KR100342365B1 - 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 휘발성이 낮고 비교적 독성이 적은 실릴화제와 요오드(I2)를 사용하여 t-부틸 보호기가 도입된 하기 화학식(3)의 화합물로부터 선택적으로 t-부틸기만을 제거함을 특징으로 하여 소염제 및 진통제로서 높은 활성을 가지는 하기 화학식(1)의 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
[화학식 3]
[화학식 1]

Description

2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의 제조방법
본 발명은 휘발성이 낮고 비교적 독성이 적은 실릴화제와 요오드(I2)를 사용하여 t-부틸 보호기가 도입된 하기 화학식(3)의 화합물로부터 선택적으로 t-부틸기만을 제거함을 특징으로 하여 소염제 및 진통제로서 높은 활성을 가지는 하기 화학식(1)의 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하는 방법에 관한 것이다.
[화학식 3]
[화학식 1]
지금까지 화학식(1)의 화합물은 하기 화학식(2)의 에스테르화물로부터 말단의 카복실산 보호기만을 선택적으로 가수분해하여 제조되었으며, R 그룹에 따라 몇가지 방법들이 보고되었다.
[화학식 2]
상기 식에서, R은 카복실산 보호기를 나타낸다.
종래의 선택적 가수분해 방법에서 R 그룹이 벤질인 경우에 대해서는 유럽특허 제119932호에서 보고하고 있다. 이 방법에서는 보호기인 벤질을 제거하기 위하여 수소화 분해반응을 사용하고 있는데, 이 경우 고압의 수소기체 및 값비싼 금속 촉매를 사용하기 때문에 상대적으로 위험성이 높고, 비경제적이며 수율이 낮다(50 내지 65%)는 문제가 있다.
또다른 방법으로는 보호기 R이 2-테트라하이드로푸라닐인 화합물을 용해혼합물 속에서 아세트산과 선택적으로 반응시키는 방법이 대한민국 특허공고 제96-9569호에 보고되어 있다. 이 방법은 상기 수소화 분해방법에 비해 위험성은 적으나 역시 수율이 낮고(61 내지 72%), 반응 시간이 길다(5 내지 45시간)는 문제점이 있다.
한편, 보호기 R이 t-부틸인 경우 스페인특허 제2020146호와 캐나다특허제2111169호에 각기 다른 가수분해방법이 보고되어 있다. 스페인특허 제2020146호에는 불활성 대기하의 아세토니트릴 용매중에서 클로로트리메틸실란(TMSCl)과 요오드화나트륨(NaI)을 가수분해촉매로 사용하는 방법이 보고되어 있다. 이 방법은 반응에 사용되는 클로로트리메틸실란이 취급하기 까다롭고 독성이 강하다는 것, 그리고 이를 2 내지 3당량으로 과량 사용하면서도 수율이 낮고(78%), 반응시간이 길다(5 내지 45시간)는 문제점이 있다. 또한 독성이 매우 강한 아세토니트릴을 용매로 사용하므로써 부산물로 아세토니트릴-물의 혼합폐액이 발생한다는 문제점이 있다. 이에 비해, 캐나다특허 제2111169호에서는 보호기인 t-부틸을 트리플루오로아세트산, 포름산 등과 같은 산을 사용하여 가수분해하는 개선된 방법을 보고하고 있다. 그러나, 이들 산을 용매로 사용함으로써 독성이 강한 산 페액이 과량 발생하는 문제점을 또한 안고 있다.
이에, 본 발명자들은 상기한 종래기술에 비해 위험성이 적고 반응 시간이 짧으면서도 고수율 및 고순도로 화학식(1)의 화합물을 제조하는 방법을 개발하고자 예의 연구하였으며, 그 결과 실릴화제와 요오드를 비극성 용매중에서 활성화시켜 가수분해 반응의 촉매로 사용하면 이러한 목적을 용이하게 달성할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명은 실릴화제와 요오드를 비극성 용매중에서 활성화시켜 하기 화학식(3)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 하기 화학식(1)의 화합물을 80 내지 95%의 고수율 및 고순도로 제조하는 방법을 제공함을 목적으로 한다.
[화학식 3]
[화학식 1]
본 발명에 따른 방법에서 실릴화제로는 헥사메틸디실라잔, 헥사메틸디실록산, 헥사메틸디실란, 페닐셀레노트리메틸실란, 페닐트리메틸실란, 알릴트리메틸실란, 3,6-비스[트리메틸실릴]1,4-시클로헥사디엔 등과 같이 휘발성이 낮아 다루기가 간편하고 비교적 독성이 적은 것을 바람직하게 사용한다. 이중에서도 특히 바람직하게는 헥사메틸디실라잔을 사용한다.
상기 언급된 실릴화제와 요오드(I2)를 물과 섞이지 않는 비극성 용매에서 활성화시켜 t-부틸 보호기가 도입된 하기 화학식(3)의 화합물과 반응시킴으로써 화학식(1)의 목적화합물을 제조할 수 있다. 물가 섞이지 않는 비극성 용매를 사용함으로써 실릴화제에 의한 가수분해 반응이 끝난 후 분리, 정제과정에서 불순물만을 선택적으로 제거하기가 용이해졌다. 예를들어, 반응모액중에는 요오드, 실릴화제 등의 무기물과 반응물인 화학식(3)의 화합물, 생성물인 화학식(1)의 화합물, 락톤 부산물 등이 존재하고 있는데, 산성조건에서 요오드, 실릴화제 등의 무기물은 수층으로 제거되고 반응물과 생성물, 락톤 화합물과 같은 비극성 화합물은 비극성 용매 중에 남으며, 이 용액을 다시 염기성 수용액으로 추출해내면 생성물인 화학식(1)의 화합물만이 염기성 수용액중으로 녹아나오고 기타 불순물들은 비극성 용매에 그대로 남게되어 고순도로 생성물을 정제하는 것이 가능해지는 것이다. 본 발명에서 사용하기에 바람직한 비극성 용매로는 디클로로메탄과 같은 염소화 탄화수소용매, 시클로헥산과 같은 포화 탄화수소 용매, 톨루엔과 같은 방향족 용매 등을 언급할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 방법은 두가지 방식으로 진행될 수 있다. 즉, (ⅰ) 반응물질인 화학식(3)의 화합물을 비극성 용매중에 가하여 녹인 후 실릴화제와 요오드를 첨가하여 가열환류시켜 화학식(1)의 화합물을 얻을 수 있고(실시예 1의 방법), (ⅱ) 실릴화제와 요오드를 비극성 용매에 가하여 가열환류시킨 후 상온으로 냉각시키고 반응물질인 화학식(3)의 화합물을 가하여 동온도에서 반응시켜 화학식(1)의 화합물을 얻을 수 있다(실시예 2, 3, 4의 방법). 이때, 반응시간은 대략 1 내지 5시간의 범위이며 반응조건, 반응물질 및 촉매의 종류에 따라 적질히 선택할 수 있다. 상기 (ⅰ)의 방법에서는 반응촉매의 활성화와 가수분해 반응이 동시에 수행됨으로써 빠른 시간내에 목적화합물을 얻을 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 고온에서 t-부틸에스테르 그룹의 가수분해 반응이 진행되므로 부반응이 소량일어나 수율이 다소 감소될 수 있다는 단점이 있다. 반면에 상기 (ⅱ)의 방법에서는 반응촉매를 고온에서 먼저 활성화시킨 후 상온에서 가수분해 반응을 진행함으로써 부반응이 방지되어 수율이 보다 높으나 반응시간이 다소 길어지는 단점이 있다. 그러나, 이중 어느 방식에 의하더라도 본 발명의 방법에 따르면 기존의 방법에 비해 높은 수율로 목적화합물이 수득된다.
본 발명에 따른 반응에서 실릴화제, 요오드(I2) 및 화학식(3)의 화합물(t-부틸 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세테이트)의 당량비는 1:1:1 내지 2:2:1의 비율이 바람직하다.
상기 반응은 또한, 10 내지 80℃의 온도범위에서 수행하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명을 하기 실시예에 의거하여 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 이들 실시예는 본 발명에 대한 이해를 돕기위한 것일 뿐 어떤 의미로도 본 발명의 범위가 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의 제조
t-부틸 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세테이트 8.24g을 디클로로메탄 100㎖에 녹인 후 요오드(I2) 3.06g과 헥사메틸디실라잔 2.53㎖를 첨가했다. 이 혼합물을 2시간 동안 환류가열했다. 반응용액을 25℃로 냉각한 후 5% 티오황산나트륨(Na2S2O3)수용액 50㎖로 세척한 후, 10% 탄산수소나트륨용액(3x50㎖)으로 추출했다. 모아진 수용액층을 6N 염산용액으로 산성화시켰다. 생성된 백색의 결정을 여과하고 증류수(2x50㎖)로 세척한 후 진공건조했다. 6.23g(88%)의 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산을 얻었다.
