KR100348543B1 - 피복된절삭공구 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 칩 형성 기계용 CVD-피복된 초경합금 공구에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 확산 방지제로서 작용하여 피복 구조체 및 후속층의 피복 접착에 영향을 미치는 중간층을 구비한 피복체에 관한 것이다.
Description
본 발명은 내마모성이 아주 큰 얇은 표면층으로 피복된 소결 초경합금(cemented carbide) 본체에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 카바이드층, 나이트라이드층 및/또는 카보나이트라이드층 사이에 증착된 얇은 산소 함유층이 피복체의 특성을 향상시키는 피복된 초경합금 본체에 관한 것이다.
피복된 절삭 공구 삽입체는 철 및 철계 합금을 기계 가공하기 위해 금속 가공 업계에서 널리 사용되고 있다. 카바이드, 나이트라이드 또는 카보나이트라이드, 및 산화물 피복에 의해 이러한 공구들의 공구 수명을 증가시키는 방법은 잘 확립된 기술이다. 절삭 삽입체는 통상 티타늄 또는 관련 금속의 카바이드, 나이트라이드 및 카보나이트라이드로 구성된 층으로 피복된다. 많은 경우에 이러한 피복은 하나 이상의 알루미나층을 포함하고 있으며, 이 피복 재료는 통상 사용되는 화학 기상증착(CVD)에 의해 초경합금 기층 상에 직접 용이하게 증착될 수 없다. 현재는 Al2O3의 증착 이전에 예컨대 티타늄의 카바이드층, 카보나이트라이드층 및/또는 나이트라이드층을 증착시키는 것이 일반적이다.
초경합금 기층이 800 내지 1200 ℃의 온도로 CVD 공정에 의해 카바이드, 나이트라이드 및 카보나이트라이드의 내마모성 피복으로 피복될 때, 기층의 조성물, 예컨대 텅스텐, 코발트 및 탄소는 열확산되어 피복이 성장하고 결정 성장 방향, 미세 조직 및 피복물 부착성 등에 영향을 준다. 결국, 상기 피복의 물리적, 화학적 및 기계적 특성은 기층으로부터의 확산종(diffused species)의 존재 여부에 따라 영향을 받게 된다.
미국 특허 제5,135,801호는 (기층에서 가장 가까운) 최내측 산소 함유층을 구비한 피복된 초경합금 본체에 대해 개시하고 있다. 상기 발명의 목적은 상기 산소 함유층, 예컨대 TiCO를 초경합금 기층 상에 직접 피복함으로써 기층 표면의 탈탄화(decarburization)를 최소화시키기 위해 피복으로의 탄소 확산을 억제하는 것이다.
그러나, 본 발명은 기층 상에 직접 인가되는 TiCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층과 TiCO층의 상부 상에 인가되는 TiCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)의 추가층 사이의 중간층으로서 얇은 TiCO층을 인가함으로써 기층으로부터 피복으로의 소정의 물질 확산을 억제하는 방법을 개시하고 있다. 이 중간층은 연속층으로 구성될 수도 있다. 더욱이, 상기 언급한 카보나이트라이드층, 카보옥사이드층 및 카보나이트라이드층의 조합층의 상부에 추가층, 예컨대 Al2O3층 또는 금속 카바이드층 및/또는 나이트라이드층이 증착될 수 있다.
놀랍게도, TiCO 또는 TiCON의 중간층이 기층으로부터 피복으로의 Co 및 W 확산을 특히 효과적으로 억제하고, 상기 피복의 미세 조직 및 화학적 특성에 강한 영항을 끼치고, 그 결과 예컨대 피복된 절삭 공구의 내마모성을 현저히 향상시킨다는 것을 알 수 있었다. 더욱이, Co 확산의 억제는 층의 계면에서 Co를 풍부하게 하는 역효과를 감소시킴으로써 개재된 피복물 조합의 인접층들 사이의 부착성을 향상시킨다.
