KR100297576B1

KR100297576B1 - 위조에대한입증레벨을높힌보안마킹및이보안마킹으로이루어진보안시스템

Info

Publication number: KR100297576B1
Application number: KR1019980035184A
Authority: KR
Inventors: 크리스토프 뮬러-레스; 위르겐 큐르퍼; 호르스트 라이게버; 게오르그 슈발브
Original assignee: 프레이 폴커; 콘소티움 퓌르 에렉트로헤미쉐 인두스트리 게엠베하
Priority date: 1997-08-28
Filing date: 1998-08-28
Publication date: 2001-10-26
Also published as: CA2244919C; JP2960724B2; JPH11157200A; ATE201851T1; KR19990023990A; CA2245127A1; CA2245127C; DE59800817D1; TW385283B; EP0899120A1; EP0899120B1; ES2159909T3; CA2244919A1; US6570648B1; DE19737618A1

Abstract

본 발명은 키랄상을 가진 액정재로 이루어지며, 공지의 보안마킹의 위조에 대한 입증레벨을 높힌 보안마킹에 있어서,

그 보안마킹내에, 나선성(handedness), 칼라 및 칼라플롭(color flop)의 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며, 구조 또는 비구조마킹 또는 다층마킹의 형상 또는 액정매트릭스중에서 액정안료의 형태로 배치된 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정재가 존재하거나 또는 반사밴드를 소정의 기술에 의해 확대시키는 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재가 존재하거나, 또는 소정의 3차원 배치를 가진 최소한 키랄상을 가진 액정재가 존재하도록 함을 특징으로 하는 보안마킹에 관한 것이다.

Description

위조에 대한 입증레벨을 높힌 보안마킹 및 이 보안마킹으로 이루어진 보안시스템.

본 발명은 위조에 대한 입증레벨을 높힌 기계검출할 수 있는 보안마킹, 그 보안마킹의 제조방법 및 이 보안마킹으로 이루어진 보안시스템에 관한 것이다.

발전하고 있는 칼라복사기의 기술적 성숙도에 의해, 칼라, 해상도 및 품질이 그 원본과의 식별이 상당히 어려울 정도로 향상된 복사본을 얻게 되었다.

칼라복사기 또는 스캐너를 사용하는 위조방지 보호책으로서, 데이터 캐리어의 보안마킹으로 구성요소를 선택적으로 변경시켜 더욱더 널리 사용되었다.

이와같은 마킹의 공통특징은 나타낸 칼라 또는 명도가 조사 또는 관찰조건에 따라 다르다는 점에 있다.

선택적으로 변경시킬 수 있는 가장 공통적인 보안마킹에는 회절격자(diffraction grating), 홀로그람(hologram), 간섭코팅(interference coatings), 메타메릭잉크(metameric inks) 및 편광코팅(polarizing coating)이 포함되어 있다.

특허문헌 DE 195 41 028에서는 물품의 특성과 인식용라벨을 가진 액정안료로 이루어진 코팅물품의 효과적인 코팅재에 대하여 기재되어 있다.

이 경우 라벨링(labeling)은 바코드원리에 의해 또는 소정의 스펙트럼특징에 의해 또는 칼라패턴(colorpattern)에 의해 층 두께 >0.5㎛을 가진 안료의 표면구조에 의한다.

또 효과적인 코팅재의 제조방법과 그 마킹을 한 안료에 대하여 기재되어 있다.

특허문헌 DE 394 2663에서는 보안구성요소를 선택적으로 변경시킬 수 있는 데이터 캐리어에 대하여 기재되어 있다.

그 보안 구성요소는 실온에서 배향형상의 액정폴리머로 이루어지는 액정재로 구성되어 있으며, 고형체로 존재한다.

그 특허문헌 DE 394 2663에서는 격자정수 300-1000nm을 가진 액정 폴리머 시스템의 사용에 대하여 기재되어 있으며, 여기서 그 액정재의 굴절파장 450-1500nm은 액정재의 평균굴절율 1.5를 일반적으로 나타낸다.

또, 그 LC 시스템과 "종래의 잉크"의 선택적인 혼합, 또는 그 보안구성요소를 제조하는 방법과 그 반제품, 또는 그 보안구성요소의 칼라, 칼라플롭 및 편광을 검출하는 방법 및 기계적 테스트 장치에 대하여 기재되어 있다.

여기서 실시한 센터(center)파장테스트는 위조에 대한 입증 레벨 향상에는 부적하지 않다.

이것은 본 발명의 대비실시예에서 나타낸다.

특허문헌 DE 195 44 130에서는 최소한 2개의 프린팅층으로 이루어진 광학변화가 가능한 보안구성요소에 대하여 기재되어 있다.

여기서 제1의 프린팅층은 칼라를 데이터 캐리어로 대비하도록 구성시키고, 제2의 프린팅층은 광학적으로 변화시킬 수 있는 안료로 구성시키며, 물질색조가 거의 없거나 없게 구성시키고, 제1프린팅층상에 최소한 부분적으로 중첩시켰다.

또 광학적으로 변화시킬 수 있는 이와같은 종류의 모든 구성요소의 제조기술에 대하여 기재되어 있다.

본 발명의 목적은 위조에 대한 입증레벨을 공지의 보안마킹의 입증레벨보다 더 높힌 보안마킹을 제공하는데 있다.

도 1은 본 발명의 검사장치(test setup)에서 사용할 수 있는 조명장치 Lu1을 나타낸다.

도 2는 본 발명에 의한 검사장치에 적합한 검출장치 DU1를 나타낸다.

도 3은 본 발명에 의한 검사장치에 적합한 검출장치 DU2를 나타낸다.

도 4는 본 발명의 검사장치 TS1를 나타낸다.

도 5는 간단한 칼라 및 칼라플롭 테스트(FP1-1)로 알 수 있는 2개의 반사밴드를 나타낸다.

도 6은 그 테스트 구성 FP3-1을 사용할 때 도 5의 스펙트럼을 나타낸다.

도 7은 검사장치 TS2를 나타낸다.

도 8은 검사장치 TS3를 나타낸다.

도 9는 사용할 필터의 파장선택과 테스트구성 FP1-3로 알 수 있는 3개의 반사밴드를 나타낸다.

도 10은 테스트구성 FP2-3에서와 같이 사용할 필터의 선택과 3개의 반사밴드를 나타낸다.

도 11은 검사장치 TS4를 나타낸다.

도 12는 실시예 3.20에 의한 보안마킹을 나타낸다.

도 13은 대비실시예에 나타낸 위조 원편광 구성요소의 구조를 나타낸다.

도 14는 실시예 4.4에서 사용한 것과 같은 위조 보안마킹 FA1-4를 나타낸다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1 : 조명장치

2 : 광원

3 : 콘덴서(condenser)

4 : 칼라필터(또는 파장선택 구성소자)

5 : 보안마킹(security marking) 또는 구조보안마킹

6 : 필터휠(filter wheel)

10,20 : 검출장치(detector)

11 :지연구성요소(delay element)

12 : 편광선택성빔 스플리터 프리즘(polarization selective beam splitter prism)

13 : 리시버(receiver)

21 : 가동슬라이드(movable slide)

22 : 우선성 원편광소자(right-handedly circular-polarizing element)

23 : 좌선성 원편광소자 60 : 검사장치

61 : 결상계 62 : 칼라필터

63 : 편광기 64 : 비디오 카메라

65 : 평가전자장치 70 : 위조원편광소자

71 : 반사층 72 : 원편광층

73 : 비편광된 층 74 : 원편광된 광

80 : 위조보안마킹

본 발명의 이와같은 목적은 나선성(handedness), 칼라 및 칼라플롭으로 이루어진 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며, 액정매트릭스에서 구조 또는 비구조마킹 또는 다층마킹의 형태 또는 액정안료의 형태로 배치되어 있는 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정재가 보안마킹내에 존재하며 또는 반사밴드를 소성의 기술에 의해 확대시키는 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재가 존재하거나 또는 소정의 3차원 배치를 구비한 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재가 존재하도록 함을 특징으로 하는 키랄상을 가진 액정재로 이루어진 보안마킹에 의해 달성된다.

본 발명의 보안마킹은 종래의 마킹의 위조입증레벨보다 더 향상시킨 복합레벨로 다시 제조할 수 있어, 위조 입증레벨을 향상시킨 보안마킹으로 구성할 수 있다.

본 발명은 또 본 발명의 보안마킹으로 라벨링을 한 물품에 관한 것이다.

사람의 눈은 약 400~700nm의 스펙트럼영역의 빛을 식별할 수 있다.

그 결과, 그 반사밴드의 장파측이 420nm 이상이고, 그 반사밴드의 단파측이 700nm 이하인 키랄상을 가진 액정재는 사람의 눈에 칼라의 인상(impression)을 발생한다.

이들 액정재의 칼라플롭 때문에, 칼라의 인상은 일정한 시각에서만 나타낼 수 있다.

사람의 눈에 의해 식별할 수 있는 가시광의 파장범위의 감지칼라만이 아니라, 사람의 눈으로 식별할 수 없는 인접 UV 및 IR 파장영역의 칼라를 칼라로 정의하며, UV 및 IR 스펙트로미터등 공지의 기기에 의해 측정할 수 있다.

사람의 눈은 입사광의 편광상태를 검출할 수 없다.

그 결과, 사람의 눈은 동일칼라와 동일칼라플롭을 가지나 나선성(handedness)이 다른 2종의 키랄상을 가진 액정재 사이의 차이를 식별할 수 없다.

나선성(handedness)의 차이는 기계테스트에 의해 검출할 수 있다.

위조가 어려운 본 발명의 마킹은 마킹물품의 소정위치에서 서로 다른 기계 테스트 특성을 나타낸다.

이 조합은 위조 입증레벨을 더 향상시킨다.

따라서, 본 발명은 본 발명의 보안마킹이 마킹물품의 소정위치에서 서로 다른 기계검출할 수 있는 특성을 갖도록 본 발명의 보안마킹으로 라벨링을 한 물품에 관한 것이다.

본 발명에서 다음 용어를 아래와 같이 정의한다.

반사밴드의 중심파장과 밴드폭은 다음과 같이 파장의 작용으로 반사밴드의 강도의 플롯(plot)에서 얻는다.

반사밴드의 최대강도값은 양분된다. 즉,로 된다.

그 양분된 강도레벨에서 X축(파장)에 평행한 접속선은 단파위치와 장파위치에서 반사밴드와 교차한다.

X축과 평형한 이들 2개의 교차점 사이의 거리가 반사밴드의 밴드폭이 된다.

그 밴드폭을 그 중심에서 반으로 나누어 Y축에 평행한 직선을 X축 아래로 그어 반사밴드의 중심파장을 얻는다.

그 중심파장은 반사밴드와 이들의 평행선의 교차점에서 얻어진 파장값에 대응한다.

반사밴드의 측면 : 반사밴드의 강도가 그 최고 10%까지 하강되는 파장, "반사밴드의 단파측면"은 단파분기점이 최대강도 10%까지 하강하는 파장에 대응하며, "반사밴드의 장파측면"은 장파분기점이 최대강도 10%까지 하강하는 파장에 대응한다.