융점 : 152℃ (참조 149-150℃)
IR : (KBr) 3320, 1770, 1720, 1503, 1452, 1260, 1150, 753cm-1
1H NMR : (CDCl3), ppm 8.6-8.9(s, 1H, CO2H), 6.4-7.4(m, 8H, 방향족고리와 N-H), 4.72(s, 2H, COO-CH2-COO-), 3.94(s, 2H, Ar-CH2-COO-)
실시예 2
2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의 제조
요오드(I2) 3.06g과 헥사메틸디실라잔 2.53㎖를 디클로로메탄 100㎖에 넣고 2시간동안 환류가열했다. 반응용액을 25℃로 냉각한 다음 t-부틸 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세테이트 8.24g을 반응용액에 첨가했다. 이들 혼합물을 2시간 동안 동일온도에서 교반했다. 실시예 1과 같은 추출과정을 통하여 6.73g(95%)의 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산을 얻었다.
실시예 3
2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의 제조
시클로헥산 100㎖에 요오드(I2) 3.06g과 헥사메틸디실록산 2.56㎖를 첨가했다. 이들 혼합물을 1시간 동안 환류가열했다. 반응용액을 25℃로 냉각한 다음 t-부틸 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세테이트 8.24g을 반응용액에 첨가했다. 이들 혼합물을 4시간 동안 교반한 후 5% 티오황산나트륨(Na2S2O3)수용액 100㎖를 첨가했다. 2시간동안 교반한 다음 두층사이에 생성된 연노랑색 결정을 여과했다. 여과된 결정을 디클로로메탄 50㎖에 녹인 후 실시예 1과 같은 추출과정을 통하여 5.67g(수율 80%)의 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산을 얻었다.
실시예 4
2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산의 제조
t-부틸 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세테이트 8.24g과 요오드(I2) 3.06g 그리고 헥사메틸디실록산 2.56㎖를 사용하여 실시예 2와 동일한 방법으로 5.66g(수율 80%)의 2-[(2,6-디클로로페닐)아미노]페닐아세톡시아세트산을 얻었다.
상기 설명한 바와 같이, 본 발명은 소염제 및 진통제로서 높은 활성을 가지는 화학식(1)의 화합물을 제조함에 있어, 첫째, 휘발성이 낮고 비교적 독성이 적은 실릴화제를 요오드와 함께 1 내지 2당량배 사용함으로써 클로로트리메틸실란과 같이 독성이 강한 화합물을 다룰 때 발생하는 위험성을 제거하여 산업화에 적용하기가 용이해졌으며, 둘째, 물과 섞이지 않는 비극성 용매중에서 반응을 진행시킴으로 써 분리 및 정제 과정에서 불순물만을 선택적으로 제거하기가 용이해졌고, 결과적으로 목적 화합물을 80 내지 95%의 고수율로 얻을 수 있으므로 상당한 비용절감 효과를 나타낸다.

Claims (6)

  1. 실릴화제와 요오드(I2)를 물과 섞이지 않는 비극성 용매중에서 활성화시켜 t-부틸 보호기가 도입된 화학식(3)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 화학식(1)의 화합물을 제조하는 방법:
    [화학식 3]
    [화학식 1]
  2. 제1항에 있어서, 실릴화제로 헥사메틸디실라잔, 헥사메틸디실록산, 헥사메틸디실란, 페닐셀레노트리메틸실란, 페닐트리메틸실란, 알릴트리메틸실란 또는 3,6-비스[트리메틸실릴]1.4-시클로헥사디엔을 사용함을 특징으로하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 비극성 용매로 염소화 탄화수소 용매, 포화 탄화수소 용매 또는 방향족 용매를 사용함을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 비극성 용매로 디클로로메탄, 시클로헥산 또는 톨루엔을 사용함을 특징으로 하는 방법
  5. 제1항 내지 3항중의 어느 한 항에 있어서, 반응물질인 화학식(3)의 화합물을 비극성 용매중에 가하여 녹인 후 실릴화제와 요오드를 침가하여 가열환류시켜 화학식(1)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항 내지 3항중의 어느 한 항에 있어서, 실릴화제와 요오드를 비극성 용매에 가하여 가열환류시킨 후 상온으로 냉각시키고 반응물질인 화학식(3)의 화합물을 가하여 동온도에서 반응시켜 화학식(1)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는 방법.
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