JPH05221955A - スルホン誘導体の製造方法 - Google Patents
スルホン誘導体の製造方法Info
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- JPH05221955A JPH05221955A JP2932792A JP2932792A JPH05221955A JP H05221955 A JPH05221955 A JP H05221955A JP 2932792 A JP2932792 A JP 2932792A JP 2932792 A JP2932792 A JP 2932792A JP H05221955 A JPH05221955 A JP H05221955A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 次の式(Ｉ)または(II)
【化１】
で示されるフェニルスルホン誘導体の新規な製造方法を
提供する。 【構成】 次の式(III)または(IV) 【化２】 の化合物を脱水反応に付して次の式(Ｖ)または(VI) 【化３】 の化合物とし、次いで水素添加を行うか、次の式(VII)
または(VIII) 【化４】 をトシルクロライドと処理して式(VII)または(VIII)の
化合物のトシレートとし、この化合物のトシルオキシ基
をフェニルチオ基に変換し、得られた化合物を酸化剤で
処理してフェニルチオ基をフェニルスルホニル基に変換
することからなる。
提供する。 【構成】 次の式(III)または(IV) 【化２】 の化合物を脱水反応に付して次の式(Ｖ)または(VI) 【化３】 の化合物とし、次いで水素添加を行うか、次の式(VII)
または(VIII) 【化４】 をトシルクロライドと処理して式(VII)または(VIII)の
化合物のトシレートとし、この化合物のトシルオキシ基
をフェニルチオ基に変換し、得られた化合物を酸化剤で
処理してフェニルチオ基をフェニルスルホニル基に変換
することからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は植物ホルモンであるブラ
シノライド、あるいは医薬品であるビタミンＤおよび活
性型ビタミンＤ誘導体の合成中間体の製造方法に関す
る。
シノライド、あるいは医薬品であるビタミンＤおよび活
性型ビタミンＤ誘導体の合成中間体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】式(Ｉ)または(II)で示されるスルホン誘
導体はブラシノライド類の側鎖合成（K. Mori, Tetrahe
dron, 38, 2099(1982), スキームＩ参照）やビタミンＤ
の側鎖合成（P.J. Kocienski, J. Chem. Soc., Perkin
1, 1978, 834, スキームII参照）に用いられている。ま
た、P. Ferrabochi らはＳ−(−)−３−メチル−γ−ブ
チロラクトンより(Ｉ)を合成しており（Synth. Commu
n., 13, 1199(1984), スキームIII参照）、Y. Gooni ら
はスルホレン誘導体を用いて本発明の中間体((Ｖ)およ
び(VI))(ラセミ体）を得ている（J. Org. Chem., 50, 2
493(1985)，スキームIV参照）。また、DeLuca らはキラ
ルなスルフィネートエステルを用いる(I)および(II)の
誘導体の合成を報告している（J. Chem. Soc., Chem. C
ommun., 1989, 1113)。
導体はブラシノライド類の側鎖合成（K. Mori, Tetrahe
dron, 38, 2099(1982), スキームＩ参照）やビタミンＤ
の側鎖合成（P.J. Kocienski, J. Chem. Soc., Perkin
1, 1978, 834, スキームII参照）に用いられている。ま
た、P. Ferrabochi らはＳ−(−)−３−メチル−γ−ブ
チロラクトンより(Ｉ)を合成しており（Synth. Commu
n., 13, 1199(1984), スキームIII参照）、Y. Gooni ら
はスルホレン誘導体を用いて本発明の中間体((Ｖ)およ
び(VI))(ラセミ体）を得ている（J. Org. Chem., 50, 2
493(1985)，スキームIV参照）。また、DeLuca らはキラ
ルなスルフィネートエステルを用いる(I)および(II)の
誘導体の合成を報告している（J. Chem. Soc., Chem. C
ommun., 1989, 1113)。
【０００３】
【化７】
【０００４】しかしいずれの合成法も特殊な試薬を用い
ており、かつ立体選択性および収率上必ずしも満足でき
るものではない。
ており、かつ立体選択性および収率上必ずしも満足でき
るものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は式(Ｉ)または
(II)で示されるスルホン誘導体の簡便な合成法を提供す
ることを目的とする。
(II)で示されるスルホン誘導体の簡便な合成法を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、次の式(Ｉ)または(II)
重ねた結果、次の式(Ｉ)または(II)
【化８】 で示されるフェニルスルホン誘導体が以下に記載する方
法によって容易に製造できることを見出した。
法によって容易に製造できることを見出した。
【０００７】すなわち、 （１） (Ｒ)−または(Ｓ)−３−ヒドロキシ−メチルプ
ロピオネートより数工程で得られる式(III)または(IV)
で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−
フェニルスルホニル−２−ブタノール（Y. Tachibana,
Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 3132(1989))
ロピオネートより数工程で得られる式(III)または(IV)
で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−
フェニルスルホニル−２−ブタノール（Y. Tachibana,
Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 3132(1989))
【化９】 を塩基の存在下メタンスルホニルクロライドと反応させ
て式(Ｖ)または(VI)
て式(Ｖ)または(VI)
【化１０】 で示される化合物とし、ついでこの式(Ｖ)または(VI)の
化合物に水素添加を行うか、または
化合物に水素添加を行うか、または
【０００８】（２） 次の式(VII)または(VIII)
【化１１】 で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジメチルブタノ
ールを塩基の存在下にトシルクロライドと処理して次の
式(IX)または(Ｘ)
ールを塩基の存在下にトシルクロライドと処理して次の
式(IX)または(Ｘ)
【化１２】 で示される化合物とし、次いでこの化合物をカリウムｔ
−ブトキシドの存在下にチオフェノールと反応させて式
(XI)または(XII)
−ブトキシドの存在下にチオフェノールと反応させて式
(XI)または(XII)
【化１３】 で示される化合物とし、次いでこの化合物を酸化剤で処
理して酸化することによって式(Ｉ)または(II)で示され
る化合物が容易にかつ高収率で得られることを見出して
本発明を完成した。
理して酸化することによって式(Ｉ)または(II)で示され
る化合物が容易にかつ高収率で得られることを見出して
本発明を完成した。
【０００９】上記した(１)の方法による式(III)または
式(IV)の化合物の脱水処理としては、直接例えば硫酸の
ような脱水剤と反応させても良いが、一旦水酸基を例え
ばオキシ塩化リンのようなオキシハロゲン化リン、チオ
ニルクロライドのようなチオニルハライド等のハロゲン
化剤でハロゲンに変換するか、あるいはメタンスルホニ
ルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライドのよ
うな置換スルホニルハライドで活性エステル化した後に
塩基と反応させることによって脱水することも出来る。
通常、塩基の存在下にハロゲン化剤或いはエステル化剤
を反応させ一工程で実施することが好ましい。式(III)
または式(IV)の化合物とメタンスルホニルクロライドと
の反応は、有機溶媒中塩基としてのピリジン、トリエチ
ルアミンなどの存在下で行うことができる。また、これ
らの塩基を溶媒として用いても良い。メタンスルホニル
クロライドは式(III)または(IV)の化合物に対して１〜
１０倍当量を用いることができる。反応は０°〜室温で
容易に進行する。この反応におけるメタンスルホニルク
ロライドの代わりにオキシ塩化リン、チオニルクロライ
ドを用いることもできる。
式(IV)の化合物の脱水処理としては、直接例えば硫酸の
ような脱水剤と反応させても良いが、一旦水酸基を例え
ばオキシ塩化リンのようなオキシハロゲン化リン、チオ
ニルクロライドのようなチオニルハライド等のハロゲン
化剤でハロゲンに変換するか、あるいはメタンスルホニ
ルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライドのよ
うな置換スルホニルハライドで活性エステル化した後に
塩基と反応させることによって脱水することも出来る。
通常、塩基の存在下にハロゲン化剤或いはエステル化剤
を反応させ一工程で実施することが好ましい。式(III)
または式(IV)の化合物とメタンスルホニルクロライドと
の反応は、有機溶媒中塩基としてのピリジン、トリエチ
ルアミンなどの存在下で行うことができる。また、これ
