KR100201048B1 - 유체제어 시스템 및 이것에 사용되는 밸브 - Google Patents
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Abstract
반도체 제조나 자성박막의 제조, 바이오 관련제품의 제조 등에 사용되는 유체제어시스템 및 이것에 사용되는 밸브에 있어서, 밸브의 작동(개폐)을 신속하고 또한, 정확하게 실시하도록 유체의 공급을 정학하게 제어할 수 있도록 한다.
처리장치(C) 내로 여러종류의 유체(G1),(G2),…,를 공급하는 주 제어라인(L) 및 분기 제어라인(L1),(L2),…과 분기제어라인(L1),(L2)에 설치되어 처리장치(C)내로 공급되는 각종 유체(G1),(G2),…,의 전환을 실시하는 복수의 밸브(V)로 이루어진 유체제어 시스템에 있어서, 상기한 밸브(V)를 유체압 액츄에이터(1)를 구비한 유체구동형 밸브(V')와, 유체구동형 밸브(V')에 일체적으로 부착되어 유체압 액츄에이터(1)에 작동유체(A)를 공급하는 전자밸브(V)로 구성된 것을 특징으로 하는 유체제어 시스템.
Description
제1도는 본 발명의 실시의 형태에 관하여 반도체 제조장치의 유체제어 시스템의 한 예를 나타내는 개략 계통도이다.
제2도는 본 발명의 유체제어 시스템에 사용되는 전환밸브의 한 예를 나타내는 확대 종단면도이다.
제3도는 본 발명의 유체제어 시스템에 사용되는 전환밸브의 다른 예를 나타내는 부분 확대 종단면도이다.
제4도는 종래 유체제어 시스템의 한 예를 나타내는 개략 계통도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 유체압 액츄에이터 2a : 유입통로
2b : 유출통로 2c,21c : 밸브실
2d,21d : 밸브시이트 A : 작동유체
C : 처리장치 L : 주 제어라인
L1~L5: 분기 제어라인 V : 밸브
V' : 유체구동형 밸브 V : 전자밸브
본 발명은 반도체의 제조나 자성박막의 제조, 바이오 관련제품의 제조, 의약품의 제조 등에 사용되는 각종 유체를 처리장치로 공급하기 위한 유체제어 시스템 및 이것에 사용되는 밸브에 관한 것으로, 복수의 밸브를 신속하고 또한, 전기신호에 따라서 정확하게 작동시키는 것에 의해, 처리장치로 각종 유체의 공급을 정확하게 제어할 수 있도록 한 유체제어 시스템 및 이것에 사용되는 밸브에 관한 것이다.
제4도는, 종래 반도체의 제조에 사용되고 있는 유체제어 시스템의 한 실시예를 표시하는 것으로, 그 유체제어 시스템은 처리장치(웨이퍼의 처리를 실시하는 처리장치(C) 내로 여러 종류의 유체(G1),(G2)(G4),(G5)를 공급하는 주 제어라인(L) 및 분기 제어라인(L1~L5)과, 분기 제어라인(L1~L5)에 설치되어, 처리장치 내로 공급되는 각종 유체(G1),(G2),(G3),(G4),(G5)의 전환을 실시하는 복수의 밸브(V) 등으로 구성되고 있다.
또, 제4도에 있어서, 참조부호 (L6)은 처리장치(C)에 접속된 진공 배기라인이고, 참조부호 (P1)은 진공 배기라인(L6)에 접속된 진공 펌프이고, 참조부호 (L7)은 주 제어라인(L)에 접속된 벤트라인이고, 참조부호 (P2)는 벤트라인(L7)에 접속된 진공펌프이며, 참조 부호 (V1),(V2),(V3)는 밸브이다.
상기한 각 밸브(V)에는, 복수의 메탈 다이어프램밸브를 일체적으로 조합시킨 구조의 블록밸브나 단체구조의 메탈 다이어프램밸브, 밸로즈 밸브 등이 사용되고 있고, 이것은 어떤 것이라도 유체압 액츄에이터(유체압 실린더)에 의해 작동하도록 되어있다. 즉, 밸브(V)로는 유체구동형 밸브가 사용되고 있다.
또한, 상기한 각 밸브(V)는 튜브(T)를 매개로 하여 작동유체공급용 전자밸브(EV)에 접속되어 있어서, 전자밸브(EV)가 개방되어 작동유체(A)가 튜브(T)를 통하여 유체압 액츄에이터로 공급되는 것에 의해 작동하도록 되어 있다.
더구나, 전자밸브(EV)는 1개소에 합쳐져서 블록화되어 있고, 1개의 입구와 복수의 출구를 구비하여, 각 출구가 튜브(T)를 통하여 각 밸브의 유체압 액츄에이터로 각각 접속되어 있다.
