KR0178524B1 - 전체내부반사 홀로그래픽 영상화 시스템의 광학검사장치 및 방법 - Google Patents

전체내부반사 홀로그래픽 영상화 시스템의 광학검사장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전체 내부 반사 홀로그래픽 영상화 시스템을 광학적으로 검사하는 장치 및 방법이다. 멀티파장 레이저빔은 제 2 기판의 기록 매체상에 영상화될 미리 기록된 홀로그램을 포함하는 제 1 기판을 지지하는 프리즘을 통하여 조사된다. 이 멀티파장빔은 양 기판에 수직으로 조사된다. 2 기판간의 거리는 간섭 기술에 의해 측정된다. 상기 2 기판간의 거리를 조정하기 위해 작동기들이 제공되는데, 이들 작동기들은 주사 동작 동안 미세한 공간을 조정하도록 작동될 수 있으므로 주사 동작 동안 내내 정확한 촛점의 미리 기록된 홀로그램 영상을 얻을 수 있다.

Description

전체내부반사 홀로그래픽 영상화 시스템의 광학검사장치 및 방법
제1도 및 제2도는 본 발명이 이용되는 원리를 나타내는 도면.
제3도는 재생동작 동안 홀로그램과 기록매체간의 관련 위치를 광학적으로 검사하기 위한 일실시예를 나타내는 도면.
제4도는 유리판으로 부터 실리콘 슬라이스를 분리시키는 작동기의 위치를 나타내는 유라판의 평면도.
제5도 및 제6도는 본 발명과 함께 양호하게 사용될 수 있는 검출기 시스템의 2가지 예에 대한 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
6 : 유리판 H : 홀로그램(hologram)
I : 광빔 R : 재구성빔
ø : 프리즘 각도 16 : 유리판
22 : 직각프리즘 30 : 실리콘웨이퍼
32 : 레이저원 40 : 작동기
42 : 광원 43 : 빔분할기
50 : 지지체
본 발명은 전체 내부 반사 홀로그래픽(total internal reflection holographic) 영상화 시스템을 광학적으로 검사하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 홀로그래픽 또는 사진석판설에 의해 재생 영상을 얻는데 필요한 촛점을 검출하기 위한 검사장치 및 방법에 관한 것이며, 아울러 기록 매체상에서의 홀로그램(hologram)을 재구성하는 동안 정확한 촛점을 유지하도록 촛점거리를 조정하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
전체 내부 반자(T.I.R.)홀로그램은 공기/홀로그램 계면으로 부터 완전히 내부적으로 반사된 목적빔과 기준빔의 하나 또는 양자로 이루어진 홀로그램이다. 응용물리학 잡지(1986.6)에 소개된 케이.에이.스테천(stetson)에 의한 장치에는 T.I.R. 홀로그래픽 영상화 방법이 개재되어 있다. 홀로그래픽층은 기준빔이 임계각 θc보다 큰 각도로 홀로그램 표면에 도달하게끔 직각 프리즘의 직각삼각형의 사변에 정합된 인덱스이다. 목적빔은 홀로그램의 상부에 근접되게 놓이는 반투명한 물체를 통해 도달한다. 결합된 재구성빔은 초기 물체와 같은 평면에 홀로그래픽 영상을 발생한다.
그러나, 감광성물질 및 그 지지기판이 기록매체에 대한 홀로그래픽 영상공간 액세스를 포착할 수 있도록 근접 배치되어 있는 경우 기판 및 프리즘으로 인해 영상이 방해된다. 이것을 홀로그래픽 영상과 기록매체간의 양호한 영상일치를 보장하는데 사용되는 표준검사 시스템을 저해한다.