らの塩基を溶媒として用いても良い。メタンスルホニル
クロライドは式(III)または(IV)の化合物に対して１〜
１０倍当量を用いることができる。反応は０°〜室温で
容易に進行する。この反応におけるメタンスルホニルク
ロライドの代わりにオキシ塩化リン、チオニルクロライ
ドを用いることもできる。
【００１０】次に式(Ｖ)または(VI)の化合物に水素添加
を行い目的化合物である式(Ｉ)および(II)で示されるス
ルホン誘導体を得ることができる。水素添加はパラジウ
ム−炭素、酸化白金等慣用の触媒を式(Ｖ)または(VI)の
化合物に対して０.５〜１５％（重量比）用いて行うこ
とができる。水素圧は１〜１０気圧で反応は進行し、反
応温度は０°〜室温で行うことができる。
を行い目的化合物である式(Ｉ)および(II)で示されるス
ルホン誘導体を得ることができる。水素添加はパラジウ
ム−炭素、酸化白金等慣用の触媒を式(Ｖ)または(VI)の
化合物に対して０.５〜１５％（重量比）用いて行うこ
とができる。水素圧は１〜１０気圧で反応は進行し、反
応温度は０°〜室温で行うことができる。
【００１１】化合物(III)および(IV)をメタンスルホニ
ルクロライドと処理した場合５〜１０％の式(XIII)
ルクロライドと処理した場合５〜１０％の式(XIII)
【化１４】 で示されるオレフィンが副生する。しかし式（XIII)の
化合物は反応混合物より選択的に結晶として除くことが
できるし、さらに上記の水素還元条件下では全く還元さ
れないことがわかった。従って式(Ｉ)または(II)の化合
物に式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物が混入して
も水素還元後、反応混合物をｍ−クロロ過安息香酸（ｍ
−ＣＰＢＡ）等の酸化剤またはオゾンと処理すれば式
(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物はエポキシ化合物
或いはケトン化合物に変換することができる。生成した
エポキシ化合物、ケトン化合物は式(Ｉ)または(II)の化
合物と容易に例えばクロマトグラフィー等により分離す
ることができる。すなわち式(Ｉ)または(II)の化合物と
式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物との分離は容易
に達成することができる。
化合物は反応混合物より選択的に結晶として除くことが
できるし、さらに上記の水素還元条件下では全く還元さ
れないことがわかった。従って式(Ｉ)または(II)の化合
物に式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物が混入して
も水素還元後、反応混合物をｍ−クロロ過安息香酸（ｍ
−ＣＰＢＡ）等の酸化剤またはオゾンと処理すれば式
(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物はエポキシ化合物
或いはケトン化合物に変換することができる。生成した
エポキシ化合物、ケトン化合物は式(Ｉ)または(II)の化
合物と容易に例えばクロマトグラフィー等により分離す
ることができる。すなわち式(Ｉ)または(II)の化合物と
式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物との分離は容易
に達成することができる。
【００１２】上記した(１)の反応工程による方法を具体
的な反応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキ
ームＶで示される。
的な反応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキ
ームＶで示される。
【００１３】
【化１５】
【００１４】また上記した(２)の方法による式(Ｉ)また
は式(II)で示される目的化合物の合成については、例え
ばエルゴステロールのオゾン酸化、還元によって生成す
る式(VIII)（K. Tsuda, J. Amer. Chem. Soc., 82, 339
6(1960)）
は式(II)で示される目的化合物の合成については、例え
ばエルゴステロールのオゾン酸化、還元によって生成す
る式(VIII)（K. Tsuda, J. Amer. Chem. Soc., 82, 339
6(1960)）
【化１６】 で示される(Ｒ)−２,３−ジメチルブタノールをピリジ
ン等の塩基の存在下にトシルクロライドと反応させて式
(IX)
ン等の塩基の存在下にトシルクロライドと反応させて式
(IX)
【化１７】 で示される化合物とし、これをｔ−ＢｕＯＫの存在下に
チオフェノールと反応させて式(XI)および(XII)
チオフェノールと反応させて式(XI)および(XII)
【化１８】 で示される化合物とし、これを常法に従って酸化剤で酸
