KR100365696B1 - 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법 - Google Patents

카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100365696B1
KR100365696B1 KR1020000010376A KR20000010376A KR100365696B1 KR 100365696 B1 KR100365696 B1 KR 100365696B1 KR 1020000010376 A KR1020000010376 A KR 1020000010376A KR 20000010376 A KR20000010376 A KR 20000010376A KR 100365696 B1 KR100365696 B1 KR 100365696B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
group
sulfide
reaction
mmol
Prior art date
Application number
KR1020000010376A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20010086682A (ko
Inventor
구상호
지민구
Original Assignee
구상호
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to KR1020000010376A priority Critical patent/KR100365696B1/ko
Application filed by 구상호 filed Critical 구상호
Priority to AU2001220245A priority patent/AU2001220245A1/en
Priority to DE60038464T priority patent/DE60038464T2/de
Priority to AT00983496T priority patent/ATE390409T1/de
Priority to US10/220,697 priority patent/US6747166B2/en
Priority to CNB008194432A priority patent/CN100347155C/zh
Priority to EP00983496A priority patent/EP1283826B1/en
Priority to JP2001563473A priority patent/JP3975434B2/ja
Priority to PCT/KR2000/001375 priority patent/WO2001064630A1/en
Publication of KR20010086682A publication Critical patent/KR20010086682A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100365696B1 publication Critical patent/KR100365696B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/11—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/14—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and unsaturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C1/00—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon
    • C07C1/32—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen
    • C07C1/321—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen the hetero-atom being a non-metal atom
    • C07C1/322—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen the hetero-atom being a non-metal atom the hetero-atom being a sulfur atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/02—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by formation of sulfone or sulfoxide groups by oxidation of sulfides, or by formation of sulfone groups by oxidation of sulfoxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/18—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by addition of thiols to unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/02—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/05—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and unsaturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

본 발명은 카로틴 화합물의 중요 구조인 폴리엔 사슬 구조의 합성에 이용되는 중간체 화합물과, 그 제조방법 및 상기 중간체 화합물을 이용한 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물, 특히 라이코펜의 제조방법을 제공한다. 상기 화학식 2의 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법은, 출발물질로서 알릴릭 술폰 화합물을 이용하고, 이를 C-5 술파이드 화합물과 반응시켜 탄소 사슬을 확장시킨다. 이어서, 상기 반응 결과물인 티오-술폰 화합물을 산화시키고, 얻어진 디술폰 화합물과 C-10 디(할로알릴릭) 술파이드 화합물의 연결로 목적하는 탄소 갯수를 함유하는 사슬 구조 화합물을 형성한다. 그 후, 중앙의 트리엔 결합을 형성하기 위해 상기 디알릴릭 술파이드의 산화로 얻어지는 디알릴릭 술폰에 램베르크-배크룬트 반응을 적용한 뒤, 술폰기들의 제거 반응을 거치면 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물을 얻을 수 있게 된다.
상기식중 R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택된다.

Description

카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법{General synthetic entry to carotenoid polyene chain compounds}
본 발명은 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는, 폴리엔 사슬 구조를 가지고 있는 카로틴계 화합물 합성시 유용하게 사용가능한 중간체 화합물과 그 제조방법, 상기 중간체 화합물을 이용한 폴리엔 사슬 구조 화합물, 특히 라이코펜(lycopene)의 제조방법에 관한 것이다.
카로틴계 화합물은 폴리엔(polyene) 사슬 구조를 가지고 있으며, 그 구체적인 예로는, β-카로틴(β-carotene), 라이코펜(lycopene), 아스타잔틴 (astaxanthin), 빅신(Bixin) 등이 있다. 이러한 카로틴계 화합물들은 천연 색소로서 음식물 첨가제로 널리 사용되어 왔으며, 최근에는 발암물질인 라디칼(radical) 및 일중향 산소(singlet oxygen)와의 선택적인 반응성으로 인하여 항암효과가 탁월한 것으로 보고되고 있다. 따라서 화장품과 기호식품 등에 카로틴을 함유하는 다양한 상품이 생산되기 시작하였다. 그러나 β-카로틴의 항암 작용에 대하여서는 논란의 여지가 있으며, 특히 흡연자나 폐암 환자에 유해한 효과가 있다는 보고가 나온 이래, 이보다 항 산화력이 뛰어나며 항암효과에 대하여 논란의 여지가 없는 라이코펜에 대한 관심이 날로 증가하는 추세이다. 이러한 기대에 부응하여 라이코펜을 구성하고 있는 폴리엔 사슬 구조를 효율적으로 합성할 수 있는 방법에 대한 개발의 필요성이 점차적으로 높아지고 있다.
한편, 기존에 알려진 대표적인 라이코펜의 합성법은 아이슬러(Isler)에 의해 개발된 것으로, 비티히 반응(wittig reaction)에 근거를 둔 폴리엔 체인 합성법으로 하기 반응식 1의 합성경로에 따른다(Helv. Chim. Acta 1956, 39, 463-73).
상기 반응식 1을 참조하면, C-10 디알데히드 화합물을 비닐 에테르 및 프로페닐 에테르 화합물과 순차적으로 반응시켜 C-10 디알데히드 화합물의 각 알데히드기에 각각 탄소 2 유닛과 탄소 3 유닛이 늘어난 연속적인 불포화 탄소 사슬을 형성한다. 이 과정을 통하여 탄소 10 유닛이 늘어난 C-20 디알데히드를 얻고 중앙의 삼중결합의 부분적 환원 반응을 통하여 크로세틴을 얻게 된다.
그 후, 상기 크로세틴은, 비티히염과의 비티히 반응을 실시하면 라이코펜이 형성된다. 이 때 비티히염은 제라닐 브로마이드와 트리페닐포스핀과의 반응의 결과 형성된 것이다.
그런데, 상술한 반응식 1의 라이코펜의 합성법은 크로세틴을 형성하기까지 거쳐야 할 반응 단계수가 많고, 비티히 반응의 결과 형성된 부산물인 포스핀 옥사이드 처리 때문에 합성의 효율성이 떨어지는 문제점이 있다.
라이코펜을 합성하는 두번째 방법으로는, 카러(Karrer)에 의해 개발된 방법으로서 알키닐 음이온(alkynyl anion)을 이용한 커플링 반응, 부분적 수소화 반응 (partial hydrogenation) 및 탈수 반응 (dehydration)에 근거를 둔 합성법이며, 그 합성경로는 하기 반응식 2와 같다(Helv. chim. Acta 1950, 33, 1349-52).
반응식 2를 참조하면, 프로파질릭 브로마이드(propargylic bromide)에 금속 아연(Zn)을 부가하여 얻은 음이온과, ψ-이오논(ψ-ionone)과의 커플링 반응으로 C-16 중간체를 얻게 된다. 그리고 나서, 상기 C-16 중간체에 염기를 부가하여 얻은 알키닐 음이온(alkynyl anion) 두 분자와 C-8 디케톤(diketone) 화합물과의 커플링 반응으로 라이코펜 합성에 필요한 40개의 탄소를 함유하는 전위체를 형성하게 된다. 이 전위체 화합물의 두 삼중결합에 대한 부분적 수소화반응(partial hydrogenation) 및 탈수반응(dehydration)을 거치면 라이코펜이 합성된다.
