KR0150216B1 - 슬릿형 복사기 노출 시스템용 콘트라스트 조절 장치 - Google Patents

Abstract

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Description

슬릿형 복사기 노출 시스템용 콘트라스트 조절장치

제1도는 본 발명에 따른 콘트라스트 조절 장치의 개략도.

제2도는 콘트라스트 조절 장치의 확산 반사기를 위한 장착 및 조절 장치의 개략적인 부분 평면도.

제3도는 콘트라스트 조절 장치의 작용 효과를 도시하도록 적용된 노출 에너지의 대수(log) 함수로서 재생 이미지에서의 흡광도(D)를 도시한 그래프.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 스캐닝 노출 시스템 12 : 유리판

14 : 원본 16 : 램프원

20 : 포커싱 시스템 22 : 감광성 표면

24 : 구동기구 32 :케이블

46, 48, 50, 52 : 곡선

[발명의 배경]

본 발명은 복사용 원본(original document)을 조명하는데 사용되는 노출 시스템, 특히 원본이 노출 광선의 슬릿에 의해 스캔되는 시스템에 관한 것이다. 본 발명은 노출 시스템을 사용하여 형성된 재생 이미지에서 콘트라스트(contrast)를 조절하는 조절 수단을 제공한다.

많은 복사 장치는 원본이 조명되고 그 조명이 이미지를 형성하도록 감광성 매체에 직접 가해지는 것으로 공지되어 있다. 종래의 건조 사진술의 경우에서 대전된 감광성 드럼같은 여러가지의 감광성 표면이 사용되었다. 예로서, 미합중국 특허 제4,440,846호 및 제4,399,209호에 기술된 것 같은 마이크로-캡슐화된(micro-encapsulated) 감광성 매체 또는 종래의 사진 필름 같은, 다른 매체가 사용될 수 있다.

원본을 조명하는 통상적인 방법은 원본을 노출 광선의 슬릿으로 스캔시키는 것이다. 종래 장치에서, 포물선형 실린더 반사기 내에 위치된 선형 광원은 슬릿의 광선을 원본이 유지되는 평면상으로 방향잡게 한다. 상기 광선은 원본으로부터 반사되고 렌즈나 다른 포커싱 수단에 의해 모아져서 감광성 매체로 향하게 된다. 광원 및 포커싱 시스템이 원본을 스캔하도록 원본을 지나 함께 이동되거나 또는 원본이 광원 및 포커싱 시스템을 지나 이동된다.

이러한 복사기는 출력 이미지의 콘트라스트 레벨을 조절할 수 있는 장점을 갖는다. 높은 큰트라스트는 문자나 선을 포함하는 이미지에서는 양호하지만, 이러한 높은 큰트라스트는 연속적인 톤(tone)의 원본을 복사할 때 저질의 재생성을 초래한다. 특별한 복사기는 어느 한 형태의 원본을 재생하는 것이 가능하므로, 콘트라스트의 조절은 상기 복사기의 성능을 크게 향상시킨다.

콘트라스트가 “범프(bump)” 노출의 사용을 통해 감소될 수 있는 것은 공지되어 있다. 상기 노출은 감광성 매체의 전체적인, 이미지가 없는 노출이다. 이러한 노출은 노출이 만들어지면 이미지의 콘트라스트를 감소 또는 부드럽게 하는 효과를 갖는다. 상기 범프 노출은 이미지 노출과 동시에 또는 전이나 후에 실행된다.

콘트라스트를 조절하는 범프 노출의 크기를 조절할 수 있는 것이 바람직하다. 고정 범프 노출에서, 재생 이미지는 문자나 선같은 이미지 영역에서 낮은 농도로 수용될 수 없다. 조절식 범프에는 보조 범프 광원같은 사용 수단이 제공되고, 또는 동일한 광원을 사용하는 분리 범프 및 이미지 노출이 제공된다. 그러나, 이러한 기술에 있어서, 조절 시스템은 복사기에 가격 및 복잡성을 부가시킨다는 단점을 갖는다. 보조램프의 경우에서, 부가된 가격 및 복잡성은 추가되는 광원을 통해 부가된다. 분리 범프 및 이미지 노출이 만들어지는 이미지 생산 시간은 증가된다. 어느 경우이든, 복사기에 필요한 전력은 증가된다.

그러므로, 재생 이미지의 콘트라스트 조절을 위한 조절식 범프 노출이 제공되는 편의 수단이 요구되었다. 상기 수단은 쉽게 조절되고 재생 장치의 가격 및 복잡성을 비교적 적게 부가한다.

[발명의 개요]

전술한 필요물에 부합시키는데 있어서, 본 발명은 범프 노출이 원본의 재생 이미지에서 콘트라스트를 감소시킴으로써 콘트라스트를 조절하도록 사용되는 원본 노출 장치를 제공한다. 범프 노출은 확산 반사기를 갖는 노출 램프의 포커싱 시스템의 관찰 필드부를 커버 형성시킴으로써 성취된다. 그래서, 노출 광선부는 포커싱 시스템 및 감광성 매체에 확산 반사된다. 범프가 성취되는 정도는 반사기의 위치 조절에 의해 제어된다.

상기 개념에 따라서, 본 발명은 원본 지지용 수단을 포함하는 원본 노출 장치를 제공한다. 원본상의 슬릿 영역을 조명하는 슬릿 노출 시스템은 지지된 원본상에 노출 광선을 내기 위한 광원과, 원본의 관찰 필드부 내로부터 감광성 매체를 향해 반사된 노출 광선을 내기 위한 수단을 포함한다. 수단은 원본으로 직접 향하게 하는 수단의 관찰 필드부와 노출 광선을 스캔하도록 원본 지지수단과 노출 시스템 사이의 관련 운동을 생산하기 위해 제공된다.

확산 반사기 수단은 광원으로부터 노출 광선부를 수용하고 상기 광선을 확산 반사한다. 조절 가능 반사기 위치 설정 수단은 직접 향하게 하는 수단의 관찰 필드부를 차단하도록 반사기 수단을 지지 수단과 노출 시스템 사이에 위치시킨다. 더 나아가, 조절가능한 반사기 위치 설정 수단은 반사기 수단에 의해 차단된 관찰 필드부의 관련 부분을 조절할 수 있다. 후자의 특징을 갖는, 조절 가능한 반사기 위치 설정 수단은 반사기 수단을 관찰부 안으로 및 밖으로 선택 이동시키는 수단을 포함한다.

따라서, 본 발명의 목적은 재생 이미지에서 콘트라스트가 조절될 수 있는 원본 재생 시스템, 콘트라스트가 조절 가능하고 재생을 위해 원본을 노출시키기 위한 장치, 콘트라스트 조절이 범프 노출의 사용을 통해 성취되는 장치와, 범프 노출 조절이 간단하고 저렴하게 성취되는 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적 및 장점은 하기 설명, 첨부 도면 및 동봉된 청구범위로부터 명백해질 것이다.

[양호한 실시예의 설명]

본 발명에 따른 원본 노출 시스템을 위한 일실시예가 제1도를 참조로 설명된다. 스캐닝 노출 시스템(10)은 유리판(12) 밑에 위치되어 있고, 원본은 유리판 위에 직면하여 위치되어 있다. 상기 스캐닝 시스템(10)은 하나 이상(2개가 도시됨)의 노출 램프원(16)을 포함한다. 선형원은 원본(14) 슬릿 같은 영역이 조명을 받게 되는 유리판(12) 하부에 노출 광선을 직접 향하게 하는 포물선형 실린더 반사기(18)내에 위치된다. 노출광선은 슬릿 노출 영역을 감광성 표면(22)에 집중시키는 포커싱시스템(20)으로 반사된다. 공지된 방법으로, 원본(14) 전체에 대해 슬릿같은 노출 영역을 스캔하기 위해 전 스캐닝 시스템(10)을 화살표(26)로 도시된 바와 같이 이동시키도록, 적절한 구동 기구(24)는 스캐닝 시스템(10)에 결합된다.

공지된 형태의 램프(16)는 노출되는 감광성 표면(22)을 위해 사용된다. 상기 표면은 종래의 건조 사진술의 복사기에서의 대전된 감광성 판이다. 또한, 표면(22)은 미합중국 특허 제4,440,846호 및 제4,399,209호에 기술된 것과 같은 마이크로-캡슐화된 감광성 매체이다. 상기 매체에서, 이미지시트(sheet)는 표면상의 마이크로캡슐 층을 위한 지지 기판을 포함한다. 마이크로캡슐은 색상 모형(former)과 광경화 가능한 감광성 성분의 내부상을 갖는다. 마이크로캡슐은 색상 모형이 현상 물질과 반응해서 이미지를 생산하도록 파괴되고 화학선 방사에 노출된 이미지 와이즈(imagewise)이다.