스테천에 의해 기재된 전술한 원리에 따른 유럽 특허원 제 0,251,681 호는 특정한 응용성, 즉 다음의 기본단계에 의해 집적회로를 제작하는 방법을 기술하고 있다. 즉,
(a) 수축(shrinking) 또는 왜곡없이 무시 가능한 산란 및 고해상도를 나타내는 제 1 기록매체를 제공하는 단계와;
(b) 집적회로를 포함하는 마스크를 통과하는 간섭성 광의 입력빔과 기록매체가 위치한 표면에서 완전히 내부적으로 반사된 간섭성 광의 기준빔간의 간섭에 의해 제 1기록 매체상의 회로패턴의 용적성 홀로그래픽 영상을 형성하는 단계와;
(c) 집적회로의 홀로그래픽 영상을 재생하도록 제 2 기록매체를 가진 실리콘 웨이퍼로 마스크를 대체하는 단계와;
(d)홀로그램을 형성하는 제 1 기준빔으로 부터 역방향으로 이동하는 제 2 기준빔으로 홀로그램을 조명함으로써 제 2 기록 매체상에 홀로그램의 영상을 형성하는 단계와;
(e) 복수의 실리콘 웨이퍼에 대해 복수의 재생 동작을 반복하는 단계를 포함하는 방법을 개시하고 있다.
전술한 방법의 전개에 있어서, 재생빔의 비균일성으로 인해 발생하는 문제점은 영구 특허원 제 2,215,484 호에 개시된 주사 기술을 사용함으로써 해소될 수 있다. 이 특허원에 개시된 시스템은 집적회로의 실리콘 웨이퍼상에 제공된 제 2 기록 매체상에 집적회로를 형성하도록 제 1 기록매체에 대한 홀로그래픽 영상을 주사하는 제한된 즉 좁은 기준빔을 사용한다.
전술한 계류출원에 기재된 바에 따른 결과로써 발생할 수 있는 하나의 문제점은 커다란 실리콘 웨이퍼를 사용할 수 있으므로 실리콘 웨이퍼상에 제공된 제 2 기록 매체에 대한 재생영상의 모든 부분이 정확히 집속되도록 보장할 수 있는가라는 점이다. 이것은 홀로그래픽 영상의 재생시 거리에서 미세한 변동이 있게 되므로 몇몇의 영역이 완전히 접속되지 않는다는 것을 의미한다.
따라서, 본 발명의 목적은 집적회로, 광학메모리 디스크, 고화질스크린(HDTV), 표면 음향파장치 및 포토마스크레티클과 같은 장치의 특성에 관계없이 홀로그램과 기록매체간의 관련위치를 광학적으로 검사하고, 동시에 완전히 내부적으로 반사된 홀로그램을 재구성하도록 필요한 프리즘의 구조를 구성하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제 1 의 특징에 따라, 전체 내부 반사 홀로그래픽 영상화 시스템을 광학적으로 검사하는 방법이 제공되는데, 이 방법은 수직입사각으로 프리즘을 통해 미리 기록된 홀로그램의 표면상으로 광빔(또는 검사빔)을 유도하는 단계를 포함한다. 이 광빔은 홀로그램/공기 계면에서 부분 반사된다. 전달된 부분은 실질적으로 수직입사각에 도달해야하면 제 2 기록매체 및 기판에 의해 반사되어야 한다. 이렇게 정상적으로 반사된 2개의 빔은 서로 간섭을 일으키게 된다. 그 다음에 이들 간섭빔은 반사면간의 거리에 대응하는 신호를 얻도록 간섭 또는 회절기술에 의해 분석된다. 상기 방법은 촛점을 검출하기 위해 바람직하게 사용된다.
T.I.R. 홀로그래픽 인쇄에 이 기술을 이용하기 위해서는 수직입사각에서 검사빔의 엑세스를 할 수있고, 동시에 홀로그래픽 재구성빔(R)이 임계각(θc)보다 큰 각도로 도달할 수 있도록 광학프리즘의 구조가 구성되어야 한다.
이러한 조건을 만족시킬 수 있는 프리즘 구조의 2가지 예가 제1도 및 제2도에 도시되어 있다. 전술한 방법은 상기 측정결과에 따라 모든점에서 정확한 촛점을 유지하도록 2개의 기록매체간의 거리를 변화시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
제 1 기록 매체에 의해 발생된 홀로그래픽 영상내로의 제 2 기록매체의 이러한 접속은 다음과 같은 다수의 방법에 의해 수행될 수 있다:
(a) 제 2 기판을 광학적으로 검사하는 복수의 검사 방법은 제 2 기판의 지형에 대한 디지탈화된 도면을 형성하기 위해 제 2 기판의 다른 위치에서 수행될 수 있는데, 이것은 컴퓨터의 메모리에 디지탈화된 도면을 제공하는데 바람직하다. 이 도면은 재생동작 동안 실질적인 석판술 공정을 유도한다.
(b) 홀로그램의 각 영역이 기록되도록 제 2 기록 매체상에 홀로그래픽 영상을 형성하기 위해 제 1 기록매체의 홀로그램을 주사하는 경우에는 촛점을 결정하여 정확한 촛점을 유지하는 단계가 실리콘 기판의 제 2 기록매체상에 홀로그래픽 영상을 기록하는 단계와 동시에 수행된다.
(c) 상기 전술한 두가지 방법과 주사동작의 결합으로 인해 제 2 기록매체 부분중에서 디지탈화된 도면을 얻을 수 있고, 실리콘 기판의 제 2 기록매체상에 홀로그래픽 영상의 기록 부분 및 정확한 촛점을 결정할 수 있으며, 제 2 기록매체의 다른 부분에 대해서도 상기 공정을 반복할 수 있다.
본 발명의 제 2 특징에 따라, 전체 내부 반사 홀로그래픽 영상시스템을 광학적으로 검사하기 위한 장치가 제공되는데, 이 장치는 프리즘을 통해 수직 입사각으로 제 1 기록 매체상에 미리 기록된 홀로그램의 표면으로 지향되는 광빔을 포함한다. 이 광빔은 홀로그램/공기 계면에서 부분반사된다. 전달된 부분은 제 2 기록매체 및 기판에 도달하여 이것에 의해 반사된다. 두개의 반사된 빔은 서로 간섭을 일으키며 입사 경로를 따라 복귀한다. 이어서 이들 간섭빔은 반사표면간의 거리에 대응하는 신호를 얻도록 간섭 또는 회절기술에 의해 분석된다. 전체 내부 반사를 광학적으로 검사하기 위한 상기 장치는 촛점을 검출하는데 바람직하게 사용된다. 또한 얻어진 측정 결과에 따라 모든점에서 정확한 촛점을 유지하도록 2개의 기록 매체간의 거리를 조정하는 수단이 제공될 수 있다. 상기 거리 조성수단은 압전 구동기 또는 스테핑 모터와 같은 복수의 작동기를 포함한다. 본 발명에서는 3개의 작동기가 바람직하게 사용된다.
본 발명은 첨부된 도면을 참조로한 실시예에 의해 이하 상세히 기술될 것이다.
본 발명이 이용되는 원리를 이해하기 위해서는 먼저 제1도 및 제2도에 예시된 프리즘 구조의 두가지 예를 참조해야 한다. 이들 도면에서 홀로그램(H)은 유리판(G)의 상부면에 코팅된 기록용 감광유제상에 형성된다. 유리슬랩의 하부면은 프리즘(P)의 상부면과 접촉된다. 유리슬랩 및 프리즘의 굴절율은 동일하다. 재생빔으로서 미합중국 특허 제 4,857,425 호에 기재된 재구성빔은 R로 표시되어 있으며, 정확한 촛점거리를 결정하는 검사빔은 I로 표시되어 있다.
추가로, 다음의 기호는 다음과 같이 정의된다.
θc = 임계각
θr = 홀로그램에 대한 재구성 또는 재생빔의 각도
φ = 프리즘각도
z = 프리즘 표면에 대한 재구성빔의 내부각도
i = 프리즘 표면에 대한 검사빔의 내부각도
제안된 검사방법은 홀로그램 표면에서 수직 입사각도로 프리즘(P)를 통과하는 광빔(I)을 검출하는 방법을 포함한다. 홀로그램/공기 계면으로 부터의 부분반사 및 기록매체 표면으로 부터의 반사는 2 중으로 됨으로 간섭된다. 표준 기술을 사용하여, 전술한 간섭의 강도를 측정함으로써 홀로그램과 기록매체간의 거리에 대한 절대값을 얻을 수 있다.
T.I.R. 홀로그래픽 인쇄방법에 이러한 기술을 이용하기 위해서는 수직 입사각에서 검사빔(Y)의 액세스가 가능하고, 홀로그래픽 재구성빔(R)이 임계각 θc 보다 큰 각도로 도달할 수 있게끔 광학프리즘의 기하구조를 구성해야 한다.
제1도에 예시한 프리즘 구조에 있어서 홀로그램 표면에 대해 수직입사각도로 검시빔(I)이 도달할 수 있는 조건은 φθc이고, 임계각 보다 큰 각도로 재구성빔이 홀로그램 표면에 도달할 수 있는 조건은 φθr-θc이다. 제2도에서는 또 다른 예상 가능한 프리즘 구조가 예시되어 있다. 이 예에서는 φ가 임계각 θc보다 크게되어 있는데 이는 임계각 θc보다 큰 각도로 재구성빔(R) 이 홀로그램 표면에 도달할수 있도록 하기 위한 것이다. 검사빔(I)은 홀로그램 표면에 수직인 면에 의해 프리즘(P)으로 입사하지만 정상적으로 전체적인 내부 반사후 프리즘(P)의 직각삼각형면에 도달한다.
이후부터 실리콘 웨이퍼의 기록매체상의 단면에서 홀로그램의 재생영상을 형성하는 재생동작에 있어서의 정확한 촛점거리를 검출하는 본 발명의 원리를 제3도 및 제4도를 참조하여 상세히 기술한다.
제3도를 참조하면, 유럽특허원 제 0,251,681 호에 개재된 프리즘 형태를 이용하는 대신에 직각프리즘(22)이 사용된다. 이 프리즘은 30℃, 60℃ 및 90℃로 구성되어 있으며, 프리즘 각도는 30℃이다. T.I.R. 홀로그램은 유리판(16)의 상부면에 제공된 제 1기록매체상에 미리 기록되며, 유리판(16)은 프리즘에 정합된 인덱스이다. 굴절율이 n=1.5 인 경우에 기준각 θc는 41.8℃이다. 재구성빔 또는 재생빔은 레이저원(32)에 의해 제공되며, 프리즘 표면(Y)에 대한 재생빔의 각도(θs)는 22.8℃로 요구된다. 실리콘 웨이퍼(30)는 유리의 상부면에 제공된 제 1 기록매체의 표면상부에 설치되며, 이 웨이퍼의 위치는 작동기(40)에 의해 결정된다.
이제 제4도를 참조하면, 유리판(16)과 실리콘 웨이퍼(30)간에 3개의 작동기(40a, 40b, 40c)가 제공되는데, 이들 모두는 적절한 지지체(50)상에 설치된다. 도시한 바와 같이, 작동기(40a, 40b)가 2개의 코너부분에 배치되면, 나머지 작동기(40c)는 하부연부(41)를 따라 중간에 배치된다. 작동기는 압전 스페이서가 바람직하며 이들 3개의 압전 스페이서 각각의 두께는 인가전압과 무관하게 가변될 수 있어야 하고, 각 압전 스페이서의 확장 정도는 인가전압의 크기에 따라 거의 선형적이어야 한다.
다시 제3도를 참조하면, 실리콘 웨이퍼(30)의 하부면과 유리면(16)의 표면에 놓여있는 홀로그래픽 물질의 상부면간의 거리는 영상부분이 실리콘 웨이퍼상의 제 2 기록매체에 전달되기 전에 적절히 체크 및 조정될 수 있다. 이러한 목적을 위하여 그 특정이 이후에 기술되는 광빔(42)이 제공되는데, 이 광빔은 제 1 기록매체에 대한 용적성 홀로그래픽 영상을 주사하는 재생 레이저원(32)의 이동과 일치하여 이동된다.
이 광빔은 θi = 48.6℃ 의 각도로 프리즘(22)의 표면 Y에 공급된 다음 프리즘 표면 Y의 면에 수직인 유리판을 통과한다. 유리판(16)의 상부 표면에 놓인 홀로그램 표면에서 광빔은 홀로그래픽 물질과 공기간의 굴절율차로 인하여 부분 반사된다.
광이 정상적으로 전술한 반사 표면에 도달함에 따라 두개의 반사빔이 겹치며 이어서 입사경로를 따라 복귀한다. 빔분할기(43)에서 일정비율의 복귀광이 검출기 시스템(44)쪽으로 반사된다. 광원(42)의 간섭성 길이가 웨이퍼와 홀로그램간의 거리보다 두배정도 클 경우에는 2개의 이중 반사된 빔이 간섭을 일으키므로 검출된 빔의 강도는
로 이루어진다. 여기서 d 는 웨이퍼와 홀로그램간의 거리이며, λ 는 파장이다. 그리고 IW및 IH는 2 개의 반사빔의 각각의 강도이다. 따라서, 주어진 파장에 대하여 측정된 강도 I는 집속을 위해 요구되는 정보를 제공한다. 그러나, 식(1)이 코사인(cos) 형태를 가지므로 632.8㎚ 의 HeNe 레이저 동작에 대해 316.4㎚ 의 값을 제공하는 λ/2 의 거리에 대해서만 파라미터 d가 명확하게 된다.
광원(42)의 정확한 특성 및 복귀빔이 검출시스템(44)에 의해 분석되는 방법은 실시예를 통하여 이하 상세히 기술된다.
제1 실시예에서, 광원은 2개의 단일 파장 레이저빔의 결합 또는 멀티라인 레이저에 의해 제공된 이중 파장 레이저이다. 제 2 파장 레이저원의 사용은 T.I.R. 홀로그래픽 인쇄장치에 보다 신용적인 1 의 값으로 작동거리를 명확히 연장시킨다. 명확한 거리는 λ/2까지로 연장되며, 여기서 λ = λ1λ2/(λ1-λ2)로 주어진다. 여기서, λ1및 λ2는 결합된 빔의 2개의 파장이다.
예컨대, HeNe 레이저의 632.8㎚ 및 611.8㎚ 라인을 사용하는 경우, HeNe 레이저의 632.8㎚ 및 635.2㎚ 라인을 사용함으로써 9.22㎛ 의 명확한 작동거리를 얻을 수 있다.
홀로그램과 웨이퍼간의 거리를 정확히 판단하기 위해서는 각 파장에 대응하는 신호를 분리하여 판독하는 것이 유리하다. 이것은 검출기 시스템(44)내의 2개의 분리 검출기로 2개의 인터페로그램을 분리하도록 파장감지 빔분할기를 사용하거나 2개의 레이저원을 교대로 스위치온 또는 오프함으로써 가능하다. 검출기 시스템(44)의 출력은 마이크로 프로세서(46)에 인가된다. 검출된 신호를 정확히 판단하기 위해서는 표준 기술이 유용하다. 이러한 경우에 따른 참조문헌은 케이 크레쓰에 의한 위상측정 인터페로메트리기술과 관련된다.
광역의 작동거리를 명확히 결합하여 매우 정확히 측정하기 위해서는 2개이상의 파장이 사용될 수 있다.
제2 실시예에서, 광원(42)은 형광램프나 제논램프, 또는 이와 등가의 소오스에 의해 제공되는 광과 같은 연속된 광대역의 파장 스펙트럼을 갖는다. 그러나, 웨이퍼(30)의 상부에 코팅된 제 2 기록 매체를 노출시키지 않도록 필요한 경우에 전술한 기록매체가 감지되는 파장에 대해 소오스의 스펙트럼이 제거된다. 이것은 적절한 광학 필터 수단에 의해 양호하게 달성될 수 있다.
광의 짧은 간섭성 길이(수마이크로 이하)로 인하여 2개의 반사빔 bw(공기-웨이퍼 분리면 상에서 반사됨) 및 bH(공기-홀로그램 분리면상에서 반사됨)은 검출기 시스템(40)에 도달하기 전까지 일관성 있게 간섭되지 않는다. 복귀빔으로부터 유용한 정보를 추출하는 표준 기술은 공지된 바와같이 백색광인터페로메트리로 알려져 있으며, 채널식 스텍트럼(피.하리하란에 의해 1985년 아카데미 출판사에서 출판된 광학 인터페로메트리를 참조)을 사용한다.
이는 도면을 참조로한 실시예를 통하여 이후에 기술될 것이다.
이제 제5도를 참조하면, 제5도를 전술한 백색광 인터페로메트리에 대한 방법의 양호한 장치를 도시한다. 이 장치는 프리즘(50), 이 프리즘의 한쪽면에 부착된 홀로그램(52), 웨이퍼(53), 백색광원(54), 빔분할기(55), 검출기(56) 및 2개의 반사 표면(57,58)을 구비한다.
이러한 경우에 있어서, 웨이퍼(53)의 표면으로 부터 반사된 후의 소오스(54)로 부터의 백색광은 빔 분할기(55)에 의하여 인터페로메터의 다른 아암을 통과하도록 형성된다. 이 인터페로메터의 다른 아암은 기준거리를 함께 형성하는 2 개의 반사면(57,58)을 포함한다. 상기 반사면(58,57)간의 경로 길이가 웨이퍼(53)와 홀로그램(52)간의 경로 길이와 동일할 경우에는 각 파장에 대한 경로 길이차가 제로(0)가 되므로 결국 백색모양이 된다. 따라서, 웨이퍼(53)와 홀로그램(52)간의 양호한 동작거리가 되도록 상기 반사표면(57,58)간의 거리를 설정하여 전술한 백색광을 고정시키므로써 정확한 촛점이 달성될 수 있다.
이제, 제6도를 참조하면, 제6도는 전술한 채널식 스펙트럼 방법에 대한 양호한 장치를 도시하고 있다. 이 장치는 프리즘(60), 이 프리즘의 일면상에 배치된 홀로그램(62), 웨이퍼(63), 광원(64), 빔분할기(65), 회절격자(66) 및 검출기장치(67)를 구비한다.
스펙트럼이 채널식으로 되어 있는 경우 복귀빔의 각 파장에 대한 간섭은 회절격자(66)를 통해서 상기 빔을 통과시킴으로써 분석될 수 있다. 이와 같이 발생된 스펙트럼은 짙은 검은색 부분, 즉 검출장치(67)에 의해 웨이퍼(63)와 홀로그램(62)간의 분리된 부분에서 측정된 필요한 정보를 제공하는 검출 및 분리 정보를 나타낸다.
전술한 양호한 실시예에 의하면, 제 2 기록매체를 포함하는 실리콘 슬라이스와 측정된 유리판상의 홀로그램간의 거리뿐만 아니라, 재생동작안 정확한 거리를 유지하는 공정, 특히 영국 특허원 제 2,215,484 호에 개시된 바와 같이 연속 주사동안 복수의 중첩노출 부분을 형성하는 경우에 있어서의 제작공정을 유지할 수 있다.
따라서, 전체 내부반사 홀로그래픽 영상화 시스템을 검사하는 장치 및 방법은 적분회로 영상화장치, 광학메모리 디스크, 고화질 스크린(HDTV 포함), 표면음향과 장치 및 포트마스크 레티클을 포함하는 사진석판술 응용장치의 모든 형태에 적용될 수 있음을 알 수 있다.
추가로, 본 발명은 평편한 광학기판으로 홀로그래픽 물질이 덮혀씌워지는 경우에도 동등하게 적용된다. 여기서는 기판/공기 계면이 부분반사면의 하나로써 홀로그램/공기 면을 대신한다.
또한, 석판기판을 따라 검사빔을 주사하여 연속적으로 조사빔을 측정하거나, 또는 일련의 분리된 위치로 검사빔을 이동시켜, 이들점에서만 검사빔을 측정할 수 있는 방법을 구성할 수 있음을 알 수 있다. 아울러, 위치의 함수에 따라 재구성 공정과 일치하여 촛점거리를 측정하거나 또는 메모리에 저장된 정보를 얻을 수 있다.

Claims (17)

  1. 전체 내부 반사 홀로그래픽 영상화 시스템을 광학적으로 검사하기 위한 방법에 있어서, 제 2 기판(30)의 제 2 기록 매체상에 영상화될 제 1 기록 매체상에 미리 기록된 홀로그램을 포함하는 제 1 기판(16)을 지지하는 프리즘(22)을 통해 제 1 및 제 2 기판에 직각이 되도록 광빔을 지향시키는 단계와; 2개의 기록 매체로부터 반사된 빔을 이용하는 간섭 또는 회절 기법에 의해 2 개의 기록 매체간의 거리의 측정값을 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광학 검사 방법은 촛점을 검출하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 측정 결과에 따라 모든 점에서 정확한 촛점을 유지하도록 2 개의 기록 매체간의 거리를 변화시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  4. 제3항에 있어서, 제 2 기판의 지형에 대한 디지탈화된 도면을 형성하도록 상이한 위치에서, 제 2 기판에 대해 복수의 광학적 검사를 시행하는 단계와; 컴퓨터의 메모리에 상기 디지탈화된 도면을 기억시키는 단계와; 재생 동작 동안 실질적인 석판화 처리를 유도하도록 기억된 정보를 이용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  5. 제3항에 있어서, 촛점을 결정하여 실리콘 기판의 제 2 기록 매체 상에 홀로그래픽 영상을 기록하는 단계와 동시에 정확한 촛점을 유지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  6. 제3항에 있어서, 상기 단계에 있어서 주사 동작은, 상기 제 2 기록 매체의 일부분의 지형에 대한 디지탈화된 도면을 얻는 단계와; 상기 기록 매체의 일부분에 대해 정확한 촛점을 결정하는 단계와; 실리콘 기판의 제 2 기록 매체상에 홀로그래픽 영상의 일부를 기록하는 단계와; 상기 제 2 기록 매체의 다른 부분에 대해서도 상기 처리를 반복하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 광빔은 이중 또는 다중 파장 레이저빔이며, 상기 거리 정보는 상기 2개의 기판으로부터의 상기 이중 또는 다중 파장 레이저 빔의 반사에 의해 형성된 간섭의 강도를 관찰함으로써 얻어진 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 광빔은 평행한 백색광 또는 광역 밴드원이며, 상기 제 1 및 제 2 기판으로부터의 반사된 광빔은 소망의 분리 거리를 가진 2 개의 기준 기판으로부터의 동일원의 유사한 반사빔과 간섭을 일으키는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 광빔은 평행한 백색광 또는 광역 밴드원이며, 상기 제 1 및 제 2 기판으로부터의 반사된 광빔은 회절격자를 통과하며 복귀빔에 대한 스펙트럼 분석을 가능케하고, 스펙트럼내의 피크값간의 거리는 2 개의 기판간의 분리 거리를 계산하는데 필요한 정보를 제공하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 방법.
  10. 프리즘에 부착된 하나의 타켓원과, 프리즘에 근접 배치된 다른 하나의 타켓원으로 2 개의 타켓원으로부터 정보를 얻도록 프리즘을 통해 관찰하는 방법에 있어서, 상기 2 개의 타켓원의 표면은 한쪽면에 부착된 석판 기판의 불투명성과 다른 면에 부착된 프리즘의 기하학 구조로 인하여 측정할 수 없는 것을 특징으로 하는 관찰 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 관찰 방법은 홀로그래픽 재생빔이 임계각 보다 큰 각도를 가지며, 검사빔이 수직 입사각에 도달할 수 있도록 구성한 프리즘에 적용가능한 것을 특징으로 하는 관찰 방법.
  12. 전체 내부 반사 홀로그래픽 영상화 시스템을 광학적으로 검사하기 위한 장치에 있어서, 제 2 기판(30)의 제 2 기록 매체상에 영상화될 제 1 기록 매체상에 미리 기록된 홀로그램을 포함하는 제 1 기판(16)을 지지하는 프리즘(22)을 통해 제 1 및 제 2 기판에 직각이되도록 광빔을 지향시키는 광원과; 기록 매체를 지지하는 2 개의 기판 표면으로부터 이중 반사된 빔을 검출하기 위한 검출기(44)를 구비함으로써 2 개의 기록 매체간의 거리의 측정 값이 간섭 또는 회절 기법에 의해 얻어질 수 있는 것을 특징으로 하는 광학 검사 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 광학 검사 장치는 촛점을 검출하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 검사 장치.
  14. 제12항에 있어서, 상기 얻어진 측정값에 따라 모든 점에서 정확한 촛점을 유지하도록 2 개의 기록 매체간의 거리를 조정하는 복수의 작동기를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 검사 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 작동기는 2 개의 기판간에 이등변 3 각형을 형성하는데 이용되는 압전 스페이서인 것을 특징으로 하는 광학 검사 장치.
  16. 제12항에 있어서, 상기 광원(42)은 이중 또는 다중 파장 레이저빔이며, 상기 2 개의 기판 표면으로부터 이중 반사된 빔은 빔분할기(43)에 의해 상기 검출기(44)에 공급되는 것을 특징을 하는 광학 검사 장치.
  17. 제12항에 있어서, 상기 광학 검사 장치는 집적 회로 영상화 장치, 광학 메모리 디스크, 고화질 스크린, 표면 음향파 장치 및 포토 마스크 레티클을 포함하는 그룹으로부터 선택된 다수의 다른 종류의 사진 석판화 응용 장치중 하나에 적용될 수 있는 것을 특징으로 하는 광학 검사 장치.
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