그런데, 상술한 반응식 2에 따른 라이코펜의 합성법은 그 제조과정이 비교적 간단하지만 트랜스 구조를 갖는 이중결합 형성이 용이하지 않다는 단점을 지니고있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 상술한 폴리엔 사슬 구조를 효율적으로 합성하는 데 있어서 체인 확장의 방법으로 사용가능한 C-5 화합물인 알릴릭 술파이드 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 알릴릭 술파이드를 이용하여 탄소 체인을 확장하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기 탄소 체인 확장 방법을 이용하여 폴리엔 사슬 구조 화합물 특히, 라이코펜의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 첫번째 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명에서는, 화학식 1로 표시되는 알릴릭 술파이드를 제공한다.
상기식중 X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며, Ph은 페닐기를 나타낸다.
본 발명의 두번째 기술적 과제는, (a-1) 이소프렌을 산화하여 이소프렌 모노옥사이드를 얻는 단계;
(b-1) 상기 이소프렌 모노옥사이드를 벤젠티올과 반응시켜 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)를 얻는 단계; 및
(c-1) 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)를 할로겐화 화합물 또는 술포닐화 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 알릴릭 술파이드의 제조방법에 의하여 이루어진다.
상기식중 X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며, Ph은 페닐기를 나타낸다.
상기 (b-1) 단계의 이소프렌 모노옥사이드의 고리열림 반응은 특히 촉매로서 Cu(I) 함유 염(salt)을 사용하고, 용매로서 N,N-디메틸포름아미드(DMF)을 이용하는 것이 바람직한데, 그 이유는 이러한 반응조건일 때, 이중결합이 트랜스 형태를 갖는 화합물을 주생성물(major product)로 얻을 수 있기 때문이다.
본 발명의 세번째 기술적 과제는 (a-2) 알릴릭 술폰 화합물 (B)를 디프로톤화(deprotonation) 시킨 다음, 이를 화학식 1의 알릴릭 술파이드와 반응시켜 티오-술폰 (thio-sulfone) 화합물 (C)를 얻는 단계; 및
(b-2) 상기 티오-술폰 화합물 (C)를 선택적으로 산화하여 대응하는 알릴릭 술폰 화합물 (D)를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 알릴릭 술파이드를 이용한 탄소 체인 확장방법에 의하여 이루어진다.
상기식중 R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택되고, X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며, Ph은 페닐기를 나타낸다.
상기 R에서 탄소수 1 내지 30의 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등이 있고, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기의 구체적인 예로는 비닐기, 알릴(allyl)기, 프레닐(prenyl)기 등이 있고, 아릴기의 구체적인 예로는 페닐기, 나프틸기 등이 있다. 그리고 X는 Cl, Br인 것이 반응성면에서 바람직하며, R은 수소 또는 프레닐기인 것이 바람직하다.
또한, 상기 (D) 화합물을 출발물질로 하고, 상기 (a-2) 단계와 (b-2) 단계를 포함하는 과정을 1회 이상 반복하면 C-5 유닛을 원하는 바대로 늘릴 수 있다.
상기 (b-2) 단계의 선택적 산화반응은, 상온에서 리튬 몰리브데내이트-니오베이트(LiNbMoO6), 바나듐(V) 옥사이드(V2O5)와 같은 금속 산화물 촉매 하에서 과산화수소(hydrogen peroxide) 용액을 티오-술폰 화합물 (C)에 적가함으로써 이루어지는 것이 바람직하다. 이 반응조건에서 선택적 산화반응을 실시하면, 수율 특성이 우수하다.
본 발명의 네번째 기술적 과제는 (a-3) 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 디프로톤화 (deprotonation) 시킨 다음, 여기에 상기 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 기준으로 하여 1/2 당량 이하의 디알릴릭 술파이드 (E)(Y는 할로겐 원자임)를 반응시켜 알릴릭 술파이드 화합물 (F)를 얻는 단계;
(b-3) 상기 알릴릭 술파이드 화합물 (F)를 선택적으로 산화시켜 알릴릭 술폰 화합물 (G)를 제조하는 단계;
(c-3) 람베르크-배크룬트 반응을 통하여 상기 알릴릭 술폰 화합물 (G)로부터 테트라(페닐설포닐)-트리엔 화합물 (H)를 제조하는 단계; 및
(d-3) 상기 테트라(페닐설포닐)-트리엔 화합물 (H)를 염기와 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법에 의하여 이루어진다. 이 때 화학식 2의 R이 프레닐인 경우는 라이코펜의 제조 방법을 제공하게 된다.
상기식중 R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택되고, Y는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및-OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며, Ph은 페닐기를 나타낸다.
상기 R에서 탄소수 1 내지 30의 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등이 있고, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기의 구체적인 예로는 비닐기, 알릴(allyl)기, 프레닐(prenyl)기 등이 있고, 아릴기의 구체적인 예로는 페닐기, 나프틸기 등이 있다. R은 특히 수소 또는 프레닐기인 것이 바람직하다.
상기 (a-3) 단계는, 알릴릭 디술폰 화합물 (D)의 R이 수소 또는 프레닐인 경우 화합물 (E)의 Y가 Br 인 것이 반응성면에서 바람직하다. 그리고, 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 디프로톤화(deprotonation) 시키는 반응은, 저온, 바람직하게는 -40 ℃ 이하에서 상기 알릴릭 디술폰 화합물 (D)에 이 디술폰 화합물 1당량을 기준으로 하여 2 당량의 염기를 적가하는 것이 필요하다. 이 때 상기 염기로는, n-BuLi, s-BuLi, t-BuLi, 페닐리튬, NaNH2, 리튬 디이소프로필아미드(LDA), 리튬 헥사메틸디실라자이드(lithium hexamethyldisilazide), 소듐 헥사메틸디실라자이드 등을 이용한다.
상기 (b-3) 단계의 선택적 산화반응은, 저온에서 우레아-하이드로겐퍼옥사이드(Urea-Hydrogen Peroxide:UHP)와 프탈산 무수물의 혼합물을 알릴릭 디술폰 화합물 (D)에 적가하거나, 또는 상온에서 리튬 몰리브데네이트-니오베이트 (LiNbMoO6) 또는 바나듐(V)옥사이드로 (V2O5) 대표되는 금속 산화물 촉매 하에서 술파이드 화합물 (D)에 과산화수소(hydrogen peroxide) 용액을 적가함으로써 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 (c-3) 단계의 람베르크-배크룬트 반응은 공기중의 산소를 배제한 조건,즉 질소 또는 아르곤 가스 분위기하에서 실행하는 것이 반응성 및 수율면에서 바람직하다.
또한, 상기 (d-3) 단계의 염기는 특별히 한정되지 않는다. 구체적인 예로는NaNH2/NH3 또는 CH3OK/CH3OH, CH3ONa/CH3OH, CH3CH2OK/CH3CH2OH, CH3CH2ONa/CH3CH2OH, t-BuOK/t-BuOH 등과 같은 메탈 알콕사이드가 있다. 그 중에서도 염기로서 메탈 알콕사이드를 사용하는 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 따른 화학식 1의 알릴릭 술파이드는 폴리엔 사슬 구조 함유 화합물의 합성시 알릴릭 술폰 화합물과 결합하여 체인의 확장을 위한 기본 물질로 사용되는데, 다음과 같은 과정에 따라 합성된다.
