KR100227247B1 - 광 디스크 제조방법 - Google Patents

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KR100227247B1
KR100227247B1 KR1019910001425A KR910001425A KR100227247B1 KR 100227247 B1 KR100227247 B1 KR 100227247B1 KR 1019910001425 A KR1019910001425 A KR 1019910001425A KR 910001425 A KR910001425 A KR 910001425A KR 100227247 B1 KR100227247 B1 KR 100227247B1
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요시까즈 아네자끼
고지 사사끼
히데또시 와따나베
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이데이 노부유끼
소니 가부시키가이샤
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    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

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Abstract

돌기 및 요홈이 교대로 형성된 패턴을 자외선 경화가능 수지의 광중합에 의해 스탬퍼로부터 유리 베이스판까지 전사하는 단계를 포함하는 광 디스크 제조 방법에 있어서 유리 베이스판은 적절한 결합제에 의한 표면 처리에 의해 예열된다. 결합제에 의한 표면 처리 전후에 유리 베이스판은 유리 베이스판과 자외선 경화 가능 수지간의 결합특성을 향상시키기 위하여 감소된 압력하에 가열된다.

Description

광 디스크 제조방법
제1도는 본 발명에 따른, 돌기와 요홈이 교대로 형성된 요철 패턴을 스탬퍼 상에 전사하여 디스크를 제조하는 장치의 평면도.
제2(a)도 내지 제2(f)도는 광중합 공정을 도시하는 사시도로서,
제2(a)도는 스크린 인쇄 단계를 도시한 도면.
제2(b)도는 자외선 경화 가능 수지가 인쇄된 유리 베이스판을 도시한 사시도.
제2(c)도는 유리 베이스판을 스탬퍼 상에 중첩시키는 단계를 도시한 도면.
제2(d)도는 롤(roll)에 의해 유리 베이스판과 스탬퍼를 함께 압축 시키는 단계를 도시한 도면.
제2(e)도는 자외선 방사 단계를 도시한 도면.
제2(f)도는 베이스판을 스탬퍼로부터 박리 시키는 단계를 도시한 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 공급부 2 : 인쇄부
3 : 전사부 4 : 반출부
5 : 베이스 6 : 베이스판
7 : 카트리지 8 : 인쇄 베이스
9 : 수지 10 : 스탬퍼
11: 홀더 12 : 롤
13 : 광원 15 : 회전축
16 : 회전 아암 17 : 흡입 헤드
본 발명은 디지털 오디오 디스크 즉, 콤팩트 디스크나 자기 광 디스크 같은 광 디스크를 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 광 디스크를 광 중합법으로 제조하는 향상된 방법에 관한 것으로, 상기 방법에 따르면 돌기 및 요홈의 요철 패턴은 자외선으로 경화 가능한 합성 수지의 광 중합에 의해 유리 베이스판에 전사된다.
소위 콤팩트 디스크 또는 자기 광 디스크인 디지털 오디오 디스크 같은 광디스크를 제조하기 위해서, 돌기 및 피트와 홈으로부터 뒤집어진 요홈이 교대로 형성된 패턴을 베이스판에 전사시키기 위한 기술로서, 수지의 광 중합을 위해 상기 패턴을 가진 스탬퍼를 자외선에 의해 방사하고 자외선으로 경화 가능한 액체 수지와 밀접하게 접촉시키는, 광 중합 방법이 제안되어 있다.
특히, 광 중합 방법은 자외선으로 경화 가능한 액체 수지를 예를 들어 스크린 인쇄에 의해 디스크용 광선 전달 베이스판의 표면상에 코팅 시키는 단계와, 표면상에 미세돌기 및 요홈의 패턴을 갖는 스탬퍼를 롤러에 의해 수지와 밀접하게 접촉시키는 단계와, 광 중합을 위해 베이스판-스탬퍼 조립체의 베이스판 측부를 자외선으로 방사하여 수지를 경화시키는 단계와, 피트 및 홈의 전환부인 돌기 및 요홈이 교대로 형성된 미세 패턴을 스탬퍼 표면에서 베이스판 표면으로 전사하기 위해, 베이스판과 경화 수지층을 스탬퍼로부터 박리시키는 단계를 포함한다.
자외선으로 경화가능한 수지가 액체 상태로 스탬퍼와 밀접하게 접촉하므로, 패턴의 중첩이 매우 정확히 이루어지고, 스탬퍼 손상 위험이 거의 완전하게 회피된다. 먼저, 월등한 치수 안정도, 열 저항성 및 양호한 복굴절성을 갖는 베이스판이 유리 베이스판의 사용으로 얻어진다.
한편, 유리 베이스판 상에 돌기 및 요홈이 교대로 형성된 패턴을 광 중합법으로 전사시키는 경우, 유리 베이스판과 자외선으로 경화 가능한 수지 사이의 결합 특성과 관련하여 문제점이 발생한다.
유리 베이스판과 자외선으로 경화 가능한 수지 사이의 불만족스러운 결합 특성으로 인해, 베이스판이 스탬퍼에서 박리될 때, 패턴이 스탬퍼로부터 전사되는 수지층이 스탬퍼에 남아있거나 결합이나 불순물이 유리 베이스판상의 경화된 수지에서 발생될 위험이 있다.
이와 관련하여, 일본 특허공보 제62-71038 호에 기술된 바와 같이, 유리 베이스판과 수지 사이의 점착성 이나 결합 특성을 얻기 위해, 미리 결합제로 유리 베이스판의 표면을 처리하기 위한 시도가 있었다.
결합제는 유리 같은 무기물로 결합 가능한 기능 그룹과 자외선으로 경화 가능한 수지로 결합 할수 있는 기능 그룹을 포함하므로, 유리 베이스판과 자외선으로 경화 가능한 수지를 서로 단단히 결합시키기 위해 유리 및 수지를 브리지 시키도록 작용하게 된다.
그러나, 부가적인 조사에 의해, 표면이 결합제에 의해 처리됨에도 불구하고 불충분한 결합력으로 인해 수지층의 박리가 빈번히 발생되어, 높은 신뢰성을 갖는 광 디스크를 제조해야 할 경우 충분히 넓은 공간이 필요하다는 사실을 알았다.
본 발명의 목적은 신뢰성 높은 광 디스크의 제조를 위해, 유리 베이스판과 수지 사이에 충분한 결합력을 제공하는 광 디스크 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자는 실험 조사결과, 유리 베이스판 상에 남아있는 습기가 결합제에 의해 성취된 수지와 유리 베이스판 사이의 결합력에 나쁜 영향을 미친다는 사실을 알게 되었다.
이러한 문제점은 본 발명에 따른, 유리 베이스판을 결합제에 의해 처리된 표면으로 처리하는 단계와, 자외선으로 경화 가능한 수지층을 결합제로 처리된 유리 베이스판 상에 형성시키는 단계와, 베이스판 스탬퍼 조립체 형성을 위해 베이스 층상의 수지층을 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 돌기 패턴이 형성된 스탬퍼에 밀접히 접촉 시키는 단계와, 수지를 광 중합 시키기 위해 베이스판 스탬퍼 조립체를 자외선으로 방사하는 단계와, 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 돌기 패턴이 스탬퍼로부터 전사된 수지층을 유리 베이스판을 따라 스탬퍼로부터 박리 시키는 단계를 포함하며 ; 상기 표면처리 단계 전 또는 후에 상기 유리 베이스판이 감소된 압력하에서 100
Figure kpo00002
이상의 가열 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법에 의해 해결된다.
광 디스크용 베이스판으로서 사용된 유리 베이스판은 그 표면을 정화시키기 위해 플레온 가스에 의해 정확히 세척된다. 그 결과, 보다 적은 량의 습기가 판 표면상에 남게된다. 부수적으로, 대기에 함유된 습기가 유리 베이스판의 저장 동안 판 표면에 흡착될 수 있다.
유리 베이스판 상에 남아있는 습기로 인해, 유리 베이스판과 수지층사이의 충분한 결합력이 결합제에 의해 처리된 표면에도 불구하고 향상 될 수 없게 된다.
본 발명에 의하면, 유리 베이스판은 표면이 결합제에 의해 처리되는 전, 후에 감소된 압력하에서 100
Figure kpo00003
이상의 가열 온도로 가열됨으로써 유리 베이스판 상에 남아있는 습기는 만족스럽게 제거된다.
그래서, 결합제에 의해 처리되는 표면 효과가 보다 완전히 나타나고, 충분한 결합력이 유리 베이스판과 수지층 사이에 제공된다.
이후에, 본 발명에 따른 광 디스크 제조 방법을 후술한다.
본 발명에 따른 광 디스크 제조 방법의 제1단계는 유리 베이스 판을 가열하는 단계이다.
예비 사용 단계 동안이나 유리 베이스판의 저장 동안, 습기는 판표면상 남아 중첩되는 경향이 있다. 그러므로, 본 실시예에서는, 결합제에 의한 표면 처리 전에 습기를 제거하기 위해 베이스판을 가열된다.
즉, 사용될 유리 베이스판을 오븐에 놓고서, 습기를 충분히 제거하도록 진공상태로 가열한다.
가열 온도는 100
Figure kpo00004
이상이고, 가열동안 수 토르 정도의 감소된 압력을 유지한다.
유리 베이스판의 용융 온도 보다 높지 않은 가열 온도가 사용될 수 있지만, 베이스판이나 용기가 손상되거나 너무 높은 가열 온도로 냉각 시간이 과도하게 연장될 수 있기 때문에, 100
Figure kpo00005
내지 150
Figure kpo00006
범위의 가열 온도가 가장 적합하다.
가열 시간은 유리 베이스판으로부터 습기를 충분히 제거하도록 가열 온도의 함수로 선택된다. 예를 들면 100
Figure kpo00007
내지 150
Figure kpo00008
의 가열 온도로 20분 내지 2시간 정도의 가열 시간이면 충분하다. 가열 시간이 상기 범위보다 짧을 경우, 습기는 결합 강도의 부족분을 제거할 수 없게 된다. 과도한 가열 시간이 결합 강도의 향상에 장해가 되지는 않겠지만, 생산 공정 효율이 낮아지지 않도록 최적의 가열 시간을 선택할 필요가 있다.
가열후, 유리 베이스판은 유리 베이스판이 감소된 압력 상태로 유지된 오븐에 놓여질때까지 양호하게 냉각된다. 감소된 압력 상태가 해제되는 동안 유리 베이스판의 온도가 계속 높다면, 공기중의 습기가 냉각중에 유리 베이스판 상에 다시 부착될 위험이 있다.
습기가 가열 단계에 의해 충분히 제거되는 유리 베이스판은 결합제에 의해 표면 처리 단계를 받게 된다.
결합제에 의한 표면처리는 솔벤트로 결합제를 희석시키고, 처리를 위해 유리 베이스판을 침지한후, 처리된 유리 베이스판을 상승시킴으로써 실행된다.
사용되는 결합제의 형태는 제한되지 않는다. 그래서, 결합제가 아미노-, 에폭시-, 비닐-, 아크릴로시- 또는 메타크릴로시 그룹 같은 수지로 결합가능한 기능 그룹과 알코시나 아크릴로시 그룹같은 무기물로 결합 가능한 기능 그룹일 경우에는 결합제로서 충분하다.
결합제의 특정예로는,
Figure kpo00009
-(2-아미노에틸) 아미노프로필트리메소시실란,
Figure kpo00010
-(2-아미노에틸) 아미노프로필메틸디메소시실란,
Figure kpo00011
-메타크릴로시프로필 트리메소시실란, 비닐트리메소시실란, 비닐 트리에 소시실란이나
Figure kpo00012
-글리시도시프로필 트리메소시실란같은 실란 결합제와, 이소프로필디(스테아로일)메타크릴 티타네이트, 이소프로필디(메타크릴)스테아로일 티타네이트, 이소프로필디(스테아로일)아크릴 티타나이트나 이소프로필디(아크릴)스테아로일 티타네이트 같은 티타늄 결합제등이 있다.
상술된 결합제를 희석시키는 솔벤트로서, 탈염수 같은 수성 솔벤트가 사용된다. 그러나, 수성 솔벤트가 사용될 경우, 베이스판의 건조상태가 불만족스럽게 되어 베이스판 표면에 얼룩이 남게 된다. 이러한 얼룩이 남아 있는 유리 베이스판은 얼룩에 빛이 불리하게 확산되기 때문에 폐기처분해야된다. 한편, 수성 솔벤트는 결합제의 효과를 떨어트리는 경향이 있다.
그러므로, 희석 솔벤트로서, 유기 솔벤트 특히 에스테르 기본의 솔벤트가 가장 적합하다. 상기 에스테르 기본의 솔벤트는 단지 물로 어렵게 용해되고 결합제에 거의 나쁜영향을 주지 않는다. 부가로, 에스테르 기본 솔벤트를 사용하며, 건조 시간이 단축되고 건조시 얼룩이 생기지 않는다.
통상 사용되는 에스테르 기본 솔벤트로는 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트나 부틸 아세테이트 같은 것이 있다. 이들 중에 특히 뷰틸 아세테이트가 가장 양호하다.
결합제의 농도는 양호하게는 0.1 내지 5 중량
Figure kpo00013
이다. 결합제의 농도가 매우 높거나 낮으면 균일한 표면처리가 불가능해진다.
결합제에 의한 표면 처리에 있어서 임계인자 중에는 베이스판의 상승속도가 있다. 상승속도가 너무 높으면, 액체가 유동되므로 균일한 처리를 거의 기대할 수 없게 된다. 균일한 처리를 위해, 유리 베이스판 상승속도는 초당 5
Figure kpo00014
보다 훨씬 높지 않아야 된다. 상승속도가 낮으면 유리 베이스판의 건조 상태가 양호하게 된다. 그러나, 생산 효율이 너무 낮은 상승속도로 낮아지기 때문에, 상승속도를 적당히 제한해야 한다.
결합제 의한 표면 처리후, 스탬퍼상에 교대로 형성된 돌기 및 요홈을 베이스판의 표면에 전사시키는 단계는 베이스 판과 스탬프 사이에 자외선으로 경화 가능한 수지를 주입시키고 수지를 경화시키는 단계를 포함하는 광중합법으로 실행된다. 광중합법으로의 처리전에, 결합제로 처리된 유리 베이스판은 결합제에 의해 표면 처리된후 유리 베이스판에 흡착된 습기를 제거하도록 감소된 압력하에 가열된다.
상기 시간에서 가열 조건은 결합제에 의한 표면 처리전에 수행되는 가열 조건과 동일하다. 가열 시간은 3내지 15시간이 적합하다.
상술된 광중합법은 유리 베이스판상에서 실행되고, 그전에 결합제의 조력으로 처리된 표면 처리에 의해 처리됨으로써, 돌기 및 요홈이 교대로 형성된 패턴이 스탬퍼로부터 전사되는 광 디스크가 제조된다.
제1도는 광 디스크를 광중합법으로 제조하기 위한 일반적 구성의 장치를 도시한 도면이다.
제1도에 도시된 장치는 일련의 광중합 공정을 연속적으로 실시하기 위한 것이며, 상술의 결합제에 의해 이미 표면 처리된 베이스판 공급부(1)와, 유리 베이스판 상에 자외선으로 경화 가능한 합성수지를 코팅하기 위한 스크린 인쇄부(2)와, 롤에 의해 스탬퍼를 수지에 대해 가압하여 광중합을 위하여 자외선으로 최종 스탬퍼 수지 조립체를 방사시키는 전사부(3)와, 스탬퍼상의 패턴이 전사된 유리 베이스판을 수용하는 베이스판 반출부(4)로 구성되어 있다. 상기 도면부호 1내지 4의 부품은 장치 베이스(5)상에 순서대로 배열된다.
베이스판 공급부(1)는 베이스판(6)을 인접 스크린 인쇄부(2)로 연속적으로 공급하기 위하여 다수의 유리 베이스판(6)을 일시적으로 저장하기 위한 것이며, 다수의 유리 베이스판(6)을 저장하는 다단 카트리지(7)를 갖는다.
스크린 인쇄부(2)는 스크린 인쇄에 의해 자외선 경화 가능한 액화 수지를 기계적으로 반출된 유리 베이스판(6)의 한 표면 상에 적용시키며, 도시하지 않은 제1베이스판 전사 유니트에 의해 카트리지(7)로부터 차례로 공급되고, 진공 척킹, 스크린 인쇄용 스크린, 스퀴즈등에 의해 유리 베이스판을 단단히 유지시키기 위해 베이스판 레스트(rest)를 갖는 인쇄 베이스(8)를 포함한다.
전사부(3)는 그 면상에 돌기와 요홈의 패턴이 형성되고, 완성된 디스크상에서 구멍과 홈의 역전부인 스탬퍼(10)와, 스탬퍼(10)를 유지하고 전후 방향으로 이동 가능한 스탬퍼 홀더(11)를 포함한다. 또한, 전사부(3)는 스탬퍼 홀더(11)의 이동방향을 따라, 자외선 경화가능 수지(9)가 적용된 유리 베이스판(6)에 대하여 스탬퍼(10)를 가압하는 롤(12)과, 수지(9)를 경화시키기 위한 자외선 방사용 광원(13)을 포함한다.
도시되지는 않았지만, 제2베이스판 전사 유니트는 자외선으로 경화 가능한 수지(9)로 코팅된 베이스판(6)의 표면이 스탬퍼(10)와 대면하도록, 인쇄 베이스(8)상의 유리 베이스판(6)을 거꾸로 역전시켜서 이상태에서 유리 베이스판(6)을 전사부(3)로 전사시키기 위해 전사부(3)와 스크린 인쇄부(2) 사이에 제공된다.
베이스판 공급부(1)와 유사하게, 베이스판 반출부(4)는 다단 베이스판 반출 카트리지(14)를 가짐으로써, 돌기 및 요홈의 패턴이 전사부(3)의 스탬퍼(10)로부터 전사된 후 스탬퍼(10)로부터 박리된 유리 베이스판(6)은 제3베이스판 전사 유니트에 의해 반출부(4)로 안내된다. 제3베이스판 전사 유니트는 회전축(15)에 대해 회전하는 회전 아암(16)과, 회전 아암(16)의 말단부에 제공된 흡입 헤드(17)를 호함하며, 흡입헤드(17)에 의해 유리 베이스판(6)을 흡입하고 흡입 헤드(17)에 의해 흡입된 베이스판(6)을 전사부(3)로부터 베이스판 반출부(4)의 반출 카트리지(14)까지 전사하는 기능을 갖는다.
광 디스크용 베이스판은 광 디스크를 제조하는 상술의 장치에 의해 연속적으로 실행되는 후술의 단계로 제조된다.
상술한 바와 같이, 예열하여 결합제로 처리된 유리 베이스판(6)은 베이스판 공급부(1)의 카트리지(7)에 일시적으로 저장된다.
베이스판은 도시되지 않은 제1베이스판 전사 유니트에 의해 스크린 인쇄부(2)의 인쇄 베이스상에 차례로 전사된다.
자외선 경화가능 수지(9)는 제2(a)도에 도시된 스크린 인쇄 장치에 의해 인쇄 베이스(8)상에 놓인 유리 베이스판(6)상에 적용된다.
상기 스크린 인쇄 장치는 예정된 천공 패턴이 형성된 박형 스텐레스 강판으로 형성된 인쇄 스크린(19)과, 스퀴즈(19)를 포함한다. 자외선 경화가능의 수지(9)는 프레임(20)상의 장력하에 가해진 전체 인쇄 스크린(18)상에 공급되며, 천공 패턴에 따라 유리 베이스판(6)의 표면상에 수지(9)를 인쇄하는 스퀴즈(19)에 의해 스퀴즈 된다.
본 실시예에 있어서, 인쇄 스크린(18)상의 천공 패턴은 초승달 형태로 집단 형성된 8각형 패턴과, 베이스판을 스탬퍼(10)에 가압하는 동안 자외선 경화가능 수지의 포밍(foaming)이나 누출을 방지하기 위하여 8각형 패턴쪽으로 설정된 원형패턴(18b)으로 구성되어 있다.
제2(b)도는 자외선 경화가능 수지(9)가 상술한 것처럼 스크린 인쇄에 의해 적용되는 유리 베이스판(6)을 도시한다.
유리 베이스판(6)은 스탬퍼(10) 상의 교대로 형성된 돌기 및 요홈의 패턴이 유리 베이스판(6)상에 전사되는 전사부(3)로 전사된다.
전사부(3)로의 전사동안에, 유리 베이스판(6)은 제2(c)도에 도시된 바와 같이 베이스판(6)이 스탬퍼 홀더(11)상에 놓인 스탬퍼(10)상에 적층되기 전에, 수지(9)로 피복된 그 측부가 하방으로 면하게 되도록, 거꾸로 회전된다.
스탬퍼(10)상에 적층된 유리 베이스판(6)은 제2(d)도에 도시된 바와 같이, 스탬퍼 홀더(11)를 이동시킴으로서 롤(12)에 의해 가압되므로, 스탬퍼(10)와 밀접하게 접촉된다. 자외선 경화가능 수지(9)가 액체 상태로 유지되기 때문에, 스탬퍼(10)의 미세 돌기 및 요홈에 의해 형성된 공간내로 균일하게 도입된다.
스탬퍼 홀더(11)는 유리 베이스판(6)이 광원(13)아래위치로 전사된 스탬퍼(10)와의 밀접한 접촉을 유지할때까지 부가 이동된다.
유리 베이스판 스탬퍼 조립체의 유리 베이스판 측부에 제2(e)도에 도시된 바와 같이 자외선이 방사되므로써, 유리 베이스판(6)과 스탬퍼(10)사이의 공간에 충전된 자외선 경화가능 수지(9)는 광중합에 의해 경화된다. 이 방법에서, 스탬퍼(10)표면상에 교대로 형성된 돌기 및 요홈의 패턴은 유리 베이스판(6)상의 자외선 경화가능 수지의 층에 완전하게 전사된다.
패턴의 전사가 끝난 후에, 유리 베이스판(6)은 제2(f)도에 도시된 바와 같이 스탬퍼(10)로부터 박리되며, 제3 베이스판 전사 유니트에 의해 베이스판 반출부(4)로 전사된다. 자외선 경화가능수지(9)에 결합되도록 유리 베이스판(6)이 결합제에 의해 처리된 표면에 의해 미리 처리되고, 표면처리 전후에 감소된 압력하에서 가열되기 때문에, 돌기 및 요홈이 교대로 형성된 패턴이 스탬퍼로부터 전사된 자외선 경화가능 수지의 층으로부터 베이스판이 박리될 위험은 없게 된다.
광 디스크를 제조하기 위한 상술의 장치로 부터의 광 디스크용 베이스판은 반사막, 레코딩막 및 보호층을 형성한 후에 광 디스크로 처리된다. 광 디스크의 특정 구조가 임의로 선택되므로, 반사 및 레코딩막 또는 보호층은 광 디스크의 사용 및 적용에 따라 어떠한 방법으로도 선택될 수 있다.
예컨대, 디지털 오디오 디스크 또는 CD-ROM에 있어서 Aℓ막과 같은 금속 반사막은 돌기 및 요홈이 교대로 형성된 패턴이 전사되는 디스크 베이스판상에 형성된다. 광자기 디스크에 있어서, 케르 효과나 패러데이 효과(Kerr or Faraday effects)와 같은 광자기 특성을 나타내는 예컨대 TbFeCo의 수직 자화 막은 디스크 기판상에 형성된다. 본 발명은 저융점 금속 박막, 상변화 막 또는 레코딩 층으로서 유기성 염료를 함유한 막을 갖는 광 디스크에 적용된다.
상술의 공정 단계에 의해 준비된 광 디스크용 베이스판은 유리 베이스판으로부터 자외선 경화가능 수지의 박리 위험없이, 유리 베이스판과 자외선 경화가능 수지간사이의 높은 결합강도를 나타낸다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않는다. 예를 들어, 결합제에 의한 표면 처리후의 가열 단계는 본 발명의 범위내에서 생략할 수도 있다.

Claims (18)

  1. 유리 베이스판을 결합제에 의해 처리된 표면으로 처리하는 단계와, 자외선으로 경화 가능한 수지층을 결합제로 처리된 유리 베이스판상에 형성시키는 단계와, 베이스판 스탬퍼 조립체 형성을 위해 베이스층상의 수지층을 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 요철 패턴이 형성된 스탤퍼에 밀접히 접촉시키는 단계와, 수지를 광중합 시키기 위해 베이스판 스탬퍼 조립체를 자외선으로 방사하는 단계와, 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 요철 패턴이 스탬퍼로부터 전사된 수지층을 유리 베이스판을 따라 스탬퍼로부터 박리시키는 단계를 포함하며 ; 상기 표면 처리 단계전에 상기 유리 베이스판이 감소된 압력하에서, 100
    Figure kpo00015
    이상의 가열 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가열 온도는 유리 베이스판의 용융 온도보다 높지 않은 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 가열 온도의 범위는 100 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 가열 시간은 100 내지 150
    Figure kpo00016
    온도 범위에서 20분 내지 2시간인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 유리 베이스판의 표면 처리에 사용된 결합제는 유기 솔벤트에 의해 0.1 내지 5 중량 퍼센트의 농도로 희석되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 표면 처리중 유리 베이스판의 상승 속도는 초당 5
    Figure kpo00017
    이하인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  7. 유리 베이스판을 결합제에 의해 처리된 표면으로 처리하는 단계와, 자외선으로 경화가능한 수지층을 결합제로 처리된 유리 베이스판상에 형성시키는 단계와, 베이스판 스탬퍼 조립체 형성을 위해 베이스층 상의 수지층을 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 요철 패턴이 형성된 스탬퍼에 밀접히 접촉시키는 단계와, 수지를 광중합시키기 위해 베이스판 스탬퍼 조립체를 자외선으로 방사하는 단계와, 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 요철 패턴이 스탬퍼로부터 전사된 수지층을 유리 베이스판을 따라 스템퍼로부터 박리시키는 단계를 포함하며 ; 상기 표면 처리 단계후, 상기 유리 베이스판은 감소된 압력하에서 100
    Figure kpo00018
    이상의 가열온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 가열 온도는 상기 유리 베이스판의 용융 온도보다 높지 않은 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 가열 온도의 범위는 100 내지 150
    Figure kpo00019
    인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  10. 제7항에 있어서, 상기 가열 시간은 100 내지 150
    Figure kpo00020
    범위내에서 3 내지 15 시간인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  11. 제7항에 있어서, 상기 유리 베이스판의 표면 처리에 사용된 결합제는 유기 솔벤트에 의해 0.1 내지 5 중량 퍼센트의 농도로 희석되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  12. 제7항에 있어서, 상기 표면 처리중의 유리 베이스판의 상승 속도는 초당 5보다 높지 않은 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  13. 유리 베이스판을 결합제에 의해 처리된 표면으로 처리하는 단계와, 자외선으로 경화가능한 수지층을 결합제로 처리된 유리 베이스판상에 형성시키는 단계와, 베이스판 스탬퍼 조립체 형성을 위해 베이스층 상의 수지층을 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 패턴이 형성된 요철 스탬퍼에 밀접히 접촉시키는 단계와, 수지를 광중합 시키기 위해 베이스판 스탬퍼 조립체를 자외선으로 방사하는 단계와, 돌기 및 요홈이 번갈아 형성된 요철 패턴이 스탬퍼로부터 전사된 수지층을 유리 베이스판을 따라 스탬퍼로부터 박리시키는 단계를 포함하며 ; 상기 표면 처리 단계 전·후에, 상기 유리 베이스판이 감소된 압력하에서 100
    Figure kpo00022
    이상의 가열 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 가열 온도는 상기 유리 베이스판의 용융 온도보다 높지 않은 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 가열 온도의 범위는 100 내지 150
    Figure kpo00023
    인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제13항에 있어서, 상기 결합제에 의한 표면 처리전의 가열을 위한 가열 시간은 10 내지 150
    Figure kpo00024
    범위의 가열 온도에서 20분 내지 2시간이며, 상기 표면 처리후의 가열을 위한 가열 시간은 100 내지 150
    Figure kpo00025
    범위의 가열 온도에서 3 내지 15시간인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  17. 제13항에 있어서, 유리 베이스판의 표면 처리에 사용된 결합제는 유기 솔벤트에 의해 0.1 내지 5중량 퍼센트의 농도로 희석되는 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
  18. 제13항에 있어서, 상기 표면 처리 중 유리 베이스판의 상승 속도는 초당 5
    Figure kpo00026
    이하인 것을 특징으로 하는 광 디스크 제조 방법.
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