KR0151246B1 - 폴리아세탈 수지 조성물 - Google Patents

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KR0151246B1
KR0151246B1 KR1019940010406A KR19940010406A KR0151246B1 KR 0151246 B1 KR0151246 B1 KR 0151246B1 KR 1019940010406 A KR1019940010406 A KR 1019940010406A KR 19940010406 A KR19940010406 A KR 19940010406A KR 0151246 B1 KR0151246 B1 KR 0151246B1
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유쟌
사또시 나가이
껜이찌 시미즈
도시아끼 오꾸조노
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니시까와 레이지
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Abstract

하기를 함유한 폴리아세탈 수지 조성물.
(A) 폴리아세탈 수지 100중량부,
(B) 하기식 (I)로 표현된 광안정제들의 군으로부터 선택된 일종 이상의 0.1 내지 1.5 중량부
(여기서, 두 개의 X는 동일하거나 상이하며 각각은 수소원자나 또는 매틸기를 나타낸다).
(C) 자외선광 흡수제 0.1 내지 1.5 중량부,
(D) 폴리에틸렌 0.1 내지 3 중량부,
(E) 폴리에틸렌 글리콜 0.1 내지 5 중량부, 및
(F) 메타크릴산 에스테르의 중합체 0.1 내지 10 중량부.
이 폴리아세탈 수지 조성물은 내후성과 성형 공정성에서 탁월하다.

Description

폴리아세탈 수지조성물
제1도는 폴리아세탈 수지의 사출성형품의 표면근처 단면부 편광현미경 사진이다.
제2도는 본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물(실시예 1의 폴리아세탈 수지조성물)의 사출성형품의 표면근처 단면부 편광현미경 사진이다.
본 발명은 신규 폴리아세탈 수지조성물에 관한 것이다. 더 구체적으로는, 본 발명은 내후성과 성형공정성에 있어서 탁월한 신규 폴리아세탈 수지조성물에 관한 것이다.
폴리아세탈 수지는 내마모성, 내마멸성, 내피로성, 내열성 및 전기적성질과 같은 내약품성 및 내수성과 같은 화학적 성질에서 탁월하다. 따라서, 폴리아세탈 수지는 전기 및 전자분야 에 사용되어왔다. 또한, 자동차 산업, 잡화 등의 분야에서 부품등으로 광범위하게 사용되어왔다.
그러나, 폴리아세탈 수지로 형성된 성형품은 내후성에서 열등한 것으로 알려져있다. 즉, 이러한 성형품이 햇빛이나 실내등에 장시간 노출되고 또한 바람이나 비에 노출될 때는, 성형품의 표면에 균열이 발생하고, 균열이 진행됨에 따라 광택이 사라지고, 외관이 불량해지고 기계적 성질이 현저히 감소한다는 것이 알려져있다.
신규 폴리아세탈 수지 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명의 특별한 목적은 내후성(내광성)에 탁월한 폴리아세탈 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 그러한 폴리아세탈 수지 조성을 공급하여, 폴리아세탈 수지 조성물의 성분이 용융-훈련되면서 폴리아세탈 수지를 펠렛화하기위해 압출기를 사용하여 스트랜드로 압출될 때, 압출 다이에서 수지물질의 고무화의 발생 및 써징의 발생을 억제할 수 있게 하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 아름다운 표면 마무리를 갖는 사출성형품을 제공할 수 있는 폴리아세탈 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 폴리아세탈 수지조성물을 공급하여 그 중에 폴리아세탈 수지에 첨가되는 첨가물들이 실질적으로 성형품의 외관에서 누출되는 것을 억제한다.
본 발명의 또 다른 목적은 내후성이 탁월하고, 실질적으로 플로우마크가 없으며, 표면에서 첨가물들이 실질적으로 누출되지 않는 폴리아세탈 수지 조성물의 성형품을 제공하는 것이다.
본 발명에 따라, 하기를 함유한 폴리아세탈 수지 조성물이 제공된다.