먼저, 이소프렌을 산화시켜 이소프렌 모노옥사이드를 얻는다. 이 산화반응은 통상적인 산화 반응 조건하에서 실시가능하나, 본 발명에서는 m-클로로퍼옥시벤젠산(m-chloroperoxybenzoic acid: MCPBA) 등과 같은 산화제를 이용하는 조건 또는 이소프렌으로부터 대응하는 할로히드린(halohydrin)(J. Am. Chem. Soc. 1950, 72, 4608)을 형성하고, 이를 염기와 반응시키는 조건을 사용한다. 그 중에서도 이소프렌이 가지고 있는 2개의 이중결합의 친전자성 반응물에 대한 위치-선택성(regio-selectivity)을 고려해볼 때, 후자 방법이 보다 바람직하다.
이어서, 상기 이소프렌 모노옥사이드를 벤젠티올(PhSH)과 반응시키면 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)를 얻을 수 있다. 이 반응에서는 촉매로서 구리(I) 함유염을 사용하고 용매로서 N,N-디메틸포름아미드를 사용하는 것이 반응성 및 수율면에서 바람직하다. 즉, 이 반응조건하에서는 반응성이 우수하여 상온에서 온화한 조건으로 반응이 진행되며, 반응자체가 간편하고 용이하여 경제성과 실용성을 갖게 된다. 그리고 수율도 우수한 편이다. 상기 구리(I) 함유 염은 +1가의 구리 이온을 함유하고 있는 염이라면 모두 다 사용가능하나, 그중에서도 CuCN, CuBr, CuI, CuCl 등을 사용하는 것이 바람직하다. 그리고 구리(I) 함유 염의 함량은 촉매량을 사용하는데, 구체적으로 이소프렌 모노옥사이드 1몰을 기준으로 하여 0.001 내지 0.1몰%을 사용하는 것이 바람직하다.
상술한 반응 결과, 에폭사이드 화합물의 알릴릭 위치에서의 고리 열림 반응이 진행되며, 얻어진 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)에서는 트랜스와 시스 형태가 6:1의 비율 이상으로 트랜스 형태가 우세하게 존재한다.
그 후, 상기 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)를, 할로겐화 또는 설포닐화 반응을 통하여 화학식 1의 알릴릭 술파이드를 얻는다. 여기에서 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 술파이드 (A)의 할로겐화 반응은 다양한 반응 조건에 따라 실시 가능하다. 예를 들어, CH3SO2Cl/LiCl, SOCl2, (COCl)2, PPh3/CCl4, HCl, PBr3, PPh3/NBS, HBr 등의 반응조건을 사용하여 할로겐화 반응을 실시한다. 또한 설포닐화 반응도 할로겐화 반응과 마찬가지로 여러가지 조건에 따라 실시 가능한 데, 예를 들어, CF3SO2Cl, PhSO2Cl, CH3C6H4SO2Cl 및 CH3SO2Cl 등의 설포닐 화합물과 트리에틸아민(Et3N), 피리딘 등의 염기를 사용하는 조건에서 설포닐화 반응을 실시한다 (반응식 3).
상기식중, X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며 특히 -Cl 또는 -Br인 것이 바람직하다.
이하, 상기 이소프렌 모노옥사이드의 알릴릭 위치에서의 고리 열림 반응과 관련하여 보다 부연설명하기로 한다.
이소프렌 모노옥사이드의 고리열림 반응은 본 발명에서 사용한 반응조건이외에 다른 반응 조건하에서도 실시할 수 있다. 이러한 구체적인 반응조건 및 이 조건하에서의 생성물 분포는 하기 표 1에 나타난 바와 같다. 하기 표 1에서 엔트리 5는 본 발명에 따라 구리(I) 함유 염과 벤젠티올을 사용하여 반응시키는 것이고, 엔트리 1 내지 3은 이소프렌옥사이드를 염기 조건하에서 반응시키는 것이고, 엔트리 4 및 6은 산 조건하에서 반응시키는 것이다. 참고로, 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)에서 이중결합이 시스 형태인 것과 트랜스 형태인 것의 혼합 비율은 가스 크로마토그래피와 1H-NMR로 정한 것이다.
상기 표 1을 참조하면, 엔트리 1 내지 3의 경우는 화합물 (I)가 주생성물로 얻어졌으며, 목적하는 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)는 전혀 생성되지 않거나 극소량 얻어졌다. 그리고 엔트리 4의 경우는 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)가 22% 정도의 낮은 수율로 합성되었고, 이 때 시스와 트랜스의 비율도 1:4로 엔트리 5의 경우에 비하여 트랜스 존재 비율이 낮았다.
또한, 엔트리 6의 경우(Tetrahedron Lett. 1981, 22, 2413)는 목적하는 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)를 93%로 높은 수율로 얻을 수 있지만, 이 때 화합물 (A)는 단지 시스형태만 얻어졌다. 그리고 엔트리 7 내지 8의 경우는 트랜스가 시스 형태에 비하여 우세하게 존재하는 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)을 얻을 수는 있었지만, 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)의 합성수율이 3 및 7%로 매우 낮았다.
반면, 본 발명의 반응조건 즉, 엔트리 5에서는, 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)를 87% 정도의 우수한 수율로 얻을 수 있었고, 이 때 시스와 트랜스가 1:6의 비율 이상으로 트랜스가 우세하게 존재하였다. 상기에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 반응조건하에서는 이중결합이 트랜스 형태를 갖는 4-하이드록시-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 (A)가 우세하게 존재하는 화합물을 높은 수율로 합성할 수 있었다.
한편, 라이코펜으로 대표되는 화학식 2의 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 합성을 위하여 목적하는 탄소수 만큼 체인이 확장된 알릴릭 술폰 화합물 (D)의 합성이 선행되어져야 하며, 하기 반응식 4를 참조하여 디(알릴릭술폰) 화합물 (D)를 제조하는 방법에 대하여 설명하기로 한다.
출발물질인 알릴릭 술폰 화합물 (B)에 염기를 처리하여 디프로톤화시킨 뒤 화학식 1의 알릴릭 술파이드를 가하여 탄소 5개의 체인이 연장된 티오-술폰 화합물 (C)를 얻을 수 있다. 여기에서 상기 알릴릭 술폰 화합물 (B)의 예로는 제라닐 술폰(R=프레닐), 프레닐 술폰(R=수소)이 있고, 염기로는 노르말 부틸리튬(n-BuLi)을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 체인 확장 반응은 상온에서도 진행되지만 0 ℃ 이하에서 실행하는 것이 보다 바람직하다. 또한 출발물질로서 제라닐 술폰을 이용한 체인 확장 반응의 경우, 화학식 1의 화합물에서 X는 Br인 것이 반응성면에서 보다 바람직하다.
이어서, 상기 티오-술폰 화합물 (C)의 술파이드기를 선택적으로 산화시켜 대응하는 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 얻는다. 이러한 선택적 산화 반응은 촉매로서 LiNbMoO6, V2O5 등의 금속 산화물을 사용하고, 산화제로서 과산화수소(H2O2)를 사용하는 조건하에서 이루어지는 것이 바람직하다.
상기식중 R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택되고, X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택된다.
상기 R이 -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H인 경우는, 각각 이러한 작용기를 도입하기 위한 통상적인 합성과정에 따라 제조가능하다.