化することによって得ることができる。ここで用いられ
る酸化剤としては、過酸化水素、過酸例えば過酢酸、過
安息香酸など、重クロム酸アルカリ例えば重クロム酸カ
リウム、過マンガン酸アルカリ例えば過マンガン酸カリ
ウムその他が挙げられる。
化することによって得ることができる。ここで用いられ
る酸化剤としては、過酸化水素、過酸例えば過酢酸、過
安息香酸など、重クロム酸アルカリ例えば重クロム酸カ
リウム、過マンガン酸アルカリ例えば過マンガン酸カリ
ウムその他が挙げられる。
【００１５】上記した(２)の反応工程による方法を具体
的な反応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキ
ームVIで示される。
的な反応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキ
ームVIで示される。
【００１６】
【化１９】
【００１７】上記した本発明の方法で得られた式(Ｉ）
および(II)で示される化合物はブラシノライド類、ビタ
ミンＤ類（ビタミンＤ4、ビタミンＤ7）および活性型ビ
タミンＤ類の側鎖部合成のための中間体として極めて有
用な化合物である。
および(II)で示される化合物はブラシノライド類、ビタ
ミンＤ類（ビタミンＤ4、ビタミンＤ7）および活性型ビ
タミンＤ類の側鎖部合成のための中間体として極めて有
用な化合物である。
【００１８】以下、実施例によって本発明を具体的に記
述することにするが、これらの実施例は本発明を例示す
る目的で記述するものであって、本発明はこれらに限定
されるものではない。
述することにするが、これらの実施例は本発明を例示す
る目的で記述するものであって、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【００１９】実施例１ (Ｓ)−２,３−ジメチル−１−フェニルスルホニルブタ
ン（Ｉ）の製造 (Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(III)（４.８ｇ）をピリジン（４５ml）に
溶かしジメチルアミノピリジン０.３ｇおよびメタンス
ルホニルクロライド（４.０ｇ）を加え、室温で２０時
間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出
し、１０％塩酸次いでブラインで洗浄し、乾燥後濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブテン（Ｖ）と２,３−ジメチル−１−フェニルスル
ホニル−２−ブテン（XIII）の混合物３.３ｇを得た。
この混合物をヘキサン−ＩＰＥに溶解し冷却すると０.
３ｇの化合物（XIII）が針状結晶として得られた。母液
からは化合物(Ｖ)が３.０ｇ得られた。
ン（Ｉ）の製造 (Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(III)（４.８ｇ）をピリジン（４５ml）に
溶かしジメチルアミノピリジン０.３ｇおよびメタンス
ルホニルクロライド（４.０ｇ）を加え、室温で２０時
間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出
し、１０％塩酸次いでブラインで洗浄し、乾燥後濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブテン（Ｖ）と２,３−ジメチル−１−フェニルスル
ホニル−２−ブテン（XIII）の混合物３.３ｇを得た。
この混合物をヘキサン−ＩＰＥに溶解し冷却すると０.
３ｇの化合物（XIII）が針状結晶として得られた。母液
からは化合物(Ｖ)が３.０ｇ得られた。
【００２０】化合物Ｖ：1H NMR(CDCl3)：δ 1.20(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.62(3H, s)、 2.77(1H, m)、 3.05(1H, d
d, J=14.2Hzおよび7.9Hz)、 3.23(1H, dd, J=14.2Hzおよ
び4.9Hz)、 4.70(1H, s)、 4.71(1H, s)、 7.53-7.93(5H,
m)。
d, J=6.8Hz)、 1.62(3H, s)、 2.77(1H, m)、 3.05(1H, d
d, J=14.2Hzおよび7.9Hz)、 3.23(1H, dd, J=14.2Hzおよ
び4.9Hz)、 4.70(1H, s)、 4.71(1H, s)、 7.53-7.93(5H,
m)。
【００２１】化合物XIII：融点９７〜９８℃；1H NMR(C
DCl3)：δ 1.28(3H, s)、 1.63(3H,s)、 1.78(3H, s)、 3.
87(3H, s)、 7.52-7.90(5H, m)。
DCl3)：δ 1.28(3H, s)、 1.63(3H,s)、 1.78(3H, s)、 3.