미합중국 특히 제4,399,209호에는 이송 이미지 시스템 같은 감광성 매체가 기술되어 있다. 이미지 시트는 노출 다음에 수신기 시트와 접촉된다. 수신기 시트는 표면상의 현상물질층과 함께 지지체를 갖는 현상 시트를 포함한다. 시트가 접촉하여 위치된 후, 마이크로 캡슐의 파괴가 실행된다. 미합중국 특허 제4,440,846호에는, 이미지 시트가 시트 표면상의 마이크로캡슐과 함께 상호 침전된 현상 물질을 갖는 완비된 이미지 시스템이 기술되어 있다.

포커싱 시스템(20)은 본 기술분야의 당업자에 의해 스캐닝 슬릿형 복사기로 사용되었다. 예를들면, 셀포크(selffocTM)렌즈 장치가 사용된다. 또한, 구면 렌즈가 사용될 수도 있다.

더 나아가, 여기에 설명된 특별한 실시예는 광원과 포커싱 시스템이 스캔되는동안 원본이 정지 상태로 있게 되는 것이고, 원본과 감광성 표면이 스캔되는 동안 광원과 포커싱 시스템이 정지상태로 유지되는 것이다. 양 기술은 복사 기술에 잘 알려져 있다.

본 발명에서 콘트라스트의 감소는 범프 노출의 사용으로 성취된다. 상기 범프 노출의 크기는 콘트라스트 조절을 제공하도록 조절 가능하다. 범프 노출은 확산 광선 반사기(28)를 갖는 포커싱 시스템(20)의 관찰 필드부를 커버 형성 시킴으로써 달성된다. 상기 반사기는 하얀색으로 페인트된 금속판같은 적절한 확산 반사 표면이다. 범프 노출의 크기는 화살표(30) 방향으로 판(28)의 위치 조절에 의해 조절된다. 램프(16)로부터 노출 광선부는 판(28)에 부딪쳐 확산 반사된다. 반사된 광선부는 포커싱 시스템(20) 의해 수신되고 감광성 표면(22)을 향해 나아간다. 판(28)에 의해 커버 형성된 원본(14)의 관찰 필드부를 조절하므로써 범프 노출의 크기가 조절된다. 관찰을 벗어난 판의 이동이나 포커싱 시스템의 관찰 필드부 전체를 커버 형성시킴으로써 0%에서 100%까지의 범프 노출이 이루어진다.

판(28)은 제1도에서 보다 명확성을 위해 유리판(12)과 원본(14)에 떨어져 도시되었지만, 양호하게는 비교적 밀접하게 위치되어야 한다.

적절하고 간단한 조절기구는 사용된 특별한 노출 및 포커싱 시스템과 복사기의 상세한 구조에 의존하여 사용된다. 일반적으로 램프(16) 및 포커싱 시스템(20)에 대한 판(28)의 관련 위치가 세트되면, 판(28)의 관련 위치는 고정 상태로 있게 된다. 그러나, 텍스트 및 그래픽부를 갖는 원문을 복사할 때와 같이 판(28)의 이동이 양호한 경우에만 해당된다.

판(28)의 위치를 조절하는 장치가 제2도에 도시되어 있다. 제2도에 도시된 전 장치는 노출 램프 및 포커싱 시스템의 관련 위치에 고정된다. 제1도에 도시된 실시예에서 스캐닝 시스템(10)은 원본(14)에 대해 이동되고, 제2도에 도시된 조절 장치는 스캐닝 시스템(10)의 부분으로 장착된다.

캐이블(32)은 제2도에 도시된 방법으로 다수의 풀리(34) 주변에 연장되도록 제공된다. 판(28)은 적절한 부착수단에 의해 케이블(32)에 부착된다. 케이블(32)과 판(32)은 램프(16)(반사기(18)는 제2도의 명확성을 위해 생략함)와 포커싱 시스템(20)위에 위치된다.

조절 레버(38)는 선을 따라 어느 일방향으로 이동 가능하고 케이블(32)에 의해 한정되도록 케이블(32)에 부착되어 있다. 슬롯을 통해 레버(38)가 연장되는 슬롯(42)을 갖는 안내판(40)은 케이블(32) 위에 장착되어 있다. 제2도에 도시된 바와 같이 왼쪽 방향으로의 레버(38) 이동은 반사된 범프 광선을 감소시켜 콘트라스트를 증가시키도록 화살표(44)로 도시된 바와 같이 판(28)의 이동을 초래한다. 레버(38)의 적절한 이동에 의해, 판(28)이 포커싱 시스템(20)의 관찰 필드부를 차단하는 크기가 조절된다.

콘트라스트 조절을 위한 범프 노출의 기대 효과는 재생 이미지의 흡광도(D)가 노출 에너지(log E)의 로그의 함수로서 도시된 제3도를 참조로 설명되었다. 유사한 곡선이 다른 감광성 매체로 기대될 수 있지만, 제3도에 도시된 곡선은 상술된 마이크로캡슐화된 감광성 매체의 실행을 도시한 것이다. 곡선(46)은 범프 노출없이 매체의 실행을)도시한 것이다. 값 Dmin와 Dmax 사이에서 곡선의 높은 평균 기울기는 비교적 급경사를 이룬다. 곡선(48, 50, 52)은 범프 노출의 증가된 레벨을 도시하며, 그러므로 콘트라스트의 레벨은 감소된다. 범프 노출의 양이 증가될 때 제3도에 도시된 곡선의 평균 기울기는 감소된다.

여기에 기술된 장치의 장점은 범프 노출이 이미지 와이즈 노출을 위한 화학선 방사를 제공하는 것과 같은 램프라는 점이다. 그래서, 광원 및 매체가 적절히 결합되면 범프 노출을 위한 적절한 결합이 이루어진다. 상기 결합은 보조램프가 범프 노출을 성취하도록 사용되는 것이 다르다.

Dmin에 이르는 토우(toe) 노출 레벨이 콘트라스트 조절을 위해 활용된 범프 노출의 양에 무관한 것을 제3도로부터 주목해야 한다. 그래서, 자유로운 밝음 조절이 조절 시스템의 가요성을 향상시키도록 제공될 수 있다.

백색 확산 반사기 대신으로는, 판(28)의 정면에 위치된 채색된 판(28)이나 색상 필터가 범프 노출의 색상 함유량에 영향을 미치도록 사용된다. 상기의 접근 방식은 추가의 복잡성이 장치에 부가될지라도, 출력 이미지의 질에 부가의 조절을 위해 양호하다.

마지막으로, 본 발명의 장치가 도시된 곡선의 평균 기울기에 영향을 주지만, 곡선의 형상은 예정된 방법으로 변화되고 곡선 형상에서 완전한 조절이 불가능하다는 것이 제3도로부터 이해된다. 그러나, 상기 부족한 조절의 단점은 여기에 기술된 콘트라스트 조절 시스템의 낮은 복잡성, 가격 및 에너지 필요성에 의해 옵세트 되는 것으로 여겨진다.

여기에서 설명된 장치의 형태가 본 발명의 양호한 실시예로 구성되었지만, 본 발명은 장치의 정확한 이들 형태로 한정되지 않으며, 첨부된 청구범위에 한정된 본 발명의 범위에 이탈함이 없이 다른 변경이 가능한 것으로 이해된다.

Claims (6)

1. 원본을 지지하는 지지 수단과, 노출 광선을 지지된 원본상으로 향하게 하기 위한 광원과 반사된 노출 광선을 원본의 관찰 필드부 내로부터 감광성 매체로 향하게 하기 위한 수단을 포함하고, 원본상의 슬릿 영역을 조사하는 슬릿 노출 시스템과, 원본상의 관찰 필드부와 노출 광선을 스캔하도록 상기 원본 지지 수단과 상기 노출 시스템 사이의 관련 운동을 발생시키는 수단과, 노출 광선을 확산 반사시키고, 노출 광선부를 광원으로부터 수신하는 확산 반사기 수단과, 관찰 필드부를 차단하고, 상기 반사기 수단에 의해 차단된 관찰 필드의 관련부를 조절하도록 상기 지지 수단과 상기 노출 시스템 사이에 상기 반사가 수단을 위치시키는 조절가능한 반사기 위치 설정 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 원본 노출장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 조절가능한 반사기 위치 설정 수단은 반사기 수단을 관찰 필드부 안으로 및 밖으로 선택 이동시키는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 원본 노출 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 원본 지지 수단은 원본을 위한 평면 지지체를 포함하고, 상기 확산 반사기 수단은 평면 지지체에 평행한 제1평면에 배치된 평면 반사 표면을 형성하며, 상기 선택 이동 수단은 제1평면 내에서 상기 반사 표면을 이동시키는 것을 특징으로 하는 원본 노출 장치.
4. 제3항에 있어서, 상기 선택 이동 수단은 슬릿에 대해 직각인 반사 표면을 이동시키는 것을 특징으로 하는 원본 노출 장치.
5. 제3항에 있어서, 상기 확산 반사기 수단은 평면 반사기 판인 것을 특징으로 하는 원본 노출 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 판을 슬릿에 대해 수직방향으로 선택 이동시키는 수단을 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 원본 노출 장치.

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