상술한 체인 확장의 방법을 반복 사용할 경우 매번 5개의 탄소가 늘어난 새로운 알릴릭 술폰 화합물을 얻을 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 화학식 2로 표시되는 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 합성에 대하여 설명하기로 한다(반응식 5). 본 발명의 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조 방법은 본 발명자들이 개발한 β-카로틴 합성법(J. Org. Chem. 1999, 64, 8051)에 기초를 두고 있으며, 폴리엔 체인 중앙의 C-10 트리엔 구조의 합성을 위하여 디(할로알릴릭) 술파이드 (E)를 이용하고, 이 술파이드 화합물의 산화로 얻은 디아릴릭 술폰에 램베르크-배크룬트 반응을 적용한 데 그 특징이 있다.
카로틴 화합물의 필요한 탄소 골격을 얻기 위해서는, 디(할로알릴릭) 술파이드 (E)와, 이 디(할로알릴릭) 술파이드 (E)를 기준으로 하여 2 당량 이상의 알릴릭디술폰 화합물 (D)를 줄리아 방법(Bull. Soc. Chim. Fr. 1973, 743-750)을 이용하여 결합하여 알릴릭 술파이드 (F)를 얻는다. 이러한 디(할로알릴릭) 술파이드 (E)와 알릴릭 디술폰 화합물 (D)의 커플링 반응은, 알릴릭 디술폰 화합물 (D)에 2 당량의 n-BuLi과 같은 염기를 부가하여 디프로톤화시킨 다음, 이를 저온, 즉 -40 ℃ 이하에서 반응을 실시하는 조건하에서 이루어지는 것이 바람직하다. 이 때 디(할로알릴릭) 술파이드 (E)에서 Y는 Br인 것이 반응성면에서 바람직하다.
그 후, 상기 알릴릭 술파이드 (F)의 황만을 선택적으로 산화시켜서 대응하는술폰 화합물 (G)를 얻는다. 이러한 선택적인 산화 반응은 저온에서 UHP와 프탈산 무수물의 혼합물을 알릴릭 술파이드 화합물 (F)에 적가하거나, 또는 상온에서 LiNbMoO6 또는 V2O5 촉매 하에서 H2O2를 적가하는 반응에 따라 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 반응조건일 때, 알릴릭 술파이드 (F)의 이중결합은 산화되지 않고 황만이 선택적으로 산화된다.
이어서, 상기 술폰 화합물 (G)의 구조 중앙부에 있는 SO2를 제거하여 이중결합을 형성함으로써 화합물 (H)를 얻는다. 이와 같은 반응은 술폰 화합물 (G)를 램베르크-배크룬트 반응조건(J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 7510)에 따라 실시하는 것이 바람직하다.
마지막으로, 화합물 (H)를 알콜 용매와 소듐 알콕사이드 등과 같은 알콕시드 염기 존재 하에서 가열하여 상기 화합물 (H)로부터 4개의 벤젠술폰기를 제거함으로써 라이코펜으로 대표되는 화학식 2의 폴리엔 사슬 구조 화합물이 합성된다.
상기식중, R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택되고, X는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택된다.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
합성예 1. 2-메틸-4-페닐티오-2-부텐-1-올
이소프렌 모노옥사이드 0.30㎖(3.1mmol)를 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 7㎖에 용해한 다음, 0℃에서 여기에 요오드화구리(I)(CuI) 15mg(0.08mmol)과 벤젠티올(PhSH) 0.33㎖(3.2mmol)을 부가한 뒤, 얻어진 반응 혼합물을 0℃에서 약 6시간동안 교반하였다.
반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 에테르(Ether)로 묽히고, 1M-HCl 10㎖로 3회 세척한 뒤, 무수 황산나트륨(Na2SO4)을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 여액을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 2-메틸-4-페닐티오-2-부텐-1-올 0.52g(2.7mmol)을 얻었다(수율: 87%). 1H NMR과 GC 분석에 따르면, 트랜스와 씨스 이중결합 구조의 비는 6:1 이상이었다.
1H-NMR: 트랜스 δ 1.56 (s, 3H), 2.38 (br s, 1H), 3.55 (d, 2H, J = 7.7 Hz), 3.92 (s, 2H), 5.54 (t, 1H, J = 7.7 Hz), 7.15~7.35 (m, 5H); 씨스 δ1.75 (s, 3H), 2.38 (br s, 1H), 3.52 (d, 2H, J = 7.9 Hz), 3.90 (s, 2H), 5.41 (t, 1H, J = 7.9 Hz), 7.15~7.35 (m, 5H).
13C-NMR: δ 13.6, 31.5, 67.7, 119.9, 126.2, 128.9, 129.8, 136.3, 139.0.
HRMS(EI) C11H14OS 예상치 194.0765, 실측치 194.0771.
합성예 2. 4-브로모-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드
2-메틸-4-페닐티오-2-부텐-1-올 23.7g(122mmol)을 에테르(ether) 80㎖에 용해한 다음 0℃에서 여기에 PBr3 16.5g(61mmol)을 천천히 부가한 뒤, 얻어진 반응혼합물을 0℃에서 약 1시간동안 교반하였다. 반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 에테르(Ether)로 묽히고, 증류수로 세척한 뒤, 무수 황산나트륨(Na2SO4)을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 여액을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 화학식 1의 4-브로모-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 26.8g(104mmol)을 얻었다(수율: 85%).
1H-NMR: 트랜스 δ 1.64 (s, 3H), 3.51 (d, 2H, J = 7.7 Hz), 3.92 (s, 2H), 5.72 (t, 1H, J = 7.7 Hz), 7.18~7.41 (m, 5H); 씨스 δ 1.85 (s, 3H), 3.56 (d, 2H, J = 7.9 Hz), 3.79 (s, 2H), 5.52 (t, 1H, J = 7.9 Hz), 7.18~7.41 (m, 5H).
13C-NMR: δ 14.7, 32.4, 40.4, 125.9, 126.7, 128.9, 130.9, 135.4, 135.5.
합성예 3-1. 5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔
제라닐 술폰 28.7g(103mmol)을 THF 150㎖에 용해한 다음, 0℃에서 여기에 n-BuLi(1.6M 핵산용액) 64㎖(103mmol)를 천천히 부가하여 20분동안 교반한 뒤, 이 반응 혼합물에 4-브로모-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 29.1g(113mmol)을 부가하였다. 그 후 서서히 온도를 올려 실온에서 약 11시간동안 교반하였다.
상기 반응 혼합물에 에테르 100㎖를 부가한 다음, 상기 결과물을 1M-HCl 수용액(20㎖×2)과 증류수(30㎖)를 이용하여 순차적으로 세척하였다. 이어서, 반응 혼합물을 무수 황산나트륨을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔 43.6g(96mmol)을 얻었다(수율: 93%).
1H-NMR: δ 1.13 (s, 3H), 1.53 (s, 3H), 1.59 (s, 3H), 1.68 (s, 3H), 1.92 (br s, 4H), 2.31 (dd, 1H, J = 13.2, 11.4 Hz), 2.90 (dd, 1H, J = 13.2, 3.0 Hz), 3.48 (d, 2H, J = 7.5 Hz), 3.87 (ddd, 1H, J = 11.4, 10.3, 3.0 Hz), 4.88 (d, 1H, J = 10.3 Hz), 5.01 (br s, 1H), 5.32 (t, 1H, J = 7.5 Hz), 7.15~7.38 (m, 5H), 7.40~7.58 (m, 2H), 7.58~7.70 (m, 1H), 7.75~7.90 (m, 2H).