그리고, 상기한 유체제어 시스템은 전자밸브(EV)로부터 튜브(T)를 통하여 각 밸브(V)에 작동유체(A)를 공급하고, 각 밸브(V)를 적절하게 개폐 제어하는 것에 의해, 각 밸브(V)를 통하여 처리장치로 각종 유체(G1),(G2),(G3),(G4),(G5)를 단독으로, 혹은 여러 종류의 유체를 혼합하여 공급할 수 있도록 되어 있다.
그런데, 상기한 유체제어 시스템에 있어서, 각 밸브(V)의 조작신호에 대한 작동응답시간은, 밸브(V) 자신의 작동 응답시간과 작동유체(A)의 공급시간에 관계되어 있다. 즉, 각 밸브(V)의 작동 응답시간은, 전자밸브(EV)가 조작신호에 의해 개방될 때까지의 시간과 작동유체가 전자밸브(EV)로부터 튜브(T)를 통하여 밸브(V)에 공급되기까지의 시간과, 밸브(V) 자신이 개방(혹은 폐쇄)되기까지의 시간의 합계로 된다.
그러나, 상기한 유체제어 시스템에 있어서는, 각 밸브(V)의 진공 액츄에이터와 전자밸브(EV)를 튜브(T)에서 접속하고 있는 경우, 작동 유체가 공급되기까지의 시간이 걸리고, 밸브(V)의 작동(개방·폐쇄)을 신속하게 실시하지 못하는 문제가 있다.
또, 각 밸브(V)와 전자밸브(EV)를 접속하는 튜브(T)의 길이가 서로 다르게 된 경우, 각 밸브(V)의 작동 응답시간에 어긋남이 발생하게 된다. 그 결과, 예를 들어 각 밸브(V)가 노말·클로즈형으로, 여러종류의 유체를 혼합하여 사용하는 경우에는, 여러개의 밸브(V)를 신속하고, 또한 동시에 개방하는 것이 불가능하기 때문에, 유체의 혼합비가 안정되기까지의 시간을 필요로 하여, 이 시간이 손실시간으로 되어서 유체의 낭비가 발생하게 된다. 더욱이, 각 밸브(V)가 노말·오픈형으로 혼합가스를 제공하고 있는 경우에도, 그 밸브(V)를 신속하고 또한, 동시에 폐쇄하는 것이 불가능하기 때문에, 유체의 낭비가 발생하게 된다. 특히, 반도체제조용 유체중에는 대단히 고가의 것도 있으므로, 경제적으로 큰 문제가 있다.
다음에, 전자밸브(EV)의 복수 출구로부터 동시에 작동유체(A)를 내보내면, 작동유체(A)가 부족하여 압력저하를 일으키는 경우가 발생하여, 그 결과, 작동유체(A)의 압력강하에 따라서 작동 응답시간을 벗어나는 경우가 발생하게 된다.
이와 같이, 종래의 유체제어 시스템에 있어서는, 이것에 사용되는 복수의 밸브(V)를 신속하고 또한, 정확하게 동시에 작동(개방·폐쇄)되는 것이 불가능하게 되어, 처리장치로의 여러 종류의 유체(G1),(G2),(G3),(G4),(G5)의 공급을 정확하게 제어하기 어렵다는 문제가 있다.
본 발명은, 상기한 문제점을 해소하기 위하여 창작된 것으로, 그 목적은 밸브를 신속하고 또한, 정확하게 작동(개방·폐쇄)시키는 것이 가능하고, 유체의 공급을 정확하게 제어할 수 있도록 한 반도체의 제조나 자성박막의 제조, 바이오관련제품의 제조, 의약품의 제조 등에 사용하는 유체제어 시스템 및 이것에 사용되는 밸브를 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 특허청구의 범위 제1항에 기재된 유체제어 시스템은, 처리장치 내로 여러 종류의 유체를 제공하는 주 제어라인 및 복수의 분기 제어라인과, 분기 제어라인에 설치되어 처리장치 내로 공급되는 각종 유체의 전환을 실시하는 복수의 밸브로 이루어진 유체제어 시스템에 있어서, 상기한 밸브를 유체압 액츄에이터를 구비한 유체구동형 밸브와, 유체구동형 밸브에 일체적으로 부착되고 유체압 액츄에이터로 작동유체를 공급하는 전자밸브로 구성된 것이다.
본 발명의 특허청구의 범위 제3항 및 제4항에 기재된 밸브는 유입통로, 유출통로, 밸브실 및 밸브시이트를 구비한 보디와, 보디측에 승강 가능하게 지지된 스템과, 스템의 승강작동에 의해 보디의 밸브시이트에 장착되는 디스크(특허청구의 범위 제3항의 밸브의 경우) 또는 다이어프램(특허청구의 범위 제4항의 경우)와, 보디측에 설치된 스템을 승강작동시키는 유체압 액츄에이터로 이루어진 유체구동형 밸브와, 입구, 출구, 밸브실 및 밸브시이트를 구비하여, 유체압 액츄에이터에 일체적으로 설치함과 동시에 출구가 유체압 액츄에이터로 접속된 보디와, 보디측에 승강 가능하게 지지된 플런저와, 플런저에 설치되어 밸브시이트에 장착된 디스크와, 디스크가 밸브시이트에 장착하도록 플런저를 밸브폐쇄방향으로 밀어내는 스프링과, 플런저의 상방위치에 설치된 코어와, 코어의 주변에 설치된 여자코일로 이루어진 전자밸브로 구성된 것이다.
상기한 유체제어 시스템에 있어서, 전자밸브에 통전하여 전자밸브를 개방하면, 작동유체가 전자밸브의 입구, 밸브실, 출구를 경유하여 유체구동형 밸브의 유체압 액츄에이터로 최단거리에서 공급되어, 유체압 액츄에이터를 작동시킨다. 그 결과, 유체구동형 밸브가 노말·클로즈형인 경우에는, 그 유체구동형 밸브가 개방되어 유체가 처리장치로 공급된다. 또, 노말·오픈형의 경우에는, 유체구동형 밸브가 폐쇄되어 처리장치로 유체의 공급이 정지된다.
이 유체제어 시스템은, 처리장치로 여러종류의 유체를 공급하는 분기 제어라인 또는, 분기 제어라인과 주 제어라인으로 유체구동형 밸브에 전자밸브를 직접 연결한 구조의 밸브를 여러개 설치한 구성으로 되어 있다. 그 결과, 각 밸브를 신속하고 또한, 정확하게 작동(개방·폐쇄)되는 것이 가능하고, 처리장치의 각종 유체공급을 정확하게 제어하는 것이 가능하다. 또한, 반도체 품질의 향상, 유체의 역류나 역확산에 의한 문제의 해소 등을 도모한다.
이하, 본 발명의 실시예를 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
제1도는, 본 발명을 실시한 반도체 제조장치의 유체제어 시스템의 유압 계통도로, 그 유체제어 시스템은 처리장치(C)인 웨이퍼의 처리를 실시하는 처리장치내로 여러 종류의 유체(G1),(G2),(G3),(G4),(G5)를 공급하는 주 제어라인(L) 및 분기 제어라인(L1),(L2),(L3),(L4),(L5)과, 상기한 각 분기제어라인(L1),(L2),(L3),(L4),(L5)에 설치되어, 처리장치(C)내로 공급되는 각종 유체(G1),(G2),(G3),(G4),(G5)의 전환을 실시하는 복수의 밸브(V) 등으로 구성되고 있다.
더욱이, 제1도에 있어서, 참조부호 (L)은 주 제어라인이고, 참조부호 (L1)~(L5)은 분기 제어라인이고, 참조부호(L6)은 처리장치(C)에 접속된 진공 배기라인이고, 참조부호 (P1)은 진공 배기라인(L6)의 처리장치(C) 근방에 개설된 고진공 형식의 진공펌프(터보분자 펌프)이고, 참조부호 (P'1)은 진공 배기라인(L6)의 처리장치(C)로부터 먼거리(대기측)에 개설된 저진공 형식의 진공펌프(예를 들어, 로터리펌프나 드라이펌프)이고, 참조부호 (L7)은 유체제어라인(L)에 접속된 벤트라인이고, 참조부호 (P2)는 벤트라인(L7)에 접속된 진공펌프(로터리펌프)이며, 참조부호 (V1)~(V3)는 개폐밸브이다.
또, 제1도에 있어서 유체(G1),(G2),…는, 액체(액화가스)나 기체(기화가스)가 사용된다.
상기한 밸브(V)는, 유체압 액츄에이터(1)를 구비한 유체구동형 밸브(V')와, 유체구동형 밸브(V')에 일체적으로 부착되어, 유체압 액츄에이터(1)에 작동유체(A)를 공급하는 전자밸브(V)로 구성된다.
더욱이, 유체압 액츄에이터(1)는, 유압이나 수압, 질소가스 등의 가스압, 공기압 등을 이용하는 액츄에이터(1)가 사용되고 있다.
즉, 유체구동밸브(V')는, 유입통로(2a) 및 유출통로(2b)로 연통하는 오목형상의 밸브실(2c) 저면에 밸브시이트(2d)를 설치한 보디(2)와, 밸브실(2c)의 상부 위치에 설치된 밸로즈 플랜지(3)와, 밸로즈 플랜지(3)의 상면에 위치한 통형상의 보닛(4)과, 보디(2)에 나사로 체결되어 밸로즈 플랜지(3) 및 보닛(4)을 보디(2)측으로 부착되어 고정하는 보닛너트(5)와, 밸로즈 플랜지(3) 및 보닛(4)에 승강 가능하게 삽입 관통 지지되어, 하단부가 밸브실(2c) 내에 위치하는 스템(6)과, 스템(6)의 하단부에 고정되어, 밸브시이트(2d)에 장착되는 디스크(7)와, 양단부가 밸로즈 플랜지(3) 및 스템(6)의 하단부에 각각 용접에 의해 기밀하게 고정 부착된 금속제 밸로즈(8)와, 보닛(4)과 스템(6)에 끼워진 스프링받침(9)과의 사이에 설치되어, 디스크(7)가 밸브시이트(2d)에 장착되도록 스템(6)을 하방으로 밀어내는 밸브폐쇄용 스프링(10)과, 보닛(4)에 설치되어 작동유체(A)에 의해 스템(6)을 상방으로 구동하는 실리더구조의 유체압 액츄에이터(1) 등으로 구성되어 있고, 그 유체구동형 밸브(V')는 노말·클로즈형으로 되어 있다.
상기한 유체압 액츄에이터(1)는, 실린더실을 형성하는 실린더(11)와, 실린더(11) 내에 자유자재로 미끄럼 이동하게 배치된 피스톤(12)과, 피스톤(12)에 부착된 피스톤 캡(13)으로 구성되어 있고, 작동유체(A)에 의해 스템(6)을 상방으로 구동시키는 것이다.
더욱이, 작동유체(A)로는 기름, 물, 질소가스, 공기 등이 사용되고, 본 실시예에서는 공기가 작동유체(A)로 사용되고 있다.
구체적으로, 실린더(11)는 보닛(4)의 상부에 정지륜(14), 와셔(15) 및 0링(16)을 매개로 하여 기밀하게 고정되고, 보디(2)로부터 돌출하는 스템(6)의 상단부 주변을 둘러싸는 대략 통형상의 액츄에이터 보디(11')와, 액츄에이터 보디(11')에 그 입구를 폐쇄하도록 나사로 체결된 캡(11)으로 구성되고, 내부에는 실린더실이 형성되어 있다. 또, 캡(11)의 외주 모서리에는 상방 및 측방으로 개구하는 제1공급구(11a)가 캡(11)의 중앙부에는 실린더실내로 연통하는 제2공급부(11b)가 각각 형성되어 있다.
피스톤(12)은, 스템(6)의 상단부에 E링(17) 및 칼라(collar)(18)를 매개로 하여 부착되어 있고, 외주면에 끼워진 0링(19)을 매개로 하여 실린더실 내를 상하방향으로 미끄럼이동하도록 되어 있다. 또, 피스톤(12)에는 상하방향으로 분할된 실린더실을 연통상태로 하는 연통구멍(12a)이 형성되어 있다.
피스톤 캡(13)은, 단면형상이 약 역T자 형상을 하고 있고, 피스톤(12)의 상면에 나사(20)에 의해 고정되어 있어, 그 상단이 캡(11)의 제2공급구(11b)에 기밀하고 또한 자유자재로 미끄럼 이동하게 삽입되어 있다. 또, 피스톤 캡(13)의 중심부에는 캡(11)의 제2공급구(11b)와 피스톤(12)의 연통구멍(12a)을 연통상태로 하는 관통구멍(13a)이 형성되어 있다.
그리고, 상기한 유체구동형 밸브(V')에 있어서는, 제2공급구(11b), 관통구멍(13a) 및 연통구멍(12a)으로부터 실린더실의 하방부분으로 작동유체(A)가 공급되면, 피스톤(12)이 상승함과 동시에, 그것에 따라서 스템(6)이 밸브폐쇄용 스프링(10)의 탄성력에 의하여 상승하고, 디스크(7)가 밸브시이트(2d)로부터 떨어져서 유입통로(2a)와 유출통로(2b)가 연통상태(밸브개방상태)로 된다.
또, 작동유체(A)의 공급을 차단하고, 공급실 내가 배기되면, 밸브폐쇄용 스프링(10)의 탄성력에 의해 피스톤(12) 및 스템(6)이 하강하여, 디스크(7)가 밸브시이트(2d)에 장착되어 유입통로(2a)와 유출통로(2b)가 폐쇄상태(밸브폐쇄상태)로 된다.
