KR100332655B1

KR100332655B1 - 자동 세발기

Info

Publication number: KR100332655B1
Application number: KR1020000007273A
Authority: KR
Inventors: 미요시히데아키; 시미즈히로히사
Original assignee: 히로타 기요시; 가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼
Priority date: 1999-02-26
Filing date: 2000-02-16
Publication date: 2002-04-15
Also published as: US20010001884A1; TW543393U; US6269492B2; JP2000245524A; KR20010066732A

Abstract

본 발명은 예비 세정 공정(t1)에서 헹굼 공정(t7)까지의 전체 세정 공정에서, 샤워 헤드(S1∼S12)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)의 개폐 동작을 행하는 타이밍에 맞춰, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 탕수 공급용 펌프 제어부(20)에 의해 변화시켜 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사압, 분사량을 변화시킴으로써, 수조의 내벽면에 설치된 세정용 노즐의 분사부분, 용도, 형상 등에 따라 가장 적합한 상태로 세발을 행할 수 있는 자동 세발기를 제공한다.

Description

자동 세발기{AUTOMATIC HAIR WASHER}

본 발명은 미장원, 이발소 등에 설치하여, 피세발자(被洗髮者)의 두발의 세정을 자동으로 행하는 자동 세발기에 관한 것이다.

도 3은 종래의 자동 세발기의 구성을 나타내는 도면이다.

도 3에서, 참조 부호 1은 지수전(止水栓), 스트레이너, 역류 방지 밸브(도시하지 않음)를 개재하여, 외부의 급수원, 급탕원으로부터 보내져 온 냉수와 열수를 혼합하여, 세발에 적합한 온도의 세정수를 만드는 혼합 믹싱, 참조 부호 2는 모터 밸브, 참조 부호 3은 혼합 믹싱(1)으로부터 모터 밸브(2)를 개재하여 공급된 세정수를 담아두는 저탕(貯湯) 탱크, 참조 부호 4는 저탕 탱크(3)의 하측위치에 설치하여, 저탕 탱크(3)의 세정수의 온도를 계측하는 서미스터, 참조 부호 5는 저탕 탱크(3)의 세정수의 양을 검출하는 플로트 스위치, 참조 부호 6은 저탕 탱크(3)의 세정수를 퍼내는 탕수 공급용 펌프, 참조 부호 7은 핸드 샤워용 밸브, 8은 수조에 담근 모발과 샴푸액, 린스액을 씻어내거나, 세발의 마무리 등에 사용하는 인출 가능한 핸드샤워, 참조 부호 A₁은 일단은 탕수 공급용 펌프(6)에 접속되어 탕수 공급용 펌프(6)로부터 길어낸 세정수를 통과시키는 탕수 공급관, 참조 부호 9는 탕수 공급관(A₁)의 도중에 설치되어 불필요한 세정수를 배수하기 위한 배수용 전자 밸브, 참조 부호 S1∼S12는 분지한 탕수 공급관(A1)의 말단에 접속되어 세정수를 분사하는 샤워 헤드, 참조 부호 10a∼10k는 개(開)동작에 의해 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)로의 세정수의 공급을 행하며, 폐(閉)동작에 의해 세정수의 공급의 정지를 행하는 탕수 공급용 전자 밸브, 참조 부호 11은 샴푸액을 수납하는 샴푸 탱크, 참조 부호 12는 린스액을 수납하는 린스 탱크, 참조 부호 13은 샴푸 탱크(11)의 샴푸액을 길어 내는 공급용 펌프, 참조 부호 14는 린스 탱크(12)의 린스액을 길어 내는 린스 공급용 펌프, 참조 부호 15와 16은 역류 방지 밸브, 참조 부호 N1∼N6은 분지된 탕수 공급관(A1)의 말단에 접속되어 샴푸 탱크(11), 린스 탱크(12)로부터 나온 샴푸액, 린스액이 혼합된 세정수를 분사하는 노즐 헤드, 참조 부호 20은 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)에 공급하는 세정수의 수량을 변화시키도록 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 제어하는 탕수 공급용 펌프 제어부이다.

도4 내지 도6은 종래의 자동 세발기의 수조의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이며, 도4는 정면도, 도5는 X-X선 방향에서 본 종단면도, 도6은 Y-Y선 방향에서 본 종단면도이다.

도면에서, 도3과 동일한 참조 부호는 동일 부분 또는 그에 상당하는 부분이다. 또, 참조 부호 31은 피세발자(35)가 두부를 삽입하기 위한 수조, 참조 부호 32는 캐비넷, 참조 부호 33은 피세발자가 수조(31)에 두부를 삽입했을 때에 피세발자(35)의 목덜미부를 지지하는 목 받침부, 참조 부호 34는 배수구이다.

도면에 도시된 바와 같이, 수조(31)의 내부 벽면에 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)가 설치되어 있으며, 이러한 세정용 노즐로부터 분사되는 세정수에 의해 세정이 이루어진다. 각 세정용 노즐에 따라 분사부분이 달라지나, 샤워 헤드(S1, S12)는 두정부(頭頂部), 샤워 헤드(S2∼S5)는 측두부, 샤워 헤드(S6, S11)는 후두부, 샤워 헤드(S7∼S10)는 목덜미 부분을 각각 세정한다.

도7은 종래의 자동 세발기에 있어서 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10k)의 개폐 동작 및 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 나타내는 타임 챠트이다.

이하, 도7을 참조하여 종래의 자동 세발기의 동작에 대해 설명한다.

우선, 초기 배수 공정(t0)에서, 탕수 공급관(A1) 내에 남아있는 식은 세정수는 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10k)를 개재하여 샤워 헤드(S1∼S12) 및 노즐 헤드(N1∼N6)로부터 분사된다.

그 다음, 전세(前洗)공정(t1)으로 이어져, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터 세정수가 소정의 순번으로 오버랩되면서 두발 전체에 분사된다.

그 다음, 샴푸공정(t2)으로 이어져, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터 세정수가 분사됨과 동시에, 샴푸 공급용 펌프(13)에 의해 공급된 샴푸액이 혼합된 세정수가 노즐 헤드(N1∼N6)로부터 분사된다.

또, 상기 샴푸공정(t2)이 끝나면, 다음의 침투공정(t3), 중간 세정 공정(t3), 맛사지 공정(t4), 린스공정(t5), 헹굼 공정(t6)으로 이어지면서 일련의 세정 공정이 종료된다.

본 명세서에서는 도7에 도시된 대로, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력이 상기 각 공정에 따라 미리 정해져 있다. 예를 들면, 맛사지 공정에서는 두피에 자극을 주기 위해 탕수 공급용 펌프(6)의 출력이 높게 설정되며, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사압은 비교적 높으며, 또한 린스 공정에서 린스액은 샴푸액과 같이 두피까지 닿을 필요가 없고 두발에 도포하는 것만으로 충분하므로 탕수 공급용 펌프(6)의 출력은 낮게 설정되며, 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)로부터의 세정수의 분사압은 비교적 낮다. 이와 같이 세정의 각 공정에 따라 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 변화시키며, 세정용 노즐로부터 분사되는 세정수의 세기에 변화를 주고 있다.

그러나, 종래의 자동 세발기를 사용하여 세발을 행하고자 하는 경우, 각 세정공정에서 탕수 공급용 펌프의 출력을 일정하게 유지하고, 각 세정용 노즐에 공급되는 세정수의 수량(水量)도 같으므로, 소량의 세정수로 더러움이 금방 제거되는 모발의 선단부분과, 세정수를 세차게 뿌려서 문질러 씻지 않으면 더러움이 제거되지 않는 두피부분 등과 같이, 세정 부분에 따라 세정에 적합한 세정수의 수량, 수압이 다름에도 불구하고 각 세정용 노즐로부터 두부 전체에 분사되는 세정수의 수량과 수압이 일정하기 때문에, 대량의 세정수가 필요하지 않은 부분에 여분의 세정수를 분사하게 되어 비경제적이고 비효율적이라는 문제점이 있었다.

또, 두부에는 두정부와 같이 자극에 대해 둔감한 부분과, 목덜미부와 같이 자극에 대해 민감한 부분이 있어서, 세정수가 일정압으로 분사되어도 분사 부분에 따라서는 피세발자가 아픔을 느끼거나, 또 자극이 적어 어딘지 부족한 듯이 느끼는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로, 각 세정용 노즐의 분사부분, 그 용도 등에 따라 최적의 상태에서 세발을 행할 수 있는 자동 세발기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 의한 자동 세발기의 구성을 나타낸 도면이며,

도 2는 본 발명의 실시 형태 1에 의한 자동 세발기에 있어서의 샤워 헤드, 노즐 헤드의 탕수 공급용 전자 밸브의 개폐 동작 및 탕수 공급용 펌프의 출력을 나타내는 타임 챠트이며,

도 3은 종래의 자동 세발기의 구성을 나타내는 도면이며,

도 4는 종래의 자동 세발기의 수조의 구성을 개략적으로 나타내는 정면도이며,

도 5는 도4의 자동 세발기의 X-X선 방향에서 본 종단면도이며,

도 6은 도4의 자동 세발기의 Y-Y선 방향에서 본 종단면도이며,

도 7은 종래의 자동 세발기에 있어서 샤워 헤드, 노즐 헤드의 탕수 공급용 전자 밸브의 개폐동작 및 탕수 공급용 펌프의 출력을 나타내는 타임 챠트이다.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 청구항1에 청구된 본원 발명의 자동세발기는 세정수를 두부에 분사하는 복수의 세정용 노즐을 갖는 자동 세발기에 있어서, 세정수를 담아두는 저탕 탱크와, 상기 저탕 탱크로부터 세정수를 길어 내어 상기 세정용 노즐에 공급하는 탕수 공급용 펌프와, 개폐동작에 의해 상기 세정용 노즐로부터의 세정수의 분사를 제어하는 탕수 공급용 전자 밸브와, 상기 탕수 공급용 전자 밸브의 개폐동작의 타이밍을 맞추어 상기 탕수 공급용 펌프로부터 상기 세정용 노즐에 공급하는 세정수의 수량을 변화시키도록 상기 탕수 공급용 펌프의 출력을 제어하는 탕수 공급용 펌프 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

〈발명의 실시의 형태〉

실시 형태 1

도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 의한 자동 세발기의 구성을 나타낸 도면이다.

도면에 있어서, 도 3과 동일한 참조 부호는 동일 부분 또는 그에 상당하는 부분이다. 또, 탕수 공급용 펌프 제어부(20)는 샤워 헤드(S1∼S12)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)가 개폐동작을 행하는 타이밍에 맞추어, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 제어하여 샤워 헤드(S1∼S12)에 공급되는 세정수의 수량을 변화시킨다.

도 2는 본 발명의 실시 형태 1에 의한 자동 세발기에 있어서의 샤워 헤드(S1∼S12), 노즐 헤드(N1∼N6)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10k)의 개폐동작 및 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 나타내는 타임 챠트이다.

이하, 도 2를 참조하여 본 실시 형태 1의 자동 세발기의 동작에 대해 설명한다.

우선, 초기 배수공정(t0)에서, 탕수 공급관(A1)내에 남아있는 식은 세정수는 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10k)를 개재하여 샤워 헤드(S1∼S12) 및 노즐 헤드(N1∼N6)로부터 분사된다.

그 다음, 예비 세정 공정(t1)으로 이어져, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터 세정수가 소정의 순번으로 오버랩되면서 두발 전체에 분사된다. 그 다음, 샴푸 공정(t2)으로 이어져, 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)를 개재하여 샤워 헤드(S1∼S12)로부터 세정수가 분사됨과 동시에, 샴푸 공급용 펌프(13)에 의해 길어낸 샴푸액이 혼합된 세정수가 탕수 공급용 전자 밸브(10k)를 개재하여 노즐 헤드(N1∼N6)로부터 분사된다.

또한, 상기 샴푸 공정(t2)이 끝나면, 다음의 침투 공정(t3), 중간 세정 공정(t3), 맛사지 공정(t4), 린스 공정(t5), 헹굼 공정(t6)으로 이어져, 일련의 세정공정이 종료된다.

본 명세서에서는, 도2에 도시된 바와 같이 예비 세정 공정(t1)으로부터 헹굼 공정(t7)까지의 전체 세정 공정에 있어서, 샤워 헤드(S1∼S12)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)의 개폐동작의 타이밍에 맞추어, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 탕수 공급용 펌프 제어부(20)에 의해 변화시켜 샤워 헤드 (S1∼S12)에 공급하는 세정수의 수량을 바꿈으로써, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사량, 분사압을 변화시키고 있다.

예를 들면, 목덜미부에는 세정수를 급격히 분사하지 않도록, 전체 세정 공정에서, 목덜미부에 세정수를 분사하는 샤워 헤드(S7∼S10)의 전자 밸브(c, d, j)를열 때에는 탕수 공급용 펌프 제어부(20)에 의해 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 낮추어 샤워 헤드(S7∼S10)로부터의 세정수의 분출압을 낮게 한다.

구체적으로는, 예를 들면 중간 세정 공정(t4)에 있어서는 두정부, 측두부, 후두부, 목덜미부 순으로, 샤워 헤드(S1∼S10)로부터 분사되는 세정수에 의해 각 부의 세정이 이루어지나 두정부, 측두부, 후두부의 세정을 행하고 있는 동안의 탕수 공급용 펌프(6)의 출력은 약 50Hz이며, 그 후 목덜미부의 세정으로 이행할 때, 즉 샤워 헤드(S7)의 전자 밸브(c)를 열 때, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 급격히 낮춤으로써 샤워 헤드(S7∼S10)로부터 목덜미부분에 급격히 세정수가 분사되지 않도록 한다.

또, 샤워 헤드(S1∼S12)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)를 개폐하는 타이밍에 맞추어, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 탕수 공급용 펌프 제어부(20)에 의해 변화시켜 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사량, 분사압을 변화시킴으로써 샤워 헤드(S1∼S12)의 세정부분의 더러움 상태에 따라 최적의 분사압, 분사량으로 세정을 행할 수 있게 된다.

또, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사압의 고저를 조정함으로써 세정수가 두부에 미치는 자극을 단조롭지 않게 조정하여 두부에 대한 맛사지 효과를 높일 수 있다.

또, 산수공(散水孔)이 여러개 형성되어, 상기 산수공으로부터 샤워 상태로 세정수를 분사하는 샤워 헤드(S1∼S12)와, 산수공이 하나로 상기 산수공으로부터 안개형으로 세정수를 분사하는 노즐 헤드(N1∼N6) 등과 같이, 노즐의 형상이 다르면, 각 세정용 노즐에 공급되는 세정수의 수량이 같아도 각 세정용 노즐로부터 분사되는 세정수의 분사 상태와 그 세기 및 토수량이 미세하게 다르기 때문에 각 세정용 노즐의 형상 등에 따라서 탕수 공급용 펌프(6)로부터 공급되는 세정수의 수량을 미세하게 변화시키는 것도 가능하다.

이와 같이 본 실시 형태 1에 의하면, 샤워 헤드(S1∼S12)의 탕수 공급용 전자 밸브(10a∼10j)의 개폐동작의 타이밍에 맞춰, 탕수 공급용 펌프(6)의 출력을 탕수 공급용 펌프 제어부(20)에 의해 변화시켜 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사압, 분사량을 변화시키기 때문에, 샤워 헤드(S1∼S12)의 세정부분에 따라 세발에 가장 적합한 분사압, 분사량으로 두발의 세정을 행할 수 있으며, 세정수를 낭비하는 일이 없어 보다 경제적이면서도 효율적인 세발이 가능하게 된다. 또, 샤워 헤드(S1∼S12)로부터의 세정수의 분사압의 고저를 조정함으로써 두부에 대한 맛사지 효과를 향상시키거나, 샤워 헤드(S1∼S12)의 분사부분의 감도에 따라 세정수의 분사압을 조정함으로써 보다 적합한 세발을 제공하는 효과가 있다.

이상과 같이 본 발명(청구항1)에 의하면, 세정수를 두부에 분사하는 복수의 세정용 노즐을 갖는 자동 세발기에 있어서, 세정수를 담아두는 저탕 탱크와, 상기 저탕 탱크로부터 세정수를 길어내어, 상기 세정용 노즐에 공급하는 탕수 공급용 펌프와, 개폐동작에 의해 상기 세정용 노즐로부터의 세정수의 분사를 제어하는 탕수 공급용 전자 밸브와, 상기 탕수 공급용 전자 밸브의 개폐동작의 타이밍에 맞춰, 상기 탕수 공급용 펌프로부터 상기 세정용 노즐에 공급하는 세정수의 수량을 변화시키도록 상기 탕수 공급용 펌프의 출력을 제어하는 탕수 공급용 펌프 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 것이므로, 상기 세정용 노즐의 분사부분, 용도, 형상에 따라 각 세정용 노즐로부터의 세정수의 분사압, 분사량이 최적인 상태에서 세발을 행하는 것이 가능하며, 세정수를 낭비하는 일없이 보다 경제적이며 효율적인 세발을 가능하게 한다. 또 각 세정용 노즐로부터의 세정수의 분사압의 고저를 조정함으로써 두부의 맛사지 효과를 향상시키기도 하고, 각 세정용 노즐의 분사부분의 감도에 따라 세정수의 분사압을 조정함으로써 보다 쾌적한 세발을 제공하는 효과가 있다.

Claims

세정수를 두부에 분사하는 복수의 세정용 노즐을 갖는 자동 세발기에 있어서,

세정수를 담아 두는 저탕 탱크와,

상기 저탕 탱크로부터 세정수를 길어내어 상기 세정용 노즐에 공급하는 탕수 공급용 펌프와,

개폐 동작에 의해 상기 세정용 노즐로부터의 세정수의 분사를 제어하는 탕수 공급용 전자 밸브와,

상기 탕수 공급용 전자 밸브의 개폐 동작의 타이밍에 맞추어 상기 탕수 공급용 펌프로부터 상기 세정용 노즐에 공급하는 세정수의 수량을 변화시키도록 상기 탕수 공급용 펌프의 출력을 제어하는 탕수 공급용 펌프 제어수단

을 갖추는 것을 특징으로 하는 자동 세발기.