13C-NMR: δ 16.0, 16.4, 17.7, 25.7, 26.2, 31.8, 37.1, 39.6, 63.2, 116.8, 123.0, 123.6, 126.1, 128.7, 128.8, 129.3, 129.5, 131.9, 133.5, 134.6, 136.5, 137.6, 145.6.
합성예 3-2. 5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔
프레닐 술폰 20.2g(103mmol)을 THF 100㎖에 용해한 다음, 0℃에서 여기에 n-BuLi(1.6M 헥산용액) 72㎖(115mmol)를 천천히 부가하였다. 얻어진 반응 혼합물을 20분동안 교반한 뒤, 여기에 4-브로모-3-메틸-2-부테닐 페닐 설파이드 25.9g(101mmol)을 부가하였다. 그 후 서서히 온도를 올려 실온에서 약 3시간 동안 교반하였다.
상기 반응 혼합물에 에테르 100㎖를 부가한 다음, 상기 결과물을 1M-HCl 수용액(20㎖×2)과 증류수(30㎖)를 이용하여 순차적으로 세척하였다. 이어서, 반응 혼합물을 무수 황산나트륨을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔 33.9g(87.7mmol)을 얻었다(수율: 91%).
1H-NMR: δ 1.11 (s, 3H), 1.52 (s, 3H), 1.61 (s, 3H), 2.31 (dd, 1H, J =13.6, 11.6 Hz), 2.86 (dd, 1H, J = 13.6, 2.9 Hz), 3.48 (d, 2H, J = 7.7 Hz), 3.84 (ddd, 1H, J = 11.6, 10.4, 2.9 Hz), 4.86 (ddd, 1H, J = 10.3, 1.4, 1.3 Hz), 5.31 (t, 1H, J = 7.7 Hz), 7.15~7.30 (m, 5H), 7.48~7.53 (m, 2H), 7.59~7.61 (m, 1H), 7.80~7.82 (m, 2H).
13C-NMR: δ 16.0, 17.9, 25.7, 31.8, 37.0, 63.3, 117.0, 123.1, 126.1, 128.7, 128.7, 129.2, 129.6, 133.4, 134.5, 136.4, 137.7, 145.1.
합성예 4-1. 1,5-디페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔
5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔 1.00g (2.2mmol)을 메틸알콜 20㎖에 용해한 다음, 여기에 LiNbMoO6 32mg(0.11mmol)과 H2O2(30% 수용액) 0.75g(6.6mmol)을 부가한 뒤, 얻어진 반응 혼합물을 실온에서 약 5시간 동안 교반하였다.
반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 1,5-디페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔 804mg(1.7mmol)을 얻었다(수율: 75%).
1H-NMR: δ 1.15 (s, 3H), 1.36 (s, 3H), 1.58 (s, 3H), 1.67 (s, 3H), 1.94 (br s, 4H), 2.33 (dd, 1H, J = 13.7, 11.4 Hz), 2.93 (d, 1H, J = 13.7 Hz), 3.75 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 3.86 (dt, 1H, Jd = 2.6, Jt = 10.4 Hz), 4.87 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 5.00 (s, 1H), 5.18 (t, 1H, J = 8.0 Hz), 7.48~7.58 (m, 4H), 7.60~7.69 (m, 2H), 7.78~7.88 (m, 4H).
13C-NMR: δ 16.3, 16.3, 17.7, 25.7, 26.1, 37.2, 39.7, 55.9, 63.0,113.6, 116.6, 123.5, 128.3, 128.8, 129.1, 129.3, 132.0, 133.6, 133.7, 137.5, 138.8, 141.5, 146.1.
합성예 4-2. 1,5-디페닐설포닐-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔
5-페닐설포닐-1-페닐티오-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔 8.62g (22.3mmol)을 메틸알콜 80㎖에 용해한 다음, 여기에 LiNbMoO6 330mg(1.12mmol)과 H2O2(30% 수용액) 7.58g(66.9mmol)을 부가한 뒤, 얻어진 반응 혼합물을 실온에서 약 11시간동안 교반하였다.
반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 1,5-디페닐설포닐-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔 8.84g(21.1mmol)을 얻었다(수율: 95%).
1H-NMR: δ 1.11 (s, 3H), 1.35 (s, 3H), 1.66 (s, 3H), 2.34 (dd, 1H, J = 13.8, 11.5 Hz), 2.89 (dd, 1H, J = 13.8, 2.9 Hz), 3.77 (d, 2H, J = 7.9 Hz), 3.85 (ddd, 1H, J = 11.5, 10.4, 2.9 Hz), 4.86 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 5.16(t, 1H, J = 7.9 Hz), 7.51~7.56 (m, 4H), 7.62~7.67 (m, 2H), 7.80~7.84 (m, 4H).
13C-NMR: δ 16.2, 17.8, 25.8, 37.0, 55.8, 63.0, 113.5, 116.6, 128.2, 128.8, 129.1, 129.1, 133.6, 133.7, 137.3, 138.7, 141.3, 142.7.
합성예 5-1. 디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 설파이드
1,5-디페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔 9.00g(18.5mmol)을 THF 50㎖에 용해한 다음, -78℃에서 여기에 n-BuLi(1.6M 핵산용액) 23㎖(37mmol)을천천히 부가하여 20분동안 교반한 뒤, 이 반응 혼합물에 디(4-브로모-3-메틸-2-부테닐) 설파이드(E) 3.03g(9.2mmol)을 부가하였다. 그 후 -78℃에서 3시간동안 교반하고, 1M-HCl 수용액 10㎖를 부가하여 반응을 종결하였다.
상기 반응 혼합물의 온도를 서서히 실온까지 올려 에테르 100㎖를 부가한 다음, 상기 결과물을 1M-HCl 수용액(20㎖×2)과 증류수(30㎖)를 이용하여 순차적으로 세척하였다. 이어서, 반응 혼합물을 무수 황산나트륨을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 설파이드 9.39g(8.2mmol)을 얻었다(수율: 89%).
1H-NMR: δ 1.16 (s, 6H), 1.41 (s, 6H), 1.49 (s, 6H), 1.58 (s, 6H), 1.68 (s, 6H), 1.95 (br s, 8H), 2.15 (dd, 2H, J = 13.0, 11.9 Hz), 2.30 (dd, 2H, J = 12.6, 11.0 Hz), 2.73 (d, 2H, J = 13.0 Hz), 2.86 (d, 2H, J = 12.6 Hz), 2.95 (d, 4H, J = 7.0 Hz), 3.86 (m, 4H), 4.87 (d, 2H, J = 10.6 Hz), 4.93 (d, 2H, J = 9.9 Hz), 5.02 (br s, 2H), 5.18 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 7.46~7.58 (m, 8H), 7.58~7.69 (m, 4H), 7.72~7.90 (m, 8H).
13C-NMR: δ 15.8, 16.4, 16.8, 17.6, 25.6, 26.0, 28.6, 37.3, 38.4, 39.8, 62.9, 63.2, 116.8, 119.8, 123.5, 124.3, 128.7, 128.8, 129.0, 129.2, 131.9, 133.2, 133.5, 133.6, 137.4, 137.5, 141.1, 146.0.