칼라플롭(color flop) : 입사광이 수직이 아닐 때 반사/투과광의 스펙트럼 칼라이동 소정의 각 구성에서 플롭의 범위는 그 재료 본래의 특징에 따르며, 액정분자의 평균 굴절율에 의해 측정한다.

이것은 특허문헌 DE 3732115에 기재되어 있는 다음 식에 따라 계산할 수 있다.

(1) λ(a)=λ(o)·cos[arcsin(sin(a/n))]

편광과 나선성(handedness) : 키랄상을 가진 액정재는 좌선성 또는 우선성 나선구조를 가진다.

파장 선택성 반사광은 좌선성 또는 우선성 원형 편광을 행하며, 따라서 1h 또는 rh로 아래에서 나타낸다.

본 발명의 보안 구성요소는 최소한 2종의 다른 액정으로 이루어진 구조 보안마킹 또는 최소한 2종의 다른 액정으로 이루어진 비구조 보안마킹 또는 최소한 2종의 다른 액정으로 이루어진, 다층기술에 의해 제조한 보안마킹 또는 액정안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 보안마킹으로 구성하는 것이 바람직하다.

본 발명의 보안마킹의 하나의 형태는 나선성(handedness), 칼라, 칼라플롭의 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며, 구조마킹의 형태로 배치된 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정제를 사용하는데 특징이 있다.

마킹은 그 마킹내에서 칼라, 명도 등 특성이 다른 균일영역을 사람의 눈으로 식별할 경우 구성한다.

본 발명에서 이와같은 영역의 최소크기는 100㎛의 정도로 한다.

마킹은 또 10㎛ 이상의 영역이 사람의 눈으로 식별할 수 없는 편광특성에서만 다를 때 구성한다.

본 발명의 보안마킹의 또 다른 형태는 나선성, 칼라 및 칼라플롭의 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며 비구조 마킹형태로 배치된 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정재를 사용하는데 특징이 있다.

구조마킹이 없을 경우, 즉 사람의 눈에 의해 균일영역으로 그 마킹을 식별할 때 마킹은 비구조로 한다.

이것은 또 특성이 서로 다른 100㎛ 이하의 크기를 가진 극히 작은 균일영역이 인접하여 존재할 경우이다.

이것은 예로서 2종의 서로 다른 LC 안료를 혼합물로서 하나의 영역에 처리할 경우이다.

본 발명의 보안마킹의 또 다른 형태는 나선성, 칼라 및 칼라플롭 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며, 다층기술에 의해 상하로 배치시킨 최소한 2종의 액정재를 사용하는데 그 특징이 있다.

다층기술은 그 액정재를 하나의 중간막없이 상하로 배치하는 방법의 구성이 바람직하다.

이것은 본 발명의 보안마킹의 두께를 감소시킨다.

본 발명의 보안마킹의 또 다른 형태는 나선성, 칼라 및 칼라플롭이 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다르며, 액정 매트릭스에서 LC안료 형태로 배치시킨 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정재를 사용하는데 그 특징이 있다.

본 발명의 보안마킹의 또 다른 형태는 키랄상을 가진 액정재가 소정의 3차원 배치를 구비함을 특징으로 한다.

최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재의 층에 대한 법선이 위치에 따라, 그 보안마킹의 표면의 법선에 대하여 서로 다른 각을 갖도록 그 층이 LC안료층으로 그 전체영역에 대하여 결합한 평면상의 보안마킹을 이와같은 구성특성에 의해 나타낸다.

서로 다른 각에 따라 관련된 칼라플롭으로 인하여, 관찰자는 위치에 따라 서로 다른 칼라를 관찰한다.

관찰자의 시각에 따라 또 위치에 따라 다른 칼라의 칼라플롭이 존재한다.

본 발명의 보안마킹의 또 다른 형태는 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재의 소정의 반사밴드를 소정의 기술에 의해 확대시킨 그 액정재를 사용하는데 그 특징이 있다.

그 반사밴드의 밴드폭을 조정하는 이와같은 기술로 구성된 방법에 의해 새로운 칼라효과를 얻을 수 있고, 더 복잡한 제조방식에 의해 보안마킹의 위조입증레벨을 상향시킨다.

본 발명의 보안마킹을 제조하는데 사용될 수 있는 키랄상을 가진 액정재는 종래기술에서 공지되어 있다. 예로서 실시예 1.1~1.5에서의 특허문헌에서 공지되어 있다.

다음 표 1은 실시예에서 설명한 키랄상을 가진 액정재의 선택과, 이들의 액정재에서 본 발명의 보안마킹의 제조방법을 요약한 것이다.

[표 1]

본 발명은 또 본 발명의 보안마킹을 제조하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 마킹은 예로서 실시예에서와 같이 제조할 수 있다.

그 보안마킹은 또 다층기술에 의해 제조할 수 있다.

본 발명의 방법은 나선성(handedness), 칼라 및 칼라플롭의 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성이 다른 최소한 2종의 키랄상을 가진 액정재를 구조 또는 비구조 마킹 또는 다층마킹 또는 액정안료의 형태로 액정결정 매트릭스내에 배치시켜 구성하거나, 또는 공지의 방법으로 소정의 기술에 의해 반사밴드를 확대시킨 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재를 처리하여 보안마킹을 형성하도록 구성하거나, 또는 소정의 3차원 배치로 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재로 처리하여 보안마킹을 형성하도록 구성한다.

본 발명은 또 본 발명의 보안마킹을 구성하는 보안시스템과 그 보안마킹을 식별하는 검사장치(test setup)에 관한 것이다.

본 발명의 보안시스템은 본 발명의 위조방지 보안마킹에 처리하여 형성하는 키랄상을 가진 액정재와 그 액정재에 특징이 있고 그 보안마킹에 중요한 것을 선택한 특성을 완전표시하는 검사장치(test setup)를 조합한 것이다.

중효한 것을 선택한 특성으로, 특히 키랄상을 가진 각각의 액정재의 나선성, 칼라 또는 칼라플롭 또는 그 액정재의 소정의 배치가 바람직하다.

그 칼라는 키랄상을 가진 액정재의 반사밴드 형태를 측정하여 결정한다.

칼라플롭은 키랄상을 가진 액정재(아래에서는 LC재 또는 LC종이라 함) 반사밴드의 각을 달리하여 측정한 최소한 2개의 중심파장을 측정하여 결정한다.

그 LC재의 나선성(handedness)은 키랄상을 가진 액정재에 의해 반사된 반사광의 편광을 측정하여 결정한다.

그 LC재의 소정의 배치는 그 LC재의 각각의 액정성분에 대하여 상기 특성을 별도로 측정하여 결정한다.

공지의 검사장치는 동일하게 검출에 적합하나 LC 보안마킹을 완전이용할 수 없다(대비실시예 참조).

본 발명의 보안마킹의 테스트에 적합한 검사장치는 반사밴드의 최소한 2개의 스펙트럼이 서로 다른 지점에서 반사강도를 측정하여 반사밴드의 측정형태를 검출한다.

그 검사장치는 반사밴드의 강도가 최대 50% 이하로 될 때의 파장범위에 그 반사밴드의 중심(중심파장)에서 측정을 함으로써 반사밴드의 특성형태를 검출하는 것이 바람직하다.

그 검사장치는 반사밴드의 강도가 최대 10% 이하인 때의 반사밴드의 파장범위내의 반사밴드의 중심(중심파장)에서 측정을 함으로써 반사밴드의 특성형태를 검출하는 것이 특히 바람직하다.

본 발명에서, 용어 검사장치는 하나 또는 그 이상의 조명유닛에 의해 그 보안마킹을 조명시켜 그 보안마킹에 의해 반사 또는 투과한 광을 하나 또는 그 이상의 검출유닛으로, 검출하는 장치를 나타낸다.

조명유닛(B,B1,B2,B3)은 광원과 선택적으로 결상계(imaging system)(예로서, 콘덴서:condenser), 하나 이상의 파장선택 구성소자(칼라필터, 가열필터 등)와 필요할 경우 광도파체(optical wave guides)로 구성되어 있다.

그 필터의 선택과 수는 사용한 검사장치와 검사할 보안마킹에 따라 좌우되며, 그 검사장치와 관련하여 아래에 구체적으로 설명한다.

그 광원선택을 아래에 설명한다.

조명장치측 개구각 <10˚의 특징이 있는 방향성 조명유닛과, 예로서 울브리히트구(Ulbricht sphere)에 의해 조명장치측 개구 각>10˚로 실현시킬 수 있는 확산조명유닛 사이에는 현저한 차이가 있다(구별된다).

그 검사장치에서, 바람직하게 사용할 수 있는 조명유닛은 다음과 같다.

LU1 : 도 1에 나타낸 바와 같이 광빔 및 칼라식별기를 가진 조명유닛(lighting unit)(1)

이 방향성 조명유닛(1)은 광원(2), 집광렌즈(condenser)(3)와 단수 또는 복수의 파장선택 구성소자(4)로 구성되어 있다.

이와 같은 종류의 조명장치를 도 1에서 실시예로 나타낸다.

이 보안마킹(5)에 접촉한 광은 칼라필터(4)에 의해 스펙트럼선택을 한다.

예로서 도 1에 나타낸 바와 같이 회전식 필터휠(filter wheel)(6)상에 필터가 배치됨으로써 이와같은 선택을 한다.

또 다른 선택은 가동슬라이드(movable slide)상에 이들의 필터를 배치하도록 한다.

LU3 : 광빔을 가진 조명유닛

이 방향성 조명유닛은 광원과 집광렌즈로 구성되어 있다.

이것은 도 1에 나타낸 바와 같이 광원에 해당되나 칼라선택성 필터가 없다.

LU2 : 광도파체(optical wave guide)을 가진 조명유닛

2개 이상의 조명용 광원 대신, 1개의 광원만으로 출발하여 그 보안구성소자를 2개 이상의 각으로 조명하는 2개 이상의 광도파체를 사용할 수 있다.

그 보안구성소자는 그 광도파체와 그 보안마킹쪽으로 지향하는 결상광학계를 사용하여 조명한다.

LU4 : 방향성 광원을 가진 조명유닛

또 다른 광보조 구성성분없이 <10˚의 개구를 가진 광방사 광원으로, 그 예로는 레이저가 있다.

LU5 : 평면상 조명을 하는 조명유닛

피조명면은 그 보안마킹을 테스트할 때 각각의 특성이 정확하게 특징이 있도록 선택할 수 있다.

예로서, 안료가 서로 다른 혼합물의 경우, 각각 하나의 표시숫자가 그 조명스폿(spot) 내부에 있게 할 수 있다.

구성 보안소자의 경우, 전체구성소자, 또는 그 구성소자중 최소한 하나의 특징있는 부분이 그 조명스폿 내부에 있게 할 수 있다.

평면상 조명장치는 예로서 방향성 조명장치의 빔이 단일렌즈 또는 멀티렌즈의 결상계에 의해 확대를 하도록 구성할 수 있다.

LU6 : 확산성 조명유닛(즉, 울브리히트구)

선택각 a1, a2 등에서의 조명대신, 모두 입체각에서 확산조명을 행한다.

이것은 예로서 울브리히트구를 사용하여 행한다.

그 울브리히트구의 조명에서와 같이, 모든 조명각 0˚~90˚에서 보안마킹에 의해 반사된 스펙트럼영역에서 보다 더 큰 스펙트럼영역을 커버하는 광원을 사용한다.