87(3H, s)、 7.52-7.90(5H, m)。
【００２２】化合物(Ｖ)（３.０ｇ）をエタノール（１
５０ml）に溶かしパラジウム−炭素０.３ｇを加え常圧
で接触水素添加を１８時間行った。触媒を濾過して除き
エタノールを留去し、残留物（２.７ｇ）を塩化メチレ
ン（３０ml）に溶解し、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２４時間反応させた。炭酸カリウム水溶液に次
いでブラインで洗浄した後溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(Ｉ)を２.
３ｇ得た。
５０ml）に溶かしパラジウム−炭素０.３ｇを加え常圧
で接触水素添加を１８時間行った。触媒を濾過して除き
エタノールを留去し、残留物（２.７ｇ）を塩化メチレ
ン（３０ml）に溶解し、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２４時間反応させた。炭酸カリウム水溶液に次
いでブラインで洗浄した後溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(Ｉ)を２.
３ｇ得た。
【００２３】〔α〕20 D ＋１９.１°（ｃ＝１.０，クロ
ロホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.3Hz)、 1.68(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.88(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.09
(1H, dd, J=13.7Hzおよび2.9Hz)、 7.56-7.93(5H, m)。
ロホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.3Hz)、 1.68(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.88(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.09
(1H, dd, J=13.7Hzおよび2.9Hz)、 7.56-7.93(5H, m)。
【００２４】実施例２ (Ｒ)−２,３−ジメチル−１−フェニルスルホニルブタ
ン（II）の製造 (Ｒ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(IV)（５.０ｇ）をピリジン（５０ml）に
溶かし、氷冷下オキシ塩化リン（２.０ml）を加え、０
〜５℃で６時間撹拌した。１０％塩酸を加え酸性にした
後酢酸エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液に次いで
ブラインで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーを行い、化合物(VI)（約７％の化合物
(XIII)を含む）を３.７ｇ得た。
ン（II）の製造 (Ｒ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(IV)（５.０ｇ）をピリジン（５０ml）に
溶かし、氷冷下オキシ塩化リン（２.０ml）を加え、０
〜５℃で６時間撹拌した。１０％塩酸を加え酸性にした
後酢酸エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液に次いで
ブラインで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーを行い、化合物(VI)（約７％の化合物
(XIII)を含む）を３.７ｇ得た。
【００２５】化合物(VI)（３.７ｇ）をエタノール（２
００ml）に溶かし、パラジウム−炭素（０.３ｇ）を加
え常圧で接触水素添加を２０時間行った。触媒を濾過し
て除き触媒を留去し、残留物（３.４ｇ）を塩化メチレ
ン（５０ml）に溶かし、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２０時間撹拌した。炭酸カリウム水溶液に次い
でブラインで洗浄した後溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(II)を２.５ｇ
得た。
００ml）に溶かし、パラジウム−炭素（０.３ｇ）を加
え常圧で接触水素添加を２０時間行った。触媒を濾過し
て除き触媒を留去し、残留物（３.４ｇ）を塩化メチレ
ン（５０ml）に溶かし、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２０時間撹拌した。炭酸カリウム水溶液に次い
でブラインで洗浄した後溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(II)を２.５ｇ
得た。
【００２６】〔α〕20 D −１９.６°（ｃ＝１，クロロ
ホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.1Hz)、 1.67(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.91(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.10
(1H, dd, J=13.8Hzおよび3.0Hz)、 7.55-8.00(5H, m)。
ホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.1Hz)、 1.67(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.91(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.10
(1H, dd, J=13.8Hzおよび3.0Hz)、 7.55-8.00(5H, m)。
【００２７】実施例３ (Ｒ)−２,３−ジメチル−１−フェニルスルホニルブタ
ン（II）の製造 化合物(VIII)（１２.０ｇ）をピリジン（４０ml）に溶
解し、トシルクロライド（２７.０ｇ）を加え、氷冷下
２時間反応させた。反応混合物を１０％塩酸を加え酢酸
エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液次いでブライン
で洗浄した後乾燥、濃縮し(Ｒ)−２,３−ジメチルブチ
ルｐ−トルエンスルホナート（Ｘ）を３３.０ｇ得た。
ン（II）の製造 化合物(VIII)（１２.０ｇ）をピリジン（４０ml）に溶
解し、トシルクロライド（２７.０ｇ）を加え、氷冷下
２時間反応させた。反応混合物を１０％塩酸を加え酢酸
エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液次いでブライン
で洗浄した後乾燥、濃縮し(Ｒ)−２,３−ジメチルブチ
ルｐ−トルエンスルホナート（Ｘ）を３３.０ｇ得た。
【００２８】化合物(Ｘ)：1H NMR(CDCl3)：δ 0.76(3H,
d, J=6.3Hz)、 0.82(3H, d, J=4.9Hz)、 0.84(3H, d, J=
4.9Hz)、 1.66(1H, m)、 2.45(3H, s)、 3.85(1H, dd, J=
9.3Hzおよび6.3Hz)、 3.94(1H, dd, J=9.5Hzおよび5.6H
z)、 7.30-7.91(4H, m)。
d, J=6.3Hz)、 0.82(3H, d, J=4.9Hz)、 0.84(3H, d, J=
4.9Hz)、 1.66(1H, m)、 2.45(3H, s)、 3.85(1H, dd, J=
9.3Hzおよび6.3Hz)、 3.94(1H, dd, J=9.5Hzおよび5.6H
z)、 7.30-7.91(4H, m)。
【００２９】カリウムｔ−ブトキシド（１４.０ｇ）を
含むＤＭＦ（５０ml）溶液にチオフェノール（１２ml）
を冷却しながら滴下した。次いで化合物(Ｘ)（３３.０
ｇ）のＤＭＦ溶液（１５ml）を滴下しそのまま室温で終
夜撹拌した。
含むＤＭＦ（５０ml）溶液にチオフェノール（１２ml）
を冷却しながら滴下した。次いで化合物(Ｘ)（３３.０
ｇ）のＤＭＦ溶液（１５ml）を滴下しそのまま室温で終
夜撹拌した。
【００３０】一方、ＷＯ3（０.２ｇ）に水（６０ml）を
加え、次いで水酸化ナトリウム（１.５ｇ）、さらに酢
酸（２.５ml）を加えて調製した溶液を８０℃に加温
し、上記ＤＭＦ溶液に加えた。次いで同温度で３０％過
酸化水素（７５ml）を１時間かけて滴下した。冷却後、
酢酸エチルで抽出し、Ｎａ2Ｓ2Ｏ３水溶液、次いでブラ
インで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製
し、化合物(II)を２３.５ｇ得た。
加え、次いで水酸化ナトリウム（１.５ｇ）、さらに酢
酸（２.５ml）を加えて調製した溶液を８０℃に加温
し、上記ＤＭＦ溶液に加えた。次いで同温度で３０％過
酸化水素（７５ml）を１時間かけて滴下した。冷却後、
酢酸エチルで抽出し、Ｎａ2Ｓ2Ｏ３水溶液、次いでブラ
インで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製
し、化合物(II)を２３.５ｇ得た。
Claims (1)
- 【請求項１】 次の式(Ｉ)または(II) 【化１】 で示されるフェニルスルホン誘導体を製造するにあた
り、（１） 次の式(III)または(IV) 【化２】 で示されるフェニルスルホニルアルコール誘導体を脱水
して次の式(Ｖ)または(VI) 【化３】 で示される化合物とし次いで水素添加を行うか、または
（２） 次の式(VII)または(VIII) 【化４】 で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジメチルブタノ
ールを塩基の存在下にトシルクロライドと処理して次の
式(IX)または(Ｘ) 【化５】 で示される化合物とし、次いでこの化合物をカリウムｔ
−ブトキシドの存在下にチオフェノールと反応させて式
(XI)または(XII) 【化６】 で示される化合物とし、次いでこの化合物を酸化剤で処
理して酸化することによる上記化合物(Ｉ)および(II)の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02932792A JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02932792A JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221955A true JPH05221955A (ja) | 1993-08-31 |
| JP3256259B2 JP3256259B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=12273140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02932792A Expired - Fee Related JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3256259B2 (ja) |
-
1992
- 1992-02-17 JP JP02932792A patent/JP3256259B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3256259B2 (ja) | 2002-02-12 |
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