제1도는 본 발명에 따른 피복부의 연마 및 에칭된 단면의 1600배 확대도로, A는 초경합금이고, B는 제1 층(TiCN)이고, C는 제2 층(TiCO)이고, D는 제3 층(TiCN)이고, 그리고 E는 제4 층(Al2O3)이다.
제2도는 제1도에서와 동일한 지점의 피복부 파면의 4000배 확대도이다.
본 발명에 따르면, 3개의 연속층을 포함하는 피복을 구비한 초경합금 본체를 구비한다. 여기서, Met는 Ti, Zr, Hf, V, Nb 또는 Ta이다.
1. 초경합금 본체 상에 직접 인가되는 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층.
제1 층은 다수의 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)의 층으로 구성될 수 있다. 양호하게는, 이 제1 층은 TiC로 구성될 수 있다, 제1 층의 두께는 1 ㎛보다는 크고 5 ㎛보다는 작으며, 양호하게는 1.5 내지 3.0 ㎛이다. 제1 층의 최소 두께는 초경합금 본체 상에 존재하는 표면 결합제 상(surface binder phase)이 증착되기 이전에 제거된다면 0.5 ㎛로 감소될 수 있다. 결합제 상은 블라스팅 방법(blasting)에 의해 제거될 수 있으나, 국제특허공개 제W092/2084)호에 따르면 양호하게는 전해법(electrolytic method)이 좋다.
2. MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층에 직접 인가되는 MetCxOyNz인 제2 층.
이 층의 두께는 0.1 내지 5.0 ㎛이고, 양호하게는 0.2 내지 1.0 ㎛이다. MetCxOyNz의 조성은 0.7 ≤ x+y+z ≤ 1.3 및 0.2 < y < 0.8이고, 양호하게는 0.4 < y < 0.6 이다. 양호하게는, Met는 Ti이고 z = 0이다.
3. MetCxOyNz의 층에 직접 인가되는 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제3 층.
내마모성의 상기 제3 층의 두께는 1 내지 20 ㎛이고, 양호하게는 5 내지 12㎛이다. 제3 층은 0.05 ≤ x ≤ 0.95인, 양호하게는 0.3 ≤ x ≤ 0.7인 TiCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)로 구성되는 것이 바람직하다. 선행 기술에 따른 TiCN층에 비해, 본 발명의 TiCN층은 예컨대 절삭 공구에 인가될 때 우수한 내마모성을 보여주고 있으며, 이것은 아마도 상기 제3 층의 양호한 결정 배치에 기인한 것이다. 양호하게는, 본 발명에 따른 상기 TiCN층은 [X선 회절(XRD) 측정에 의해 결정되는] (220) 방향으로의 우수한 결정 성장 방향을 갖는다. 조직 계수(TC)는 다음과 같이 정의될 수 있다.
단, 1(hkl)은 (hkl) 반사의 측정 강도이고, Io(hkl)은 ASTM 표준 분말 패턴회절 데이터의 표준 강도이고, n은 계산에 사용된 반사 회수이고, 사용된 (hkl) 반사 방향은 (111), (200), (220)이다.
본 발명에 따르면, (220) 결정 평면에 대한 TC는 1.3보다 크고, 양호하게는 1.5보다 크며, 가장 양호하게는 1.8보다 크다.
카보나이트라이드층, 카보옥사이드층 및 카보나이트라이드층의 전술한 조합층의 상부에는 추가층 예컨대 Al2O3층 및/또는 다양한 금속 카바이드층 및/또는 나이트라이드층이 증착될 수 있다. 양호하게는, 상기 층은 스웨덴 특허 출원 제 9203852-0호에 따른 미립 α -알루미나의 최외곽층과 이 알루미나층이 예컨대 블라스팅 방법을 이용함으로써 평탄화한 후 증착되는 얇은 TiN층을 포함한다.
본 발명에 따른 피복은, 입방 상(cubic phase)이 Ti, Ta 및/또는 Nb의 카바이드 또는 카보나이트라이드를 포함하는 경우 WC-입방 카바이드-Co 조성뿐만 아니라 직선형 WC-Co 조성계 초경합금 본체에 적용될 수 있다. 또한, 스웨덴 특허 출원 제9203851-2호 및 제9200530-5호에 따르면 결합제 상이 풍부한 표면 지대를 갖는 소위 구배형 소결 초경합금(gradient sintered cemented carbide)에 적용될 수 있다.
또한, 본 발명은 다음의 층들을 구비한 피복을 갖는 초경합금 기층을 포함하는 본체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
1. 기층에 인접한 MetCxN1-x( 0≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층. 금속 Met는 금속 Ti, Zr, Hf, V, Ta 및 Nb의 그룹으로부터 선택되고, 기층은 5 내지1050 mbar, 양호하게는 30 내지 100 mbar의 공정 압력으로 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속 중 하나 이상의 할로겐 화합물과 접촉되어 카바이드, 나이트라이드 또는 카보나이트라이드를 형성한다.
2. 제1 층에 직접 인가되는 MetCxOyNz인 제2 층, 5 내지 1050 mbar, 양호하게는 30 내지 100 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 일산화탄소를 함유하는 기체와 전술한 금속 중 하나 이상의 할로겐 화합물 내에서 증착되어 옥시카바이드 또는 옥시니트로카바이드를 형성한다.
3. 제2 층에 직접 인가되는 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제3 층. 5 내지 1050 mbar, 양호하게는 200 내지 600 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속의 하나 이상의 할로겐 화합물 내에서 증착되어 카보나이트라이드를 형성한다.
양호한 실시예에 있어서, 외측의 알루미나층은 수소 및 이산화탄소를 함유한 기체와 알루미늄 할로겐 화합물로 증착시킴으로써 부착된다. 양호하게는, 이 알루미나층은 수소 및 이산화탄소를 함유한 기체와 알루미늄 할로겐 화합물로 증착된 α -알루미나층이다.
가장 양호하게는, 최외곽 TiN층은 수소, 질소 및 티타늄 할로겐 화합물을 함유한 기체로 증기 증착시킴으로써 알루미나층의 상부에 부착된다.
CVD 증착 단계 중의 공정 온도는 800 내지 1200 ℃, 양호하게는 900 내지 1070 ℃의 범위일 수 있다. 상이한 공정 단계가 동일한 피복 장치 또는 분리 장치에서 수행될 수 있다. MetCxOyNz인 제2 층의 CVD 공정 단계 중에 산소 함유 기체의 선택에 따라, 질소 및 탄소 이외의 다른 원자, 예컨대 황, 텔루륨, 셀레늄, 인 및/ 또는 비소들이 상기 층 내에 나타날 수도 있다.
제1 및 제2 층은 반응성 마그네트론 스퍼터링, 이온 도금 또는 음극 아크 방전 증착과 같은 물리 기상 증착 방법(PVD)에 의해 선택적으로 증착될 수 있다.
실시예 1
Co가 5.5 %이고 입방 카바이드(TiC-TaC-NbC)가 8.6 %이고 나머지는 텅스텐 카바이드(WC)인 조성을 갖는 CNMG 120408 재질의 초경합금 절삭 삽입체는 (TiCl4가 4.0 %이고 CO가 7.0 %이고 HCl이 3.0 %이고 나머지는 H2인 공정 가스를 50 mbar의 압력 및 기층 온도 1000 ℃로) TiCO의 중간층을 증착하기 이전에 1시간 동안 TiC로 피복되었다. TiCO층의 증착 이후에, 내마모성 TiCN층이 400 mbar의 압력으로 4시간 동안 증착된 후 (스웨덴 특허 출원 제9203852-0호에 따른) 미립의 α -Al2O3층의 추가 증착이 6시간 동안 행해졌다(변형예 A).