UV 범위에서 넓은 밴드를 가진 광원의 예로는 중수소램프, 고압수은램프, 또는 크세논 램프가 있다.

가시범위에서 넓은 밴드의 광원의 예로는 텅스텐 할로겐 램프, 고압수은램프, 형광램프 또는 크세논램프가 있다.

필터에 의해 스펙트럼 선택을 광대신, 협소한 스펙트럼범위로 광방사를 한정시켜, 그 파장이 키랄상을 가진 액정재의 반사밴드의 중심파장에 대응되는 광원을 사용할 수도 있다.

이와같은 단색광원 및 파장별광원의 예로는 레이저광 또는 금속증기 램프가 있다.

검출유닛 D(D1,D2,D3)의 선택을 아래와 같이 설명한다.

검출장치는 칼라 및/또는 편광선별성 소자에 의해 선택적으로 전치된(preceded) 하나 이상의 리시버(receiver)로 구성된다.

그 필터의 선택과 수는 사용한 검사장치와 테스트할 보안마킹에 따라 좌우되며, 그 검사장치와 관련하여 구체적으로 아래에 설명한다.

그 리시버는 광강도를 검출할뿐이며 칼라 또는 편광에 선택적으로 반응하지 않는 것이 바람직하다.

예로서, UV 및 가시광선스펙트럼 영역내에서 광증폭기(photo multiplier) 또는 실리콘 포토다이오드 및 IR 영역에서 PbS 소자를 사용할 수 있다.

그 검사장치에 적합한 검사유닛을 아래의 실시예에 의해 설명한다.

DU1 : 2개의 리시버를 가진 편광선별 및 파장선별 필터를 가진 검출기.

도 2는 칼라선별과 편광선별을 같이 하는 검출시스템을 실시예로 나타낸 것이다.

그 보안마킹(5)에 의해 반사된 반사광을, 예로서 도2에 나타낸 바와 같이 필터휠(filterwheel)(6)에 의해 빔통로를 통과하는 여러 가지의 칼라필터(4)에 의해 선택된다.

가동슬라이드상에 이들의 필터를 배치하도록 하여 또 다른 선택을 한다.

그 칼라선택별광은 그 다음 λ/4 지연소자(11)에 입사한다.

이 소자에서는 그 보안마킹에서 오는 원편광된 광이 직선편광된 광으로 전환된다.

그 다음으로 편광-선별 빔 스플리터 프리즘(12)에서는 서로간 수직인 2개의 편광방향으로 선택이 행해진다.

그 다음으로, 그 2개의 편광성분빔이 각각의 리시버(13) E1 또는 E2 상에 입사한다.

그 광소자를 선택함으로써, 선택한 스펙트럼영역에 적합한 공지의 기준을 적절하게 처리한다.

λ/4 지연소자(11)는 예로서 선택 스펙트럼영역에 대한 그 지연특성을 유지하는데 필요하다.

적합한 예로는 UV 영역에서 칼사이트(calcite)로 된 프레스넬의 방사체(Fresnel rhombi)와 가시 및 IR 영역에서 파장선별을 한 배향 PC 필름 또는 칼사이트로 된 프레스넬의 방사체가 있다.

2개의 직선 편광구성 성분의 공간분리에 쓰이는 편광빔 스플리터 프리즘은 예로서 UV 범위와 가시 스펙트럼영역에서 에어갭(airgap)을 갖거나, 또는 IR 범위에서 IR-투명시멘팅(transparent cementing)을 가진 글란-톰손 프리즘(Glan-Thompson prism)이 있다.

이와같은 타입의 프리즘의 선별각은 파장에 의존하지 않는다.

DU2 : 편광선별기 및 파장선별 필터와 하나의 리시버를 가진 검출기(20)

검출기 DU1를 변형시켜 하나의 리시버만을 사용한다.

이것을 도 3의 실시예로 나타낸다.

그 보안마킹(5)에 의해 반사된 반사광이 예로서 도 3에 나타낸 바와 같이 필터휘일(6)에 의해 빔통로를 받아들인 여러 가지의 칼라필터(4)에 의해 선별한다.

또 다른 선별을 하여 가동슬라이드상에서 이들의 필터를 배치하도록 한다.

그 칼라 선별광은 그 다음으로 예로서 도 3에 나타낸 바와 같이 가동슬라이드(movable slide)(21)를 사용하여 빔통로에 투입된 우선성원편광소자(22) 및 좌선성 원편광소자(23)에 입사한다.

원편광 소자는 예로서 적합한 시판용 필름을 사용할 수 있다.

DU3 : 파장선별 필터를 가진 검출기

보안마킹에 의해 반사된 반사광이 예로서 필터파일 또는 가동슬라이드에 의해 빔통로에 투입된 여러 가지의 칼라필터에 의해 선별된다.

DU4 : 편광선별기를 가진 2개의 검출기 DU1에서 기재된 장치에 해당한다. 다만 필터에 의한 칼라선별을 하지 않는다.

DU5 : 편광선별기를 가진 검출기 DU2에서 기재된 장치에 해당한다. 다만 필터에 의한 칼라선별을 하지 않는다.

DU6 : 칼라 및 편광의 선별기가 없는 검출기

보안마킹에 의해 반사된 반사광이 선별을 행함이 없이 검출한다.

즉, 칼라검출이나 편광검출에 의해 검출되지 않는다.

DU7 : 검출기로서 비디오 카메라

복사선 감광성만이 있는 리시버대신, 입사복사선의 국소 분해검출은 예로서 비디오 카메라를 사용하여 얻어진다.

그 시스템은 빔통로에 투입될 수 있는 일연의 편광기 및/또는 칼라필터, 비디오 카메라 및 그 부속평가 전자장치로 구성되어 있다.

하나 이상의 렌즈로 이루어진 결상계는 보안 소자의 광을 비디오 카메라에 초점을 맞춘다.

또, 그 칼라필터 및/또는 편광기는 광원과 마킹사이의 빔통로에 투입할 수도 있다.

필터 및 편광기등 선별구성성분의 선택은 검사장치에서 특정의 기준으로 되도록 한다.

조명유닛과 검출유닛의 적합한 조합에 대한 일반적 기준은 다음과 같다.

a) 칼라필터는 조명유닛 또는 검출유닛내에 사용할 수 있다.

b) 그 편광은 모든 각 배치에서 또는 하나의 각 배치에서만 테스트할 수 있다.

여러 가지 검사장치를 형성하는 검출유닛과 조명유닛의 조합을 아래의 실시예를 들어 설명한다.

검사장치 1(TS1) :

도 4는 그 검사장치1(30)의 기본구성을 나타낸다.

액정재를 가진 보안마킹(5)를 조명유닛 B1 및 B2에 의해 동시에 또는 연속적으로 조사시켜, 보안마킹에 의해 칼라 및 편광 선별한 광이 검출유닛 D1 및 D2에 의해 검출되어 분석한다.

그 보안마킹(5)의 칼랴는 각 배치(구성각) a1,b1에서 테스트한다.

구성각 a1은 조명유닛 B1에서 출발하는 조명광빔과 보안마킹(5)의 법선 사이의 각으로 정의되고, 구성각 b1은 보안마킹(5)에서의 법선과 검출유닛 D1의 반사빔 사이에 형성된 각으로 정의된다.

B1에서 보안마킹까지의 광빔과 보안마킹에서 D1까지의 반사빔은 그 각배치(a1,b1)의 입사면으로 형성한다.

a2는 광원 b2의 조명광빔과 보안마킹의 법선 사이의 각으로 형성하며, b2는 보안마킹의 법선과 검출기 D2의 반사빔에 의한 각으로 형성한다.

B2에서 보안마킹(5)까지의 광빔과 보안마킹에서 D2까지의 반사빔은 구성각(a2,b2)의 입사면으로 형성한다.

2개의 구성각(a1,b1) 및 (a2,b2)는 서로 다른 입사면을 가질 수 있다.

그 각은 다음 기준을 만족하는 것이 바람직하다.

a1 = b1, 여기서 a1 : 0˚~ <10˚

a2 = b2, 여기서 a2 : 10˚~ <90˚

그 브래그(Bragg) 조건의 유지가 필수적인 것은 아니나 바람직한 것이다.

반사밴드의 특징적인 형태는 반사밴드의 중심과 측면에서 최소한 3개의 스펙트럼이 다른 지점에서 검출을 실시함으로써 검출한다.

그 반사밴드의 중심파장 즉 최대의 신호강도에서, 보안마킹의 편광특성의 검사(examination)가 또 바람직하다.

구성각(a2,b2)에서 그 칼라를 다시 테스트하면 a2>a1의 조건으로 인하여 더 짧은 파장쪽으로의 변위를 나타낸다.

다음에는 검사장치 1의 안전성에 중요한 특성을 검사(examination)하기 위한 필터선택의 여러 가지 실시예를 설명한다.

FP1-1 : 칼라 및 칼라플롭의 간단한 테스트

도 5는 서로 다른 2개의 각 a1,b1 및 a2,b2에서 조명 및 검출을 행할 때 필요한 보안마킹의 대표적인 2개의 반사밴드(50)를 나타낸다.

그 보안마킹의 특징으로 이들 2개의 밴드 인식은 밴드당 3개의 협소한 밴드필터에 의해 실시한다.

사용한 그 필터는 검출되는 보안소자의 반사밴드에 대하여 밴드폭을 선택한 간섭 필터가 바람직하며, 그 필터의 밴드폭은 반사밴드의 중간치 파장의 0.5~5%, 바람직하게는 1%이다.

예로서, 반사밴드의 중심파장이 1000nm일 때, 밴드폭 10nm을 가진 필터의 사용이 바람직하다.

사용한 피터(즉, 도 5에서 F1~F6)를 선택하여 이들 필터의 최대투과율이 다음과 같도록 한다.

F1은 그 필터의 최대투과율의 파장치가 각 위치(a1,b1)에서의 장파밴드강도를 그 밴드의 중심에서 최대반사율의 <10%로 되도록 하는 파장치에 해당하도록 선택한다.

F2는 각 위치(a1,b1)에서 그 밴드의 중심파장이 검출되도록 선택한다.

F3는 각 위치(a1,b1)에서 단파밴드의 강도가 그 밴드의 중심에서 최대반사율의 <10%로 되도록 하는 파장치에 그 필터의 최대 투과율 파장치가 대응되게 선택한다.

F4는 각 위치(a2,b2)에서 장파밴드의 강도가 그 밴드의 중심에서 최대반사율 <10%로 되도록 하는 파장치에 그 필터의 최대 투과율 파장치가 대응되게 선택한다.

F5는 각 위치(a2,b2)에서 밴드의 중심파장이 그 액정의 방정식(I)에 의한 칼라플롭 조건에 따라 검출되도록 선택한다.

F6는 각 위치(a2,b2)에서 단파밴드의 강도가 그 밴드의 중심에서 최대반사율 <10%로 되도록 하는 파장치에 그 필터의 최대 투과율 파장치가 대응되게 선택한다.

위 6개의 필터의 사용에 의해 1종의 LC를 가진 상기 보안마킹특징을 반사밴드의 폭과 관계없이 검출한다.

FP2-1 : 위조에 대한 입증레벨(안전성)을 높힌 칼라 및 칼라플롭의 확대 테스트.

F1과 F2 또는 F2와 F3의 파장치 사이에 스펙트럼투과성이 있는 2개 이상의 필터를 추가로 사용함으로써, 각 a1,b1에서 특징있는 반사밴드를 더 정밀하게 검출하도록 한다.

이것은 F4와 F5 또는 F5와 F6 사이에 또 다른 필터를 설정할 수 있을 경우 각(a2,b2)에 원용한다.

이것은 위조에 대한 입증레벨(안전성)을 더 높힌다.

FP3-1 : 구성각의 적합한 선택에 의해 필터의 수를 감소시킨 칼라 및 칼라플롭의 테스트.

도 6은 도 5에서 이미 공지된 스펙트럼(50)을 나타낸다.

여기서, 필터 F1~F6의 선택 기준은 FP1-1에서와 동일하게 유효하다.

필터 2에서 각 위치 (a1,b1)의 밴드의 중심파장을 검출함과 동시에 각 위치(a2,b2)에서 그 밴드의 중심 최대 반사율의 <10%로 장파밴드 측면의 감소를 검출하며, 추가로 각 위치(a2,b2)에서 밴드의 중심파장을 필터4에서 검출함과 동시에 각 위치(a1,b1)에서 그 밴드의 중심에서 최대 반사율의 <10%로 단파밴드 측면감소를 검출할 수 있게 2개의 각(a1,b1) 및 (a2,b2)의 조건을 선택한 경우 4개의 필터만이 필요하다.

FP1-1에서 설명한 구성에 따라, 다음의 경우로 된다.

F1, F2 = F4, F3 = F5, F6

FP4-1 : 또 다른 칼라플롭의 사용에 의한 칼라테스트 FP3-1의 확대

칼라테스트 FP3-1에서 F1과 F2 또는 F2와 F3 또는 F5과 F6의 파장치 사이에 이들의 스펙트럼 투과가 존재하는 2개 이상의 필터를 추가로 사용함으로써 (도 6), 특징반사밴드의 더 정밀한 검출을 한다.

이것은 위조에 대한 입증레벨(안전성)을 더 높힌다.

FP5-1 : 구조보안마킹(Ⅱ1-Ⅱ3) 및 3차원 매입 보안마킹(Ⅵ1)의 칼라 및 칼라플롭테스트

보안마킹이 1종 이상의 LC로 구성될 경우 각각의 그 LC는 테스트 검사장치 또는 마킹을 이동시킨 영역에서 선별할 수 있다.

조명/검출영역내의 칼라가 동일하지 않은 2종 이상의 다른 액정이 있을 경우, FP1~FP5 각각에 대하여 설명한 기준에 따라 또 다른 필터가 액정에 대하여 필요하다.

이와 같은 목적에서, 검사장치 PA1은 또 다른 조명 및 검출그룹이 그 샘플면에서 법선을 중심으로 하여 원형방향으로 회전하는 하나의 2중 또는 다중시스템으로 구성할 수 있다.

PP1-1 : 편광테스트

그 보안마킹의 편광은 검사장치 TS1 내 각 위치(a1,b1) 또는 (a2,b2)에서 테스트한다.

그 필터위치 F2의 각 위치(a1,b1)가 바람직하다.

소정의 기준에 따라, 조명유닛 LU1~LU7 및 검출유닛 DU1~DU7의 다음 조합이 검사장치 1에서 바람직하다.

B1 B2 D1 D2 (주)

LU2 LU2 DU1 DU3 FP1-1~FP4-1에 의해 DU1 및 DU3의 필터선택

LU5 LU5 DU1 DU3 FP1-1~FP4-1에 의해 DU1 및 DU3의 필터선택

LU3 DU1 DU3 B1 및 B2는 2개의 광도파체를 가진 광원 LU3에 의해 실현한다.

LU6 DU1 DU3 B1 및 B2는 확산조명유닛 LU6에 의해 실현한다.

검사장치 2 (TS2) :

도 7은 액정재를 가진 보안마킹(5)을 테스트할 수 있는 방법을 나타낸 변경실시예를 나타낸다.

이 변경예에서, 테스트할 보안마킹(5)을 그 보안마킹(5)(마스터:master)과 동일한 타입의 액정재와 그 검출장치내에서 직접 대비한다(M1/M2).

그 마스터는 테스트할 보안마킹과 동일한 반사특성을 가지나, 투명 지지체상에 사용된다.

그 보안마킹이 각 a1 및 a2에서 조명유닛 B1 및 B2에 의해 동시에 또는 연속적으로 조명한다.

이와 같은 조명유닛의 예로는 LU2 또는 LU5에서 설명한 시스템이 있다.

각 b1 또는 b2에서 그 보안마킹에 의해 파장 및 편광의 선별반사를 하는 반사광이 각각의 각 C1 및 C2에서 전 장치(overall setup)내에 위치한 마스터(각각의 M1 및 M2)에 입사하여 각 d1 또는 d2에서 검출기 D1 또는 D3로 각각 완전 반사한다.

이와 같은 종류의 검출기의 예로는 DU6에서 설명한 시스템이 있다.

이와 같은 검사장치에서 그 각은 다음 기준을 충족하는 것이 필요하다.

a1 = C1, 여기서 a1 : 0˚~ <10˚

a2 = C2, 여기서 a2 : 10˚~ <90˚

b1 = d1, 여기서 b1 : 0˚~ <10˚

b2 = d2, 여기서 b2 : 10˚~ <90˚

브래그 조건의 유지가 바람직하다(필수적이 아님).

위조 소자의 경우, 그 반사밴드 외부에서 위(false) 편광 구성성분 및/또는 광이 발생한다.

이 광은 마스터에 의해 투과되어 검출기 D2 또는 D4에 도달된다.

그 검출기에서 그 광의 입사가 서로 다르므로 본래의 보안마킹과 위조 보안마킹을 서로간에 신뢰성있고 감도높게 식별할 수 있다.

검사장치 3(TS3) :

도 8은 액정재를 가진 보안마킹(5)을 검사할 수 있는 방법의 또 다른 변경 실시예를 나타낸다.

3개의 각(a1,a2,a3)에서 3개의 조명유닛(B1,B2,B3)에 의해 그 보안마킹(5)을 조명시켜 그 반사광을 검출유닛(D1,D2,D3)에 의해 3개의 각(b1,b2,b3)에서 검출한다.

이것은 최소한 3개의 필터를 필요로 하며, 조명 각의 적합한 선택을 얻는 이들의 필터는 규격이 동일하다.

검사장치 TS1과 비교하여 이 검사장치는 예로서 필터휠과 같은 가동부를 필요로 하지 않는 점에 특징이 있다.

이 검사장치의 각은 다음 기준을 만족하는 것이 바람직하다.

a1 = C1, 여기서 a1 : 0˚~ <10˚

a2 = b2, 여기서 a2 : 10˚~ <90˚

a3 = b3, 여기서 b1 : 0˚~ <10˚

a3 > a2 > a1

브래그 조건의 유지가 바람직하다(필수적이 아님).

아래에서는 검사장치 3의 보안 관련특성(안전성)을 검사하기 위하여 필터선택의 여러 가지 실시예를 설명한다.

FP1-3 : 칼라 및 칼라플롭의 테스트

도 9는 3개의 서로 다른 각 a1/b1, a2/b2 및 a3/b3에서 조명/검출을 실시할 때 본 발명의 보안마킹의 대표적인 3개의 반사밴드(50)를 나타낸다.

각각의 경우 반사밴드당 한지점을 밴드가 좁은 칼라필터로 검출함으로써 필요한 특성을 가진 보안마킹이 존재하는지의 여부를 인식할 수 있다.

선택할 필터의 파장선택(도 9에서 F1~F3)에 있어서, 다음의 경우가 있다.

F1은 각 위치(a1,b1)에서 단파밴드의 강도가 그 밴드의 중심에서 최대 반사율 <10%로 되도록 하는 파장치에 그 필터의 최대 투과율 파장치가 대응되게 선택한다.

F2는 그 밴드의 중심파장을 각 위치(a2,b2)에서 검출하도록 선택한다.

F3는 각 위치(a3,b3)에서 장파밴드의 강도가 그 밴드의 중심에서 최대 반사율 <10%로 되도록 하는 파장치에 그 필터의 최대 투과율 파장치가 대응되게 선택한다.

FP2-3 : 구성각의 적합한 선택에 의한 하나의 필터 타입에서 칼라 및 칼라플롭의 테스트

그 검사장치는 TS3와 동일하게, 3개의 동일한 필터 F3=F2=F1을 3개의 빔 통로내에 사용된다.

그 필터선택에 있어서, 다음의 경우가 있다(도 10) :

각 위치(a1,b1)에서 단파측면 = 각 위치(a2,b2)에서 중심파장 = 각 위치(a3,b3)에서 장파측면

PP1-3 : 편광테스트

각 위치(a2,b2)에서 필터 F2를 사용하여 편광 테스트를 칼라테스트와 함께 실시하였다.

TS1에서와 동일한 소정의 조명 및 검출유닛의 조합은 TS3에서와 동일하다.

검사장치 4(TS4) :

구조 보안마킹(표 1에서 Ⅱ1-Ⅱ2에 대응함)은 비디오 카메라에서 그 전체의 윤곽 또는 윤곽의 일부를 결상시켜(imaging) 그 결상과 전자기억마스터를 비교함으로써 식별할 수 있다.

이와 같은 검사장치에 의한 복잡한 패턴이라도 기계에 의해 그 패턴전체를 식별할 수 있다.

구조가 복잡한 마킹은 위조에 대한 입증레벨(안전성)을 상당히 높힌다.

그 검사장치 TS4는 검사장치 TS1에서와 같이 구성각(a1,b1) 및 (a2,b2)를 가진 2개의 빔통로로 이루어지거나 또는 검사장치 TS3에서와 같이 구성각 (a1,b1), (a2,b2) 및 (a3,b3)를 가진 3개의 빔통로로 이루어진다.

이와 같은 종류의 검사장치(60)를 도 11에 나타내며, 하나의 각 구성 (a1,b1)만을 가진다.

그 조명유닛은 광원(1)과, 각 a1에서 구조 보안마킹요소 전부 또는 그 일부를 조명하는 결상계(imaging system)로 구성되어 있다(예로서 LU5).

각 b1에서 반사된 반사광은 검출시스템에서 분석한다.

그 검출시스템은 하나 이상의 렌즈로 이루어진 결상계(61), 하나 이상의 칼라필터(62) 및/또는 편광기(63), 비디오 카메라(64) 및 그 부속평가 전자장치(65)로 구성되어 있다.

또, 그 칼라필터(62) 및/또는 편광(63)는 광원(1)과 보안마킹(5) 사이의 빔통로내에 수용할 수도 있다.

서로 다른 칼라 및/또는 편광에 의해 식별되는 구성성분 패턴을 디지탈화하여 그 대응되는 전자기억 패턴과 비교한다.

소정의 공차범위내에서 그 편차가 허용하도록 그 비교를 실시하는 것이 바람직하다.

다음은 검사장치 4의 보안관련 특성(안전성)을 검사하기 위한 필터선택에 대한 여러 가지의 변형 실시예를 설명한다.

FP1-4 : 칼라 및 편광의 테스트

그 빔통로에 여러 가지의 칼라필터 및/또는 편광기를 차례로 삽입시킴으로써 서로 다른 칼라 및/또는 편광의 성분패턴을 비디오 카메라에서 계속 검출한다.

그 칼라필터의 선택은 검사장치 TS1 및 TS3에서 설명한 바와 같은 기준에 따른다.

FP2-4 : 칼라테스트의 확대

위조에 대한 입증레벨(안전성)을 높이기 위하여, 그 칼라의 검사를, 반사밴드의 중심에서 하나의 필터만을 사용하지 않는 검사장치 TS1와 동일하게 실시하였다.

그 대신 반사밴드의 저하는 그 반사밴드(50)(도 5)의 외부에서 2개의 다른 필터에 의해 검사한다.

그 칼라플롭의 선택은 검사장치 TS1 및 TS3에서 설명한 기준에 따른다.

FP3-4 : 칼라플롭의 테스트

그 칼라플롭을 검사하기 위하여 그 조명 및 검사시스템을 구성각(a2,b2)에서 배치한다.

그 칼라플롭은 적합한 칼라필터를 삽입시켜 검사한다.

그 칼라필터의 선택은 검사장치 TS1 및 TS3에서 설명한 기준에 따른다.

선택적 장치

보안마킹과 마스터의 전자방식 대비 대신, 다른 패턴 식별방법을 사용할 수도 있다.

그 예로는 간섭계측(interferometric) 또는 홀로그래픽 패턴식별을 사용할 수 있다.

그 검사장치는 실시예에 의해 나타낸 보안마킹의 반사 특징의 검출에 제한을 받지 않는다.

동일한 방법으로, 투과시의 검출에 의해 투명기재상의 보안마킹을 검출할 수 있다.

여기서, 조명 및 검출의 동일한 기준은 위에서 설명한 반사기술에서와 같이 적용할 수 있다.

표 2는 표 1에서 설명한 본 발명의 보안마킹과 위에서 설명한 바와 같이 각각의 경우 적합한 검출시스템의 조합을 다시 형성한 본 발명의 바람직한 보안시스템을 설명한 것이다.

그 LC 재에 적합한 구성성분을 가진 필터를 검사장치에서 그 보안마킹의 각각의 LC 종류에 사용하도록 한다.

[표 2]

본 발명은 데이터 캐리어(data carriers)(정보담체), 유가증권 및 증명서에서의 보안소자로서 본 발명의 보안마킹의 사용에 관한 것이다.

본 발명의 보안마킹은 예로서 특허문헌 DE 3942663에 기재되어 있는 바와 같이 모두 공지의 보안마킹과 조합할 수 있다.

다음 실시예를 들어 본 발명을 설명한다.

실시예 1.1 : 좌선성 나선구조를 가진 액정재의 제조

특허문헌 EP 0 358 208의 실시예 1 및 2에 의해 제조하였다.

실시예 1.2 : 좌선성 나선 구조를 가진 액정재의 제조

특허문헌 EP 0 601 483의 실시예 2에 의해 제조하였다.

실시예 1.3 : 좌선성 나선 구조를 가진 액정재의 제조

특허문헌 US 4,637,896의 실시예 1에 의해 제조하였다.

실시예 1.4 : 우선성 나선구조를 가진 액정재의 제조

특허문헌 DE 42 34 845의 실시예 1에 의해 제조하였다.

실시예 1.5 : 우선성 나선 구조를 가진 액정재의 제조

특허문헌 WO 95/24454의 실시예 55에 의해 제조하였다.

실시예 1.6 : 실시예 1.1~1.5에서 얻은 액정재를 사용하여 액정재의 칼라조정(coloring)

소정의 바람직한 반사파장(즉, 실시예 2.1~2.4에 의함)과 나선구조의 나선성(handedness)은 예로서 실시예 1.1 또는 1.2 또는 1.3의 좌선성 나선구조를 가진 액정재를 블렌딩(blending)시키거나, 또는 실시예 1.4 또는 1.5의 우선성을 가진 우선성 원편광성분과 우선성 나선구조를 가진 액정재를 블렌딩시키거나 또는 특허문헌 DE 42 34 845의 실시예 5에 의해 실시예 1.1 또는 1.2 또는 1.3의 좌선성을 가진 액정재와 실시예 1.4 또는 1.5의 우선성을 가진 액정재를 블렌딩시켜 조정할 수 있다.

각각의 블렌드(blend)의 조성을 변경시켜 그 반사파장을 특히 200nm(UV)~3000nm(IR)으로 조정할 수 있다.

실시예 2.1 : 가시 스펙트럼영역내 모든 구성각에서 반사되는 액정재의 반사파장의 조정

실시예 1.6에서와 같이 그 반사파장은, 반사곡선의 단파측면(flank)의 구성각 a1=b1=0˚(도 4에 의함)에서 700nm 이하이고, 그 반사곡선의 장파측면이 구성각 a1=b1=80˚에서 420nm 이상이 되도록 조정하였다.

실시예 2.2 : 가시 스펙트럼영역중에 모든 구성각에서 반사되는 그 반사곡선을 확대시키는 액정재의 제조

특허문헌 EP 0 606 940에 기재되어 있는 방법에 의해 사용한 액정시스템을 확대시켜 실시예 2.1의 처리공정을 반복하였다.

실시예 2.3 : IR 스펙트럼영역중에 일정한 급경사 구성각에서 반사되고, 가스스펙트럼영역중에 평면 구성각에서 반사되는 액정재의 제조

실시예 1.6에서와 같이, 반사곡선의 단파측면이 구성각 a1=b1=0˚(도 4에 의함) 700nm 이상이 되도록 하고 최소한 하나의 구성각 a1=b1>0˚에서 700nm 이하가 되도록 그 반사파장을 조정하였다.

실시예 2.4 : 가시스펙트럼영역중에 일정한 급경사 구성각에서 반사되고 그 반사곡선이 확대되는 액정재의 제조

그 사용한 액정시스템을 특허문헌 EP 0 606 940에 기재되어 있는 방법에 의해 확대시켜 실시예 2.3의 처리공정을 반복하였다.

실시예 2.5 : 가시 스펙트럼영역중에 일정한 급경사 구성각에서 반사되고 자외선 스펙트럼 영역중에 평면 구성각에서 반사되는 액정재의 제조

실시예 1.6에서와 같이 그 반사곡선의 장파측면이 구성각 a1=b1=0˚(도 4에 의함)에서 420nm 이상이 되도록 하며, 그 반사곡선의 장파측면이 최소한 하나의 구성각 a1=b1>0˚에서 420nm 이하가 되도록 그 반사파장을 조정하였다.

실시예 2.6 : 가시 스펙트럼 영역중에 일정한 급경사 구성각에서 반사되고, 자외선 스펙트럼 영역중에 평면구성각에서 반사되며, 그 반사파장을 확대시키는 액정재의 제조

특허문헌 EP 0 606 940의 방법에 의해 그 사용한 액정시스템을 확대시켜 실시예 2.5의 처리공정을 반복하였다.

실시예 2.7 : 칼라가 동일하고 나선구조가 서로 다른 나선성을 가진 2종의 액정재의 제조

2종의 액정재의 특징있는 반사밴드가 서로 다르지 않게 하거나 또는 최소한 동일하게 하여 그 특징있는 반사밴드의 중심파장을 그 중심파장치의 1% 이하 정도로 다르게 하며 그 반사밴드의 밴드폭을 2% 이하 정도로 편차가 나도록 하여 2종의 액정재를 제조하였다.

액정재 1 : rh, 액정재 2 : 1h

액정재 1 및 액정재 2의 중심파장과 나선성은 실시예 1.6에서와 같이 조정하고, 액정재 1 및 액정재 2의 중심파장 및 밴드폭은 실시예 2.1~실시예 2.6 중 하나에 나타낸 구체적 내용과 동일하게 하였다.

실시예 2.8 : 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 동일한 2종의 액정재의 제조

다음의 실시예 2.8a 또는 2.8b에서와 같이 하여 2종의 액정재를 제조하였다.

그 2종의 액정재의 특징있는 반사밴드의 중심파장은 중심파장치의 1% 이상 다르며 그 반사밴드의 밴드폭은 2% 이상 편차가 발생하였다.

실시예 2.8a : 액정재 1 : rh, 액정재 2 : rh

나선성 액정재 1 및 나선성 액정재 2의 중심파장과 나선성을 실시예 1.6에서와 같이하여 조정하였다.

그 액정재 1 및 액정재 2의 중심파장과 밴드폭은 실시예 2.1~2.6 중 하나의 실시예에서와 같이 하여 조정하였다.

실시예 2.8b : 액정재 1 : 1h, 액정재 2 : 1h

액정재 1 및 액정재 2의 중심파장과 나선성은 실시예 1.6에서와 같이 하여 조정하였다.

실시예 2.9 : 칼라가 다르며, 나선구조의 나선성이 다른 2종의 액정재의 제조

2종의 액정재의 특징있는 반사밴드를 서로 다르게 하고, 그 나선성을 서로 반대가 되도록 하여 2종의 액정재를 제조하였다.

그 중심파장은 중심파장치의 1% 이상 서로 다르게 하고 반사밴드의 반사폭을 2% 이상 서로 편차가 나도록 하여 2종의 특징있는 반사밴드를 서로 다르게 하였다.

액정재 1 : rh, 액정재 2 : 1h

액정재 1 및 액정재 2의 중심파장과 나선성은 실시예 1.6에서와 같이 조정하였다.

액정재 1 및 액정재 2의 중심파장과 밴드폭은 실시예 2.1~2.6 중 하나의 실시예에서와 같이 하여 조정하였다.

실시예 3.1 : 지지필름상에서 액정층의 제조

실시예 2.1~2.6 중 하나의 실시예에 의해 조정한 액정재를 특허문헌 EP 358 208에 기재된 방법에 의해 폴리에스테르필름 등 내인열성 플라스틱에 처리하여 배향 및 가교를 실시하였다.

여기서, 특허문헌 DE 39 42 663에서 기재된 변경 실시예 전체를 사용하였다(즉, 흑색 또는 착색 백그라운드, 백그라운드의 구조).

그 결과 얻어진 액정재를 가진 지지웨브(web)를 예로서 특허문헌 DE 39 42 663에서와 같이 협소한 웨브 또는 필라멘트로 되게 절단하여 보안 필라멘트로서 종이 또는 기타재료에 매입하였다.

예로서 전자소자의 제조용으로 특허문헌 DE 39 42 663에 기재된 다른 방법 전체도 그 제조가 가능하다(특허문헌 DE 39 42 663을 참고로 예시한 것임).

실시예 3.2 : 전체영역 코팅에서 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다른 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

폴리에스테르 필름 등 지지재를 실시예 3.1에서와 같이 실시예 2.7에 의해 제조한 2종의 서로 다른 액정재로 각각 코팅하였다.

펀칭(punching)등 공지의 기술에 의해 이와 같이 하여 얻은 2종 필름을 사용하여 패턴을 제조하였으며, 그 패턴을 사용하여 칼라가 동일하고 나선성이 다른 2종의 액정재로 이루어진 보안 소자를 제조하였다.

이것은 예로서 특허문헌 DE 39 42 663에 기재된 방법에 의해 데이터 캐리어에서 보안소자를 제조/처리하는데 사용하였다.

실시예 3.3 : 전영역코팅에서 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다른 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

실시예 2.7에서와 같이 하여 제조한 2종의 다른 액정재를 폴리에스테르 필름 등 지지체에 특허문헌 EP 358 208에 기재된 방법에 의해 서로 직접 인접한 2개의 각각의 체임버를 가진 체임버타입 코팅바를 사용하여 동시에 처리하였다.

그 다음, 배향 및 가교를 실시하였다.

그 결과, 서로 직접 인접시켜 조정한 2종의 다른 액정영역을 가진 필름 스트립을 얻었다.

이와 같이 하여 제조한 필름스트립의 또 다른 처리방법은 특허문헌 DE 39 42 663의 방법과 동일하다.

실시예 3.4 : 전영역 코팅에서 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 동일한 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

사용한 액정재를 실시예 2.7 보다 실시예 2.8에서와 같이 하여 제조하는 것을 제외하고는 실시예 3.2의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.5 : 전영역 코팅에서 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 동일한 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

실시예 2.7 보다 실시예 2.8에서와 같이 하여 사용할 액정재를 제조하는 것을 제외하고는 실시예 3.3에서의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.6 : 전영역 코팅에서 칼라를 달리하고 나선구조를 달리한 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

실시예 2.7 보다 실시예 2.9에서와 같이 하여 사용할 액정재를 제조하는 것을 제외하고는 실시예 3.2의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.7 : 전영역 코팅에서 칼라를 달리하고 나선구조의 나선성을 달리한 2종의 액정재에서 구조마킹의 제조

실시예 2.7 보다 실시예 2.9에서와 같이 하여 사용할 액정재를 제조하는 것을 제외하고는 실시예 3.3에서와 같이 그 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.8 : 전영역코팅에서 서로 상하에 처리한 2종의 다른 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.7, 2.8 또는 2.9에서와 같이 하여 제조한 2종의 다른 액정재를 폴리에스테르 필름 등 내인열성 플라스틱에 특허문헌 EP 358 208에 기재된 방법에 의해 각각 처리하여 배향 및 가교를 실시하였다.

이와 같이 하여 얻어진 지지웨브를 공지의 방법, 예로서 그 액정층에 처리한 열용융 접착층에 의해 적층하였다.

이것은 예로서 특허문헌 DE 39 42 663에 기재되어 있다.

이와 같이 하여 얻어진 그 지지웨브는 특허문헌 DE 39 42 663의 처리공정에 사용할 수 있다(예로서 보안필라멘트의 제조용).

실시예 3.9 : 전영역 코팅에서 서로 상하에 처리한 2종의 다른 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.7, 2.8 또는 2.9에서와 같이 하여 제조한 2종의 다른 액정재를 폴리에스테르필름 등 내인열성 플라스틱에 특허문헌 JP 08 146 416 A2에서 기재된 방법에 의해 서로 상층에 연속처리하였다.

이와 같이 하여 얻어진 지지웨브를 실시예 3.8에서와 같이 더 처리시켜 보안소자로 가공하였다.

실시예 3.10 : 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다르게 서로 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.7에서와 같이 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.8의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.11 : 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다르게 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조(실시예 3.10에 대하여 선택적 실시예임)

실시예 2.7에서와 같이 제조한 액정재를 사용하여, 실시예 3.9의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.12 : 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 동일하게 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.8에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.8의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.13 : 칼라가 다르고, 나선구조의 나선성이 동일하게 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조(실시예 3.12에 대하여 선택적인 실시예임)

실시예 2.8에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.9의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.14 : 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 다르게 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.9에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.8의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.15 : 칼라를 다르게 나선구조의 나선성을 다르게 상하에 처리한 2종의 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조

실시예 2.9에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.9의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.16 : 다른 액정재에 혼합시킨 키랄상을 가진 액정안료에서 보안마킹의 제조

실시예 2.7, 2.8 또는 2.9에 의해 제조한 2종의 다른 액정재를 다음과 같이 더 처리하였다.

액정재 1(제1액정재)을 특허문헌 EP 0 601 483의 실시예 1B에서와 같이 안료에 처리시킨 다음, 액정재 2(제2액정재)에 혼합하였다.

그 액정재 2는 폴리에스테르 필름 등 내인열성 플라스틱에 최종적으로 처리시킨 다음 배향 및 가교를 실시하였다.

액정재 1(안료형태)과 액정재 2의 비는 그 액정재 2가 종래기술에 의한 조건하에서 충분하게 배향시킬 수 있도록 선택할 필요가 있다.

보안소자를 형성시키기 위하여 그 코팅 지지웨브를 특허문헌 DE 39 42 663에 기재된 방법과 동일하게 더 처리하였다.

실시예 3.17 : 다른 액정재에 혼합시킨 키랄상을 가진 액정안료에서 보안마킹의 제조(2종의 액정재는 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다름)

실시예 2.7에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.16의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.18 : 다른 액정재에 혼합시킨 키랄상을 가진 액정안료에서 보안마킹의 제조(2종의 액정재는 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 동일함)

실시예 2.8에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.17의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.19 : 다른 액정재에 혼합시킨 키랄상을 가진 액정안료에서 보안마킹의 제조(2종의 액정재는 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 다름)

실시예 2.9에서와 같이 하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.18의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.20 : 매트릭스에서 액정재와 3차원 배치로 이루어진 보안마킹의 제조

이 실시예에서, 서로 다른 조명/검출배치하에 키랄상을 가진 액정시스템의 현저한 칼라플롭 특성은 예로서 도 12에 나타낸 바와 같이 보안마킹의 서로 다른 지점에서 매트릭스내 서로 다른 각에서 액정시스템을 고정시켜 사용하였다.

따라서, 실시예 2.1~2.6에 의해 제조한 사용할 액정재를 우선 폴리에스테르 필름 등 필름에 처리시킨 다음, 배향과 가교를 실시하였다.

예로서 PVC로 된 폴리머매트릭스를 성형 프레스에 의해 톱니형상으로 변환시켰다.

그 다음, 폴리에스테르 필름으로 이루어지고 액정재를 처리한 지지웨브(support web)를 그 톱니구조에 처리하였다(예로서, 열용융 접착기술을 사용하는 적층에 의해). 그리고, 또 다른 폴리머 매트릭스로 최종적으로 커버하였다.

이와 같이 하여, 평면상의 보안마킹이 얻어졌으며, 그 마킹은 예로서 카아드(card)에 매입시킬 수 있다.

이와 같이 하여 제조한 보안마킹(5)은 다음과 같이 하여 검출하였다.

도 12에서와 같이, 예로서 실시예 4.1에 기재된 조명/검출 시스템은 그 보안마킹의 2가지의 다른 지점에서 다음 신호를 발생한다.

B1 및 D1을 가진 위치1에서 중심파장을 가진 반사밴드는 방정식(I)에 의해 얻었으며, B1 및 D1의 위치설정에 의해 결정된(a1=b1) 각 a1 및 b1이 얻어짐과 동시에 B2 및 D2를 가진 위치2에서 브래그 조건(a2=b2)에 대응되는 중심파장을 가진 반사밴드가 얻어진다.

위에서 설명한 실시예 3.1~3.20은 전영역 처리에서 액정재로 처리하였다.

그러나, 또 키랄상을 가진 액정재로 이루어진 안료를 사용하여 특허문헌 EP 0 685 749에서 기재된 모자이크원리(mosaic principle)에 의해 전표면효과를 얻을 수 있다.

따라서, 실시예 3.1~3.20에서 기재된 보안마킹은 다음 실시예에서 설명한 바와 같이 안료에서 제조할 수도 있다.

실시예 3.21 : 바인더중에 배합시킨 키랄상을 가진 액정재로 이루어진 안료의 스크린 프린팅에 의한 지지 필름상의 액정층의 제조

실시예 2.7에서와 같이, 반사파장을 실시예 2.1~2.6에서 설명한 값으로 조정한 실시예 1.1~1.5의 액정재를 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서 설명한 방법에 의한 안료에 처리하였다.

이와 같이 하여 얻어진 안료를 종래의 스크린프린팅에 의해 예로서 폴리에스테르 필름 등 내인열성 플라스틱에 처리하였다.

그 다음으로 적합한 바인더계에 혼합하였다.

이들의 필름을 예로서 특허문헌 DE 39 42 663에 기재된 방법에 의해 더 처리하였다.

보안마킹을 제조하기 위하여 여기서 설명한 여러 가지 변경 실시예를 사용할 수도 있다.

실시예 3.22 : 폴리머매트릭스에 배합시킨 키랄상을 가진 액정재로 이루어진 안료의 액정층의 제조

실시예 1.1-1.4에서 실시예 2.7에 의해 제조후 실시예 2.1~2.6에 의한 파장으로 조정한 액정재를 특허문헌 EP 0 601 483에 기재된 방법에 의해 PVC에 배합하였다.

실시예 3.21에서와 같이 하여 그 결과 얻어진 필름을 더 처리하였다.

실시예 3.23 : 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다른 2종 안료에서 구조마킹의 제조

액정재로 이루어진 필름을, 실시예 2.7에서와 같이 하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.21에 의해 제조하였다.

실시예 3.2에서와 같이 구조마킹에 그 지지필름을 더 처리하였다.

실시예 3.24 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 칼라가 동일한 2종의 안료에서 구조마킹의 제조

실시예 2.7에서와 같이 하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.22에 의해 그 지지필름을 제조하였다.

그리고, 실시예 3.2에서와 같이 구조마킹에 그 지지필름을 처리하였다.

실시예 3.25 : 나선구조의 나선성이 동일한 액정재로 이루어진 2종의 칼라가 다른 안료에서 구조마킹의 제조.

실시예 2.8에서와 같이 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.1에 의해 그 지지필름을 제조하였다.

실시예 3.26 : 실시예 3.25의 변경 실시예 : 나선구조의 나선성이 동일한 액정재로 이루어진 2종의 칼라가 다른 안료에서 구조마킹의 제조.

실시예 2.8에서와 같이하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.22에 의해 그 지지필름을 제조하였다.

실시예 3.27 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 2종의 칼라가 다른 안료에서 구조마킹의 제조.

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.2에 의해 그 지지필름을 제조하였다.

그리고, 실시예 3.2에서와 같이하여 구조마킹에 그 지지필름을 처리하였다.

실시예 3.28 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 2종의 칼라가 다른 안료에서 구조마킹의 제조.

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여 실시예 3.22에 의해 그 지지필름을 제조하였다.

실시예 3.29 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 칼라가 동일한 안료 혼합물로 구성된 비구조마킹의 제조.

실시예 2.5에서와 같이 칼라에 대하여 서로 조정한 2종의 액정재를 각각 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에 기재된 방법에 의해 안료에 처리하였다.

그다음 이와 같이하여 얻어진 안료를 다음과 같이 혼합비 A:B(wt%)로 더 처리하였다.

실시예 3.29 a : A:B = 1:1, 실시예 3.21(스크린 프린팅방법)에서와 같이하여 처리하였다.

실시예 3.29 b : A:B = 2:1, 실시예 3.21(스크린 프린팅방법)에서와 같이 처리하였다.

실시예 3.29 C : A:B = 1:2, 실시예 3.21(스크린 프린팅방법)에서와 같이 처리하였다.

그 비 A:B는 예로서 다음의 실시예 4.1에서 얻어진 검출장치를 사용하여 반사밴드의 상대강도에서 측정할 수 있다.

실시예 3.30 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 칼라가 동일한 안료혼합물로 구성된 비구조마킹의 제조.

그 안료를 실시예 3.21(스크린 프린팅 방법)에서와 같이 처리하지 않고, 실시예 3.22(필름에 혼합)에서와 같이 처리하여 실시예 3.29의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.31 : 나선구조의 나선성이 동일한 액정재로 이루어진 칼라가 다른 안료 혼합물로 구성된 비구조마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재보다 오히려 실시예 2.8에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.29의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.32 : 나선구조의 나선성이 동일한 액정재로 이루어진 칼라가 다른 안료 혼합물로 구성된 비구조 마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이 제조한 액정재보다 오히려 실시예 2.8에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.30의 처리공정을 반복시켜 제조하였다.

실시예 3.33 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 칼라가 다른 안료 혼합물로 구성된 비구조 마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재보다 오히려 실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.29의 처리공정을 반복시하여 제조하였다.

실시예 3.34 : 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 칼라가 다른 안료 혼합물로 구성된 비구조마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재보다 오히려 실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하여 실시예 3.30의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.35 : 스크린 프린팅 방법에 의해 처리한 2종의 다른 안료로 구성되는 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.7, 2.8 또는 2.9에서와 같이하여 제조한 2종의 다른 액정재를 사용하여, 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서 기재된 방법에 의해 안료를 제조하였다.

스크린 프린팅용 바인더를 사용하는 스크린 프린팅방법에 의해, 그 안료를 각각 폴리에스테르필름 등 내인열성 플라스틱에 처리하였다.

이와 같이하여 얻어진 2종의 지지웨브를 실시예 3.8에서와 같이 처리하였다.

실시예 3.26 : 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 액정재로 이뤄진 2종의 다른 안료로 구성되는 보안마킹의 제조.

스크린 프린팅방법 대신 안료를 각각 실시예 3.22에서와 같이 폴리머 매트릭스에 배합시키는 것을 제외하고는 실시예 3.35의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.37 : 2종의 다른 액정재에서 제조한 안료의 제조(이들의 액정재를 상하로 피복했음).

지지필름에서 실시예 3.9에서와 같이 처리한 액정 이중층을 기층으로 사용하여 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1C에서와 같이 안료를 제조하였다.

여기서 사용한 액정재는 실시예 2.7, 2.8 또는 2.9에서와 같이하여 제조하였다.

실시예 3.38 : 스크린 프린팅방법에 의해 처리되고 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어진 안료를 구성한 보안마킹의 제조.

실시예 3.21의 방법과 동일한 스크린 프린팅방법으로 실시예 3.37에서 제조한 안료를 처리하였다.

이와 같이하여 얻어진 지지웨브를 더 처리하여 실시예 3.21에서와 같이 마킹을 얻었다.

실시예 3.39 : 실시예 3.38의 변형 실시예 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지며 폴리머 매트릭스에 배합시킨 안료로 구성된 보안마킹의 제조.

실시예 3.37에서 제조한 안료를 실시예 3.22의 방법에 의해 폴리머 매트릭스에 배합시켜 더 처리하여 마킹을 얻었다.

실시예 3.40 : 스크린 프린팅방법에 의해 처리된 2종의 다른 안료로 이루어지며 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며 실시예 3.35의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.41 : 실시예 40의 변경 실시예 : 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어지고, 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 2종의 다른 안료로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이 제조한 액정재를 사용하며 실시예 3.36의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.42 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지고, 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다르며 스크린 프린팅 방법에 의해 처리한 안료로 구성하는 보안마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.38의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.43 : 실시예 3.42의 변경 실시예 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지고, 칼라가 동일하며 나선구조의 나선성이 다르며, 폴리머매트릭스에 배합시킨 안료로 이루어지는 보안마킹의 제조.

실시예 2.7에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.39의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.44 : 스크린 프린팅방법에 의해 처리한 2종의 안료로 이루어지고, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 동일한 보안마킹의 제조.

실시예 2.8에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.35의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.47 : 실시예 3.42의 변경 실시예 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지고, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 동일하고 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 안료로 이루어지는 보안마킹의 제조.

실시예 2.8에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.39의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.48 : 스크린 프린팅방법에 의해 처리한 2종의 다른 안료로 이루어지고, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며 실시예 3.35의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

응용실시예 3.49 : 실시예 3.40의 변경 실시예 : 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 2종의 다른 안료로 이루어지고, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 다른 액정재로 이루어진 보안마킹의 제조..

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.36의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.50 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지며, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 다르고, 스크린 프린팅방법에 의해 처리한 안료로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며 실시예 3.38의 처리공정을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.51 : 2개의 상하로 피복시킨 액정층으로 이루어지고, 칼라가 다르며 나선구조의 나선성이 다르며, 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 안료로 이루어진 보안마킹의 제조.

실시예 2.9에서와 같이하여 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.39의 처리방법을 반복하여 제조하였다.

실시예 3.52 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성된 보안마킹의 제조(이 경우 사용한 액정재는 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 다름)

실시예 2.7에 의해 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.16에서와 같이하여 코팅 지지웨브를 제조하고, 이 지지웨브를 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서와 같이 안료에 더 처리하였다.

이와 같이하여 제조한 안료를 실시예 3.21의 스크린 프린팅 방법에 의해 더 처리하였다.

실시예 3.53 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성된 보안마킹의 제조(이 경우 그 액정재는 칼라가 동일한 나선구조와 나선성이 다름)

이와 같이하여 제조한 안료를 실시예 3.22에 의해 폴리머 매트릭스에 더 처리하였다.

실시예 3.54 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성된 보안마킹의 제조(그 액정재는 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 동일함)

실시예 2.8에 의해 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.16에서와 같이하여 코팅 지지웨브를 제조하고, 그 지지웨브를 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서와 같이 안료에 더 처리하였다.

이와 같이하여 제조한 안료를 실시예 3.21의 스크린 프린팅방법에 의해 더 처리하였다.

실시예 3.55 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성된 보안마킹의 제조(그 액정재는 칼라가 동일하고 나선구조의 나선성이 동일함)

실시예 2.8에 의해 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.6에서와 같이하여 코팅 지지웨브를 제조하고, 그 지지웨브를 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서와 같이 안료에 더 처리하였다.

실시예 3.56 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성한 보안마킹의 제조(그 액정재는 칼라가 다르고, 나선구조의 나선성이 다름)

실시예 2.9에 의해 제조한 액정재를 사용하며, 실시예 3.16에서와 같이하여 코팅 지지웨브를 제조하고, 그 지지웨브를 특허문헌 EP 0 601 483, 실시예 1B에서와 같이 안료에 더 처리하였다.

이와 같이하여 제조한 안료를 실시예 3.21에 의한 스크린 프린팅방법에 의해 더 처리하였다.

실시예 3.57 : 실시예 3.56의 변경 실시예 : 액정재로 이루어진 안료를 배합시킨 액정재로 이루어진 안료로 구성된 보안마킹의 제조(그 액정재는 칼라가 다르고 나선구조의 나선성이 다름)

이와 같이하여 제조한 안료를 실시예 3.22에 의한 폴리머매트릭스내에 더 처리하였다.

실시예 3.58 : 매트릭스내에서 액정재를 3차원 배치로 구성한 보안마킹의 제조(그 액정재가 스크린 프린팅방법에 의해 처리한 안료로 이루어짐)

지지필름에 액정재를 직접 처리하는 대신, 액정재로 이루어진 안료를 실시예 3.21에서와 같이 스크린 프린팅방법에 의해 처리하여 실시예 3.20의 처리공정을 반복하였다.

실시예 3.59 : 매트릭스내에 액정재를 3차원 배치로 구성한 보안마킹의 제조(그 액정재가 폴리머 매트릭스내에 배합시킨 안료로 구성됨)

지지필름에 액정재를 직접 처리하는 대신, 액정재로 이루어진 안료를 실시예 3.22에서와 같이 폴리머 매트릭스내에 배합시켜 실시예 3.20의 처리공정을 반복하였다.

대비실시예 : 특허문헌 DE 39 42 663 A1, 10쪽에 기재된 장치에 의한 위조 원편광 소자의 검출

위조원편광 소자(forged, circular-polarizing element)(70)의 구성을 도13에 나타낸다.

예로서 알루미늄 박 또는 미러영역(mirror area) 등 반사층(71)이필름으로 이루어진 시판용 원편광 필름과 그 반사층(71)과 대향한 선형 편광체(polarizer)등 원편광 층(72)으로 커버되어 있다.

두 구성성분은 밴드폭이 일반적으로 콜레스테릭 반사밴드보다 상당히 큰 원형반사 소자를 동시에 형성한다.

비편광된 광(73)을 가진 광원으로 조사할 때 이 소자에서 원편광된 광(74)이 반사되어, 그 칼라필터의 밴드폭에 대응되는 부분이 그 소자를 통과하여필름에 의해 선편광방사로 변환되어 2개의 검출기(146,147)중 하나에서 전강도를 발생함과 동시에, 또 다른 검출기에서는 광을 받아들이지 않는다.

또 다른 각에서 그 칼라플롭을 측정할 때에도 그 원형반사의 큰 밴드폭으로 인하여 그 위조 소자가 원래의 것으로 식별된다.

따라서, 특허문헌 DE 39 42 663의 10쪽에 기재된 장치에서는 위조 보안소자가 원래의 것으로 잘못 식별되었다.

다음 실시예 4.1~4.4에서는 실시예에 의해 보안마킹을 칼라, 칼라플롭 및 편광의 필요한 특징에 따라 검사기계에 의해 어떻게 검사할 수 있는가를 나타낸 것이다.

실시예 4.1 : 검사장치 TS1으로 타입 I1의 보안마킹의 검사

표 1에서 그룹코드 I1의 보안마킹 SM·I는 IR 스펙트럼 영역에서 반사되는 우선성 LC에 그 특징이 있으며, 이 보안마킹을 검사하도록 하였다.

이 보안마킹은 실시예 3.1에 따라 전영역 처리에 의해 제조하였다.

사용할 검사장치는 TS1이다.

검사는 FP1-1에 의한 처리공정에 따라 칼라와 칼라플롭에 대하여, PP1-1에 의한 편광에 대하여 실시하였다.

조명장치 B1 및 B2로서 LU2의 장치를 사용하였다.

각(b1)에서의 검출 D1에 있어서는 DU1에서와 같은 검출장치를 사용하였으며, 각(b2)에서의 검출 D2에 있어서는 DU3에서와 같은 검출장치를 사용하였다.

측정신호는 다음과 같이 평가하였다.

그 보안소자의 각각의 측정점의 신호레벨을 동일한방법으로 하여 제조한 보안마킹의 신호레벨(기준)과 대비하였다.

따라서, 그 기준의 반사밴드 각각의 측정위치(중심/측면)에서 변동할 수 있는 측정치를 100%로 설정하였으며, 반사밴드의 중심에서 ±10%의 보안마킹 신호레벨과 반사밴드의 측면에서 ±25%의 보안마킹의 신호레벨에서의 편차를 허용하였다.

>90%와 <110%의 신호레벨을 =1로 설정하고, 다른 신호레벨을 =0으로 설정하였다.

표 3은 본 발명의 보안마킹을 테스트할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 3]

위조보안마킹의 식별 :

위에서 설명한 바와 같은 구성을 가진 검사장치 TS1을 검사할 위조보안마킹에 설정하였다.

그 위조 보안마킹은 다음의 구성을 가진다.

동일한 중심파장과 동일한 높이의 협소한 반사밴드를 가지며 대비할 수 있는 칼라플롭, 비편광을 가진 마킹

표 4는 그 위조 보안마킹을 검사할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 4]

반사밴드가 넓고 높이가 낮으나 중심파장이 동일하며 칼라플롭이 없고, 우선성 원편광을 가진 위조 보안마킹이라도 위와 같이 식별되었다.

표 5는 위조보안마킹을 검사할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 5]

반사밴드의 편차형태, 칼라플롭의 편차 및 편광 특성편차에서 유도되는 다른 조합에서도 위조보안마킹으로 식별되었다.

위조로 식별되는 또 다른 보안소자로서 다음의 것을 들 수 있다.

밴드가 넓고, 칼라플롭을 가진 비편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 없는 비편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 있는 비편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 없는 직선편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 있는 직선편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 없는 직선편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 있는 직선편광소자 ;

밴드가 좁고, 칼라플롭이 없는 직선편광소자 ;

밴드가 넓고 칼라플롭이 있는 원편광 소자는 경사조명하에서 동일형태의 반사밴드와 동일한 파장변동이 없을 경우 위조품으로 식별되었다.

이 조건은 위조품이 원래의 보안마킹과 동일한 재료로 구성될 경우에만 만족한다.

밴드가 좁고 칼라플롭이 있는 원편광 소자는 경사조명하에서 동일형태의 반사밴드와 동일한 파장변동이 없을 경우 위조품으로 식별되었다.

실시예 4.2 : 검사장치 TS2에 의한 타입 I1의 보안마킹의 테스트

표 1에서 그룹코드 I1에서와 같이 IR 스펙트럼영역에서 반사되는 우선성 LC에 특징이 있는 보안마킹 SM1-2를 검사하였다.

그 보안마킹은 실시예 3.1에 의한 전영역 처리에 의해 제조하였다.

사용할 검사장치는 TS2이다.

조명시스템 B1 및 B2와 같이, LU2에서 설명한 장치를 사용하였다.

D1,D2,D3 및 D4에 의한 검출에서 각각의 경우 DU6에서와 같은 검출시스템을 사용하였다.

그 검출시스템에서 신호레벨은 마스터(master)로 검출되는 보안마킹과 대비하여 정하였다.

그 반사밴드의 신호레벨은 동일한 경우 그 값은 1(=1)을 기준으로 하였으며, 마스터와 검사할 보안마킹 사이의 변동 허용 공차를 20%로 하였다.

다른 신호레벨을 값 0(=0)에서 설정하였다.

표 6은 본 발명의 보안마킹을 검사할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 6]

위조보안마킹의 식별 :

위에서 설명한 구성성분을 가진 검사장치 TS2에 검사할 위조 보안마킹을 설정하였다.

그 위조보안마킹은 다음 구성을 가진다.

1. 편광없이 반사하는 소자에 특징이 있거나, I1과 동일한 반사특성을 가진 위조보안마킹 FM1-2.

2. 직선편광방사 소자에 특징이 있거나, I1과 동일한 반사특성을 가진 위조 보안마킹 FM2-2.

3. 2중 밴드폭을 가지나 동일한 나선성을 가진 원편광 반사소자에 특징이 있는 위조 보안마킹 FM3-2.

표 7은 위조 보안마킹을 검사할 때 검출기에서의 신호를 나타낸다.

[표 7]

실시예 4.3 : 검사장치 TS3에 의한 타입 Ⅲ3의 보안마킹 검사

표 1의 그룹코드 Ⅲ3에서와 같이 IR 스펙트럼 영역에서 반사되는 2종의 LC, 즉 칼라 1과 우선성 편광을 가진 LC1과 칼라2와 좌선성 편광을 가진 LC2에 특징이 있는 보안마킹 SM1-3을 검사하였다.

그 보안마킹은 실시예 3.33에 의해 안료에서 제조하였다.

사용할 검사장치는 TS3이다.

그 검사는 FP1-3에서 설명한 처리공정에 따라 칼라와 칼라플롭에 대하여, PP1-3의 설명에 의해 편광에 대하여 실시하였다.

2종의 다른 칼라가 있기 때문에, FP1-3은 각 칼라에 대하여 각각 별도로 사용할 필요가 있다.

2종 칼라는 동일한 각에서 측정한다.

조명장치 B1, B2 및 B2에서와 같이 각각의 경우 LU5에서 설명한 장치를 사용한다.

각(b1)에서의 검출 D1에 있어서, DU1에서 설명한 검출시스템을 사용하며, 각(b2)에서의 검출 D2에 있어서 DU3에서 설명한 검출시스템을 사용한다.

각(b1) 및 (b3)에서의 검출 D1 및 D3에 있어서 DU3에서와 같은 검출시스템을 사용한다.

그 보안마킹은 한 영역에서 조명 및 검출하여 2종의 LC는 동시에 대비할 수 있는 영역의 내용으로 검출된다.

그 측정신호는 실시예 4.1에서와 같이 평가한다.

표 8은 본 발명의 보안마킹을 검사할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 8]

위조 보안마킹의 식별 :

앞서 설명한 조성성분을 가진 검사장치 TS2에 검사할 위조 보안마킹을 설정하였다.

그 위조 보안마킹 FM1-2는 보안마킹 SM1-3과 비교할 때 예로서 2종의 칼라가 동일한 편광의 나선성-우선성으로 존재하고 있는 점에서 다르다.

표 9는 위조 보안마킹을 검사할 때 검출 시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 9]

실시예 4,4 : 검사장치 TS4에 의한 타입 Ⅱ1의 보안마킹 검사

표 1에서, 그룹코드 Ⅱ1에서 설명한 바와 같이 UV에서 반사밴드가 동일하고 편광이 다른 2종의 LC로 이루어진 도 14에 의한 구조 보안마킹(5)SM1-4를 검사하였다.

그 보안마킹(5)은 실시예 3.23에 따라 스크린 프린팅 안료에 의해 제조하였다.

사용할 검사장치는 구성각(a1=b1)(a2=b2)를 가진 TS4이다.

조명 시스템 B1 및 B2으로 각각의 경우 LU6에서와 같은 조명장치를 사용하였다.

D1 및 D2에서의 검출에 있어서 각각의 경우 검출장치 DU7을 사용한다.

D1 및 D2의 필터는 TS1에서 기준 FP1-1에 따라 선택하였다.

위조 보안마킹(80)의 식별 :

위조 보안마킹 FM1-4는 보안마킹 SM1-4와 비교할 때 SM1-4에 대하여 구성이 위조되어 있다는 점에서 다르다(참조 도 15).

그러나, 그 위조 보안마킹 FM1-4는 SM1-4와 동일한 종류의 LC로 제조된 것이다.

그 위조 보안마킹(80)FM2-4는 보안마킹 SM1-4와 동일한 스펙트럼 영역에서 우선성 및 좌우선의 원형 광반사를 가지나 스펙트럼이 넓은 반사를 가진 2종으로 이루어진 점에서 그 보안마킹 SM1-4와 다르다.

그 구조는 SM1-2에 대응한다.

표 10은 원래의 보안마킹과 위조 보안마킹을 테스트할 때 검출시스템에서의 신호를 나타낸다.

[표 10]

본 발명에 의해, 위조에 대한 입증레벨(안전성)을 공지의 보안마킹의 입증레벨보다 더 높힌 보안마킹을 얻을 수 있다.

본 발명에 의해, 나선성, 칼라 및 칼라플롭으로 이루어진 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성을 달리하며, 구조 또는 비구조 마킹형태 또는 다층 마킹 형태 또는 액정 매트릭스에서 액정 안료의 형태로 배열한 최소한 2종의 액정재가 보안마킹내에 존재하도록 하거나, 반사밴드를 소정의 기술에 의해 확대시킨 최소한 1종의 키랄상을 가진 액정재가 존재하도록 하거나, 소정의 3차원 배치를 형성하는 최소한 1종의 액정재가 존재하도록 하여 위조에 대한 입증레벨을 높힌 보안마킹을 얻을 수 있다.

또 이와 같은 보안마킹과 그 보안마킹을 식별하는 검사장치로 구성되는 보안시스템을 얻을 수 있다.

Claims

키랄상(chiral phase)을 가진 액정재로 이루어진 공지의 보안마킹에 대하여 위조에 대한 입증레벨(level of proof)을 높힌 보안마킹에 있어서,

나선성(handedness), 칼라(color) 및 칼라플롭(color flop)으로 이루어진 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성으로 달리하며, 구조(structured) 또는 비구조(unstructured)마킹 또는 다층마킹의 형태로 또는 액정안료의 형태로 액정매트릭스내에 배치시켜 반사밴드의 단파측면이 각 배치 a1=b1=0˚에서 700nm 미만이고, 반사밴드의 장파측면이 각 배치 a1=b1=80˚에서 420nm 이상이 되도록 조정한 반사파장의 키랄상을 가진 최소한 2종의 액정재가 그 보안마킹중에 존재하거나, 또는 반사밴드를 확대시킨 키랄상을 가진 최소한 1종의 액정재가 존재하거나, 또는 소정의 3차원 배치를 가진 키랄상의 최소한 1종의 액정재가 존재함을 특징으로 하는 보안마킹.
제1항의 보안마킹의 제조방법에 있어서,

나선성(handedness), 칼라 및 칼라플롭으로 이루어진 그룹에서 선택한 최소한 하나의 특성으로 달리하는 키랄상을 가진 최소한 2종의 액정재를 구조 또는 비구조마킹 또는 다층마킹의 형태로 또는 액정안료의 형태로 액정매트릭스내에 배치하거나, 또는 키랄상을 가진 최소한 1종의 액정재를 공지의 방법으로 처리하여 반사밴드를 소정의 특수기술에 의해 확대시킨 보안마킹을 형성시키거나, 또는 키랄상을 가진 최소한 1종의 액정재를 소정의 3차원 배치로 처리하여 보안마킹을 형성함을 특징으로 하는 제조방법.
제1항의 보안마킹으로 라벨링(labelling)을 한 물품.
보안마킹과 그 보안마킹을 식별하는 검사장치로 이루어진 보안시스템에 있어서, 그 보안마킹은 제1항의 보안마킹임을 특징으로 하는 보안시스템.
제4항에 있어서,

그 검사장치는 키랄상을 가진 액정재의 특징이 있고, 그 보안마킹에 대하여 중요한 것을 선택하는 특성의 완전한 동정(complete identifcation)을 하도록 함을 특징으로 하는 보안시스템.
제5항에 있어서,

중요한 것을 선택하는 특성은 키랄상을 가진 액정재의 나선성, 칼라 또는 칼라플롭 또는 그 액정재의 소정의 배치임을 특징으로 하는 보안시스템.
데이터캐리어(data carrier), 유가증권 또는 증명서의 보안소자로서 제1항의 보안마킹을 사용하는 방법.