한편, 상기한 전자밸브(V)는, 유체압 액츄에이터(1)의 캡(11) 상면에서 부착되고, 제1공급구(11a)에 연통접속되는 입구(21a)와, 제2공급구(11b)에 연통접속되는 출구(21b)와, 입구(21a) 및 출구(21b)에 연통하는밸브실(21c)과, 밸브실(21c) 내에 형성된 밸브시이트(21d)를 각각 구비한 보디(21)와, 보디(21)의 상면에 설치한 코일케이스(22)와, 밸브실(21c)을 덮는 커버(23)와, 하단부가 밸브실(21c) 내에 삽입되어 커버(23)에 상승 가능하게 지지된 통형상의 플런저(24)와, 플런저(24)의 하단부에 설치되어 밸브시이트(21d)에서 이탈하는 제1디스크(25)와, 플런저(24)의 상방위치에 설치되어 배기구멍(26a)을 형성한 코어(26)와, 코어(26) 주위에 설치된 여자코일(27)과, 여자코일(27)에 접속된 리이드 선(28)과, 제1디스크(25)가 밸브시이트(21d)에서 이탈하도록 플런저(24)를 하방으로 밀어내는 스프링(29) 등으로 구성되어 있고, 그 전자밸브(V)는 폐쇄형으로 되어 있다.
더욱이, 제3도에 있어서, 참조부호 (30)은 플런저(224) 내에 설치되어 배기구멍(26a)을 개폐하는 제2디스크이고, 참조부호(31)은 디스크(30)을 밀어내는 스프링이고, 참조부호 (32)는 0링이며, 참조부호 (33)은 마개이다.
그리고, 상기한 전자밸브(V)에 있어서, 통전에 의해 여자코일(27)이 여자되면, 플런저(24)가 스프링(29)의 탄성력에 대항하여 코어(26)측으로 올려져서, 제1디스크(25)가 밸브시이트(21d)로부터 이탈한다. 그 결과, 제1공급구(11a)로 부터 입구(21a)로 공급된 작동유체(A)는, 밸브실(21c) 및 출구(21b)를 경유하여 제2공급구(11b)로 공급되어, 유체구동형 밸브(V')의 유체압 액츄에이터(1)를 작동시킨다.
또, 여자코일(27)의 여자가 차단되면, 플런저(24)가 스프링(29)의 탄성력에 의해 하강하여, 제1디스크(25)가 밸브시이트(21d)에서 이탈한다. 그 결과, 전자밸브(V)는 밸브폐쇄상태로 되어, 유체압 액츄에이터(1)로의 작동유체(A)의 공급이 정지된다.
이와 같이 구성된 밸브(V)는, 처리장치(C)로의 각 분기 제어라인(L1~L5)에 설치된다. 즉, 유체구동형 밸브(V')의 유입통로(2a) 및 유출통로(2b)가 처리장치(C)로의 분기 제어라인(L1)~(L5)에 또한, 유체압 액츄에이터(1)의 제1공급구(11a)가 튜브(도면에 표시를 생략)를 매개로 하여 유체공급원(도면에 표시를 생략)에 각각 접속된다.
더욱이, 유체공급원으로서는, 압축기나 가압공기 저장탱크, 질소가스 봄베, 유압펌프 등이 사용된다. 또, 밸브(V)가 주 제어라인(L)에 설치되는 것도 있다.
상기한 밸브(V)를 여러대 설치한 유체제어 시스템에 의해 처리장치(C)로 여러종류의 유체를 혼합하여 공급하는 경우에는, 여러대 밸브(V)의 전자밸브(V)를 조작신호에 의해 개방한다. 즉, 각 전자밸브(V)의 여자코일(27)에 통전하여 여자코일(27)을 여자하면, 플런저(24)가 스프링(29)의 탄성력에 대항하여 코어(26)측으로 올려져서, 제1디스크(25)가 밸브시이트(21d)로부터 이탈한다. 그 결과, 유체공급원으로부터 튜브를 매개로 하여 제1공급구(11a)로 공급되고 있는 작동유체(A)는, 전자밸브(V)의 입구(21a)로부터 밸브실(21c) 및 출구(21b)를 경유하여 유체압 액츄에이터(1)의 제2공급구(11b)로 공급되고, 그 제2공급구(11b)로부터 관통구멍(13a) 및 연통구멍(12a)으로 경유하여 실린더실의 하방부분으로 공급된다.
그리고, 작동유체가 실린더실의 하방부분으로 공급되면, 피스톤(12)이 상승함과 아울러, 이것에 따라서 스템(6)이 밸브폐쇄용 스프링(10)의 탄성력에 대항하여 상승하고, 디스크(7)가 밸브시이트(2d)로부터 이탈한다. 그 결과, 여러대의 유체구동형 밸브(V')가 개방되고, 처리장치(C)로 여러종류의 유체가 혼합된 상태로 공급되어 실시된다.
본 발명의 유체제어 시스템에 있어서는, 밸브(V)가 유체압 액츄에이터(1)를 구비한 유체구동형 밸브(V')와, 유체압 액츄에이터(1)에 유체를 공급하는 전자밸브(V)로 이루어지며, 유체구동형 밸브(V')에 전자밸브(V)를 직접 연결하는 구성으로 되는 경우, 전자밸브(V)가 개방되면, 즉시 작동유체(A)가 유체구동형 밸브(V')에 공급되어, 유체구동형 밸브(V')가 작동(개방·폐쇄)된다.
즉, 밸브(V)의 작동(개방·폐쇄)이 신속하게 이루어진다.
또, 각 밸브(V)는 유체구동형 밸브(V')에 전자밸브(V)를 직접 연결하는 구성으로 되는 경우, 작동유체(A)의 공급경로의 길이가 동일하게 되어, 각 밸브(V)의 작동응답 시간에 손실이 발생하는 것이 없다. 그 결과, 예를 들어 여러종류의 유체를 혼합하여 사용하는 경우, 여러대의 밸브(V)를 신속하고 또한, 정확하게 개방하는 것이 가능하게 되며, 유체의 혼합비도 즉시 안정된다. 그렇지만, 밸브(V)가 각각 전자밸브(V)를 구비하고 있는 경우, 작동유체(A)가 부족하여 압력저하를 일으키는 일도 없이, 작동유체(A)의 압력저하에 따라서 작동시간의 손실도 방지할 수 있다.
이와 같이, 이 유체제어 시스템에 있어서는, 이것에 사용하는 복수의 밸브(V)를 신속하고 또, 정확하게 제어하는 것이 가능할 경우, 처리장치(C)로의 각종 유체의 공급·정지를 정확하게 제어할 수 있다.
더욱이, 제2도의 실시예에 있어서는, 유체구동형 밸브(V')로 밸로즈 밸브를 사용하여, 이것에 전자밸브(V)를 직접 연결하도록 하였지만, 제3도의 다른 실시예에 있어서는, 유체구동형 밸브(V')로 제3도에 표시하는 것과 같은 구성의 다이렉트 터치식의 메탈 다이어프램밸브를 사용하여, 이것에 전자밸브(V)를 직접 연결하도록 하여도 좋다.
더욱이, 제3도에 있어서, 참조부호 (7a)는 금속박판(스텐레스강판 등)제 다이어프램이고, (7b)는 패킹, 참조부호 (6a)는 스템(6)의 하단에 고정한 다이어프램푸쉬이고, 다이어프램 푸쉬(6a)를 매개로 하여 다이어프램(7a)을 밸브시이트(2d)로 밀어내는 것에 의해 유체통로가 폐쇄된다. 또, 스템(6)이 상방으로 밀어올려지면, 압입된 다이어프램(7a)은 탄성력에 의해 상방으로 복귀하여, 유체통로가 개방된다.
상기한 제2도의 실시예에 있어서는, 단체구조의 유체구동형 밸브(V')에 전자밸브(V)를 직접연결하여 밸브(V)를 구성하도록 한 것이지만, 제3도의 다른 실시예에 있어서는 복수의 유체압 액츄에이터(1)를 구비한 블록밸브에 복수의 전자밸브(V)를 직접 연결하여 밸브(V)를 구성하도록 하여도 좋다.
상기한 제2도의 실시예에 있어서는, 유체구동형 밸브(V')의 유체압 액츄에이터(1)에 실린더구조의 액츄에이터를 사용하도록 하였지만, 제3도의 다른 실시예에 있어서는 유체압 액츄에이터(1)에 다이어프램 구조나 밸로즈 구조의 액츄에이터를 사용하도록 하여도 좋다.
상기한 제2도의 실시예에 있어서는, 유체구동형 밸브(V')를 노말·클로즈형으로 하였지만, 제3도의 다른 실시예에 있어서는, 노말·오픈형으로 하여도 좋다. 이 경우에도, 상기한 제2도의 실시예와 마찬가지로 밸브(V)를 신속하고 또한, 정확하게 작동시키는 것이 가능하다.
