KR100195305B1 - 압력 진공용기 및 그 제조방법 - Google Patents

압력 진공용기 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100195305B1
KR100195305B1 KR1019910006260A KR910006260A KR100195305B1 KR 100195305 B1 KR100195305 B1 KR 100195305B1 KR 1019910006260 A KR1019910006260 A KR 1019910006260A KR 910006260 A KR910006260 A KR 910006260A KR 100195305 B1 KR100195305 B1 KR 100195305B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin plates
thin
container
shaped
walls
Prior art date
Application number
KR1019910006260A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910019185A (ko
Inventor
텝만 아비
Original Assignee
조셉 제이. 스위니
어플라이드 머티어리얼스 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 조셉 제이. 스위니, 어플라이드 머티어리얼스 인코포레이티드 filed Critical 조셉 제이. 스위니
Publication of KR910019185A publication Critical patent/KR910019185A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100195305B1 publication Critical patent/KR100195305B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16JPISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J12/00Pressure vessels in general
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/04Pressure vessels, e.g. autoclaves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
  • Butt Welding And Welding Of Specific Article (AREA)

Abstract

본 발명은 감소된 수의 모서리를 가지고 다중-모서리(다중-용접)접합이 없는 압력/진공용기를 개시한다. 다중-모서리 접합이 없기때문에, 누설이 쉽게 발견되어 수리될 수 있다. 또한 용기가 비교적 용이하게 제작된다.

Description

압력 진공용기 및 그 제조방법
제1 및 2도는 각각 다수의 다중-모서리(다중-용접)접합을 갖는 종래기술의 용기를 도시한 도면.
제3도는 제2도 용기의 4개의 벽을 형성하기위해 사용된 스트립을 도시한 도면.
제4 및 5도는 각각 본 발명의 실시예에 따라서 어떠한 다중모서리 또는 다중 용접 접합도 갖지않는 용기의 개략적인 분리사시도 및 사시도.
제6도는 본 발명에 의해 제조된 용기의 다른 실시예를 도시한 도면.
제7도는 작은 풋프린트(footprint) 다중 챔버 집적회로 공정시스템 내에서의 본 발명의 용기의 사용을 도시한 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 직사각형 반도체 진공용기 또는 챔버 11, 12, 13, 14 : 측벽
16 : 하부벽 17 : 상부벽
18 : 3-용접 접합 20, 70 : 용기
21, 25 : 1쌍의 메이팅 박판 31, 32, 33, 34 : 구멍
본 발명은 내부와 주변사이에 차압이 필요한 누설 방지 용기에 관한 것이며, 더 상세히는 반도체 회로를 가공처리하기 위한 진공챔버에 관한 것이다.
용어 접합, 3-용접 접합 및 다중-용접 접합은 번갈아 사용된다.
현재 반도체 회로를 가공처리하기위해 이용되는 진공챔버와 같은 압력 또는 진공용기를 제작하기위한 바람직한 기술에는 2가지가 있다: 첫째는 고체금속 블록으로부터 용기를 조각하는 기술이고 둘째는 패턴된 박판금속을 적당히 함께 용접하는 기술이다. 현재는 두가지 기술중에 박판금속 제작기술이 통상적으로 짧은시간 및 적은비용만이 필요하므로 이러한 용기 제작용으로 이용되고 있다.
하지만 박판금속 제작기술의 이용은, 용접후 검사했을 때 누설되기 쉬워 수리가 거의 불가능한 다중-용접 접합의 형성을 필요로 한다. 이 문제는 박판금속으로부터 제작된 통상적인 직사각형 반도체 진공용기 또는 챔버(10)를 나타낸 제1도에 의해 설명된다. 직사각형 진공용기(10)는 4개의 측벽(11, 12, 13, 14), 하부벽(16) 및 상부벽(17)으로 구성된다. 만일 용기(10)가 분리된 6개의 박판 금속조각으로부터 조립되면, 각자 단지 2개의 인접표면 사이의 용접보다 누설되기가 더 쉬운 분리된 8개의 3-용접 접합(18)이 형성된다.
제2도에 개략적으로 도시한 용기(10A)를 참고하면, 3-용접접합의 수를 줄이기위해, 다수의 벽이 단일 박판으로부터 형성될 수 있다. 예를들면, 제3도에 도시한 4개의 측벽(11, 12, 13, 14)은 단일 박판(15)으로부터 구부러질 수 있다(박판은 도시않음). 용기(10A)는 상부표면 및 하부표면을 따라, 그리고 각자가 상부벽 및 하부벽과 함께 밑에 접합된 단부모서리(19-19)를 따라 단일 2-모서리 용접을 필요로 하여, 3-용접접합(18-18)중 단지 2개를 필요로 한다. 그래서, 용기(10A)가 용기(10)에 비하여 다중-용접 접합의 수를 줄이지만 제거시키지는 않는다. 또한, 3굽힘을 행하기는 매우 어렵다. 규정 굽힘기계를 시용하여 3굽힘으로 생기는 밀폐된 구조물을 제거하는 방법은 없다. 그래서 특별한 기계 및 기술이 필요하다.
다중-용접 접합의 수를 줄임에 의해 상기 구조물(10A)이 접합에서의 고정(fixing)누설의 문제를 제거할 수는 없다. 어느 용접이 누설되더라도, 연속용접을 연마하여 재용접할 수는 있지만 접합을 연마 및 재용접하기는 거의 불가능하다. 그래서, 누설용기(10, 10A)를 수리하는 것보다 버리는게 통례이다. 특히 반도체 회로에 이용되는 용기가 비용이 많이 들기때문에, 누설이 적고 쉽게 수리할 수 있는 제작기술을 가지는게 매우 바람직하다.
따라서, 본 발명의 한 목적은 다중 용접접합을 이용하지 않는 용기 제작 방법 및 얻어지는 용기구성을 제공함에 있다.
한 특징에 의하면, 본 발명은 상기한 목적 및 다른 목적을 만족시키고, 다각형 단면으로 둘러싸여진 챔버를 형성하기위해 메이팅(mating) 모서리를 따라 협력적으로 함께 접합하기위해 U형 배열의 3개의 벽과 같은 단부가 개방된 아치형 배열로 형성되고 다중 모서리 접합없이 함께 맞추어지는 1쌍의 메이팅 박판과; 이 접합을 따라 박판을 함께 접합시키는 수단으로 이루어지는 용기에 의해 구현된다. 본 발명은 압력 및 진공탱크에 적용된다.
또다른 특징에 의하면, 본 발명은 압력 및 진공탱크의 형성에 관한 것이며, 다중-모서리 접합이 없는 용기 또는 탱크를 제공함으로써 특징지어지고, 다른쌍의 박판과 메이팅하기에 적합한, U형의 3개의 벽배열과 같은 단부가 개방된 아아치형 배열로 각쌍의 박판을 형성하여 벽들이 다중 모서리 접합없이 함께 메이트되도록 하는 단계; 및 이 접합을 따라 박판들을 함께 접합시키는 단계로 구성된다.
더 특별한 또 다른 특징에 의하면, 벽들은 용접에 의해 바람직하게 접합된다.
더 특별한 또 다른 특징에 의하면, 박판들은 U형이고 각 박판은 3개의 벽과 직사각형 배열인 2개의 U형 박판으로 형성된 6개의 벽으로 이루어진다. 또 다른 실시예에서, 하나의 U형 박판의 서로 마주보는 2개의 측벽은 비-직사각 다각형이고 그외의 벽은 직사각형이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
[실시예 1]
본 발명에 의해 형성된 용기(20)가 제4 및 5도에 도시되어 있다. 용기(20)는 1쌍의 메이팅 박판(21, 25)로 이루어진다. 각판은 구부러지거나 또는 단부가 개방된 아아치형 배열, 통상적으로 U형 배열로 형성된다. 통상적인 박판(21)은 3개의 벽(22, 23, 24)으로 이루어지고(벽(22, 24)은 U의 다리를 형성하고 벽(23)은 U의 바닥을 형성한다), 박판(25)은 3개의 벽(26, 27, 28)로 이루어진다(벽(26, 28)은 U의 다리를 형성하고 벽(27)은 U의 바닥을 형성한다). 제4도에 도시한 분리도로부터 가장 명백히 알 수 있는 바와같이, 메이팅 U형 박판(21, 25)가 협력적으로 형성되어(박판(21)의 벽(22, 23, 24)과 같은) 벽들이 다른 박판의 벽(U박판(25)의 스페이스(22', 23', 24')사이의 대응 개방 스페이스 또는 개구부를 둘러싼다. 사실상 상기 2개의 메이팅 박판 (21, 25)은 서로에 대해 90。 회전하는 U형 박판이고 서로의 개방측면을 둘러싸도록 배열된다.
제5도에 가장 잘 도시된 바와같이, 메이팅 박판(21, 25)이 함께 맞추어질 때, 메이팅 박판은 각각 단지 2개의 박판 모서리로 형성된 6개의 모서리 접합을 따라 메이트한다. 그것은 박판(25)의 모서리(61)와 메이트하는 박판(21)의 모서리(51), 제2접합을 형성하는 모서리(52, 62), 2-모서리 접합을 형성하는 대응모서리(53/63, 54/64, 55/65, 56/66, 57/67, 58/68)이다. 그래서, 메이팅된 2개의 박판이 용접으로 함께 영구 접합될 때, 용접층(51/61, 52/63 ..... 58/68)은 모두 2-모서리 접합이다(편의를 위해 용접부를 메이팅 모서리와 동일숫자로 표시했음). 즉, 3-모서리접합 또는 다중 모서리 접합은 없다. 또한 소수의 용접이 필요하다. 또한, 용접은 모서리(51/61)로부터 최종 모서리(58/68)까지 용기 주위를 감싸는 연속 단일 용접스타팅(staring)으로 행해질 수 있다.
제4 및 5도는 또한 반도체 제작용 또는 다른 용도용 용기에 적합한, 용기측면에 형성될 수 있는 여러 형태의 구멍을 나타내고 있다. 구멍(31, 32, 33)은 각자 슬리트(slit)밸브, 게이트 밸브 및 뷰우 포트(view port)에 적합하고, 구멍(34)는 기계적 공급통로이다. 다른 구멍들은 공정가스, 마운트(mount)고온계, 압력계등의 통로를 제공한다. 도시한 구멍들은 단지예로서 나타낸 것이고 이것에만 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 용기는 매우 명백하게 더 적거나 더 많은 구멍과 관련 부속품을 포함하는 적용에 사용될 수 있다.
[제조방법]
상기한 바와같이, U형 박판(21, 25)를 아치형 배열로 구부리거나 형성시켜 함께 맞추고나서, 비다중 모서리 메이팅 접합을 따라 용접 또는 접합시킴으로써 본 발명의 용기가 편리하게 형성된다. 어느 구멍은 박판이 형성 또는 접합되기전에 절단이나 파괴되거나 또는 박판이 접합된 후에 절단될 수 있다. 물론, 어느 필요한 밸브, 하드웨어, 뷰우포트 또는 다른 구조지형이나 지지부가 당분야 기술자의 요구에 따라 첨가될 것이다.
[다른 실시예]
제6도는 용기(20)의 모든 특징 및 장점을 갖는 본 발명용기의 실시예 2(70)을 형성한다. 다각형(26A, 28B)의 주변내를 또는 주변주위를 감싸기 위해, U형 박판(25A)의 2개의 서로 마주보고있는 측면(26A, 28A)가 비 직사각의 다각형으로 이루어지고 다른 U형 박판(21A)의 메이팅 측면(22A, 24A)이 다각형(26A, 28A)의 주변 배열로 구부러지거나 형성되는 이유로 용기(70)은 용기(20)와는 다르다.
제7도는 본 발명을 사용하여 형성될 수 있는 또다른 용기배열(80)을 도시한 것이다. 이 경우에, 각 챔버(80)는 로보트(90) 엔트리의 각형 경로를 챔버로 수용하는 비스듬한 6개의 측상부 및 측하부벽을 포함하고 있다.
[본 발명에 따른 작용효과]
그래서, 본 발명은 비교적 쉽게 형성되고 비교적 소수의 2-모서리 용접을 가지고 다중-모서리(3이상) 접합없이 형성될 수 있는 용기의 2가지 실시예를 제공한다. 용기에 누설이 생기면, 다중-모서리 접합에 의한 누설보다도 2-모서리 용접에 의한 누설이 더 쉽게 발견 및 수리된다. 그래서, 본 발명에 따라 제작된 용기에 있어서, 누설에 대한 보수는 비싼 압력/진공 용기를 버리고 대체하는 것보다 누설을 발견하여 수리하는게 통례이다.
반도체 및 다른 진공처리 기술은 자동화 로보트 다중챔버 시스템쪽으로 발전하고 있다. 이러한 시스템의 프린트를 최소화하는 것이, 즉 다중처리 챔버 및 단일 또는 다중 로우드록 챔버가 차지한 공간이 가능한 작도록 시스템을 배열하는 것이 바람직하다. 본 발명 용기의 설계는 이러한 설계 목적에 도움이 되는데, 그 이유는 접합되지 않은 모서리(즉, 제3도의 굽힘모서리(40))가 둥근 모서리로써 형성될 수 있기 때문이다. 벽에 설치된 용기(20)를 갖는 7개의 측 로우드록 또는 전달 챔버(41)가 제7도에 도시되어 있다. 용기에 설치된 인접해있는 둥근 모서리가 함께 더 가까이에 설치될 용기를 가능하게 하고, 만일 정사각형 모서리 또는 뾰족한 모서리가 사용되면 가능한 것보다 더 작은 전체 구조물을 가능하게 한다. 또한, 챔버의 배향이 구조물의 길이가 최소화되도록 선택될 수 있다. 또한, 연속층(51/61-58/68)은 자동화 연속 용접, 즉 단일 연속용접을 접합하는데 특히 바람직하다.
용접된 박판금속이 상기되어있지만, 당분야 기술자라면 본 발명에 따른 다양한 압력 및 진공탱크를 형성하기위해 다른 재료, 즉 현재 유용하게 사용되고 있는 가소성재료, 유리섬유, 합성재료 및 에폭시-접착제; 그리고 다른 접합기술, 즉 경납땜과 관련된 복합-접합 기술을 적용할 것이다.
그래서, 당분야 기술자라면 상기한 본 발명의 바람직한 실시예를 통해, 첨부한 청구범위의 범주내에서 부가적인 실시와 변경을 쉽게 할 수 있다.

Claims (12)

  1. (a) 다각형 단면으로 밀폐된 챔버를 형성하기 위해 메이팅 모서리를 따라 조합하여 함께 맞추어지도록 배열된 단부가 개방된 아아치형으로 형성되고, 다중 모서리 접합없이 함께 맞추어지는 한쌍의 메이팅 박판, 및 (b) 상기 접합을 따라 상기 박판들을 함께 연결하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 용기.
  2. 제1항에 있어서, 각 박판이 U자형 배열인 것을 특징으로 하는 용기.
  3. 제1항에 있어서, 각 박판이 U자형 3면 배열인 것을 특징으로 하는 용기.
  4. 제3항에 있어서, 상기 U자형 박판중에서 한 박판의 서로 마주해 있는 2개의 벽은 비직사각형이고 2개의 박판중 나머지 벽은 직사각형인 것을 특징으로 하는 용기.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 U자형 박판은 금속이고 상기 연결 수단은 하나 이상의 용접으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 용기.
  6. 제5항에 있어서, 상기 연결 수단은 연속 용접으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 용기.
  7. 용기를 제조하는 방법에 있어서, (a) 벽들이 여러 모서리의 접합없이 함께 메이트되도록 한쌍의 각 박판을 상기 쌍의 다른 것과 메이팅 하기에 적합한 단부가 개방된 아아치형 배열로 형성시키는 단계, 및 (b) 상기 박판들을 상기 접합을 따라 함께 연결시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 각 박판이 U자형 배열로 형성되는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서, 각 박판이 U자형 3면 배열로 형성되는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
  10. 제7항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 박판들을 연결하는 단계가 단일 용접 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
  11. 제7항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 박판들이 금속으로 형성되고 용접으로 연결되는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 박판을 연결시키는 단계가 단일 연속 용접 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용기 제조 방법.
KR1019910006260A 1990-04-20 1991-04-19 압력 진공용기 및 그 제조방법 KR100195305B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US51143190A 1990-04-20 1990-04-20
US7/511,431 1990-04-20
US07/511,431 1990-04-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR910019185A KR910019185A (ko) 1991-11-30
KR100195305B1 true KR100195305B1 (ko) 1999-06-15

Family

ID=24034885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910006260A KR100195305B1 (ko) 1990-04-20 1991-04-19 압력 진공용기 및 그 제조방법

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0452778B1 (ko)
JP (1) JPH04228970A (ko)
KR (1) KR100195305B1 (ko)
DE (1) DE69108084T2 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE9407482U1 (de) * 1994-05-05 1994-10-06 Balzers und Leybold Deutschland Holding AG, 63450 Hanau Funktionseinrichtung für eine Vakuumanlage für die Behandlung von scheibenförmigen Werkstücken
EP0705642A1 (de) * 1994-10-05 1996-04-10 GRETAG Aktiengesellschaft Vakuumkammersystem
DE10207613C1 (de) * 2002-02-22 2003-04-10 Ems Chemie Ag Druckbehälter mit rohrförmigem Anschluss
JP5580004B2 (ja) * 2008-07-14 2014-08-27 キヤノンアネルバ株式会社 真空容器、および真空処理装置
DE102011001723B4 (de) * 2011-04-01 2016-06-09 Konecranes Global Corporation Druckfestes Gehäuse, Verfahren zur Herstellung desselben sowie Anordnung desselben mit einem weiteren Gehäuse
CN103050895A (zh) * 2012-12-28 2013-04-17 山东科技大学 一种防爆型电源箱
DE102016107985A1 (de) * 2016-04-29 2017-11-02 Von Ardenne Gmbh Vakuumprozesskammer und Verfahren zum Herstellen einer Kammerwand einer Vakuumprozesskammer

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR661226A (fr) * 1928-01-19 1929-07-23 Système de construction de boîtes, récipients ou réservoirs pour toutes applications

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04228970A (ja) 1992-08-18
EP0452778A2 (en) 1991-10-23
DE69108084T2 (de) 1995-11-23
EP0452778A3 (en) 1992-01-02
KR910019185A (ko) 1991-11-30
DE69108084D1 (de) 1995-04-20
EP0452778B1 (en) 1995-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100308347B1 (ko) 진공챔버 및 그 제조방법
KR100195305B1 (ko) 압력 진공용기 및 그 제조방법
CN107077062B (zh) 表皮用支承框及制造方法
JPH0674680A (ja) 熱交換板及びその製造方法
US6010009A (en) Shipping and transport cassette with kinematic coupling
KR101173569B1 (ko) 진공 챔버
JP7133928B2 (ja) 減圧容器、処理装置、処理システム及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2003021488A (ja) 熱交換器のタンク構造
CN103442995B (zh) 真空绝热容器及其制造方法
JPH0719392A (ja) 真空断熱パネルとその構造物の製造方法
JP2000266479A (ja) プレート熱交換器
JP2008280707A (ja) 断熱パネル、断熱パネル集合体及び断熱パネルの組付方法
JP2007161278A (ja) パレットとこれを用いた光学部品の製造方法および光学部品の包装体と収容体
JP2006137995A (ja) 真空チャンバ
EP3778189B1 (en) Method of packing vacuum insulation material
KR20100123885A (ko) 챔버 및 그 제조 방법
JPH07332585A (ja) 真空断熱材
KR101616549B1 (ko) 밀폐 챔버
US6784969B1 (en) Liquid crystal display panel and method of injecting liquid crystal into the display panel
JPH0719391A (ja) 真空断熱パネルとその構造物の製造方法
JP2010043352A (ja) 真空容器、真空容器を備える真空処理装置及び真空容器の製造方法
KR200208526Y1 (ko) 상품 진열용 박스의 조립구조
JPH05123561A (ja) 半導体製造装置用真空チヤンバの箱体
KR200304570Y1 (ko) 이중 구획형 포장박스
JPH0517229Y2 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20020206

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee