KR0135794Y1 - 웨이퍼 세정액 분사 장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 웨이퍼 세정액 분사 장치에 관하여 개시한다. 종래의 분사 장치는 웨이퍼 세정액을 공급하는 호스와, 상기 세정액이 일시 저장되는 보울과, 상기 호스와 보울을 결합시켜주는 유니온 및 상기 보울에 연결되어 시너를 분사하는 노즐로 구성되어 있어서 세정액 가스가 발생할 뿐만 아니라, 코팅 장비 내의 다른 장치들이 오염되거나 유니온이 분실될 경우가 발생할 수가 있다. 그러나, 본 고안은 웨이퍼 세정액을 공급하는 호스와, 상기 세정액이 일시 저장되는 보울과, 상기 호스와 보울을 결합시켜주는 유니온과, 상기 보울에 연결되어 세정액을 분사하는 노즐 및 상기 보울에 남아 있는 시너를 외부로 유출시키는 배출 장치로 구성되어 있기 때문에 시너 가스는 발생하지 않으며, 스핀부 및 코팅 장비 내의 다른 장치들의 오염도 방지되고 또한 유니온의 분실도 방지될 수 있다.

Description

웨이퍼 세정액 분사 장치

제1도는 종래의 웨이퍼 세정액 분사 장치의 단면도.

제2도는 본 고안의 웨이퍼 세정액 분사 장치의 단면도.

본 고안은 웨이퍼 세정액 분사 장치에 관한 것으로서, 특히 반도체 장비인 DNS 636 코팅 장비(Coater)에 사용되는 웨이퍼 세정액 분사 장치에 관한 것이다.

반도체 장비를 생산하기 위해서는 여러 가지 공정이 필요하다. 그 중에 웨이퍼 위에 반도체 소자를 구성하기 위하여 실행되는 리소그래피(Lithography) 공정이 있다. 리소그래피 공정이란 포토 레지스트에 마스크 패턴을 전사하고, 레지스트의 패턴을 사용해서 그 바탕의 막을 가공(에칭)하여 레지스트를 제거함으로써 기술적 내용을 명확화하는 공정이다. 리소그래피 공정 중에서도 레지스트를 도포하는 레지스트 공정이 있다. 레지스트 공정은 반도체 장치의 형상이나 성능을 정하는 중요한 기술로서, 장치의 고도화나 재료의 고품질화는 진보되었지만, 미묘한 제어나 관리를 필요로 하는 분야이다. 레지스트로서는 포토 레지스트를 주로 사용한다. 포토 레지스트는 광(light) 조사에 의해서 감광 부분이 현상액에 용해하지 않게 되거나 용해하게 되는 등의 성질을 가진 것으로, 어느 것이나 그것들의 성분이 유기 용제 중에 용해한 상태로 시판되고 있다. 그 수지 성분을 웨이퍼 표면에 균일하게 바르는 것이 이 공정이다. 레지스트의 도포에는 스핀 코트, 스프레이 코트, 딥(deep) 코트 등의 방법이 있지만, 웨이퍼를 진공에서 고속 회전시키면서 하는 스핀 코트가 안정성, 균일성의 점에서 가장 일반적이다. 상기 스핀 코트를 실시하는 장비의 일종으로서 DNS 코팅 장비(Coater)가 있다. 상기 DNS 코팅 장비에 웨이퍼를 넣고 레지스트를 도포한 후, 웨이퍼에 부착된 파티클을 제거하기 위하여 웨이퍼에 시너(Thinner)를 분사하여 웨이퍼를 세정하게 된다. 이 때 시너를 분사하기 위하여 사용되는 장치가 웨이퍼 세정액 분사 장치이다.

제1도는 종래의 웨이퍼 세정액 분사 장치의 단면도이다. 그 구조는 웨이퍼를 세정하기 위한 시너를 공급하는 호스(Hose) (11)와, 상기 시너가 일시 저장되는 보울(Bowl) (13)과, 상기 호스(11)와 보울(13)을 결합시켜주는 유니온(Union) (15) 및 상기 보울(13)에 연결되어 시너를 분사하는 노즐(Nozzle) (17)로 구성되어 있다. 웨이퍼를 세정하기 위하여 상기 보울(13)과 노즐(17) 및 보울(13)과 유니온(15)은 필요시 연결하여 사용된다. 그리고, 상기 보울(13)은 코팅 장비 본체에 고정되기 위하여 그 하부(13A)는 나사형으로 되어있어서 결합 및 분리가 가능하다.

이와 같은 분사 장치를 통하여 시너가 분사되고 나면 상기 보울(13)에는 시너의 일부가 남아있게 되고, 이것은 코팅 장비 본체의 스핀(spin)부에 가스(Fume)를 발생시킬 뿐만 아니라 외부로 누출되어 코팅 장비의 다른 장치들을 오염시키게 된다. 또한, 상기 보울(13)을 청소하기 위하여 작업자는 유니온(15)을 상기 보울(13)로부터 분리하게 되는데, 상기 분리된 유니온(15)은 분실될 경우가 발생하고, 더우기 상기 보울(13)에 남아있는 시너가 보울 청소 작업 중 외부로 유출되어 코팅 장비의 다른 장치들을 오염시키게 된다.

상술한 바와 같이 종래의 웨이퍼 세정액 분사 장치에 의하면 시너 가스가 발생할 뿐만 아니라, 코팅 장비 내의 다른 장치들이 오염되거나 유니온이 분실될 경우가 발생할 수가 있다.

따라서, 본 고안의 목적은 시너 가스의 발생과 코팅 장비 내의 장치들의 오염 및 유니온의 분실을 방지할 수 있는 웨이퍼 세정액 분사 장치를 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은,

웨이퍼 세정액 공급 호스와, 상기 웨이퍼 세정액이 일시 저장되는 보울과, 상기 보울과 호스를 결합시켜주는 유니온과, 상기 보울로부터 제공된 웨이퍼 세정액을 분사하는 노즐 및 상기 보울에 남아 있는 시너를 외부로 유출시키는 배출 장치를 구비한 웨이퍼 세정액 분사 장치를 제공한다.

바람직하기는, 상기 보울은 코팅 장비에 고정되기 위한 복수개의 나사들을 더 구비하고, 상기 배출 장치는 배출 구멍과 호스로 구성된다. 상기 본 고안에 의하여 시너 가스의 발생 및 코팅 장비 내의 장치들의 오염이 방지될 수 있다.

이하, 실시예를 통하여 본 고안을 상세히 설명하기로 한다.

제2도는 본 고안의 웨이퍼 세정액 분사 장치의 단면도이다. 그 구조는 웨이퍼를 세정하기 위한 시너를 공급하는 호스(21)와, 상기 시너가 일시 저장되는 보울(23)과, 상기 호스(21)와 보울(23)을 결합시켜주는 유니온(25)과, 상기 보울(23)에 연결되어 시너를 분사하는 노즐(27) 및 상기 보울에 남아 있는 시너를 외부로 유출시키는 배출 장치(29)로 구성되어 있다. 상기 보울(23)은 코팅 장비의 보울 업/다운 실린더 고정 어셈블리(Assembly) 부분에 두 개의 나사들(31)에 의하여 고정된다. 그리고, 상기 배출 장치(29)는 보울(23)의 측면에 형성된 배출 장치(29A)과 상기 구멍(29A)에 연결된 호스(29B)로 구성되어 있다. 웨이퍼를 세정하기 위하여 상기 보울(23)과 노즐(27)은 필요시 연결되어 사용된다.

이와 같은 분사 장치를 분하여 시너가 분사될 경우, 상기 보울(23)에 남아 있는 시너의 일부는 모두 상기 배출 구멍(29A)을 통하여 상기 배출 호스(29B)를 따라 외부로 배출되어 버린다. 그리고, 보울(23)을 청소하기 위하여 작업자는 유니온(25)을 상기 보울(23)로부터 분리하지 않고, 상기 두 개의 나사들(31)을 풀어서 보울 업/다운 실린더 고정 어셈블리로부터 보울(23)을 분리하여 청소하면 된다.

상술한 바와 같이 본 고안에 따르면, 시너 가스는 발생하지 않으며, 스핀부 및 코팅 장비 내의 다른 장치들의 오염도 방지되고 또한 유니온의 분실도 방지될 수 있다.

본 고안의 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 고안의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 명백하다.

Claims (3)

1. 웨이퍼 세정액 공급 호스; 상기 세정액이 일시 저장되는 보울; 상기 보울과 호스를 결합시켜주는 유니온; 상기 보울로부터 제공된 웨이퍼 세정액을 분사하는 노즐; 및 상기 보울에 남아 있는 시너를 외부로 유출시키는 배출 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정액 분사 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 보울은 코팅 장비에 고정되기 위한 복수개의 나사들을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정액 분사 장치.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 배출 장치는 배출 구멍과 호스로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정액 분사 장치.