(A) 폴리아세탈 수지 100중량부,
(B) 하기식 (I)로 표현된 광안정제들의 군으로부터 선택된 일종 이상의 0.1 내지 1.5 중량부
(여기서, 두 개의 X는 동일하거나 상이하며 각각은 수소원자나 또는 매틸기를 나타낸다).
(C) 자외선광 흡수제 0.1 내지 1.5 중량부,
(D) 폴리에틸렌 0.1 내지 3 중량부,
(E) 폴리에틸렌 글리콜 0.1 내지 5 중량부, 및
(F) 메타크릴산 에스테르의 중합체 0.1 내지 10 중량부.
본 발명에 따라, 상기 폴리아세탈 수지 조성물을 사출성형하여 수득된 성형품을 또한 공급한다.
본 발명의 상기 목적은 이러한 발명에 의해서 달성된다.
본 발명은 하기에 자세히 기재되고 이에 의하여, 본 발명의 기타목적 및 장점들이 더욱 명확해 질 것이다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에 사용되는 폴리아세탈 수지(A)는 폴리아세탈(폴리옥시메틸렌) 및 주순환 단위로 옥시메틸렌 단위 및 옥시메틸렌 단위 이외의 소량의 순환단위를 함유한 중합체를 포함한다.
예를 들면, 폴리아세탈 수지 (A) 는 하기의 세 종류 (1)-(3)의 수지를 포함한다.
(1) 포름알데히드, 그의 트리머(트리옥산) 또는 그의 테트라머(테트라옥산)로부터 제조되고 실질적으로 옥시메틸렌 단위만으로 이루어진 옥시메틸렌 단일 중합체.
(2) 옥시메틸렌 단위 99.9-80 중량 % 및 상기 옥시메틸렌 단위 이외의 순환단위 0.1-20 중량 %. 옥시메틸렌 이외의 순환단위의 예시로는 에틸렌 옥시드, 에피클로로히드린, 1,3-디옥산, 1,3,5-트리옥세판 및 글리콜의 포르말과 같은 탄소수 2-8개의 환상 에테르로부터 유래될 수 있는 옥시알킬렌기를 포함한다. 옥시메틸렌 단위 이외의 순환단위는 공중합체 중에 임의로 분포되거나 또는 블록화되고 폴리옥시메틸렌 사슬과 결합되어 블록공중합체를 형성할 수 있다. 또한, 상기 순환단위의 블록은 분지상태에서 폴리옥시메틸렌 사슬과 결합하여 그래프트중합을 형성할 수 있다.
(3) 용융 성형성이 손상되지 않을 정도까지 가교구조를 갖는 폴리옥시메틸렌.
상기 세 경우 모두에 있어서, 폴리아세탈 수지(A)의 말단기는 탈중합 방지처리를 한다.
폴리아세탈 수지(A)의 용융유속(melt flow rate: MFR)은 ASTM D-1238에 따라 2.16㎏의 적재량하 190℃에서 0.5-60, 바람직하게는 2.5-30이다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에 사용되는 광안정제 (B)는 상기식(I)으로 표현되는 광안정제들의 군으로부터 선택된 한 종 이상의 원이다. 이러한 광안정제로서는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염 및 비스(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염이 바람직하다. 이것들을 단독으로 또는 조합해서 사용할 수 있다.
상기 식(I)로 표현되는 광안정제는 적당한 분자량을 가지고 있다. 따라서, 상기 광안정제가 본 발명의 광안정제(B)로 사용될 때는, 이것이 실질적으로 성형품-본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물을 성형하거나 성형품을 실제로 사용-의 표면에서도 휘발하지도 않고 누출되지도 않는다. 첨가물들이 성형품의 표면에서 누출시에는 성형품의 외관이 불량해진다.
또한, 상기 식(I)로 표현되는 광안정제는 하기에 기재될 자외선광 흡수제(C)를 사용하여 탁월한 상승효과를 나타내고, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물은 자외선광안정제(C)와 동시에 사용함으로써 탁월한 내후성(내광성)을 나타낸다.
상기 조성물의 열 안정성을 향상시키기 위해 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에 항산화제를 첨가한다. 항산화제의 첨가는 광안정제의 기능을 약간 저하시키는 작용을 하는 것이 일반적이다. 그러나 상기 식(I)로 표현되는 광안정제(B)를 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에 사용할 때는 항산화제의 사용이 광안정제(B)의 기능을 그렇게 많이 저하시키지는 않는다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물의 성분으로서 자외선 광안정제(C)의 예시로는 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 벤조페논골격을 갖는 화합물, 살리실산염 골격을 갖는 화합물, α-시아노산염 골격을 갖는 화합물 및 옥살산 아닐리드 골격을 갖는 화합물을 포함한다.
벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물의 특정한 예시로는 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸), 2-(2-히드록시-3,5-디-terr-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-이소아밀페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸 및 2-(2-히드록시-4-옥톡시페닐)벤조트리아졸을 포함한다.
벤조페논 골격을 갖는 특정한 예시로는 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥시벤질벤조페논 및 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논을 포함한다.
살리살산염 골격을 갖는 화합물의 특정한 예시로는 p-tert-부틸페닐 살리실산염 및 p-옥틸페닐 살리살산염을 포함한다.
α-시아노아크릴산염 골격을 갖는 화합물의 특정한 예시로는 2-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴산염 및 에틸 2-시아노-3,3-디페닐아크릴산염을 포함한다
옥살산 아닐리드 골격을 갖는 화합물의 특정한 예시로는 N-(2-에톡시-5-tert-부틸페닐)옥살산 디아미드 및 N-(2-에틸페닐)-N'-(2-에톡시페닐)옥살산 디아미드를 포함한다.
자외선 광흡수제 (C) 및 광안정제 (B)의 상승효과는 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물의 내후성(내광성)을 크게 향상시킨다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물의 성분인 폴리에틸렌 (D)는 고밀도 및 저밀도 폴리에틸렌을 포함한다. 폴리에틸렌 (D)의 중량-평균분자량은 바람직하게는 10,000-1,000,000이다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물의 성분인 폴리에틸렌 글리콜 (E)의 수량평균분자량은 바람직하게는 5,000-400,000, 특별히 바람직하게는 6,000-20,000이다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물의 성분인 메타크릴산 에스테르의 중합체(F)는 메타크릴산 에스테르의 단일중합체 및 주성분으로서의 메타크릴산 에스테르와 기타 단량체의 중합체를 포함한다.
메타크릴산 에스테르의 특정한 예시로는 메틸 메타크릴산염, 에틸 메타크릴산염, n-부틸 메타크릴산염, 이소부틸 메타크릴산염, 2-에틸헥실 메타크릴산염, 라우릴 메타크릴산염, S[합성]-라우릴 메타크릴산염, 도데실펜타데실 메타크릴산염, 스테아릴 메타크릴산염 및 시클로헥실 메타크릴산염을 포함한다.
메타크릴산 에스테르와 공중합 가능한 기타 단량체의 예시로는 스티렌 및 에틸렌을 포함한다. 메타크릴산 에스테르의 중합체 (F)에 함유된 기타 단량체의 양은 50 중량 % 이하이다.
메타크릴산 에스테르 중합체 (F)의 중량-평균 분자량은 바람직하게는 50,000-250,000이다.
메타크릴산 에스테르의 상기 중합체 (F)는 단독으로 또는 조합해서 사용한다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물은 상기한 바와 같이, 폴리에틸렌 (D), 폴리에틸렌 글리콜 (E) 및 메타크릴산 에스테르의 중합체 (F)를 함유한다. 그 이유는 세 성분, (D),(E) 및 (F)를 함유하는 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물이 성분 (D),(E) 및 (F)의 하나 또는 둘만을 함유한 폴리아세탈 수지조성물에 비해 내후성(내광성)에서 월등하기 때문이다. 즉, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에서, 본 발명의 폴리아세탈 수지의 내후성(내광성)은 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)를 동시에 사용하여 현저히 상승시킬 수 있다. 까다로운 내후성시험에서도 균열은 한참 후에야 발생한다. 처음으로 균열이 발생하는 때에는, 거의 어떠한 변색도 관찰할 수 없다. 또한, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물을 사출성형하여 수득한 성형품의 표면에서 실질적으로 어떠한 플로우 마크도 관찰되지 않고 따라서, 상업적 가치가 저하되지 않는다. 또한 성분이 용융 반죽되고 압출기로 압출되어 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물을 펠렛화 시킬 때조차 써징현상 및 다이에서 수지물질을 고무화시키는 경우는 관찰되지 않는다.
폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)의 하나가 폴리아세탈 수지에 단독으로 첨가될 때, 폴리아세탈 수지의 내후성 향상은 작아지고, 반대로 새로운 문제가 발생한다.
예를 들면, 폴리에틸렌(D)이 단독으로 폴리아세탈 수지에 첨가되면, 폴리에틸렌의 폴리아세탈 수지와의 상용성이 낮아져서 성형품의 표면에 플로우마크를 발생시키는 경향이 있다.
폴리에틸렌 글리콜(E)이 폴리아세탈 수지에 단독으로 첨가되면 폴리아세탈 수지와의 상용성은 좋지만 내열성이 불량해진다. 결과적으로 폴리아세탈 수지 및 폴리아세탈 글리콜이 용융-혼합되어 압출기로 압출될 때, 폴리에틸렌 글리콜의 열-변성 물질로 간주될 수 있는 수지물질의 고무화가 다이에서 발생하는 경향이 있다. 까다로운 내후성 시험시에는, 폴리아세탈 수지 및 폴리에틸렌 글리콜의 조성물에서 변색의 문제가 발생한다.
메타크릴산 에스테르의 중합제(F)를 폴리아세탈 수지에 단독으로 첨가할 때에는, 메타크릴산 에스테르의 중합체 양이 폴리아세탈 수지 100 중량부 당 10 중량부 이상이지 않는 한 내후성의 향상에 어떠한 영향도 끼치지 못한다. 메타크릴산 에스테르의 중합체를 10 중량부 이상의 양으로 첨가해 내후성을 향상시킨다면, 압출기에서 폴리아세탈 수지와 메타크릴산 에스테르의 중합체를 용융-혼합할 때 자주 써징이 발생한다.
반대로, 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)를 본 발명의 폴리아세탈 수지에 첨가할 때, 이러한 세 성분 상호간의 기능 및 이들의 폴리아세탈 수지와의 상용성은 증가한다. 따라서 본 발명의 조성물에서, 성분 (D), (E), 및 (F)중의 하나를 단독으로 첨가하여 발생하는 문제, 예를 들면, 플로우마크의 발생 및 수지물질의 고무화 발생 및 사출성형에서 써징의 발생은 실질적으로 억제되고 내후성(내광성)이 가장 우세해진다.
또한, 본 발명가의 관찰에 따라, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에서, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물의 성형품의 표면에 광안정제(B)의 누출 억제는 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)의 동시 사용으로 달성한다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에서, 광안정제(B), 자외선 광흡수제(C), 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 중합체 (F)는 폴리아세탈 수지(A) 100 중량부 당 하기의 양으로 함유되어있다.
(B) 광안정제 : 0.1-1.5 중량부, 바람직하게는 0.1-0.5 중량부
(C) 자외선 광안정제 : 0.1-1.5 중량부, 바람직하게는 0.1-0.5 중량부
(D) 폴리에틸렌 : 0.1-3.0 중량부, 바람직하게는 0.5-3.0 중량부
(E) 폴리에틸렌 글리콜 : 0.1-5.0 중량부, 바람직하게는 0.5-3.0 중량부
(F) 메타크릴산 에스테르의 중합체 : 0.1-10 중량부, 바람직하게는 0.5-5.0 중량부
각 성분 (A)-(F)의 양이 상기 범위에 있기 때문에, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물의 기계적 성질 및 내후성이 양호하게 유지되고, 다이에서 수지물질의 고무화 발생 및 써징의 발생은 용융-혼련 및 압출기에서 성분 압출시에 실질적으로 제거되고, 사출성형품의 표면에 플로우마크 및 사출성형품의 표면으로의 첨가물 누출은 실질적으로 발생하지 않는다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물은 상기 첨가제에 부가하여, 본 발명의 목적 달성을 해치지 않는 한 다양한 기타 첨가제를 포함할 수 있다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물에 첨가될 수 있는 기타 첨가제의 예시는 황산화제, 카본블랙과 같은 충전재, 안료, 표면활성제, 정전방지제, 유화제 및 중핵제이다.
본 발명의 폴리아세탈 수지는 단일축 압출기, 이중축 압출기 또는 반죽기와 같은 자체로 공지된 용융-혼련 장치를 사용하여 제조할 수 있다.
용융-혼련전에, 성분을 슈퍼-믹서와 같은 건조-혼합 장치를 사용하여 혼합한다.
일반적으로 용융-혼련성분을 스트랜드로 압출하고, 스트랜드를 물로 냉각시킨 후 절단하거나 물에서 절단하여서 펠렛으로 수득한다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물은 사출성형법, 압출성형법, 압축 성형법, 중공성형법, 진공성형법 또는 발포성형법과 같은 자체로서 공지된 어느 성형법을 사용하여서도 쉽게 성형할 수 있다.
본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물은 폴리아세탈 수지 본래의 특성을 유지하면서도 내후성(내광성)에서 아주 탁월하기 때문에, 조성물은 예로 들면 자동차 문짝 핸들, 바퀴 커버 및 전면 펜더, 전기기기 부품, 건축재료, 비닐 플라스틱 온실의 패커 등과 같이 햇빛이나 실내등에 장시간 노출되고 또한 바람과 비에 노출되는 부분에 사용된다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물로 형성된 성형품이 탁월한 내후성(내광성)을 갖는 이유가 하기에 기재되어 있다.
폴리아세탈 수지를 사출성형시, 금형으로 사출되는 용융수지는 상기 수지가 빠르게 냉각됨과 동시에 결정화하기 시작한다. 금형의 동공 온도가 용융수지의 그것보다 낮기 때문에, 거의 무정형의 스킨층, 배향된 종-형 구정층 및 비-종-형 구정층은 성형품의 표면으로부터 내부로 형성된다. 이러한 성형품이 빛에 노출되었을 때, 스킨층이 먼저 산화한다. 어느 정도 스킨층이 산화된 후, 배향된 종-형 구정층 근처에 강하게 존재하는 내부 스트레스의 촉진작용으로 균열이 발생하고 자라난다. 결과적으로, 폴리아세탈 수지 성형품이 내후성(내광성)에서 열등하다.
반면에, 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물의 성형품에서, 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)는 폴리아세탈 수지(A)를 사용하여 성형품의 표면으로부터 최소 100μm까지인 표면층에서 미세한 혼합결정을 형성하고 폴리아세탈 수지의 배향된 종-형 구정층은 거의 사라진다.
본 발명에서 폴리아세탈 수지 조성물의 성형품은 상기 표면층 구조를 가지고 있고 내부 스트레스의 농도는 표면층 근처에서 경감되기 때문에, 성형품의 표면에서 균열의 발생과 성장은 차단되고, 결과적으로, 성형품은 내후성(내광성)에서 탁월하다.
상기의 사실은 제1도 및 제2도에 나타난다. 즉, 제1도는 폴리아세탈 수지 사출성형품의 표면층의 편광현미경 사진이다. 제2도는 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물(이후에 기재될 실시예 1의 폴리아세탈 수지 조성물)의 사출성형품의 표면층 편광현미경 사진이다.
제1도는 폴리아세탈 수지의 사출성형품에서, 종-형 구정은 표면 1에 대해 수직으로 형성되어 표면층의 근처에 배향된 종-형 구정층 2를 제공하는 것을 보여준다. 반면에 제2도는 본 발명의 폴리아세탈 수지 조성물의 사출 성형품에서, 상기 조성물에 결합된 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 공중합체 (F)는 폴리아세탈 수지의 배향된 종-형 구정의 형성을 차단하여, 폴리아세탈 수지의 배향된 종-형 구정층 2가 사라지고 미세한 혼합결정의 혼합결정층 3이 상기 성형품의 표면으로부터 100-120μm까지인 표면층에서 발생한다.
본 발명은 실시예 및 비교예를 참고로 하여 하기에 구체적으로 설명된다.
그러나, 이러한 실시예가 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
(A) 폴리아세탈 수지 : POM : 폴리아세탈 수지, Iupiral (상표명), MFR 10g/10분 (미쓰비시가스 화학회사 제품).
(B) 광안정제 : B-1 : 비스-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염
B-2 : 비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바신산염
B'-3 : 비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙신산염
B'-4 : 디메틸 숙신산염과 1-(2-히드록시에틸)-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합생성물
(C) 자외선광 흡수제 : C-1 : 2-[2'-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸
C-2 : 비스-(5-벤조일-4-히드록시-2-메톡시페닐)메탄
C-3 : 2-(2-히드록시-3-도데실-5-메틸페닐)벤조트리아졸
C-4 : 메틸 3-[3-tert-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시페닐)프로피온산염 및 폴리에틸렌 글리콜의 축합화합물
(D) 폴리에틸렌 : D-1 : 중량평균분자량 300,000의 폴리에틸렌
D-2 : 중량평균분자량 50,000의 폴리에틸렌
D-3 : 중량평균분자량 120,000의 폴리에틸렌
D-4 : 중량평균분자량 500,000의 폴리에틸렌
D-5 : 중량평균분자량 800,000의 폴리에틸렌
(E) 폴리에틸렌 글리콜 : E-1 : 수평균분자량 20,000의 폴리에틸렌 글리콜
E-2 : 수평균분자량 6,000의 폴리에틸렌 글리콜
(F) 메타크릴산 에스테르의 중합체 또는 공중합체 : F-1 : 수평균분자량 94,000의 폴리메틸 메타크릴산염
F-2 : 수평균분자량 60,000의 폴리메틸 메타크릴산염
F-3 : 메틸 메타크릴산염 (MMA) / 스티렌 (St) 공중합체 (MMA 단위/St 단위의 몰비 = 80/20)
F-4 : 메틸 메타크릴산염 (MMA) / 스티렌 (St) 공중합체 (MMA 단위/St 단위의 몰비 = 60/40)
F-5 : 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE) 및 폴리메틸 메타크릴산염 (PMMA)의 그래프트 공중합케 (LDPE/PMMA 중량비 = 50/50)
(G) 기타 첨가물 : G-1 : 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산염]-메탄
G-2 : 멜라민
G-3 : 칼슘 스테아르산염
[실시예 1-24 및 비교예 1-14]
0.30 중량부의 G-1, 0.20 중량부의 G-2, 0.05 중량부의 G-3 및 표 1-5에서 나타낸 성분을 표 1-5에 나타낸 양으로 슈퍼믹서 (가와다 세이사꾸쇼 K.K 제품)를 사용하여 먼저 혼합한 후 ,수득한 혼합물을 이중축 압출기 (PCM-30, 이께가이 Iron Works 제품, 축반지름 30㎜)를 사용하여 축회전수가 50rpm이고 실린더 온도가 220℃인 조건하에서 용융-혼련 하면서, 스트랜드로 압출한다. 스트랜드를 물로 냉각시키고 절단하여 펠렛을 수득한다.
수득된 펠렛을 80℃에서 4시간 동안 건조하고, 건조된 펠렛을 사출성 형기(모델:SG 125, 스미모또 Shipbuilding Machinery Co., Ltd., 이론사출용량 163㎖)를 사용하여 사출성형하여 내후성 시럼용 장방형 시험조각 (크기-3.2㎜x12.7㎜x63.6㎜)을 형성한다. 사출성형 조건은 성형 온도 80℃, 실린더 온도 200℃, 사출압력 800㎏/㎠ 및 사출경로 40초이다.
그러나 실시예 24에서는, 펠렛을 먼저 100 중량부의 POM. 0.30 중량부의 G-1, 0.20 중량부의 G-2, 0.05 중량부의 G-3, 0.35 중량부의 B-1, 0.35 중량부의 C-1 으로부터 상기 방법을 사용하여 형성하고, 1.0 중량부의 D-1, 1.0 중량부의 E-1 및 1.0 중량부의 F-1을 펠렛 100 중량부에 첨가한다. 이들을 다시 용융-혼합하여 펠렛을 수득한다. 이렇게 수득된 펠렛을 사출성형한다.
(1) 성형성의 평가
(i) 사출성형으로 제조된 장방형의 시험조각 표면에 플로우마크의 발생이 관찰된다.
(ii) 이중축 압출기를 사용하여 성분을 용융-혼련하고 압출하여 스트랜드 수득시, 다이에서 수지물질의 고무화의 발생여부와 써징의 발생여부를 관찰한다.
(2) 내후성(내광성)의 평가
장방형의 시험조각을 웨사로메타(weatherometer; 내후성시험기, 모델: WBL-SUN-HCH, 스까 시껜끼 K.K 제품)를 사용하여 강우스프레이없이 블랙패널 온도 83℃에서 내후성 시험을 행한다. 상기 장방형 시험 조각을 웨사로메타로부터 매 50분마다 꺼내어 편견없는 시각으로 균열의 발생을 관찰한다. 균열이 처음으로 발생한 때를 균열발생시간으로 정한다. 또한, 시험조각이 이 경우에 변색여부를 관찰한다.
(3) 누출
내후성 시험이 상기 조건하에서 균열이 발생 할 때까지 장방형 시험 조각의 표면에 첨가물이 누출여부를 편견없이 관찰한다.
결과가 표 1-5에 나타난다.

Claims (8)

  1. 하기 성분 (A) 및 (B)를 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리아세탈 수지 조성물:
    (A) 폴리아세탈 수지 100 중량부 (B) 하기식 (I)로 표현된 광안정제들의 군으로부터 선택된 일종 이상의 0.1 내지 1.5 중량부
    (여기서, 두 개의 X는 동일하거나 상이하며 각각은 수소원자나 또는 매틸기를 나타낸다). (C) 자외선광 흡수제 0.1 내지 1.5 중량부, (D) 폴리에틸렌 0.1 내지 3 중량부, (E) 폴리에틸렌 글리콜 0.1 내지 5 중량부, 및 (F) 메타아크릴산 에스테르의 중합체 0.1 내지 10 중량부.
  2. 제 1항에 있어서. 성분 (A)를 용융시키면서 성분 (A)-(F)를 균일하게 반죽하여 제조하는 것을 특징으로 하는 폴리아세탈 수지 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 자외선 광 흡수제(C)가 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 벤조페논 골격을 갖는 화합물, 살리실산염 골격을 갖는 화합물, α-시아노산염 골격을 갖는 화합물 및 옥살산 아닐리드 골격을 갖는 화합물을 구성하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리아세탈 수지 조성물.
  4. 제 1항에 있어서. 메타크릴산 에스테르의 중합체(F)가 메타크릴산 에스테르의 단일중합체 및 주성분으로서의 메타크릴산 에스테르와 기타 단량체의 중합체를 구성하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 중합체인 것을 특징으로 하는 폴리아세탈 수지 조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 성형품의 표면으로부터 최소 100μm까지인 표면층에서 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타아크릴산 에스테르의 공중합체 (F)가 폴리아세탈 수지(A)를 사용하여 미세한 혼합결정을 형성하고 배향된 폴리아세탈 수지의 종-형 구상 결정층이 사라지는 성형품을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하는 폴리아세탈 수지 조성물.
  6. 제 1항의 폴리아세탈 수지 조성물을 사출성형하여 형성되는 성형품.
  7. 제 6항에 있어서, 성형품의 표면으로부터 최소 100μm까지인 표면층에서 폴리에틸렌(D), 폴리에틸렌 글리콜(E), 및 메타크릴산 에스테르의 중합체 (F)가 폴리아세탈 수지(A)를 사용하여 미세한 혼합결정을 형성하고 배향된 폴리아세탈 수지의 종-형 구상 결정층이 사라지는 것을 특징으로 하는 성형품.
  8. 사출성형품 수지로서 사용됨을 특징으로 하는 제 1항에 따른 폴리아세탈 수지 조성물.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3195797B2 (ja) * 1995-04-24 2001-08-06 ポリプラスチックス株式会社 ポリアセタール樹脂組成物
TW358110B (en) * 1996-05-28 1999-05-11 Ciba Sc Holding Ag Mixture of polyalkylpiperidin-4-yl dicarboxylic acid esters as stabilizers for organic materials
US6194515B1 (en) 1997-10-10 2001-02-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyacetal composition with improved toughness
DE19981597B4 (de) * 1998-02-24 2011-04-14 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Polyoxymethylenharz-Zusammensetzung, sowie Formkörper daraus
DE19925491A1 (de) * 1999-06-04 2000-12-14 Ticona Gmbh Polyoxymethylenformteile mit verbesserter Widerstandsfähigkeit gegen Dieselkraftstoff und agressiven Ottokraftstoff
US6974849B2 (en) * 2003-03-03 2005-12-13 Ticona Llc Polyacetals with improved resistance to bleach
JP2017061650A (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 旭化成株式会社 ポリアセタール樹脂複合組成物
JP7216496B2 (ja) * 2018-08-09 2023-02-01 旭化成株式会社 ポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53111348A (en) * 1977-03-10 1978-09-28 Asahi Chem Ind Co Ltd Polyoxymethylene composition
US4446263A (en) * 1982-12-28 1984-05-01 Celanese Corporation UV-Stabilization of oxymethylene copolymers
JPH0662830B2 (ja) * 1985-04-11 1994-08-17 住友化学工業株式会社 ポリアセタ−ル樹脂組成物
JP2989610B2 (ja) * 1988-08-22 1999-12-13 ポリプラスチックス株式会社 耐候性ポリアセタール樹脂組成物
JPH0364350A (ja) * 1989-08-01 1991-03-19 Polyplastics Co 耐候性ポリアセタール樹脂組成物
CA2022969A1 (en) * 1989-08-10 1991-02-11 Toru Katsumata Weather-resistant polyacetal resin composition
CA2029032A1 (en) * 1989-11-01 1991-05-02 Yoshihisa Tajima Thermoplastic interpenetrating network structure and method of forming the same
JP2971911B2 (ja) * 1990-05-07 1999-11-08 ポリプラスチックス株式会社 耐候性ポリアセタール樹脂組成物
US5232965A (en) * 1991-03-22 1993-08-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Stabilized polyacetal compositions
US5149723A (en) * 1991-03-22 1992-09-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Stabilized polyacetal compositions containing a mixture of hals having tertiary functionality

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Publication number Publication date
EP0624624B1 (en) 1998-03-11
US5432216A (en) 1995-07-11
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DE69408894T2 (de) 1998-11-12
DE69408894D1 (de) 1998-04-16
JP3341789B2 (ja) 2002-11-05
TW268962B (ko) 1996-01-21
EP0624624A1 (en) 1994-11-17

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