KR100232045B1 - 실라시클로헥산화합물, 그의 제조방법 및 이것을 함유하는 액정조성물 - Google Patents

실라시클로헥산화합물, 그의 제조방법 및 이것을 함유하는 액정조성물 Download PDF

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Abstract

종래의 기술인 상기 시클로헥실환-에틸렌-시클로헥실환-페닐환구조(CECP 구조)를 갖는 액정화합물과는 전혀 다른 시클로헥실환을 갖는 액정화합물을 제공한다.
본발명은 일반식
로 표시되는 실라시클로헥산화합물을 제공하며, 식중에 있어서, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다.
및
는 적어도 어느 한쪽은 1 또는 4 위의 규소가 H, F, Cl 및 CH3의 치환기를 갖는 트랜스-1-실라-1,4-시클로헥실렌 또는 트랜스-4-실라-1,4-시클로헥실렌기이고, 다른 쪽은 트랜스-1,4-시클로헥실렌기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기(R은 상기와 동일하다.)를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.

Description

[발명의 명칭]
실라시클로헥산화합물, 그의 제조방법 및 이것을 함유하는 액정조성물
[발명의 상세한 설명]
[산업상의 이용분야]
본발명은 신규한 실라시클로헥산화합물 및 그의 제조방법 그리고 이것을 함유하는 액정조성물 및 이 액정조성물을 함유하는 액정표시소자에 관한 것이다.
[종래의 기술]
액정표시소자는 액정물질이 갖는 광학이방성 및 유전이방성을 이용한 것이며, 그 표시양식에 의하여 TN형(트위스트 네마틱형), STN형(수퍼트위스트 네마틱형), SBE형(초복굴절형), DS형(동적산란형), 게스트ㆍ호스트형, DAP형(정렬상의 변형형) 및 OMI형(광학적 모드 간섭형) 등 각종 방식이 있다. 가장 일반적인 디스플레이 디바이스는 셔트헬프리히 효과에 의거하여, 트위스트 네마틱구조를 가지는 것이다.
이들의 액정표시에 사용되는 액정물질에 요구되는 성질은 그의 표시방식에 의해 약간 상이하나, 액정온도 범위가 넓을것, 수분, 공기, 광, 열, 전계등에 대하여 안정적 일 것 등은 어떤 표시방식에 있어서도 공통적으로 요구된다. 또한, 액정재료는 저점도이며, 또 셀중에 있어서 짧은 어드레스시간, 낮은 역치전압 및 높은 콘트라스트를 부여하는 것이 요망된다.
현재, 단일의 화합물로 이들의 요구를 모두 충족시키는 물질은 없고, 실제로는 수종~10수종의 액정화합물, 잠재액정화합물을 혼합하여 얻어지는 액정성혼합물이 사용되고 있다. 그 때문에, 액정조성물의 구성성분이 서로 용이하게 혼화될 수 있는 것이 중요한 특성으로도 된다.
이들의 구성성분으로 얻을 수 있는 액정화합물중에서, 전기광학적 성능을 지배하는 기본성분의 하나로서 종래, 이하와 같은 이른바 시클로헥실환-에틸렌-시클로헥실환-페닐환구조(CECP 구조)를 가진 화합물이 알려져 있다.
[발명이 해결하려고 하는 과제]
최근 액정디스플레이의 용도가 확대됨에 따라 액정재료에 요구되는 특성도 점점 고도의 수준높은 것으로 되어가고 있다. 특히, 구동전압의 저전압화, 차량적재용 수요에 대응한 광역온도범위화, 저온성능의 향상등 종래 액정물질의 특성을 더욱 상회하는 것이 요구되기에 이르렀다.
이와같은 관점에서, 본발명은 액정물질 특성의 향상을 목적으로하여 새롭게 개발된 액정물질이며, 종래의 기술인 상기한 시클로헥실환-에틸렌-시클로헥실환-페닐환구조(CECP 구조)를 가지는 액정화합물과는 전혀 다른 실라시클로헥산환을 갖는 액정화합물을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
즉, 본발명은 하기 일반식(I)로 표시되는 실라시클로헥산화합물이다.
식중에 있어서, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소 원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다.
및
는 적어도 어느 한쪽은 1 또는 4 위의 규소가 H, F, Cl 또는 CH3의 치환기를 갖는 트랜스-1-실라-1,4-시클로헥실렌 또는 트랜스-4-실라-1,4-시클로헥실렌기이고, 다른쪽은 트랜스-1,4-시클로헥실렌기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기(R은 일반식(I)의 정의와 동일)를 나타낸다. Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.
또, 본발명은 특정한 유기금속시약을 이용한 탄소-탄소결합형성 혹은 탄소-규소결합형성을 특징으로 하는 일반식(I)로 표시되는 실라시클로헥산화합물의 제조방법이다.
이하에 제조방법을 열거한다.
유기금속시약
과
와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자), ZnP 또는 Li를 나타낸다.
R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.
유기금속시약
와,
와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다. n 및 m은 0, 1, 2의 어느 하나로서, n+m=2인 정수를 나타낸다.
유기금속시약
와
와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다.
Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다. Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다. n 및 m은 0, 1, 2의 어느 하나로서, n+m=2인 정수를 나타낸다.
유기금속시약
와,
와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.
유기금속시약
와,
와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
단, 식중에 있어서, M′는 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 B(OY′)(Y′는 H 또는 알킬기를 나타낸다.)를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다. Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.
또한, 본발명은 상기 일반식(I)에서 표시된 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정조성물 및 이것을 이용한 액정표시소자이다.
일반식(I)에서 표시된 신규 화합물은 구체적으로, 이하에 표시하는 (I-a) 내지 (I-h)의 환구조로 표시되고, 적어도 하나의 트랜스-1- 또는 트랜스-4-실라시클로헥산환을 포함하는 환구조를 갖는 실라시클로헥산화합물이다.
식중 R은 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기 즉, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실기; 또는 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기 즉, 이소프로필, sec-부틸, 이소부틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 1-에틸펜틸, 1-메틸헥실, 2-메틸헥실, 3-메틸헥실, 2-에틸헥실, 3-에틸헥실, 1-메틸헵틸, 2-메틸헵틸, 3-메틸헵틸; 또는 탄소수 2~7의 알콕시알킬기 즉, 메톡시메틸, 에톡시메틸, 프로폭시메틸, 부톡시메틸, 펜톡시메틸, 헥실옥시메틸, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 프로폭시에틸, 부톡시에틸, 펜톡시에틸, 메톡시프로필, 에톡시프로필, 프로폭시프로필, 부톡시프로필, 메톡시부틸, 에톡시부틸, 프로폭시부틸, 메톡시펜틸, 에톡시펜틸기; 또는 탄소수 1~10에서 그중 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 즉, 1-플루오로에틸, 1-플루오로프로필, 1-플루오로부틸, 1-플루오로펜틸, 2-플루오로에틸, 2-플루오로프로필, 2-플루오로부틸, 2-플루오로펜틸, 3-플루오로프로필, 3-플루오로부틸, 3-플루오로펜틸, 4-플루오로부틸, 4-플루오로펜틸, 5-플루오로펜틸, 1,1-디플루오로에틸, 1,1-디플루오로프로필, 1,1-디플루오로부틸, 1,1-디플루오로펜틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2-디플루오로프로필, 2,2-디플루오로부틸, 2,2-디플루오로펜틸, 3,3-디플루오로프로필, 3,3-디플루오로부틸, 3,3-디플루오로펜틸, 4,4-디플루오로부틸, 4,4-디플루오로펜틸, 5,5-디플루오로펜틸기; 또는 탄소수 2~8의 알케닐기 즉, 비닐, 1-프로페닐, 알릴, 1-부테닐, 3-부테닐, 이소프레닐, 1-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 디메틸알릴, 1-헥세닐, 3-헥세닐, 5-헥세닐, 1-헵테닐, 3-헵테닐, 6-헵테닐, 7-옥테닐기를 나타낸다.
W, W1, W2는 각각 서로 독립하여 H, F, Cl 또는 CH3를 나타낸다.
X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다. Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.
로서 구체적으로는 이하의 기를 들 수 있다.
이들 가운데서 환구조에 대해서는 (I-a), (I-b), (I-c), (I-e)의 화합물이 실용상 바람직하다.
R에 대해서는 탄소수 2~7의 직쇄상 알킬기, 즉, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸기; 또는 탄소수 3~7의 분지쇄상 알킬기 중, 이소프로필, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 2-에틸헥실기; 또는 탄소수 2~6의 알콕시알킬기 즉, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 메톡시프로필, 메톡시펜틸, 에톡시메틸, 에톡시에틸, 프로폭시메틸, 펜톡시메틸기; 또는 탄소수 1~10의 플루오로알킬기중, 2-플루오로에틸, 2-플루오로프로필, 4-플루오로부틸, 4-플루오로펜틸, 5-플루오로펜틸, 1,1-디플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2-디플루오로프로필, 2,2-디플루오로부틸, 4,4-디플루오로부틸, 4,4-디플루오로펜틸기; 또는 알케닐기중, 비닐, 1-프로페닐, 3-부테닐, 1-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 1-헥세닐, 5-헥세닐, 6-헵테닐, 7-옥테닐기가 실용상 바람직하다.
W, W1, W2에 대해서는 H, F, CH3기가 실용상 바람직하다.
(P)에 대해서는 (P-1)~(P-4), (P-7), (P-10)~(P-15), (P-19), (P-22)~(P-28), (P-31)~(P-34)가 실용상 바람직하다.
이들 화합물은 유기금속시약과 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐, p-톨루엔술포닐기 등의 이탈기를 갖는 화합물과의 탄소-탄소결합형성 또는 탄소-규소결합형성에 의해 제조된다. 이하에 이들 화합물의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
우선, 유기금속시약
과,
(식중에 있어서, M은 MgP 또는 ZnP(P는 할로겐원자), 또는 Li를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.)과의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법의 바람직한 양태에 대하여 설명한다.
이 제조방법에 있어서는,
가,
(W는 H, F, Cl 또는 CH3를 나타낸다.) 일경우, Q는 할로겐원자, 알콕시기가 되고, 특히, Cl, Br, OCH3, OCH2CH3기이면 탄소-규소결합형성반응이 용이하게 진행되고, 높은 수율로 목적물을 제공한다.
또한,
가,
또는
일 경우에는 탄소-탄소결합형성반응은 촉매량의 구리염 존재하에 행해진다.
Q는 할로겐원자, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기가 되나, 특히 Br, I의 경우가 높은 수율로 목적물이 얻어지므로 바람직하다.
다음에, 유기금속시약
와,
와의 반응, 또는
와
(식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타낸다.
R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, OCF3, CF2Cl, CHFCl, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다. n, m은 0, 1, 2의 어느 하나로서, n+m=2인 정수를 나타낸다.)과의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법의 바람직한 양태에 대하여 기술한다.
이들 반응에 있어서는 탄소-탄소결합형성반응은 촉매량의 구리염의 존재하에 행해진다. Q는 할로겐원자, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 사용할 수 있으나, 특히 Br, I, p-톨루엔술포닐기의 경우가 높은 수율로 목적물이 얻어지므로 바람직하다.
다음에,유기금속시약
와
(식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타낸다.
R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다.
Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.)와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법의 바람직한 양태에 대하여 설명한다.
이 제조방법에 있어서는
가
(W는 H, F, Cl 또는 CH3를 나타낸다.) 일경우, Q는 할로겐원자, 알콕시기가 되고, 특히 Cl, Br, OCH3, OCH2CH3기이면 탄소-규소결합형성반응이 용이하게 진행되고, 높은 수율로 목적물을 제공하기 때문에 바람직하다.
또,
가,
또는
일경우에는 탄소-탄소결합형성반응은 촉매량의 구리염의 존재하에 행해진다.
Q는 할로겐원자, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기가 되지만, 특히 Br, I, p-톨루엔술포닐기의 경우가 높은 수율로 목적물이 얻어지기 때문에 바람직하다.
다음에, 유기금속시약
와,
{식중에 있어서, M′는 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 B(OY′)(Y′는 H 또는 알킬기를 나타낸다.)를 나타낸다. R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다. Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타낸다. X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타낸다. Y는 H 또는 F를 나타낸다. Z는 H 또는 F를 나타낸다.} 와의 반응에 의한 실라시클로헥산화합물의 제조방법의 바람직한 양태에 대하여 설명한다.
이 반응은 전이금속촉매의 존재하에 행해진다. 특히 팔라듐화합물, 니켈화합물이 촉매로서 바람직하다. Q는 할로겐원자를 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기가 되지만 특히 Cl, Br, I가 높은 수율로 목적물을 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.
여기서 생성한 화합물이 실라시클로헥산환의 입체 배치에 있어서 트랜스체와 시스체의 혼합물로 되어 있을 경우, 크로마토그래피 또는 재결정 등의 통상법의 정제수단에 의해 트랜스체를 분리정제하고, 본발명의 일반식(I)의 실라시클로헥산화합물을 얻는다.
본발명의 실라시클로헥산화합물은 기지의 화합물과 혼합하여 액정조성물을 얻을 수 있다. 액정조성물을 제조하기 위하여 구체적으로 혼합되는 화합물은 이하에 나타내는 기지의 화합물에서 선택할 수 있다.
또한, 상기 식들에 있어서, (M), (N)은,
① 무치환 또는 치환기로서 1개 또는 2개 이상의 F, Cl, Br, CN, 알킬기를 갖는 트랜스-1,4-시클로헥실렌기,
② 시클로헥산환중의 1개 또는 인접해 있지 않은 2개의 CH2기가 O, S로 치환되어 있는 환,
③ 1,4-시클로헥세닐렌기,
④ 무치환 또는 치환기로서 1개 또는 2개의 F, Cl, CH3또는 CN기를 갖는 1,4-페닐렌기,
⑤ 1,4-페닐렌기의 환중의 1개 또는 2개의 CH기를 N 원자에 의해 치환되어 있는 환의 어느 하나를 나타낸다.
A1, A2는 -CH2CH2-, -CH=CH-, -C≡C-, -CO2-, -OCO-, -CH2O-, -OCH2- 또는 단결합을 나타낸다.
l, m=0, 1, 2(단, l+m=1, 2, 3, n=0, 1, 2)이다.
R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타낸다.
X, Y, Z는 일반식(I)의 정의와 같다.
또한 상기에 있어서, l, n=2의 경우는 (M)중에, m=2의 경우는 (N) 중에 각각 이종환을 함유하고 있어도 된다.
액정조성물에 있어서의 본발명의 실라시클로헥산화합물의 비율은 그 1종 또는 2종 이상을 1~50중량%, 바람직하게는 5~30중량% 함유한다. 또, 액정조성물에는 착색 게스트-호스트계를 생성하기 위한 다색성 염료 혹은 유전이방성, 점도, 네마틱상(相)의 배향(配向)을 바꾸기 위한 첨가제를 함유할 수 있다.
이와같이하여 형성된 액정조성물을 이용하여 각종 액정표시소자를 통상 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 본발명의 실라시클로헥산화합물을 함유하는 액정조성물은 소정형상의 전극을 갖는 투명기판 간에 봉입하여 액정표시소자로 사용된다.
이 소자는 필요에 따라 각종 언더코트, 배향제어용 오버코트, 편광판, 필터, 반사층을 가지고 있어도 좋고, 다층셀로 하거나 다른 표시소자와 조합시키거나 반도체 기판을 사용하거나, 혹은 광원을 이용하거나 하는 각종의 것이 사용될 수 있다.
액정표시소자의 구동방법으로는 동적산란(DSM) 방식, 트위스트 네마틱(TN)방식, 게스트 호스트(GH)방식, 수퍼트위스트 네마틱(STN)방식, 고분자 분산액정(PDLC)방식 등, 액정표시소자의 업계에서 공지의 방식을 사용할 수 있다.
[실시예]
이하에 구체적인 실시예를 들어 본발명을 더욱 상세히 설명한다.
[실시예 1]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-실라시클로헥산의 제조]
1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)과 테트라히드로푸란(이하,「THF」라 약칭) 30㎖의 혼합용액에 2.5M의 n-프로필 마그네슘클로라이드의 THF 용액 5㎖(12.5mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것으로, 트랜스체와 시스체의 혼합물이며, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 2.9g(수율 80%)을 얻었다.
분석결과를 이하에 표시한다.
이것은 상기와 같이 11.2℃~63.5℃ 범위에서 네마틱상을 나타내고, 기존의 트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-시클로헥산(C-N 전이온도 : 36.0℃)에 비하여 네마틱상 발현온도가 현저히 저온측으로 확대되는 것이 확인되었다.
[실시예 2]
[트랜스-1-n-프로필-4-(2-(트랜스-4(3,4,5-트리플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 1에 있어서, 1-클로로-4-(2-트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 3.8g(10mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 3]
[트랜스-1-n-프로필-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-플루오로-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 1에 있어서, 1-클로로-4-(2-트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)을 대신하여 1,1-디플루오로-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 4.1g(10mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 4]
[트랜스-1-n-프로필-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 1에 있어서, 1-클로로-4-(2-트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 3.9g(10mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 5]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(4-클로로-3-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 1에 있어서, 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(4-클로로-3-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸-1-실라시클로헥산 3.7g(10mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 6]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)과 THF 60㎖의 혼합용액에 2.5M의 n-펜틸아연클로라이드(대응하는 그리나드시약과 염화아연에서 조제)의 THF 용액 15㎖(37.5mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것으로, 트랜스체와 시스체의 혼합물이며, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 5.9g(수율 75%)을 얻었다.
분석결과를 이하에 표시한다.
[실시예 7]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-에틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 n-펜틸아연 클로라이드를 대신하여 에틸아연 클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 8]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-에틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.5g(21mmol)을 사용하고, n-펜틸아연클로라이드를 대신하여 에틸아연 클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 9]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-클로로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-클로로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.5g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 10]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-시아노페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.3g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 11]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(2,3-디플루오로-4-에톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(2,3-디플루오로-4-에톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 8.4g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 12]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-디플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-디플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 8.9g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 13]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메틸페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 8.2g(21mmol)을 사용하고, n-펜틸아연클로라이드를 대신하여 n-프로필아연클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 14]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-클로로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-클로로 페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 8.2g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 15]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-(4-펜테닐)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.5g(21mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 16]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-(3-메톡시프로필)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.5g(21mmol)을 사용하고, n-펜틸아연클로라이드를 대신 하여 3-메톡시프로필 아연 클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 17]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-(3-메틸부틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 6에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.0g(21mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 7.5g(21mmol)을 사용하고, n-펜틸아연클로라이드를 대신하여 3-메틸부틸아연클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 18]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸)-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥산의 제조]
1-클로로-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥산 24.6g(100mmol)과 THF 250㎖의 혼합용액에 2.0M의 2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드의 THF 용액 55㎖(110mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것으로, 트랜스체와 시스체의 혼합물이며 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 28.3g(수율 75%)을 얻었다. 분석결과를 이하에 표시한다.
이것은 상기와 같이 6.2℃~37.7℃ 범위에서 네마틱상을 나타내고, 기존의 트랜스-1-(2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸)-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-시클로헥산(C-N 전이온도 : 32.0℃)에 비하여 네마틱상 발현온도가 현저히 저온측으로 확대되는 것이 확인되었다.
[실시예 19]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-에틸시클로헥실) 에틸)-4-p-플루오로페닐-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 18에 있어서 1-클로로-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥산 24.6g(100mmol)을 대신하여 1-클로로-4-(p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥산 22.8g(100mmol)을 사용하고, 2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드를 대신하여 2-(트랜스-4-에틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 18과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 20]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-에틸시클로헥실) 에틸)-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 18에 있어서 2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드를 대신하여 2-(트랜스-4-에틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 18과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 21]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-n-프로필시클로헥실)에틸)-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 18에 있어서 2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸마그네슘브로마이드를 대신하여 2-(트랜스-4-n-프로필시클로헥실) 에틸 마그네슘 브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 18과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 22]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-실라시클로헥산의 제조]
(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.1g(50mmol)과 THF 150㎖의 혼합용액에 2.0M의 (트랜스-4-n-프로필-4-실라시클로헥실) 메틸마그네슘브로마이드의 THF 용액 30㎖(60mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것으로, 트랜스체와 시스체의 혼합물이고, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 12.4g(수율 72%)을 얻었다. 분석결과를 이하에 나타낸다.
[실시예 23]
[트랜스-1-n-펜틸-4-(2-(트랜스-4-p-메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 22에 있어서 (트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.1g(50mmol)을 대신하여 (트랜스-4-(p-메톡시페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.7g(50mmol)을 사용하고, (트랜스-4-n-프로필-4-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 브로마이드를 대신하여 (트랜스-4-n-펜틸-4-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 22와 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 24]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3-플루오로-4-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 22에 있어서 (트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.1g(50mmol)을 대신하여 (트랜스-4-(3-플루오로-4-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 22.9g(50mmol)을 사용하고, (트랜스-4-n-프로필-4-실라시클로헥실) 메틸마그네슘브로마이드를 대신하여 (트랜스-4-n-펜틸-4-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 22와 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 25]
[트랜스-4-(p-플루오로페닐)-1-(2-(트랜스-4-n-펜틸-4-실라시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 22에 있어서 (트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.1g(50mmol)을 대신하여 (트랜스-4-(p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥실) 메틸 p-톨루엔술포네이트 18.9g(50mmol)을 사용하고, (트랜스-4-n-프로필-4-실라시클로헥실) 메틸 마그네슘 브로마이드를 대신하여 (트랜스-4-n-펜틸-4-실라시클로헥실) 메틸 마그네슘브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 22와 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 26]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-4-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
1-메톡시-4-n-펜틸-1-실라시클로헥산 10.0g(50mmol)과 THF 100㎖의 혼합용액에 1.5M의 2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸리튬의 THF 용액 35㎖(52.5mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것이며, 트랜스체와 시스체의 혼합물로서, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 12.9g(수율 69%)을 얻었다. 분석결과를 이하에 표시한다.
이것은 상기와 같이 14.7℃~28.9℃ 범위에서 네마틱상을 나타내고, 기존의 트랜스-1-(2-(트랜스-4(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-4-n-펜틸-1-시클로헥산(C-N 전이온도; 38.0℃)에 비해 네마틱상 발현온도가 현저히 저온측으로 확대되는 것이 확인되었다.
[실시예 27]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 26에 있어서 1-메톡시-4-n-펜틸-1-실라시클로헥산 10.0g(50mmol)을 대신하여 트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-메톡시-1-실라시클로헥산 17.4g(50mmol)을 사용하고, 2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸리튬을 대신하여 n-펜틸 리튬을 사용한 것 외에는 실시예 26과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 28]
[트랜스-1-(2-(트랜스-4-n-부틸시클로헥실) 에틸)-4-n-(p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 26에 있어서 1-메톡시-4-n-페닐-1-실라시클로헥산 10.0g(50mmol)을 대신하여 트랜스-4-(p-플루오로페닐)-1-메톡시-1-실라시클로헥산 11.2g(50mmol)을 사용하고, 2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸리튬을 대신하여 2-(트랜스-4-n-부틸 시클로 헥실) 에틸리튬을 사용한 것 외에는 실시예 26과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 29]
[트랜스-4-(p-플루오로페닐)-1-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 26에 있어서 1-메톡시-4-n-펜틸-1-실라시클로헥산 10.0g(50mmol)을 대신하여 트랜스-4-(p-플루오로페닐)-1-메톡시-1-실라시클로헥산 11.2g(50mmol)을 사용하고, 2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸리튬을 대신하여 대신 2-(트랜스-4n-펜클시클로헥실) 에틸리튬을 사용한 것 외에는 실시예 26과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 30]
[4-(p-플루오로페닐)-1-(2-(트랜스-4-n-프로필시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
트랜스-1-요오도메틸-4-n-프로필시클로헥산 4.5g(19.9mmol)과 요오드화구리(I) 10㎎과 트리에틸포스파이트 50㎎과 THF 50㎖의 혼합용액에 1.0M의 (4-(p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥실) 메틸마그네슘클로라이드의 THF 용액 25㎖(25mmol)을 적하하였다.
생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것이며, 트랜스체와 시스체의 혼합물로서, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 5.7g(수율 82.9%)을 얻었다. 분석결과를 이하에 표시한다.
[실시예 31]
[4-(3,4-디플루오로페닐)-1-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 30에 있어서 트랜스-1-요오도메틸-4-n-프로필시클로헥산 4.5g(19.9mmol)을 대신하여 트랜스-1-요오도메틸-4-n-펜틸시클로헥산 5.9g(19.9mmol)을 사용하고, (4-p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 클로라이드를 대신하여 (4-(3,4-디플루오로페닐)-1-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 30과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 32]
[트랜스-4-이소부틸-1-(2-(트랜스-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 30에 있어서 트랜스-1-요오도메틸-4-n-프로필시클로헥산 4.5g(19.9mmol)을 대신하여 트랜스-1-요오도메틸-4-(p-플루오로페닐) 시클로헥산 6.3g(19.9mmol)을 사용하고, (4-(p-플루오로페닐)-1-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 클로라이드를 대신하여 (4-(4-n-이소부틸-1-실라시클로헥실) 메틸마그네슘 클로라이드를 사용한 것 외에는 실시예 30과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 33]
[1-(3,4-디플루오로페닐-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
1-클로로-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 2.5g(7.9mmol)과 THF 50㎖의 혼합용액에 1.0M의 3,4-디플루오로페닐마그네슘브로마이드의 THF 용액 15㎖(15mmol)을 적하하였다. 생성된 목적물은 실라시클로헥산환에 관한 것이며, 트랜스체와 시스체의 혼합물로서, 통상의 후처리 다음, 이들을 크로마토그래피에 의해 분리하여 트랜스체의 목적물 2.0g(수율 64%)을 얻었다.
[실시예 34]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-n-프로필페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 33에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 2.5g(7.9mmol)을 대신하여 1-브로모-4-(2-(트랜스-4-n-프로필-4-실라시클로헥실) 에틸) 시클로헥산 2.6g(7.9mmol)을 사용하고, 3,4-디플루오로페닐마그네슘 브로마이드를 대신하여 p-n-프로필페닐마그네슘 브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 33과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 35]
[트랜스-1-(3,4-디플루오로페닐)-1-메틸-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 33에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 2.5g(7.9mmol)을 대신하여 1-클로로-1-메틸-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 2.6g(7.9mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 33과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 36]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(p-트리플루오로메톡시페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-(4-플루오로부틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 33에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸)-1-실라시클로헥산 2.5g(7.9mmol)을 대신하여 1-브로모-4-(2-(트랜스-4-(4-플루오로부틸)-4-실라시클로헥실) 에틸) 시클로헥산 2.9g(7.9mmol)을 사용하고, 3,4-디플루오로페닐마그네슘브로마이드를 대신하여 p-트리플루오로메톡시마그네슘브로마이드를 사용한 것 외에는 실시예 33과 동일한 방법으로 제조하였다.
[실시예 37]
[트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-(4-플루오로펜틸)-1-실라시클로헥산의 제조]
실시예 33에 있어서 1-클로로-4-(2-(트랜스-4-n-펜틸시클로헥실) 에틸-1-실라시클로헥산 2.5g(7.9mmol)을 대신하여 1-브로모-4-(2-(트랜스-4-(4-플루오로펜틸)-4-실라시클로헥실) 에틸) 시클로헥산 3.0g(7.9mmol)을 사용한 것 외에는 실시예 33과 동일한 방법으로 제조하였다.
다음에, 상기 실시예에서 얻은 본발명의 화합물을 기존의 액정조성물에 첨가하여 본발명의 액정조성물을 제조하였다. 그리고, 얻어진 액정조성물의 전이온도 및 25℃에 있어서의 동작 역치전압을 측정하였다.
[실시예 38]
트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-에틸-1-시클로헥산 43몰%, 트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-프로필-1-시클로헥산 17몰% 및 트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐) 시클로헥실) 에틸-1-n-펜틸-1-시클로헥산 40몰%로 이루어지는 혼합물 A는 이하의 성질을 나타내었다.
이 혼합물 A 85몰%와 실시예 27에서 얻은 트랜스-4-(2-(트랜스-4-(3,4-디플로오로페닐) 시클로헥실) 에틸)-1-n-펜틸-1-실라시클로헥산 15몰%로 이루어지는 혼합물은 이하의 성질을 나타내었다.
[발명의 효과]
환구성 원소로서 Si를 도입한 본발명의 액정화합물은 종래의 유사 탄화수소환의 CCP 구조를 갖는 액정화합물에 비해 이하의 이점을 갖는다.
(1) 저온영역으로 네마틱상이 확대되므로 저온에서의 점도 저하가 도모되고, 저온하에서의 응답속도가 향상된다.
(2) 저온에서의 상용성이 향상된다.
또, 일반식(I)중의 X가 R 및 OR이 아닌 액정화합물은 상기 이점에 첨가하여 더욱 유전율 이방성이 크기 때문에 역치전압을 저하시키는 효과를 갖는다.
본발명의 액정화합물은 그 치환기의 선택에 응하여 종래의 유사탄화수소환의 CECP 구조 액정화합물과 마찬가지로 액정상의 주요부분을 구성하는 베이스재료로서 널리 사용될 수 있다. 일반식(I)중의 치환기 X가 R, OR인 액정화합물은 유전율 이방성이음 또는 제로에 가깝기 때문에 동적산란(DS), 게스트호스트(GH) 또는 정렬상의 변형(DAP 효과)에 의거한 표시용 액정상에 사용하는 것이 바람직하다. 또, X가 그 이외인 화합물은 트위스트 네마틱셀 또는 콜레스테릭-네마틱 상전이에 의거한 표시요소로 사용하기 위한 큰 플러스의 유전율 이방성을 갖는 액정상 제조에 사용하는 것이 바람직하다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식(I)로 표시되는 것을 특징으로 하는 실라시클로헥산화합물.
    식중에 있어서, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소 원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며,
    및
    은 적어도 어느 한쪽은 1 또는 4 위의 규소가 H, F, Cl 또는 CH3의 치환기를 갖는 트랜스-1-실라-1,4-시클로헥실렌 또는 트랜스-4-실라-1,4-시클로헥실렌기이고, 다른쪽은 트랜스-1,4-시클로헥실렌기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기(R은 일반식(I)의 정의와 동일)를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타낸다.
  2. 유기금속시약
    와,
    와의 반응에 의한 제1항의 실라시클로헥산화합물의 제조방법. 단, 식중에 있어서 M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타내며, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며, Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타낸다.
  3. 유기금속시약
    와,
    와의 반응에 의한 제1항의 실라시클로헥산화합물의 제조방법. 단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타내며, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며, Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타내며, n 및 m은 0, 1, 2 중의 어느 하나로서, n+m=2인 정수를 나타낸다.
  4. 유기금속시약
    와
    와의 반응에 의한 제1항의 실라시클로헥산화합물의 제조방법. 단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타내며, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상 알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며, Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타내며, n 및 m은 0, 1, 2중의 어느 하나로서, n+m=2인 정수를 나타낸다.
  5. 유기금속시약
    와,
    와의 반응에 의한 제1항의 실라시클로헥산화합물의 제조방법. 단, 식중에 있어서, M은 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 Li를 나타내며, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며, Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타낸다.
  6. 유기금속시약
    와,
    와의 반응에 의한 제1항의 실라시클로헥산화합물의 제조방법.
    단, 식중에 있어서, M′는 MgP(P는 할로겐원자를 나타낸다.), ZnP 또는 B(OY′)(Y′는 H 또는 알킬기를 나타낸다.)를 나타내며, R은 수소, 탄소수 1~10의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~8의 분지쇄상알킬기, 탄소수 2~7의 알콕시알킬기, 탄소수 1~10에서 그중의 1개 또는 2개의 수소원자가 플루오르 원자로 치환된 플루오로알킬기 또는 탄소수 2~8의 알케닐기를 나타내며, Q는 할로겐원자, 알콕시, 메탄술포닐, 벤젠술포닐 또는 p-톨루엔술포닐기를 나타내며, X는 CN, F, Cl, CF3, CF2Cl, CHFCl, OCF3, OCHF2, OCF2Cl, OCHFCl, R 또는 OR기를 나타내며, Y는 H 또는 F를 나타내며, Z는 H 또는 F를 나타낸다.
  7. 제1항의 실라시클로헥산화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정조성물.
  8. 제7항의 액정조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07304780A (ja) * 1994-05-11 1995-11-21 Shin Etsu Chem Co Ltd シラシクロヘキサンカルバルデヒド化合物及びそれを用いたシラシクロヘキサン型液晶化合物の製造方法
US5560866A (en) * 1994-06-22 1996-10-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Process for preparing silacyclohexane compounds
DE69514287T2 (de) * 1994-07-12 2002-05-23 Shinetsu Chemical Co Cyclohexancarbaldehyd-Verbindingen und Verfahren zur Herstellung silacyclohexan-basierter flüssigkristalliner Verbindungen aus der Carbaldehyd-Verbindung
DE69518294T2 (de) * 1994-10-20 2000-12-21 Shinetsu Chemical Co Neue Silacyclohexanverbindung, eine sie enthaltende flüssigkristalline Zusammensetzung und eine die Zusammensetzung enthaltende flüssigkristalline Vorrichtung
US5762826A (en) * 1994-12-22 1998-06-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Liquid crystal composition and a liquid crystal display element which contains it
US5665271A (en) * 1995-02-13 1997-09-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silacyclohexane compounds, preparation thereof, liquid crystal compositions comprising the same, and liquid crystal devices comprising the compositions
EP0768361A1 (en) * 1995-10-16 1997-04-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Liquid crystal composition and liquid crystal display element comprising the same
JPH09324178A (ja) * 1996-04-01 1997-12-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 液晶組成物及びそれを含む液晶表示素子
US5951913A (en) * 1996-05-22 1999-09-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Liquid crystal compositions comprising silacyclohexane compounds
KR100378762B1 (en) * 2001-11-13 2003-04-03 Haco Co Ltd Non-woven fabric used in synthetic leather and artificial leather, method for manufacturing the same, and synthetic leather and artificial leather using the same
KR100534525B1 (ko) * 2002-02-01 2005-12-07 주식회사 코오롱 저신장성 및 유연성이 우수한 인공피혁용 복합시트

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2381002A (en) * 1942-03-04 1945-08-07 Gen Electric Cyclic organosilicon compounds
US2607791A (en) * 1949-03-19 1952-08-19 Dow Corning Cyclic silahydrocarbons
JPS5939835A (ja) * 1982-08-27 1984-03-05 Asahi Glass Co Ltd １−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）−２−｛トランス−４′−（ｐ−置換フエニル）シクロヘキシル｝エタン
US4820443A (en) * 1987-02-06 1989-04-11 Chisso Corporation Cyclohexane derivative and liquid crystal composition containing the same
DE3827600A1 (de) * 1988-08-13 1990-02-15 Hoechst Ag Organosilylalkyl- oder -alkenyl-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in fluessigkristallinen mischungen
JPH02145590A (ja) * 1988-11-26 1990-06-05 Shin Etsu Chem Co Ltd 新規ジシラシクロヘキサン化合物及びその製造方法
US4985565A (en) * 1989-10-16 1991-01-15 Dow Corning Corporation Silacyclobutanes
US4965367A (en) * 1989-10-16 1990-10-23 Dow Corning Corporation Process for preparation of silacyclobutanes
DE4014488A1 (de) * 1990-05-07 1991-11-14 Merck Patent Gmbh Dioxaborinane und fluessigkristallines medium

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US5547606A (en) 1996-08-20
DE69420503T2 (de) 2000-04-13
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EP0648773A1 (en) 1995-04-19
EP0648773B1 (en) 1999-09-08
KR950011454A (ko) 1995-05-15

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