변형예 A에 사용된 바와 같은 초경합금 절삭 삽입체는 상기와 같은 피복 공정의 이전에 추가의 전해 표면 세척 작업을 받았다(변형예 B).
변형예 A 및 변형예 B에 사용된 바와 같은 초경합금 절삭 삽입체는 또한 전술한 바와 동일한 CVD 공정으로 처리되었으나, TiCO인 제2 층을 제외하였다(변형예 C).
변형예 A, 변형예 B 및 변형예 C 모두는 피복 표면을 평탄하게 하기 위해150 메시(mesh)의 알루미나 그릿(grit)으로 습식 블라스팅되었고, 그 후에 얇은 TiN 피복으로 피복되었다. TiN의 최외곽층과 함께 상기 블라스팅 처리를 함으로써 사용된 절삭날의 식별을 용이하게 하도록 삽입체는 밝고 빛나는 외관을 가진다.
피복된 삽입체는 η -상 층의 존재 여부, 상기 층의 두께(단위: ㎛), 피복 두께(단위 : ㎛), TiCN의 내마모성층의 (220) 성장 방향으로의 조직 계수(TC) 및 Al2O3층 내의 결정의 평균 입자 크기(단위: ㎛)에 대해 조사되었고, 그 결과는 다음과 같다.
A B C(종래 기술)
η -상 소량(traces) 없음 0.5
TiC 1.5 0.7 1.6
TiCO 0.4 0.4 --
TiCN 7.0 7.0 7.2
Al2O35.5 5.3 5.7
TiN 0.1 0.1 0.1
TiCN 조직 계수 2.0 1.9 1.2
Al2O3-층 입자 크기 1.9 1.7 1.7
실시예 2
Co가 5.5 %이고 입방 카바이드(TiC-TaC-NbC)가 8.6 %이고 나머지는 텅스텐 카바이드인 조성을 갖는 CNMG 120408 재질의 초경합금 절삭 삽입체는 (TiCl4가 4.0%이고 CO가 7.0 %이고 HCl이 3.0 %이고 N2가 25.0 %이고 나머지는 H2인 공정 가스를 50 mbar의 압력 및 기층 온도 1000 ℃로) TiCON의 산소 및 질소 함유 중간층을 증착하기 이전에 1.5시간 동안 TiC로 피복되었다 TiCON층의 증착 이후에, 내마모성 TiCN층이 600 mbar의 압력으로 4시간 동안 증착된 다음에 TiN층이 2시간 동안 증착되었다(변형예 D).
변형예 D에 사용된 바와 같은 초경합금 절삭 삽입체는 또한 전술한 바와 동일한 CVD 공정으로 처리되었으나, TiCON의 중간층을 제외하였다(변형예 E).
피복된 삽입체는 η -상태의 층의 존재 여부, 상기 층의 두께(단위: ㎛), 피복 두께(단위 : ㎛) 및 TiCN 내마모성층의 (220) 성장 방향으로의 조직 계수(TC)에 대해 조사되었고, 그 결과를 다음에 나타냈다.
D E(종래 기술)
η -상 1.1 1.7
TiC 1.9 2.1
TiCON 0.5 --
TiCN 8.2 8.5
TiN 1.6 1.4
TiCN 조직 계수 1.8 1.1
실시예 3
Co가 6.5 %이고 입방 카바이드(TiC-TaC-NbC)가 8.7 %이고 나머지는 텅스텐카바이드인 조성을 가지며 25 ㎛ 두께의 결합제 상이 풍부한 표면 영역을 구비한 CNMG 120408 재질의 초경합금 절삭 삽입체는 0.5시간 동안 TiC로 피복된 후 (TiCl4가 3.0 %이고 CO가 4.0 %이고 HCl이 4.0 %이고 나머지는 H2인 공정 가스를 100 mbar의 압력 및 기층 온도 1000 ℃로) TiCO 중간층을 증착하기 이전에 0.25시간 동안 TiCN으로 증착되었다. 상기 중간층의 증착 이후에, 내마모성 TiCN층이 200 mbar의 압력으로 4시간 동안 증착된 다음에, (스웨덴 특허 출원 제9203852-0호에 따른) 미립 α-Al2O3층이 1시간 동안 증착되고 상부 TiN층이 1시간 동안 증착되었다(변형예 F).
변형예 F에 사용되는 바와 같은 초경합금 절삭 삽입체는 또한 전술한 바와 같은 피복 공정의 이전에 추가의 전해 표면 세척 작동을 하여야 한다(변형예 G).
변형예 F 및 변형예 G로 사용되는 초경합금 절삭 삽입체는 전술한 바와 동일한 CVD 공정으로 처리되었으나, TiCO의 중간층을 제외하였다(변형예 H).
피복된 삽입체는 η -상 층의 존재 여부, 상기 층의 두께(단위 : ㎛), 피복 두께(단위: ㎛) 및 TiCN의 내마모성층의 (220) 성장 방향으로의 조직 계수(TC)에 대해 조사되었다.
F G H(종래 기술)
η -상 0.7 소량(traces) 1.0
TiC 1.2 0.8 1.4
TiCON 0.3 0.2 0.4
TiCO 0.4 0.4 --
TiCN 3.6 3.7 3.9
Al2O32.1 1.9 2.2
TiN 0.2 0.2 0.2
TiCN 조직 계수 1.7 1.6 1.1
실시예 4
변형예 A 내지 변형예 H의 피복된 절삭 삽입체는, 절삭날 변형이 발생될 때 0.7 mm/rev의 이송량 및 2.0 mm의 절삭 깊이로 합금강(AISI 4340)을 종축 방향으로 회전시키면서 그리고 절삭날이 상이한 정도의 소성 변형을 일으키도록 절삭 속도를 변화시키면서 피복을 박리시키는(flaking) 시험을 수행하였다. 그리고 나서, 상기 절삭날은 절삭날 손상(edge depression)으로서 측정되는 소성 변형에 대해 조사되었고, 상기 피복의 부수적인 박리 현상은 아래의 결과로써 평가되었다.
본 발명에 따른 삽입체 A, B, D, F 및 G는 최소 80 ㎛의 절삭날 손상이 생길떼에도 전혀 박리 현상을 보이지 않았다.
삽입체 C는 40 ㎛의 절삭날 손상이 발생할 때에 클리어런스 면에 피복의 과다한 손상이 이미 나타났다.
삽입체 E는 35 ㎛의 손상이 발생할 때에 클리어런스 면에 피복의 과다한 손상이 이미 나타났다.
삽입체 H는 45 ㎛의 절삭날 손상이 발생할 때에 클리어런스 면에 피복의 과다한 손상이 이미 나타났다.
실시예 5
제1 실시예의 피복된 절삭 삽입체는 회주철(AISI No 35B)의 정면 가공시의 레이크면 박리(rake face flaking)에 대해 시험되었다. 가공된 작업 시편의 형태는 각 회전당 2회씩 절삭이 중지되도록 하였다.
절삭 데이터
속도 : 500 m/min
이송량 : 0.5 mm/rev.
절삭 깊이 : 3.0 mm
그리고 나서, 상기 삽입체는 상기 절삭 삽입체의 레이크면 상의 알루미나 피복의 박리에 대해 검사되었다. 그 결과는 작업 시편 칩과 접촉하는 레이크면의 전체 영역에 대해 박리 작용을 받는 레이크면의 영역으로서 표현되었다.
결과
박리 작용
삽입체 A(본 발명) 0 %
삽입체 B(본 발명) 0 %
삽입체 C(종래 기술) 19 %
실시예 6
제3 실시예의 피복된 절삭 삽입체는 회주철(AISI No 35B)의 정면 가공시의 레이크면 박리에 대해 시험되었다. 가공된 작업 시편의 형태는 각 회전당 2회씩 절삭이 중지되도록 하였다.
절삭 데이터
속도 : 400 m/min
이송량 : 0.3 mm/rev.
절삭 깊이 : 3.0 mm
그리고 나서, 상기 삽입체는 상기 절삭 삽입체의 레이크면 상의 알루미나 피복의 박리에 대해 검사되었다. 그 결과는 작업 시편 칩과 접촉하는 레이크면의 전체 영역에 대해 박리 작용을 받는 레이크면의 영역으로서 표현되었다.
결과
박리 작용
삽입체 F(본 발명) 0 %
삽입체 G(본 발명) 0 %
삽입체 H(종래 기술) 26 %
제1도는 본 발명에 따른 피복부의 연마 및 에칭된 단면의 1600배 확대도.
제2도는 제1도에서와 동일한 지점의 피복부 파면의 4000배 확대도.
Claims (23)
- 피복된 초경합금 본체에 있어서, 상기 피복은 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층과, 0.7 ≤ x+y+z ≤ 1.3 및 0.2 < y < 0.8의 조건인 MetCxOyNz로 구성되는 제2 층과, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 내마모성 제3 층을 포함하고, 여기서 금속 Met는 Ti, Zr, Hf, Y, Nb 및 Ta의 금속 그룹으로부터 선택되며, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층의 두께가 0.1 ㎛보다 크고 5.0 ㎛보다 작은 것을 특징으로 하는 피복된 초경합금 본체.
- 제1항에 있어서, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제3 층은 제1 및 제2 층의 전체 두께를 초과하는 피복 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 제2 층의 두께는 0.1 내지 5.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층의 두께는 1.3 내지 3.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제3항에 있어서, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 내마모성 제3 층의 두께는 20 ㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 내마모성 제3 층은 0.05 ≤ x ≤ 0.95의 조건인 TiCxN1-x로 구성되는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제6항에 있어서, 내마모성 제3 층은 아래와 같이 정의된 조직 계수(TC)가 1.3보다 큰 상태에서 (220) 방향으로의 우수한 결정 성장 방향을 갖는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.이 경우, I(hkl)은 (hkl) 반사의 측정 강도이고, Io(hkl)은 ASTM 표준 분말 패턴 회절 데이터의 표준 강도이고, n은 계산에 사용된 반사 회수이고, 사용된 (hkl) 반사 방향은 (111), (200), (220)이다.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 피복된 본체는 외곽 알루미나층을 포함하는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제8항에 있어서, 알루미나층은 입자 크기 s가 0.5 ㎛ < s < 3.0 ㎛인 단일 상 α -알루미나로 구성되는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제8항에 있어서, 본체는 TiN 최외곽층을 포함하는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제10항에 있어서, TiN 최외곽층은 0.01 내지 1.0 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 피복을 갖는 초경합금 기층을 포함하는 본체를 제조하는 방법에 있어서,상기 피복은,금속 Met가 금속 Ti, Zr, Hf, V, Ta, Nb의 그룹으로부터 선택되고, 800 내지 1200 ℃의 온도 범위와 5 내지 1050 mbar의 공정 압력에서 기층이 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물과 접촉되어 카보나이트라이드를 형성하고 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1) 인 제1 층 또는 세트와,800 내지 1200 ℃의 온도 범위와 5 내지 1050 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 일산화탄소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물 내에서 증착되어 옥시카바이드 및 옥시니트로카바이드를 형성하고 0.7 ≤ x+y+z≤ 1.3 및 0.2 < y < 0.8의 조건인, 제1 층에 직접 인가되는 MetCxOyNz로 구성된 제2 층과,800 내지 1200 ℃의 온도 범위와 5 내지 1050 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물내에서 증착되어 카보나이트라이드를 형성하고 제2 층에 직접 인가되는 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1) 인 제3 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
- 제12항에 있어서, 수소 및 이산화탄소를 함유하는 기체와 알루미늄 할로겐 화합물의 기상 증착에 의해 외측의 알루미나층이 부착되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
- 제12항에 있어서, 수소 및 이산화탄소를 함유하는 기체와 알루미늄 할로겐 화합물의 기상 증착에 의해 외곽 α -알루미나층이 부착되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
- 제13항 또는 제14항에 있어서, 수소, 질소 및 티타늄 할로겐 화합물을 함유하는 기체의 기상 증착에 의해 알루미나층의 상부 상에 최외곽의 TiN층이 증착되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
- 피복된 초경합금 본체에 있어서, 상기 피복은 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층과, 0.7 ≤ x+y+z ≤ 1.3 및 0.4 < y < 0.6인 조건의 MetCxOyNz로 구성되는 제2 층과, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 내마모성 제3 층을 포함하고, 여기서 금속 Met는 Ti, Zr, Hf, V, Nb 및 Ta의 금속 그룹으로부터 선택되며, 기층에 표면 코발트가 없을 때 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층의 두께가 0.5 내지 5.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 피복된 초경합금 본체.
- 제1항, 제2항 및 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 층의 두께는 0.2 내지 1.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제1항, 제2항 및 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 그 세트 층의 두께는 기층에 표면 코발트가 없을 때 0.5 내지 2.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제3항에 있어서, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 내마모성 제3 층의 두께는 5 내지 12 ㎛인 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제1항, 제2항 및 제16항 중 어느 한 항에 있어서, MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인내마모성 제3 층은 0.3 ≤ x ≤ 0.7의 조건인 TiCxN1-x로 구성되는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.
- 제6항에 있어서, 내마모성 제3 층은 아래와 같이 정의된 조직 계수(TC)가 1.5보다 큰 상태에서 (220) 방향으로의 우수한 결정 성장 방향을 갖는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.이 경우, I(hkl)은 (hkl) 반사의 측정 강도이고, Io(hkl)은 ASTM 표준 분말 패턴 회절 데이터의 표준 강도이고, n은 계산에 사용된 반사 회수이고, 사용된 (hkl) 반사 방향은 (111), (200), (220)이다.
- 제6항에 있어서, 내마모성 제3 층은 아래와 같이 정의된 조직 계수(TC)가 1.8보다 큰 상태에서 (220) 방향으로의 우수한 결정 성장 방향을 갖는 것을 특징으로 하는 초경합금 본체.이 경우, I(hkl)은 (hkl) 반사의 측정 강도이고, Io(hkl)은 ASTM 표준 분말 패턴 회절 데이터의 표준 강도이고, n은 계산에 사용된 반사 회수이고, 사용된 (hkl) 반사 방향은 (111), (200), (220)이다.
- 피복을 갖는 초경합금 기층을 포함하는 본체를 제조하는 방법에 있어서,상기 피복은,금속 Met가 금속 Ti, Zr, Hf, V, Ta, Nb의 그룹으로부터 선택되고, 900 내지 1070 ℃의 온도 범위와 30 내지 100 mbar의 공정 압력에서 기층이 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물과 접촉되어 카보나이트라이드를 형성하고 기층에 인접한 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제1 층 또는 세트와,900 내지 1070 ℃의 온도 범위와 30 내지 100 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 일산화탄소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물 내에서 증착되어 옥시카바이드 및 옥시니트로카바이드를 형성하고 0.7 ≤ x+y+z ≤ 1.3 및 0.4 < y < 0.6의 조건인, 제1 층에 직접 인가되는 MetCxOyNz인 제2 층과,900 내지 1070 ℃의 온도 범위와 200 내지 600 mbar의 공정 압력에서 수소, 질소 및 탄화수소를 함유하는 기체와 전술한 금속들 중 하나 이상의 할로겐 화합물내에서 증착되어 카보나이트라이드를 형성하고 제2 층에 직접 인가되는 MetCxN1-x(0 ≤ x ≤ 1)인 제3 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
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