합성예 5-2. 디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 설파이드
1,5-디페닐설포닐-3,7-디메틸-2,6-옥타디엔 4.61g(11.0mmol)을 THF 50㎖에 용해한 다음, 여기에 -78℃에서 n-BuLi(1.6M 핵산용액) 16.5㎖(26.4mmol)을 천천히 부가하여 20분 동안 교반하였다. 이어서, 상기 반응 혼합물에 디(4-브로모-3-메틸-2-부테닐) 설파이드(E) 1.75g(5.33mmol)을 부가하였다. 그 후 반응 혼합물을 -78℃에서 3시간동안 교반하고, 1M-HCl 수용액 10㎖를 부가하여 반응을 종결하였다.
상기 반응 혼합물의 온도를 서서히 실온까지 올려 에테르 100㎖를 부가한 다음, 상기 결과물을 1M-HCl 수용액(20㎖×2)과 증류수(30㎖)를 이용하여 순차적으로 세척하였다. 이어서, 반응 혼합물을 무수 황산나트륨을 이용하여 수분을 제거한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 설파이드4.80g(4.79mmol)을 얻었다(수율: 87%).
1H-NMR: δ 1.12 (s, 6H), 1.42 (s, 6H), 1.49 (s, 6H), 1.69 (s, 6H), 2.03∼2.38 (m, 4H), 2.65~3.20 (m, 8H), 3.88 (m, 4H), 4.82 (d, 2H, J = 10.2 Hz), 4.91 (d, 2H, J = 9.9 Hz), 5.12 (t, 2H, J = 7.3 Hz), 7.53~7.65 (m, 12H), 7.76~7.84 (m, 8H).
13C-NMR: δ 15.8, 16.8, 17.9, 25.9, 28.5, 37.1, 38.4, 62.8, 63.1, 116.9, 119.6, 124.4, 128.8, 128.8, 128.9, 129.1, 133.7, 136.7, 137.1, 137.2, 140.4, 140.9, 142.7.
합성예 6-1. 디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 술폰
디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 설파이드 2.0g(1.75mmol)을 메틸알콜 20㎖에 용해한 다음, 여기에 LiNbMoO6 26mg(0.09mmol)과 H2O2 (30% 수용액) 0.99g(8.75mmol)을 부가한 뒤, 얻어진 반응 혼합물을 실온에서 약 5시간 동안 교반하였다.
반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 술폰 1.48g(1.26mmol)을 얻었다(수율: 72%).
1H-NMR: δ 1.15 (s, 6H), 1.41 (s, 6H), 1.58 (s, 6H), 1.61 (s, 6H), 1.67 (s, 6H), 1.93 (br s, 8H), 2.17~2.37 (m, 4H), 2.81 (d, 2H, J = 12.3 Hz), 2.91 (d, 2H, J = 14.1 Hz), 3.56 (d, 4H, J = 7.2 Hz), 3.91 (dt, 4H, Jd = 2.8, Jt = 9.6 Hz), 4.89 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 4.92 (d, 2H, J = 10.1 Hz), 5.01 (br s, 2H), 5.23 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.47~7.58 (m, 8H), 7.58~7.67 (m, 4H), 7.74~7.89 (m, 8H).
13C-NMR: δ 16.4, 16.5, 16.6, 17.6, 25.6, 26.0, 37.7, 38.4, 39.7, 51.6, 62.5, 62.8, 113.7, 116.9, 118.5, 123.6, 128.7, 128.9, 128.9, 129.2, 131.7, 133.5, 133.7, 137.2, 140.8, 140.9, 141.6, 145.8.
합성예 6-2. 디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 술폰
디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 설파이드 4.54g(4.52mmol)을 메틸알콜 50㎖에 용해한 다음, 여기에 LiNbMoO6 66mg(0.23mmol)과 H2O2(30% 수용액) 1.54g(13.6mmol)을 부가하였다. 이와 같은 과정에 따라 얻어진 반응 혼합물을 실온에서 약 6시간 동안 교반하였다.
반응이 완결된 후, 반응 혼합물을 감압 증발하여 농축시키고, 얻어진 결과물을 실리카겔 크로마토그래피하여 디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 설폰 3.28g(3.16mmol)을 얻었다(수율: 70%).
1H-NMR: δ 1.05 (s, 6H), 1.41 (s, 6H), 1.61 (s, 6H), 1.67 (s, 6H), 2.17~2.47 (m, 4H), 2.74~2.99 (m, 4H), 3.57 (br s, 4H), 3.79~4.02 (m, 4H), 4.86 (d, 2H, J = 9.9 Hz), 4.90 (d, 2H, J = 10.8 Hz), 5.21 (t, 2H, J = 7.5 Hz), 7.51~7.55 (m, 8H), 7.61~7.66 (m, 4H), 7.76~7.82 (m, 8H).
13C-NMR: δ 16.6, 16.7, 17.9, 25.9, 37.5, 38.7, 51.6, 62.6, 62.8, 113.7, 117.1, 119.4, 128.8, 129.0, 129.0, 129.2, 133.6, 133.8, 137.1, 141.0, 141.0, 141.6, 142.7.
합성예 7-1. 7,7',11,11'-테트라페닐설포닐-7,7',8,8',11,11',12,12'-옥타하이드로 라이코펜
디(5,9-디페닐설포닐-3,7,11,15-테트라메틸-2,6,10,14-헥사데카테트라에닐) 술폰 1.10g(0.94mmol)을 t-부탄올 30㎖와 CCl4 30㎖에 용해한 다음, 아르곤 가스 분위기 하에서 잘 분쇄된 KOH 1.68g(30.0mmol)을 실온에서 부가하였다. 이 반응 혼합물을 5시간동안 격렬하게 교반하였다.
반응이 완결된 후 상기 결과물에 메틸렌 클로라이드 60㎖를 부가하여 용해시킨 다음, 1M-HCl 20㎖를 이용하여 세척하였다. 모아진 메틸렌 클로라이드층을 무수황산나트륨으로 건조한 다음, 여과하였다. 얻어진 결과물을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 7,7',11,11'-테트라페닐설포닐-7,7',8,8',11,11',12,12'-옥타하이드로 라이코펜 822mg(0.74mmol)을 얻었다(수율: 79%).
1H-NMR: δ 1.14 (br s, 6H), 1.33 (s, 6H), 1.58 (s, 6H), 1.60 (s, 6H), 1.67 (s, 6H), 1.93 (br s, 8H), 2.16~2.42 (m, 4H), 2.63~3.07 (m, 4H), 3.68~4.05 (m, 4H), 4.91 (d, 4H, J = 10.6 Hz), 4.98 (br s, 2H), 5.69~5.90 (br s, 2H), 6.08~6.24 (m, 2H), 7.45~7.58 (m, 8H), 7.58~7.70 (m, 4H), 7.73~7.87 (m, 8H).
13C-NMR: δ 16.4, 17.1, 17.7, 24.9, 25.6, 26.1, 28.5, 37.9, 39.8, 63.0, 63.6, 116.6, 116.8, 119.9, 123.5, 127.8, 128.7, 128.8, 129.0, 129.1, 129.2, 132.0, 133.6, 137.5, 140.6, 141.4, 145.9, 146.1.
합성예 7-2. 2,6,10,15,19,23-헥사메틸-4,8,17,21-테트라페닐설포닐-2,6,10,12,14,18,22-테트라에이코사헵타엔
디(5,9-페닐설포닐-3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리에닐) 설폰1.17g(1.13mmol)을 t-부탄올 30㎖와 CCl4 30㎖에 용해한 다음, 아르곤 가스 분위기 하에서 잘 분쇄된 수산화칼륨(KOH) 1.90g(33.8mmol)을 실온에서 부가하였다. 이 반응 혼합물을 7시간 동안 격렬하게 교반하였다.
반응이 완결된 후, 상기 결과물에 메틸렌 클로라이드 70㎖를 부가하여 용해시킨 다음, 1M-HCl 20㎖를 이용하여 세척하였다. 모아진 메틸렌 클로라이드층을 무수 황산나트륨으로 건조한 다음, 여과하였다. 얻어진 결과물을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 2,6,10,15,19,23-헥사메틸-4,8,17,21-테트라페닐설포닐-2,6,10,12,14,18,22-테트라에이코사헵타엔 839mg (0.87mmol)을 얻었다(수율: 77%).
1H-NMR: δ 1.06 (s, 6H), 1.57 (br s, 6H), 1.61 (s, 6H), 1.66 (s, 6H), 2.12~2.52 (m, 4H), 2.68~3.07 (m, 4H), 3.64~4.04 (m, 4H), 4.65~5.03 (m, 4H), 5.69~5.91 (br d, 2H, J = 18.5 Hz), 6.08~6.26 (m, 2H), 7.43~7.59 (m, 8H), 7.59~7.70 (m, 4H), 7.73~7.87 (m, 8H).
합성예 8-1. 라이코펜
7,7',11,11'-테트라페닐설포닐-7,7',8,8',11,11',12,12'-옥타하이드로 라이코펜(H-1) 682mg(0.62mmol)을 에탄올 20㎖와 벤젠 5㎖에 용해한 다음, 아르곤 가스 분위기하에서 Na 1.14g(49.3mmol)을 부가하였다.
상기 반응 혼합물을 12시간 동안 격렬하게 교반하면서 환류하였다.
반응이 완결된 후, 상기 결과물에 벤젠 50㎖를 부가하여 용해시킨 다음, 1M-HCl 10㎖를 이용하여 세척하였다. 모아진 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 화학식 2의 라이코펜 260mg(0.48mmol)을 얻었다(수율: 78%).
1H-NMR: δ 1.61 (s, 6H), 1.68 (s, 6H), 1.82 (s, 6H), 1.96 (s, 12H), 2.11 (br s, 8H), 5.11 (br s, 2H), 5.95 (d, 2H, J = 10.8 Hz), 6.18 (d, 2H, J = 12.1 Hz), 6.24 (d, 2H, J = 14.9 Hz), 6.20~6.30 (m, 2H), 6.35 (d, 2H, J = 14.8Hz), 6.49 (dd, 2H, J = 14.9, 10.8 Hz), 6.63 (dd, 2H, J = 14.8, 12.1 Hz), 6.55~6.70 (m, 2H).
13C-NMR: δ 12.8, 12.9, 17.0, 17.7, 25.7, 26.7, 40.2, 123.9, 124.8, 125.1, 125.7, 130.1, 131.5, 131.8, 132.6, 135.4, 136.2, 136.5, 137.3, 139.5.
상기 라이코펜의 데이터는 기존의 보고된 트랜스-라이코펜의 NMR 데이터와 (Helvetica Chimica Acta 1992, 75, 1848-1865) 일치됨을 알 수 있었다.
합성예 8-2. 2,6,10,15,19,23-헥사메틸-2,4,6,8,10,12,14,16,18,20,22-테트라에이코사운데카엔
2,6,10,15,19,23-헥사메틸-4,8,17,21-테트라페닐설포닐-2,6,10,12,14,18,22-테트라에이코사헵타엔 730mg(0.75mmol)을 에탄올 30㎖와 벤젠 5㎖에 용해한 다음, 아르곤 가스 분위기 하에서 Na 1.39g(60.3mmol)을 부가하였다. 이어서, 상기 반응 혼합물을 12시간 동안 격렬하게 교반하면서 환류하였다.
반응이 완결된 후, 상기 결과물에 벤젠 60㎖를 부가하여 용해시킨 다음, 1M-HCl 10㎖를 이용하여 세척하였다. 모아진 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조한 다음, 여과하였다. 얻어진 여액을 감압 농축한 다음, 이를 실리카겔 크로마토그래피를 실시하여 2,6,10,15,19,23-헥사메틸-2,4,6,8,10,12,14,16,18,20,22-테트라에이코사운데카엔 213mg(0.53mmol)을 얻었다(수율: 71%).
1H-NMR: δ 1.82 (s, 12H), 1.97 (s, 12H), 5.94 (d, 2H, J = 11 Hz), 6.18 (d, 2H, J = 12.7 Hz), 6.22 (d, 2H, J = 15.3 Hz), 6.16~6.31 (m, 2H), 6.35 (d, 2H, J = 14.8 Hz), 6.48 (dd, 2H, J = 15.3, 11 Hz), 6.63 (dd, 2H, J = 14.8,12.7 Hz), 6.54~6.67 (m, 2H).
이상에서 살펴본 바와 같이, 상기 합성예 1 내지 8에 따라 라이코펜으로 대표되는 카로틴 화합물을 제조하면, 종래의 경우에 비하여 제조 공정이 간편하고, 합성방법이 용이하며 효율적일 뿐만 아니라 포스핀 옥사이드와 같은 부산물 처리 문제를 미연에 방지할 수 있었다. 또한 트랜스 이중결합의 구조를 갖는 폴리엔 사슬구조의 형성이 용이하다는 장점을 가지고 있다.
본 발명에 따른 화학식 1의 알릴릭 술파이드 화합물은 라이코펜 등과 같은 폴리엔 사슬 구조 함유 화합물의 합성시, 탄소 5개의 체인을 확장하는 중간체로 매우 유용하게 이용할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 필요한 체인 길이의 알릴릭 술폰 화합물 (D)와 디(할로알릴릭) 술파이드 화합물 (E)를 연결한 뒤, 술파이드의 산화로 대응하는 디알릴릭 술폰 화합물을 얻고, 여기에 램베르크-배그룬트 반응을 적용하여 화학식 2의 라이코펜으로 대표되는 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물을 제조할 수 있다.

Claims (13)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. (a-3) 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 디프로톤화시킨 다음, 여기에 상기 알릴릭 디술폰 화합물 (D)를 기준으로 하여 1/2 당량 이하의 디알릴릭 술파이드 (E)(Y는 할로겐 원자임)를 반응시켜 알릴릭 술파이드 화합물 (F)를 얻는 단계;
    (b-3) 상기 알릴릭 술파이드 화합물 (F)를 선택적으로 산화시켜 알릴릭 술폰 화합물 (G)를 제조하는 단계;
    (c-3) 램베르크-배크룬트 반응을 통하여 상기 알릴릭 술폰 화합물 (G)로부터테트라(페닐설포닐)-트리엔 화합물 (H)를 제조하는 단계; 및
    (d-3) 상기 테트라(페닐설포닐)-트리엔 화합물 (H)를 염기와 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법.
    상기식중 R은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알케닐기, 아릴기, -CN, -COOR'(R'은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임) 및 -C(=O)H로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    Y는 -Cl, -Br, -I, -OSO2CF3, -OSO2Ph, -OSO2C6H4CH3 및 -OSO2CH3로 이루어진 군으로부터 선택되며, Ph은 페닐기를 나타낸다.
  9. 제8항에 있어서, 상기 R이 수소 또는 프레닐기인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 (a-3) 단계에서의 디술폰 화합물 (D)의 디프로톤화(deprotonation)과정이,
    -40 ℃ 이하의 저온에서, 알릴릭 디술폰 화합물 (D)에 상기 디술폰 화합물 1당량을 기준으로 하여 2 당량 이상의 염기를 적가하는 과정을 거쳐 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 (b-3) 단계가,
    저온에서 알릴릭 술파이드 화합물 (F)에 우레아-하이드로겐퍼옥사이드(UHP)와 프탈산 무수물의 혼합물을 적가하거나,
    또는 상온에서 촉매로서 LiNbMoO6 또는 V2O5를 이용하여 과산화수소(H2O2) 용액을 적가하는 반응을 통하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 (c-3) 단계의 램베르크-배크룬트 반응이질소 또는 아르곤 가스 분위기하에서 실시되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 (d-3) 단계의 염기가 메탈 알콕사이드인 것을 특징으로 하는 방법.
KR1020000010376A 2000-03-02 2000-03-02 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법 KR100365696B1 (ko)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000010376A KR100365696B1 (ko) 2000-03-02 2000-03-02 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법
DE60038464T DE60038464T2 (de) 2000-03-02 2000-11-29 Verfahren zur herstellung von carotinoid-polyen-verbindungen sowie zwischenprodukte zu deren herstellung
AT00983496T ATE390409T1 (de) 2000-03-02 2000-11-29 Verfahren zur herstellung von carotinoid-polyen- verbindungen sowie zwischenprodukte zu deren herstellung
US10/220,697 US6747166B2 (en) 2000-03-02 2000-11-29 Process for preparing carotenoid polyene chain compounds and intermediates for preparing the same
AU2001220245A AU2001220245A1 (en) 2000-03-02 2000-11-29 A process for preparing carotenoid polyene chain compounds and intermediates forpreparing the same
CNB008194432A CN100347155C (zh) 2000-03-02 2000-11-29 类胡萝卜素多烯链状化合物的制备方法和用于制备此类化合物的中间体
EP00983496A EP1283826B1 (en) 2000-03-02 2000-11-29 A process for preparing carotenoid polyene chain compounds and intermediates for preparing the same
JP2001563473A JP3975434B2 (ja) 2000-03-02 2000-11-29 カロチノイドポリエン鎖化合物の製造方法及びそれを製造するための中間体
PCT/KR2000/001375 WO2001064630A1 (en) 2000-03-02 2000-11-29 A process for preparing carotenoid polyene chain compounds and intermediates for preparing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000010376A KR100365696B1 (ko) 2000-03-02 2000-03-02 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2002-0047507A Division KR100398652B1 (ko) 2002-08-12 2002-08-12 알릴릭 설파이드의 탄소 체인 확장방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010086682A KR20010086682A (ko) 2001-09-15
KR100365696B1 true KR100365696B1 (ko) 2002-12-26

Family

ID=19651511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000010376A KR100365696B1 (ko) 2000-03-02 2000-03-02 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6747166B2 (ko)
EP (1) EP1283826B1 (ko)
JP (1) JP3975434B2 (ko)
KR (1) KR100365696B1 (ko)
CN (1) CN100347155C (ko)
AT (1) ATE390409T1 (ko)
AU (1) AU2001220245A1 (ko)
DE (1) DE60038464T2 (ko)
WO (1) WO2001064630A1 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000031491A (ko) * 1998-11-06 2000-06-05 구상호 폴리엔 사슬 구조 함유 화합물 및 그 제조방법
KR100400261B1 (ko) * 2001-01-03 2003-10-01 구상호 콘쥬게이트 폴리엔을 함유하는 알릴릭 설폰, 그의 제조방법, 및 상기 화합물을 중간체로 이용한 라이코펜의 제조방법
CN1464876A (zh) * 2001-02-06 2003-12-31 住友化学工业株式会社 新型砜衍生物及其制备方法
WO2003037854A1 (en) * 2001-10-31 2003-05-08 Sk Corporation Method of preparing 4-chloro-3-methyl-2-butenylphenyl sulfide, di(4-chloro-3-methyl-2-butenyl)sulfide and di(4-chloro-3-methyl-2-butenyl)sulfone for synthesis of natural carotenoid products
KR100524257B1 (ko) * 2002-02-19 2005-10-28 구상호 테프레논의 실용적인 합성 방법
CN102746201B (zh) * 2012-07-04 2013-11-06 广州市博兴化工科技有限公司 一种含有甲基亚砜结构的化合物及其制备方法和应用
CN102924246B (zh) * 2012-11-08 2014-06-04 绍兴文理学院 一种2,6,10-三甲基- 2,5,9-十一烷三烯-1-醛的制备方法
CN114292218B (zh) * 2022-01-06 2023-01-13 万华化学集团股份有限公司 一种以VA的C20磷盐为原料合成β-胡萝卜素的方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE794873A (fr) * 1972-02-02 1973-08-01 Rhone Poulenc Sa Nouvelles sulfones a enchainement dimethyl-1,6 hexadien-1,5 ylene
DE2505869C3 (de) * 1975-02-12 1978-05-18 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von symmetrischen Carotinoiden
US4883887A (en) * 1987-07-09 1989-11-28 Hoffmann-La Roche Inc. Sulfone polyene intermediates

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004500387A (ja) 2004-01-08
CN1452612A (zh) 2003-10-29
AU2001220245A1 (en) 2001-09-12
JP3975434B2 (ja) 2007-09-12
EP1283826A1 (en) 2003-02-19
DE60038464T2 (de) 2009-04-02
WO2001064630A1 (en) 2001-09-07
US6747166B2 (en) 2004-06-08
DE60038464D1 (de) 2008-05-08
EP1283826A4 (en) 2005-11-23
KR20010086682A (ko) 2001-09-15
EP1283826B1 (en) 2008-03-26
CN100347155C (zh) 2007-11-07
ATE390409T1 (de) 2008-04-15
US20030100785A1 (en) 2003-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100365696B1 (ko) 카로틴계 폴리엔 사슬 구조 화합물의 제조방법
KR100400262B1 (ko) 폴리엔 사슬 구조 함유 화합물 및 그 제조방법
JP4903774B2 (ja) 天然カロチノイド生成物の合成のための４−クロロ−３−メチル−２−ブテニルフェニルサルファイド、ジ（４−クロロ−３−メチル−２−ブテニル）サルファイドおよびジ（４−クロロ−３−メチル−２−ブテニル）スルホンの調製方法
US7470822B2 (en) C10 dialdehyde, synthetic method thereof, and synthetic method of beta-carotene using the same
KR100398652B1 (ko) 알릴릭 설파이드의 탄소 체인 확장방법
US8158838B2 (en) Diadehyde compound, preparation method thereof, and synthetic method of carotenoids using the same
KR100477899B1 (ko) 레티놀 및 카로틴 화합물의 실용적인 합성방법
KR100400261B1 (ko) 콘쥬게이트 폴리엔을 함유하는 알릴릭 설폰, 그의 제조방법, 및 상기 화합물을 중간체로 이용한 라이코펜의 제조방법
KR100424735B1 (ko) 레티놀 산과 그 유도체의 효율적인 제조 방법
JPH0723356B2 (ja) ４，４―ジスルホニルブタン酸エステル類の製造法
JPH05221955A (ja) スルホン誘導体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
A107 Divisional application of patent
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20081121

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee