimeter between the terminal parts 11b and 12b of the 1st and 2nd enclosures 11 and 12, and is fastened by the several bolt 18 and the nut 19. As shown in FIG.
이 패킹 (13) 이 끼워져 있음으로 인해 형성된 제 1 함체 (11) 와 제 2 함체 (12) 사이의 공동부 (14) 에는, 공분방지액으로서 탈기한 물 (15) 이 넣어져 있다. 물 (15) 은, 적어도 제 1 함체 (11) 의 중앙부 (저면) (11a) 와 제 2 함체 (12) 의 중앙부 (저면) (12a) 사이에 틈새없이 채워져 있다. 또한, 제 1 함체 (11) 의 중앙부 (11a) 의 표면에는 초음파 진동자 (16) 가 배치되어 있어, 초음파 진동자 (16) 를 진동시킴으로써 공동부 (14) 중의 물 (15) 을 통해 제 2 함체 (12) 의 횡폭 (L) 으로 이루어지는 방사면 하방의 세정액 (도시생략) 안을 통과하는 피세정물 (도시생략) 에 초음파를 조사하고 세정한다.In the cavity 14 between the first housing 11 and the second housing 12 formed by the packing 13 is inserted, degassed water 15 as the antifouling liquid is put. The water 15 is filled without gaps at least between the center portion (bottom surface) 11a of the first housing 11 and the center portion (bottom surface) 12a of the second housing 12. In addition, an ultrasonic vibrator 16 is disposed on the surface of the central portion 11a of the first housing 11, and the second enclosure (through the water 15 in the cavity 14 by vibrating the ultrasonic vibrator 16). Ultrasonic wave is irradiated and cleaned to the to-be-cleaned object (not shown) which passes inside the washing | cleaning liquid (not shown) which consists of the width | variety L of 12).
또, 제 2 함체 (12) 의 벽면 (12c) 의 하부 외측에는 벽면 (12c) 의 주위 전체에 걸쳐 링형상의 추 (17) 가 설치되어 있다.Moreover, the ring-shaped weight 17 is provided in the lower outer side of the wall surface 12c of the 2nd enclosure 12 over the whole periphery of the wall surface 12c.
이 추 (17) 를 설치함으로 인한 작용 효과를 설명하면, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 초음파 세정기 (10) 의 제 2 함체 (12) 의 중앙부 (12a) 가 세정액 (S) 에 침지하도록 배치하여, 초음파 세정기 (10) 의 하방을 피세정물 (P) 이 통과하도록 한다. 그리고, 도시를 생략한 초음파 발신 장치에 의해 초음파 진동자 (16) 를 진동시키고, 공동부 (14) 중의 물 (15) 을 통해 제 2 함체 (12) 의 횡폭 (L) 으로이루어지는 방사면의 하방을 통과하는 피세정물 (P) 에 초음파를 조사하여 세정한다.Referring to the effect by installing this weight 17, as shown in Fig. 2, the center portion 12a of the second housing 12 of the ultrasonic cleaner 10 is disposed so as to be immersed in the cleaning liquid S, The object to be cleaned P passes under the ultrasonic cleaner 10. Then, the ultrasonic vibrator 16 is vibrated by an ultrasonic transmitting device (not shown), and the lower side of the radial surface formed by the horizontal width L of the second enclosure 12 is passed through the water 15 in the cavity 14. Ultrasonic wave is irradiated and cleaned to wash object P which passes.
그런데, 제 1 함체 (11) 와 제 2 함체 (12) 는 그 말단부 (11b, 12b) 에 패킹 (13) 을 끼우고 죄임 고정하여 공동부 (14) 를 형성하고 있으나, 패킹 (13) 의 조임 정도에 의해 공동부 (14) 의 두께, 즉 물 (15) 의 깊이가 초음파의 파장과 맞지않는 경우, 제 2 함체 (12) 의 중앙부 (12a) 인 저면의 음파방사면으로부터의 방사음압이 감소한다. 초음파 진동자 (16) 에서 방사된 진동 에너지가 감소한 부분은 제 2 함체 (12) 의 벽면 (12c) 을 진동시키려고 하지만, 추 (17) 에 의해 진동이 억제되기 때문에, 진동 에너지는 물 (15) 을 통해 제 2 함체 (12) 의 저면 (12a) 방향으로 되돌아가서 저면 (12a) 에서부터 초음파로서 방사된다. 이 때문에 패킹 (13) 의 조임 정도에 구애받지 않고, 초음파 진동자 (16) 로부터 발생된 에너지를 고효율로 피세정물에 조사할 수 있게 된다.By the way, the first housing 11 and the second housing 12 form the cavity 14 by clamping and fixing the packing 13 to the distal ends 11b and 12b, but tightening the packing 13. When the thickness of the cavity 14, i.e. the depth of the water 15, does not match the wavelength of the ultrasonic wave by the degree, the radiation sound pressure from the acoustic radiation surface of the bottom face, which is the central portion 12a of the second enclosure 12, is reduced. do. The portion where the vibration energy radiated from the ultrasonic vibrator 16 is reduced attempts to vibrate the wall surface 12c of the second enclosure 12, but since the vibration is suppressed by the weight 17, the vibration energy is reduced to water 15. It returns to the bottom face 12a direction of the 2nd enclosure 12 via, and radiates as an ultrasonic wave from the bottom face 12a. Therefore, regardless of the tightness of the packing 13, the energy generated from the ultrasonic vibrator 16 can be irradiated to the object to be cleaned with high efficiency.
이렇게, 패킹 (13) 의 조임량에 의해 좌우되는 수심의 변화에 의해 본래 발생하는 방사음압의 변화를 추 (17) 를 설치함으로써 거의 일정하게 제어할 수 있다.In this way, the change in the radiation sound pressure inherently generated by the change in the water depth, which is influenced by the tightening amount of the packing 13, can be controlled almost constant by providing the weight 17.
다음으로, 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 2 내지 제 8 의 실시 형태를 각각 도 3 내지 도 8 에 따라 설명한다. 또, 이들 실시 형태는 도 1 에 나타낸 제 1 실시 형태에 있어서 추 (17) 에 또 다른 추를 부가한 것이므로, 도 1 에서 나타낸 구성부재와 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.Next, 2nd-8th embodiment of the ultrasonic cleaner which concerns on this invention is demonstrated according to FIGS. 3-8, respectively. In addition, since these embodiment added another weight to the weight 17 in 1st Embodiment shown in FIG. 1, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as the structural member shown in FIG. 1, and description of these members is abbreviate | omitted. do.
도 3 에 나타낸 제 2 실시 형태는 링형상의 제 2 추 (21) 를 제 2 함체 (12)의 벽면 (12c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (20) 이다. 제 2 추 (21) 를 설치함으로써, 제 2 실시 형태는 제 1 실시 형태에 비하여 추 (17) 를 작게 할 수 있고, 이로써 전체적으로 함체 (12) 와 추 (17) 로 이루어지는 초음파 세정기 자체의 폭을 작게 할 수 있다. 또, 추 (17) 하부면의 연마처리 등이 보다 양호하게 행하기 쉽게 된다.3 is the ultrasonic cleaner 20 which provided the ring-shaped 2nd weight 21 over the periphery whole surface of the inner surface lower part of the wall surface 12c of the 2nd enclosure 12. As shown in FIG. By providing the second weight 21, the second embodiment can make the weight 17 smaller than the first embodiment, thereby reducing the width of the ultrasonic cleaner itself, which is composed of the enclosure 12 and the weight 17 as a whole. It can be made small. Moreover, the grinding | polishing process etc. of the lower surface of the weight 17 are more easily performed.
도 4 에 나타낸 제 3 실시 형태는, 링형상의 제 3 추 (31) 를 제 1 함체 (11) 의 벽면 (11c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (30) 이다. 제 3 추 (31) 를 설치함으로써, 제 3 실시 형태는 제 1 실시 형태와 비교하여 더욱, 제 1 함체 (11) 에 설치된 초음파 진동자 (16) 로부터 방사되는 초음파 에너지가 벽면 (11c) 으로 전달 운반되는 것을 방지할 수 있고, 결과로서 공분방지액 측에 전달 운반되는 초음파 에너지의 비율이 매우 좋게 되기 때문에, 외저면 (12c) 에서부터의 초음파 에너지의 방사를 크게 할 수 있다.3 is the ultrasonic cleaner 30 which provided the ring-shaped 3rd weight 31 over the periphery whole surface of the inner surface lower part of the wall surface 11c of the 1st enclosure 11. As shown in FIG. By providing the third weight 31, the third embodiment further delivers and transports the ultrasonic energy radiated from the ultrasonic vibrator 16 installed on the first enclosure 11 to the wall surface 11c as compared with the first embodiment. It can be prevented, and as a result, the ratio of the ultrasonic energy delivered and carried to the side of the antifouling liquid becomes very good, and the radiation of the ultrasonic energy from the outer bottom surface 12c can be enlarged.
도 5 에 나타낸 제 4 실시 형태는, 링형상의 제 4 추 (41) 를 제 1 함체 (11) 의 벽면 (11c) 의 외면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (40) 이다. 제 4 추 (41) 를 설치함으로써, 제 4 실시 형태는 제 3 실시 형태의 효과와 거의 동등한 효과를 갖는다.The 4th Embodiment shown in FIG. 5 is the ultrasonic cleaner 40 which provided the ring-shaped 4th weight 41 over the periphery whole surface of the outer surface lower part of the wall surface 11c of the 1st enclosure 11. As shown in FIG. By providing the fourth weight 41, the fourth embodiment has an effect almost equivalent to that of the third embodiment.
도 6 에 나타낸 제 5 실시 형태는 링형상의 제 5 추 (51) 를 제 2 함체 (12) 의 저면 (12c) 의 내면 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (50) 이다. 제 5 추 (51) 를 설치함으로써, 제 5 실시 형태는 제 1 실시 형태에 비교하여 더욱더 추 (17) 를 작게 할 수 있고, 이로 인해 전체적으로 함체 (12) 와 추 (17) 로이루어지는 초음파 세정기의 폭을 작게 할 수 있음과 동시에, 추 (17) 의 하부면의 연마처리가 보다 양호하게 가능해지므로 제작 비용의 삭감을 꾀할 수 있다.6 is the ultrasonic cleaner 50 which provided the ring-shaped 5th weight 51 over the whole surface of the inner surface peripheral part of the bottom face 12c of the 2nd enclosure 12. As shown in FIG. By providing the fifth weight 51, the fifth embodiment can further reduce the weight 17 as compared with the first embodiment, and as a result, the ultrasonic cleaner which consists of the housing 12 and the weight 17 as a whole. The width can be reduced, and the lower surface of the weight 17 can be polished more favorably, thereby reducing the production cost.
도 7 에 나타낸 제 6 실시 형태는 링형상의 제 6 추 (61) 를 제 1 함체 (11) 의 저면 (11a) 의 내면 주변부의 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (60) 이다. 제 6 추 (61) 를 설치함으로써, 제 6 실시 형태는 제 3 실시 형태의 효과와 거의 동등한 효과를 갖는다.7 is an ultrasonic cleaner 60 in which the ring-shaped sixth weight 61 is provided over the entire surface of the inner periphery of the bottom face 11a of the first housing 11. By providing the sixth weight 61, the sixth embodiment has an effect almost the same as that of the third embodiment.
도 8 에 나타낸 제 7 실시 형태는 링형상의 제 7 추 (71) 를 제 2 함체 (12) 의 벽면 (12c) 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치하고, 또 링형상의 제 8 추 (72) 를 제 2 함체 (12) 의 저면 (12a) 의 내면 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (70) 이다. 제 7 추 (71) 및 제 8 추 (72) 를 설치함으로써, 제 7 실시 형태는 제 1 실시 형태와 비교하여 추 (17) 를 제 5 실시 형태보다도 작게 할 수 있고, 이로 인해 전체적인 함체의 폭을 작게 할 수 있으며, 제 5 실시 형태보다도 더욱 연마처리가 추 (17) 와 오목 외면 (12) 의 경계 부분까지 양호하게 처리되어, 웨트처리의 안정성을 증대할 수 있다.In the seventh embodiment shown in FIG. 8, the ring-shaped seventh weight 71 is provided over the circumferential front surface under the inner wall surface 12c of the second housing 12, and the ring-shaped eighth weight 72 is provided. Is an ultrasonic cleaner 70 provided over the entire surface of the inner periphery of the bottom face 12a of the second housing 12. By providing the seventh weight 71 and the eighth weight 72, the seventh embodiment can make the weight 17 smaller than the fifth embodiment in comparison with the first embodiment, and thus the overall width of the enclosure. Can be made smaller, and the polishing treatment can be performed well to the boundary portion between the weight 17 and the concave outer surface 12 than in the fifth embodiment, thereby increasing the stability of the wet treatment.
도 9 에 나타낸 제 8 실시 형태는 링형상의 제 9 추 (81) 를 제 1 함체 (11) 의 벽면 (11c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치하고, 또 링형상의 제 10 추 (82) 를 제 1 함체 (11) 의 벽면 (11c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치하며, 추가로 링형상의 제 11 추 (83) 를 제 1 함체 (11) 의 저면 (11a) 의 내면 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (80) 이다. 제 9 추 (81), 제 10 추 (82) 및 제 11 추 (83) 를 설치함으로써, 제 8 실시 형태는 제 3 실시 형태와 거의동등하게 제 2 함체 (12) 의 저면 (12a) 에서부터 양호하게 초음파 에너지를 방사할 수 있다.In the eighth embodiment shown in FIG. 9, the ring-shaped ninth weight 81 is provided over the circumferential front surface of the lower inner surface of the wall surface 11c of the first housing 11, and the ring-shaped tenth weight 82 is provided. ) Is installed over the periphery of the lower surface of the inner surface of the wall surface 11c of the first enclosure 11, and the ring-shaped eleventh weight 83 is further provided on the periphery of the inner surface of the bottom surface 11a of the first enclosure 11; Ultrasonic cleaner 80 provided over the whole surface. By providing the ninth weight 81, the tenth weight 82, and the eleventh weight 83, the eighth embodiment is good from the bottom face 12a of the second enclosure 12 in almost the same manner as the third embodiment. Ultrasonic energy can be radiated.
또한, 본 발명에 관한 초음파 세정기의 제 9 및 제 10 실시 형태는, 각각 도 10 및 도 11 에 따라서 설명한다. 이들 실시 형태는 도 1 에 나타낸 제 1 실시 형태에 있어서 추 (17) 를 제거하고 대신에 다른 추를 제 1 함체 (11) 또는 제 2 함체 (12) 에 설치한 것으로, 도 1 에 나타낸 구성부재와 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.In addition, 9th and 10th embodiment of the ultrasonic cleaner which concerns on this invention is demonstrated according to FIG. 10 and FIG. 11, respectively. These embodiments remove the weight 17 in the first embodiment shown in FIG. 1, and instead attach the other weight to the first housing 11 or the second housing 12, and the constituent members shown in FIG. 1. The same reference numerals are given to the same members as, and the description of these members is omitted.
도 10 에 나타낸 제 9 실시 형태는 링형상의 제 12 추 (91) 를 제 2 함체 (12) 의 벽면 (12c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (90) 이다. 제 12 추 (91) 를 설치함으로써, 제 9 실시 형태는 제 1 실시 형태에 비하여 추 (17) 가 없기 때문에, 제 2 함체 (12) 의 크기에 의해 처리 노즐의 폭이 결정되어 노즐 자체의 폭이 증가하지 않는 것과, 제 2 함체 (12) 의 외벽면 및 외저면의 연마처리를 매우 용이하게 실시할 수 있어, 웨트처리 노즐 제작이 용이하게 이루어지도록 하는 효과를 가진다.The ninth embodiment shown in FIG. 10 is an ultrasonic cleaner 90 in which a ring-shaped twelfth weight 91 is provided over the circumferential entire surface of the lower inner surface of the wall surface 12c of the second enclosure 12. By providing the twelfth weight 91, since the ninth embodiment has no weight 17 as compared with the first embodiment, the width of the processing nozzle is determined by the size of the second enclosure 12, and the width of the nozzle itself. This does not increase and the outer wall surface and the outer bottom surface of the second enclosure 12 can be polished very easily, and the wet nozzles can be easily manufactured.
도 11 에 나타낸 제 10 실시 형태는 링형상의 제 13 추 (101) 를 제 2 함체 (12) 의 저면 (12a) 의 내면 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (100) 이다. 제 13 추 (101) 를 설치함으로써 제 10 실시 형태는 제 9 실시 형태와 거의 동등한 효과를 갖는다.The tenth embodiment shown in FIG. 11 is an ultrasonic cleaner 100 in which a ring-shaped thirteenth weight 101 is provided over the entire inner peripheral surface of the bottom face 12a of the second housing 12. By providing the thirteenth weight 101, the tenth embodiment has almost the same effect as the ninth embodiment.
다음으로, 상술한 초음파 세정기를 이용한 본 발명의 웨트처리 노즐의 일 실시 형태를 도 12 에 따라 설명한다.Next, one Embodiment of the wet process nozzle of this invention using the ultrasonic cleaner mentioned above is demonstrated according to FIG.
이 웨트처리 노즐 (110) 은 한쪽에 처리액 (도시생략) 을 도입하는 도입통로 (111) 와 다른 쪽에 웨트처리 후의 처리액 (S) 을 배출하는 배출통로 (112) 를 구비함과 동시에, 도입통로 (111) 와 배출통로 (112) 의 사이에 피처리물 (도시생략) 에 대해 도입통로 (111) 에서 도입한 처리액을 가이드하고, 또한 진동을 부여하면서 피처리물을 웨트처리하는 진동 가이드 부재 (113) 를 설치하고 있다. 진동 가이드 부재 (113) 는 도 1 에 나타낸 초음파 세정기 (10) 를 사용하고 있다. 따라서, 도 12 에서 도 1 과 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.The wet processing nozzle 110 has an introduction passage 111 for introducing a processing liquid (not shown) on one side and a discharge passage 112 for discharging the processing liquid S after wet processing on the other side, and is introduced. A vibration guide for guiding the processing liquid introduced from the introduction passage 111 with respect to the workpiece (not shown) between the passage 111 and the discharge passage 112, and wet processing the workpiece while applying vibration. The member 113 is provided. The vibration guide member 113 uses the ultrasonic cleaner 10 shown in FIG. Therefore, in Fig. 12, the same members as those in Fig. 1 are denoted by the same reference numerals, and description of these members is omitted.
도 12 에 있어서, 도입통로 (111) 를 형성한 도입통로 형틀 (114) 은 단면이 L 자형인 스테인리스 스틸로 형성된 금속판으로 이루어지고, 그 저면 (114a) 이 진동 가이드 부재의 저면 (12a) 과 만나거나 거의 만나도록 형성되어 있다. 도입통로 형틀 (114) 은 길이방향의 중앙부에 비스듬하게 상방으로 연장된 도입관 (114b) 을 형성하고 있고, 벽면 (114c) 이 용접법에 의해 진동 가이드 부재의 외벽면 (12c) 에 설치한 추 (17) 에 결합되어 있다. 또, 이 결합은 볼트 등에 의한 결합 방법으로 실행할 수도 있다.In Fig. 12, the introduction passage form 114, in which the introduction passage 111 is formed, is made of a metal plate formed of stainless steel having an L-shaped cross section, and the bottom surface 114a meets the bottom surface 12a of the vibration guide member. Or almost meet. The introduction passage mold 114 forms an introduction tube 114b extending obliquely upward in the central portion in the longitudinal direction, and the wall surface 114c is provided on the outer wall surface 12c of the vibration guide member by a welding method ( 17). In addition, this coupling can also be performed by a bolting method or the like.
마찬가지로, 배출통로 (112) 를 형성한 배출통로 형틀 (115) 은 단면이 L 자형인 스테인리스 스틸로 형성된 금속판으로 이루어지고, 그 저면 (115a) 이 진동 가이드 부재의 저면 (12a) 과 만나거나 거의 만나도록 형성되어 있다. 배출통로 형틀 (115) 은 길이 방향 중앙부에 비스듬하게 상방으로 연장된 배출관 (115b) 을 형성하고 있고, 벽면 (115c) 이 용접법에 의해 진동 가이드 부재의 외벽면(12c) 에 설치한 추 (17) 에 결합되어 있다. 또, 이 결합은 볼트 등에 의한 결합 방법에 따라 실행할 수도 있다.Similarly, the discharge passage mold 115 forming the discharge passage 112 is made of a metal plate formed of stainless steel having an L-shaped cross section, and the bottom face 115a meets or nearly meets the bottom face 12a of the vibration guide member. It is formed to be. The discharge passage mold 115 forms a discharge pipe 115b extending obliquely upward in the central portion in the longitudinal direction, and the wall surface 115c is provided on the outer wall surface 12c of the vibration guide member by a welding method. Is coupled to In addition, this coupling can also be performed according to the coupling method using a bolt or the like.
이 웨트처리 노즐 (110) 에는 피처리물에 접촉한 처리액이 웨트처리 후에 배출통로 밖으로 흐르지 않도록 피처리물과 접촉하고 있는 처리액의 압력과 대기압과의 차를 제어하기 위한 압력 제어 장치 (도시생략) 가 설치된다. 또, 이 웨트처리 노즐 (110) 에는 진동 가이드 부재 (113) 와 피처리물을 소정 간극으로 유지하고, 이 간극에 처리액을 유지시키는 위치결정 장치 (도시생략) 가 설치된다.The wet processing nozzle 110 has a pressure control device for controlling the difference between the pressure of the processing liquid in contact with the processing object and the atmospheric pressure so that the processing liquid in contact with the processing object does not flow out of the discharge passage after the wet processing. Is omitted). Moreover, this wet process nozzle 110 is provided with the positioning apparatus (not shown) which hold | maintains the vibration guide member 113 and a to-be-processed object in a predetermined gap, and hold | maintains a process liquid in this clearance gap.
이 웨트처리 노즐을 사용한 웨트처리 방법을 도 13 에 따라서 설명한다.The wet process method using this wet process nozzle is demonstrated according to FIG.
피처리물 (P) 과 웨트처리 노즐 (110) 을 각각 화살표 A, B 방향으로 상대적으로 이동시키면서 처리액 (S), 예를 들면 정제수, 전해이온수, 오존수, 수소수를 도입통로 (111) 를 통해 피처리물 (P) 에 순차적으로 공급하고, 이 처리액 (S) 을 피처리물 (P) 과 접촉하고 있는 처리액 (S) 의 압력과 대기압과의 차를 압력 제어 장치 (도시생략) 에 의해 제어함으로써 공급한 부분 이외의 부분에 접촉시키지 않고 피처리물 (P) 상에서 배출한다.The treatment fluid S, for example, purified water, electrolytic ion water, ozone water, and hydrogen water are introduced into the passage 111 while moving the workpiece P and the wet treatment nozzle 110 in the directions of arrows A and B, respectively. The pressure control device (not shown) is sequentially supplied to the workpiece P through the pressure difference between the pressure and the atmospheric pressure of the treatment liquid S in contact with the workpiece P. It discharges on to-be-processed object P, without making it contact a part other than the part supplied by controlling by.
도 12 에 나타낸 웨트처리 노즐은, 도 1 에 나타낸 초음파 세정기를 진동 가이드 부재로서 사용하고 있으나, 본 발명의 웨트처리 노즐은 이에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 도 3 내지 도 11 에 나타낸 초음파 세정기 등을 사용할 수도 있다.Although the wet processing nozzle shown in FIG. 12 uses the ultrasonic cleaning device shown in FIG. 1 as a vibration guide member, the wet processing nozzle of this invention is not limited to this, For example, the ultrasonic cleaning device etc. shown in FIGS. You can also use
다음으로, 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 실시 형태를 설명한다.Next, embodiment of the other ultrasonic cleaner which concerns on this invention is described.
다른 초음파 세정기의 제 1 실시 형태인 초음파 세정기 (200) 는, 도 14 에나타낸 것과 같이 중앙부 (201a) 가 오목하고, 주위의 말단부 (201b) 가 차양형상으로 형성된 욕조형상의 함체 (201) 와, 이 함체 중앙부 (201a) 의 표면에 배치된 초음파 진동자 (216) 와, 함체 벽면 (201c) 의 외면 하부에 벽면의 주위 전체에 걸쳐 설치한 링형상의 추 (217) 로 구성되어 있다.As shown in FIG. 14, the ultrasonic cleaner 200 which is 1st Embodiment of another ultrasonic cleaner includes the bathtub-shaped enclosure 201 in which the center part 201a was concave, and the peripheral end part 201b was formed in the shape of a sunshade, It consists of the ultrasonic vibrator 216 arrange | positioned at the surface of this enclosure center part 201a, and the ring-shaped weight 217 provided over the periphery of a wall surface in the lower part of the outer surface of the enclosure wall surface 201c.
이 초음파 세정기 (200) 는, 초음파 진동자 (216) 를 진동시킴으로써 함체 (201) 의 횡폭 (L2) 으로 이루어지는 방사면 하방의 세정액 (도시생략) 안을 통과하는 피세정물 (도시생략) 에 초음파를 조사하여 세정한다.The ultrasonic cleaner 200 irradiates ultrasonic waves to the object to be cleaned (not shown) passing through the cleaning liquid (not shown) below the radial plane formed by the horizontal width L2 of the housing 201 by vibrating the ultrasonic vibrator 216. To clean.
이 추 (217) 를 설치한 것으로 인한 작용 효과를 설명하면, 도 15 에 나타낸 것과 같이 초음파 세정기 (200) 의 함체 (201) 의 중앙부 (201a) 가 세정액 (S) 중에 침지하도록 배치하여, 초음파 세정기 (216) 하방을 피세정물 (P) 이 통과하도록 한다. 그리고, 도시를 생략한 초음파 발신 장치에 의해 초음파 진동자 (216) 를 진동시켜, 함체 (201) 의 횡폭 (L2) 으로 이루어지는 방사면의 하방을 통과하는 피세정물 (P) 에 초음파를 조사하여 세정한다. 이 처리시에, 추 (217) 가 있기 때문에, 초음파 진동자 (216) 로부터 방사된 초음파 에너지가 함체 (201) 를 전달 운반하여 추 (217) 의 상방으로 전달 운반되는 것을 극히 양호하게 방지할 수 있고, 이로 인해 양호하게 저면 (201a) 에서부터 초음파 에너지가 세정액 (S) 에 전달 운반되어 양호하게 세정할 수 있다.Referring to the effect by installing this weight 217, as shown in FIG. 15, it arrange | positions so that the center part 201a of the enclosure 201 of the ultrasonic cleaner 200 may be immersed in the washing | cleaning liquid S, and an ultrasonic cleaner (216) Allow the object to be cleaned to pass down. Then, the ultrasonic vibrator 216 is vibrated by an ultrasonic transmitting device (not shown), ultrasonic waves are irradiated to the object to be cleaned P passing through the radial plane formed of the horizontal width L2 of the housing 201 to be cleaned. do. In this process, since there is a weight 217, it is extremely good to prevent the ultrasonic energy radiated from the ultrasonic vibrator 216 from being delivered to and conveyed above the weight 217 by conveying and carrying the enclosure 201. For this reason, the ultrasonic energy is preferably transferred from the bottom surface 201a to the cleaning liquid S so that the cleaning can be performed satisfactorily.
또한, 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 2 및 제 3 실시 형태를 각각 도 16 및 도 17 에 따라서 설명한다. 이들 실시 형태는 도 14 에 나타낸 다른 초음파 세정기의 제 1 실시 형태에 있어서 추 (217) 에 부가하여 또 다른 추를 부가한 것으로, 도 14 에 나타낸 구성부재와 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.Moreover, 2nd and 3rd embodiment of the other ultrasonic cleaner which concerns on this invention is demonstrated according to FIG. 16 and FIG. 17, respectively. These embodiments add another weight in addition to the weight 217 in the first embodiment of the other ultrasonic cleaner shown in FIG. 14. The same members as those shown in FIG. 14 are denoted by the same reference numerals. Omit the description of.
도 16 에 나타낸 다른 초음파 세정기의 제 2 실시 형태는, 링형상의 제 2 추 (218) 를 함체 (201) 의 벽면 (201c) 의 내면 하부의 주위 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (230) 이다. 이 제 2 실시 형태는 도 14 에 나타낸 제 1 실시 형태에 비하여 더욱 더, 추 (218) 를 설치함으로써 추 (217) 를 작게 할 수 있고, 이로 인해 추 (217) 를 포함한 함체 (201) 의 외벽면, 외저면의 연마처리가 용이하게 되고, 노즐의 안정성이 향상된다. 또 초음파 에너지를 유효하게 세정액에 전달 운반시키는 효과도, 도 14 에 나타낸 제 1 실시 형태와 동등하게 할 수 있다.The second embodiment of the other ultrasonic cleaner shown in FIG. 16 is the ultrasonic cleaner 230 in which the ring-shaped second weight 218 is provided over the peripheral entire surface of the lower inner surface of the wall surface 201c of the housing 201. Compared to the first embodiment shown in FIG. 14, the second embodiment can further reduce the weight 217 by providing the weight 218, and thus, the outer wall of the enclosure 201 including the weight 217. Polishing of the surface and the outer bottom becomes easy, and the stability of the nozzle is improved. Moreover, the effect of effectively delivering and conveying ultrasonic energy to the cleaning liquid can also be made equivalent to that of the first embodiment shown in FIG. 14.
도 17 에 나타낸 다른 초음파 세정기의 제 3 실시 형태는, 도 16 에 나타낸 세정기에 다시 링형상의 제 3 추 (219) 를 함체 (201) 의 저면 (201a) 내면의 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (240) 이다. 이 제 3 실시 형태는 도 14 에 나타낸 제 1 실시 형태와 비교하면 추 (218, 219) 를 설치함으로써 추 (217) 를 더욱 작게 할 수 있다. 이로 인해 제 2 실시 형태보다도 함체의 외벽면 및 외저면의 연마처리가 극히 용이하게 양호하게 수행되어, 웨트처리 노즐의 안정성을 더할 수 있다.According to a third embodiment of the other ultrasonic cleaner shown in FIG. 17, the ultrasonic cleaner provided with the ring-shaped third weight 219 again is provided to the cleaner shown in FIG. 16 over the entire peripheral portion of the inner surface of the bottom surface 201a of the housing 201. (240). Compared with the first embodiment shown in FIG. 14, the third embodiment can further reduce the weight 217 by providing the weights 218 and 219. For this reason, the grinding | polishing process of the outer wall surface and outer bottom surface of an enclosure is performed very easily favorably rather than 2nd Embodiment, and the stability of a wet process nozzle can be added.
또한, 본 발명에 관한 다른 초음파 세정기의 제 4 실시 형태를 도 18 을 따라서 설명한다. 이 실시 형태는, 도 14 에 나타낸 제 1 실시 형태에 있어서 추 (217) 를 제거하고 대신에 다른 추를 함체 (201) 에 설치한 것이므로, 도 14 에 나타낸 구성부재와 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.Moreover, 4th Embodiment of the other ultrasonic cleaner which concerns on this invention is described along FIG. In this embodiment, since the weight 217 is removed in the first embodiment shown in FIG. 14 and another weight is provided in the housing 201, the same reference numerals are given to the same members as the constituent members shown in FIG. And description of these members is omitted.
도 18 에 나타낸 제 4 실시 형태는, 링형상의 제 4 추 (220) 를 함체 (201) 의 저면 (201a) 내면의 주변부 전면에 걸쳐 설치한 초음파 세정기 (250) 이다. 이 실시 형태는 도 14 에 나타낸 제 1 실시 형태와 비교하여 더욱, 추 (220) 만으로 이루어져서 함체 (201) 의 외벽면에 부가하는 것이 없으므로 함체 (201) 의 외벽면, 외저면의 연마처리가 가장 용이하게 이루어지기 때문에, 웨트처리 노즐의 안정성을 대폭 향상시킬 수 있다.The 4th Embodiment shown in FIG. 18 is the ultrasonic cleaner 250 which provided the ring-shaped 4th weight 220 over the periphery whole surface of the inner surface of the bottom face 201a of the enclosure 201. As shown in FIG. Compared with the first embodiment shown in FIG. 14, this embodiment is made of only the weight 220, so that nothing is added to the outer wall surface of the enclosure 201, so that polishing treatment of the outer wall surface and the outer bottom surface of the enclosure 201 is most effective. Since it is made easy, the stability of a wet process nozzle can be improved significantly.
다음으로, 상술한 초음파 세정기를 이용한 본 발명의 웨트처리 노즐의 일 실시 형태를 도 19 에 따라서 설명한다.Next, one Embodiment of the wet process nozzle of this invention using the ultrasonic cleaner mentioned above is demonstrated according to FIG.
이 웨트처리 노즐 (310) 은, 한쪽에 처리액 (도시생략) 을 도입하는 도입통로 (311) 와 다른 쪽에 웨트처리 후의 처리액 (S) 을 배출하는 배출통로 (312) 를 구비함과 동시에, 도입통로 (311) 와 배출통로 (312) 의 사이에 피처리물 (도시생략) 에 대해 도입통로 (311) 에서 도입한 처리액을 가이드하고, 또 진동을 부여하면서 피처리물을 웨트처리하는 진동 가이드 부재 (313) 를 설치하고 있다. 진동 가이드 부재 (313) 는 도 16 에 나타낸 초음파 세정기 (230) 를 사용하고 있다. 따라서, 도 19 에서 도 16 과 동일부재에는 동일부호를 붙이고, 이들 부재의 설명을 생략한다.The wet processing nozzle 310 has an introduction passage 311 for introducing a processing liquid (not shown) on one side and a discharge passage 312 for discharging the processing liquid S after wet processing on the other side, Vibration for wet processing the object to be processed while guiding the processing liquid introduced from the introduction path 311 to the object (not shown) between the introduction passage 311 and the discharge passage 312. The guide member 313 is provided. The vibration guide member 313 uses the ultrasonic cleaner 230 shown in FIG. Therefore, in FIG. 19, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as FIG. 16, and description of these members is abbreviate | omitted.
도 19 에 있어서, 도입통로 (311) 를 형성한 도입통로 형틀 (314) 은 단면이 L 자형인 스테인리스 스틸로 형성된 금속판으로 이루어지고, 그 저면 (314a) 이 진동 가이드 부재의 저면 (201a) 과 만나거나 거의 만나도록 형성되어 있다. 도입통로 형틀 (314) 은 길이 방향의 중앙부에 비스듬하게 상방으로 연장된 도입관(314b) 을 형성하고 있고, 벽면 (314c) 을 용접법에 의해 진동 가이드 부재의 벽면 (201c) 에 설치한 추 (217) 에 결합되어 있다. 또, 이 결합은 볼트 등에 의한 결합 방법에 따라 실행할 수도 있다.In Fig. 19, the introduction passage form 314 in which the introduction passage 311 is formed is made of a metal plate formed of stainless steel having an L-shaped cross section, and the bottom face 314a meets the bottom face 201a of the vibration guide member. Or almost meet. The introduction passage mold 314 forms an introduction tube 314b extending obliquely upward in the central portion in the longitudinal direction, and has a weight 217 provided with the wall surface 314c on the wall surface 201c of the vibration guide member by a welding method. ) In addition, this coupling can also be performed according to the coupling method using a bolt or the like.
마찬가지로, 배출통로 (312) 를 형성한 배출통로 형틀 (315) 은 단면이 L 자형인 스테인리스 스틸로 형성된 금속판으로 이루어지고, 그 저면 (315a) 이 진동 가이드 부재의 저면 (201a) 과 만나거나 거의 만나도록 형성되어 있다. 배출통로 형틀 (315) 은 길이 방향의 중앙부에 비스듬하게 상방으로 연장된 배출관 (315b) 을 형성하고 있고, 벽면 (315c) 을 용접법에 의해 진동 가이드 부재의 외벽면 (201c) 에 설치한 추 (217) 에 결합되어 있다. 또, 이 결합은 볼트 등에 의한 결합 방법에 따라 실행할 수도 있다.Similarly, the discharge passage mold 315 which forms the discharge passage 312 is made of a metal plate formed of stainless steel having an L-section in cross section, and its bottom face 315a meets or almost meets the bottom face 201a of the vibration guide member. It is formed to be. The discharge passage mold 315 forms a discharge pipe 315b extending obliquely upward in the central portion in the longitudinal direction, and has a weight 217 provided with the wall surface 315c on the outer wall surface 201c of the vibration guide member by a welding method. ) In addition, this coupling can also be performed according to the coupling method using a bolt or the like.
이 웨트처리 노즐 (300) 에는 피처리물에 접촉한 처리액이 웨트처리 후에, 배출통로 밖으로 흐르지 않도록 피처리물과 접촉하고 있는 처리액의 압력과 대기압과의 차를 제어하기 위한 압력 제어 장치 (도시생략) 가 설치된다. 또, 이 웨트처리 노즐 (300) 에는 진동 가이드 부재 (313) 와 피처리물을 소정 간극으로 유지하고, 이 간극에 처리액을 유지시키는 위치결정 장치 (도시생략) 가 설치된다.The wet processing nozzle 300 includes a pressure control device for controlling the difference between the pressure of the processing liquid in contact with the processing object and the atmospheric pressure so that the processing liquid in contact with the processing object does not flow out of the discharge passage after the wet processing. Not shown) is installed. Moreover, this wet process nozzle 300 is provided with the positioning apparatus (not shown) which hold | maintains the vibration guide member 313 and a to-be-processed object in a predetermined clearance gap, and hold | maintains a process liquid in this clearance gap.
다음으로, 이 웨트처리 노즐을 사용한 웨트처리 방법을 도 20 에 따라 설명한다.Next, the wet process method using this wet process nozzle is demonstrated according to FIG.
피처리물 (P) 과 웨트처리 노즐 (300) 을 각각 화살표 C, D 방향으로 상대적으로 이동시키면서 처리액 (S), 예를 들면 정제수, 전해이온수, 오존수, 수소수를 도입통로 (311) 를 통해 피처리물 (P) 에 순차적으로 공급하고, 이 처리액 (S) 을 피처리물 (P) 과 접촉하고 있는 처리액 (S) 의 압력과 대기압과의 차를 압력 제어 장치 (도시생략) 에 의해 제어함으로써 공급한 부분 이외의 부분에 접촉시키지 않고 피처리물 (P) 상에서 배출한다.The passage 311 is introduced with the treatment liquid S, for example, purified water, electrolytic ion water, ozone water, and hydrogen water, while moving the object P and the wet treatment nozzle 300 in the directions of arrows C and D, respectively. The pressure control device (not shown) is sequentially supplied to the workpiece P through the pressure difference between the pressure and the atmospheric pressure of the treatment liquid S in contact with the workpiece P. It discharges on to-be-processed object P, without making it contact a part other than the part supplied by controlling by.
도 19 에 나타낸 다른 웨트처리 노즐은, 도 16 에 나타낸 초음파 세정기를 진동 가이드 부재로서 사용하고 있으나, 본 발명의 웨트처리 노즐은 이에 한정되는 것이 아니라, 예를 들면 도 14, 도 17 또는 도 18 등에 나타낸 다른 초음파 세정기 등을 사용할 수도 있다.The other wet processing nozzle shown in FIG. 19 uses the ultrasonic cleaner shown in FIG. 16 as the vibration guide member, but the wet processing nozzle of the present invention is not limited thereto, and the like, for example, in FIG. 14, 17, or 18. Other ultrasonic cleaners shown may also be used.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 초음파 세정기에 의하면, 추에 의해 함체 벽면의 진동이 억제되기 때문에, 진동 에너지는 공분방지액을 통해 또는 함체 자체를 통해 함체 중앙의 저면 방향으로 되돌아가고, 저면에서부터 초음파로서 고효율로 방사된다. 따라서, 초음파 방사효율의 조절이 용이한 초음파 세정기 및 이를 이용한 웨트처리 노즐로 된다.As described above, according to the ultrasonic cleaner of the present invention, since the vibration of the wall of the enclosure is suppressed by the weight, the vibration energy is returned to the bottom direction of the center of the enclosure through the antifouling liquid or the enclosure itself, and the ultrasonic wave from the bottom surface. It is radiated with high efficiency. Therefore, the ultrasonic cleaning device and the wet processing nozzle using the ultrasonic radiation efficiency can be easily adjusted.
Claims (26)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06310299A JP3806537B2 (en) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | Ultrasonic cleaner and wet processing nozzle having the same |
| JP99-063102 | 1999-03-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20010014555A KR20010014555A (en) | 2001-02-26 |
| KR100375184B1 true KR100375184B1 (en) | 2003-03-08 |
Family
ID=13219605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0011809A KR100375184B1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-09 | Ultrasonic cleaner and wet processing nozzle with the same |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6644327B1 (en) |
| EP (2) | EP1034850B1 (en) |
| JP (1) | JP3806537B2 (en) |
| KR (1) | KR100375184B1 (en) |
| CN (2) | CN1165972C (en) |
| DE (2) | DE60017614T2 (en) |
| TW (1) | TW449821B (en) |
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2000
- 2000-03-07 DE DE60017614T patent/DE60017614T2/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 DE DE60006014T patent/DE60006014T2/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 EP EP00301847A patent/EP1034850B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 EP EP03075663A patent/EP1321198B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-09 KR KR10-2000-0011809A patent/KR100375184B1/en not_active IP Right Cessation
- 2000-03-09 US US09/521,906 patent/US6644327B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 TW TW089104432A patent/TW449821B/en not_active IP Right Cessation
- 2000-03-10 CN CNB001028162A patent/CN1165972C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 CN CNB031349455A patent/CN1235686C/en not_active Expired - Fee Related
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| EP1321198A2 (en) | 2003-06-25 |
| DE60006014T2 (en) | 2004-06-24 |
| CN1235686C (en) | 2006-01-11 |
| EP1034850B1 (en) | 2003-10-22 |
| EP1034850A3 (en) | 2000-09-20 |
| EP1321198A3 (en) | 2003-07-02 |
| CN1522801A (en) | 2004-08-25 |
| DE60006014D1 (en) | 2003-11-27 |
| DE60017614D1 (en) | 2005-02-24 |
| US6644327B1 (en) | 2003-11-11 |
| EP1321198B1 (en) | 2005-01-19 |
| JP2000254606A (en) | 2000-09-19 |
| KR20010014555A (en) | 2001-02-26 |
| TW449821B (en) | 2001-08-11 |
| US20040035451A1 (en) | 2004-02-26 |
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