상술한 것을 통하여, 본 발명의 유체제어 시스템은 처리장치로 여러종류의 유체를 공급하는 분기 제어라인 또는, 분기 제어라인과 주 제어라인으로, 유체구동형 밸브에 전자밸브를 직접연결한 구조의 밸브를 여러개 설치한 구성으로 되어 있는 경우, 각 밸브의 작동(개방·폐쇄)을 신속하고 또한, 정확하게 제어할 수 있다. 그 결과, 처리장치로 각종 유체의 공급을 정확하게 제어할 수 있고, 피처리제품 품질의 향상과, 유체나 역확산에 의한 문제의 해소 등이 도모된다.
Claims (3)
- 처리장치(C)내로 여러 종류의 유체(G1),(G2)를 제공하는 주 제어라인(L) 및 복수의 분기 제어라인(L1),(L2)과, 분기 제어라인(L1),(L2)에 설치되어, 처리장치(C)내로 공급되는 각종 유체(G1),(G2)이 전환을 실시하는 복수의 밸브(V)로 구성되는 유체제어 시스템에 있어서, 상기한 밸브(V)를 유체압 액츄에이터(1)를 구비한 유체구동형 밸브(V')와, 유체구동형 밸브(V')에 일체적으로 부착되어 유체압 액츄에이터(1)에 작동유체(A)를 제공하는 전자밸브(V)로 구성되는 것을 특징으로 하는 유체제어 시스템.
- 제1항에 있어서, 처리장치(C)를 반도체 제조장치의 웨이퍼 처리를 실시하는 처리장치로 하는 것을 특징으로 하는 유체제어 시스템.
- 유입통로(2a), 유출통로(2b), 밸브실(2c) 및 밸브시이트(2d)를 구비한 보디(2)와 보디(2)측으로 승강 가능하게 지지된 스템(6)과, 스템(6)의 승강 작동에 의해 보디(2)의 밸브시이트(2d)에서 이탈하는 금속형 다이어프램(7a)과 보디(2)측에 설치되어 시템(6)을 승강 작동시키는 유체압 액츄에이터(1)로 이루어진 유체구동형 밸브(V')와, 입구(21a), 출구(21b), 밸브실(21c), 밸브시이트(21d)를 구비하고, 유체압 액추에이터(1)에 일체적으로 부착됨과 아울러, 출구(21b)가 유체압 액츄에이터(1)로 접속된 보디(21)와, 보디측에 승강 가능하게 지지된 플런저(24)와, 플런저(24)에 설치되어 밸브시이트(21d)에서 이탈하는 디스크(25)와, 디스크(25)가 밸브시이트(21d)에 장착되도록 플런저(24)를 밸브 폐쇄방향으로 밀어내는 스프링(29)과 플런저(24)의 상방위치에 설치된 고어(26)와 코어(26)주위에 설치된 여자코일(27)로 구성된 전자밸브(V)로 구성되는 것을 특징으로 하는 밸브.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220080073A (ko) * | 2019-07-24 | 2022-06-14 | 햄-릿 (이스라엘-캐나다) 엘티디. | 유체 유동 제어 디바이스 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030222235A1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-04 | Filkovski Gregory T. | Modular shut-off valve apparatus |
US6789563B2 (en) * | 2002-06-04 | 2004-09-14 | Maxon Corporation | Pneumatic exhaust controller |
US6805328B2 (en) * | 2002-06-04 | 2004-10-19 | Maxon Corporation | Shut-off valve apparatus |
US7222636B2 (en) * | 2002-08-20 | 2007-05-29 | Applied Materials, Inc. | Electronically actuated valve |
US6994319B2 (en) * | 2003-01-29 | 2006-02-07 | Applied Materials, Inc. | Membrane gas valve for pulsing a gas |
JP4195837B2 (ja) | 2003-06-20 | 2008-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス分流供給装置及びガス分流供給方法 |
US7325567B2 (en) * | 2003-07-08 | 2008-02-05 | Aaa Sales & Engineering, Inc. | Pneumatic retarder acutator valve |
WO2005038320A2 (en) | 2003-10-17 | 2005-04-28 | Sundew Technologies, Llc | Fail safe pneumatically actuated valve |
US7475863B2 (en) * | 2005-10-14 | 2009-01-13 | Rain Bird Corporation | Piston for reverse flow diaphragm valve |
JP4765746B2 (ja) * | 2006-04-17 | 2011-09-07 | 日立金属株式会社 | 遮断弁装置及びこれを組み込んだ質量流量制御装置 |
JP5372353B2 (ja) * | 2007-09-25 | 2013-12-18 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置用ガス供給装置 |
WO2009039856A1 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-02 | Poul Elholm Jakobsen | Valve actuator system |
US9273796B2 (en) | 2007-09-27 | 2016-03-01 | Kmatic Aps | Valve actuator system |
US9454158B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
US20140305522A1 (en) * | 2013-04-12 | 2014-10-16 | Parker-Hannifin Corporation | Stream switching system |
FR3042581B1 (fr) * | 2015-10-16 | 2018-03-30 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Systeme de commande de circulation de fluide, installation d'alimentation comprenant un tel systeme de commande et procede employant une telle installation d'alimentation |
CN105671643A (zh) * | 2016-03-16 | 2016-06-15 | 江苏华盛天龙光电设备股份有限公司 | 一种单晶炉的炉盖 |
US10983538B2 (en) | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
WO2020116152A1 (ja) | 2018-12-07 | 2020-06-11 | 株式会社フジキン | 電磁弁、バルブ、流体制御装置、および電磁弁交換方法 |
US11635015B2 (en) * | 2019-11-05 | 2023-04-25 | Norgren Gt Development Llc | Coolant control valve |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1953850U (de) * | 1965-01-23 | 1967-01-19 | Erich Herion | Absperr- oder steuerventil mit einem kugelfoermigen verschlussstueck. |
US3727877A (en) * | 1970-03-04 | 1973-04-17 | Chayes Dental Inst Corp | Piloted shut-off valve |
CH655984A5 (de) * | 1982-04-07 | 1986-05-30 | Sulzer Ag | Magnetventil mit leistungsverstaerker. |
US4624441A (en) * | 1982-09-13 | 1986-11-25 | Valcor Engineering Corporation | Inflation valve |
US4703913A (en) * | 1982-09-22 | 1987-11-03 | California Institute Of Technology | Diaphragm valve |
US4558845A (en) * | 1982-09-22 | 1985-12-17 | Hunkapiller Michael W | Zero dead volume valve |
JPS61244976A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-10-31 | Fujikin:Kk | 流体遮断開放器 |
JPH0762504B2 (ja) * | 1986-09-30 | 1995-07-05 | 藤倉ゴム工業株式会社 | 空気作動弁 |
US4741354A (en) * | 1987-04-06 | 1988-05-03 | Spire Corporation | Radial gas manifold |
US4874014A (en) * | 1987-12-21 | 1989-10-17 | Fsi International, Inc. | Flow control manifold |
DE8817026U1 (de) * | 1988-01-13 | 1992-03-05 | Barth, Hans, 7801 Schallstadt | Druckregelventil |
JPH0211984A (ja) * | 1988-05-04 | 1990-01-17 | Nupro Co | 流体作動形弁アクチュエータ及び弁 |
US4986299A (en) * | 1989-09-05 | 1991-01-22 | Eaton Corporation | Reversible poppet valve cartridge |
JP3017816B2 (ja) * | 1991-02-20 | 2000-03-13 | 清原 まさ子 | 流体制御器 |
US5308433A (en) * | 1991-04-11 | 1994-05-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for vapor growth |
JP3006913B2 (ja) * | 1991-05-09 | 2000-02-07 | 清原 まさ子 | 流体制御器 |
US5368062A (en) * | 1992-01-29 | 1994-11-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gas supplying system and gas supplying apparatus |
JPH0687135A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-29 | K T K:Kk | 高圧ガス制御弁及び射出成形用ガス噴射システム |
JP3332053B2 (ja) * | 1993-10-27 | 2002-10-07 | 清原 まさ子 | チャンバーへのガス供給方法 |
-
1996
- 1996-02-14 TW TW085101845A patent/TW342429B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-03-26 EP EP96302056A patent/EP0756118B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-26 DE DE69621291T patent/DE69621291T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-31 IL IL11773296A patent/IL117732A/xx active IP Right Grant
- 1996-04-02 CA CA002173267A patent/CA2173267C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-09 US US08/630,081 patent/US5850853A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-30 KR KR1019960014034A patent/KR100201048B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220080073A (ko) * | 2019-07-24 | 2022-06-14 | 햄-릿 (이스라엘-캐나다) 엘티디. | 유체 유동 제어 디바이스 |
KR102665903B1 (ko) | 2019-07-24 | 2024-05-13 | 햄-릿 (이스라엘-캐나다) 엘티디. | 유체 유동 제어 디바이스 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69621291D1 (de) | 2002-06-27 |
EP0756118A2 (en) | 1997-01-29 |
IL117732A0 (en) | 1996-07-23 |
IL117732A (en) | 2000-01-31 |
EP0756118B1 (en) | 2002-05-22 |
CA2173267C (en) | 1999-11-09 |
US5850853A (en) | 1998-12-22 |
TW342429B (en) | 1998-10-11 |
KR970007029A (ko) | 1997-02-21 |
EP0756118A3 (en) | 1997-02-05 |
CA2173267A1 (en) | 1997-01-15 |
DE69621291T2 (de) | 2002-11-07 |
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