KR200191716Y1 - 세정수 분사와 현상액 분사를 동시에 할 수 있는 일체형현상노즐 - Google Patents

Abstract

본 발명은 세정수 및 현상액을 분사하는 장치에 있어서, 세정수 소스에 연결되어 세정수를 공급하는 세정수 공급라인과; 현상액 소스에 연결되어 현상액을 공급하는 현상액 공급라인과; 상기 세정수 공급라인에 연결된 다수의 세정수 공급관과, 상기 현상액 공급라인에 연결된 다수의 현상액 공급관을 그 내에 구비한 아암과; 상기 다수의 세정수 공급관과, 상기 다수의 현상액 공급관에 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 현상액 분사장치를 제공한다.

Description

세정수 분사와 현상액 분사를 동시에 할 수 있는 일체형 현상노즐{INTEGRATED DEVELOP NOZZLE CABAPLE OF BOTH PERFORMING A DI RINSING AND AN APPLIANCE OF DEVELOP LIQUID}

본 발명은 반도체 제조 과정의 현상 공정에서 웨이퍼에 현상액을 분출하는 데 사용되는 노즐(Nozzle)장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 세정수 분사와 현상액 분출을 동시에 할 수 있는 일체형 분사노즐에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼에 포토 마스킹 작업을 수행할 때 가장 중요한 작업 중 하나가 현상(develop)공정이다. 통상, 현상 공정은 마스크를 감광액이 도포된 웨이퍼에 얼라인한 후 자외선에 노출시켜 마스크의 패턴 모양에 따라 웨이퍼에 노광된 부분과 노광되지 않은 부분으로 구분짓게 하는 노광공정에 뒤를 잇는 공정으로서, 상술한 노광된 부분과 노광되지 않은 부분을 화공약품을 이용하여 노광된 부분만 혹은 노광되지 않은 부분만의 감광액을 제거, 즉, 필요한 패턴만이 남도록 제거하는 공정이다.

이러한 현상 공정에서 상술한 화공약품을 감광액에 작용시키기 위하여 노즐장치가 통상적으로 많이 사용된다.

도 1 및 2 에는 이러한 현상 공정에서의 종래기술에 따른 현상액 분출 및 세정수 분사의 예가 도시되어 있다. 도 1 에 도시된 바와 같이, 현상액 분출과정은 척(30)에 고정된 웨이퍼(10) 위로 현상액 분사노즐(20)이 위치되어 현상액(22)을 분사하게 된다. 도 2 에 도시된 바와 같이, 세정수 분사과정은 척(30)에 고정된 웨이퍼(10) 위로 세정수 노즐장치(40)가 로딩되어 세정수(42)를 웨이퍼(10)위에 분사하여 현상액이 도포된 웨이퍼면(24)을 세정수로 치환하게 된다.

도시된 바와 같이, 종래 기술에서는 현상액 분출과 세정수 분사가 전혀 별개로 독립적으로 진행된다. 통상, 웨이퍼의 좌우에 위치하게 되는 세정수 분사장치와 현상액 분출노즐이 콘트롤러의 신호에 따라, 웨이퍼로 접근하여 임무를 수행하고 다시 원래의 위치로 복귀하는 형태가 대부분이다.

이러한 구조에서는 프리방식 현상공정(pre-wet develop)을 적용하기에 아주 곤란하다. 프리방식 현상공정이란 현상액 분출노즐에 의한 초기 현상액 분사시의 웨이퍼 표면의 어택을 줄이기 위해, 먼저 세정수를 웨이퍼 표면에 분사하한 후 현상공정을 진행하는 방식으로서, CD 균일성을 향상시킬 수 있고, 현상액의 초기 분사에 의한 웨이퍼의 패턴 어택현상을 줄일 수 있는 공정방법이다.

그러나, 종래기술에 따른 독립된 방식의 세정수 분사 및 현상액 분출구조에서는 이러한 프리현상공정을 수행하기가 거의 불가능하다. 즉, 종래기술에 따라 프리현상공정을 수행하자면, 웨이퍼가 척 위로 이동한 다음, 일단 세정수 노즐이 웨이퍼로 로딩되어 분사를 하고 언로딩되고, 다시 현상액 노즐이 웨이퍼로 로딩되어 현상액을 분출하고 언로딩되면, 다시 세정수 노즐이 로딩되어 현상액을 세정수로 치환하는 복잡한 공정을 거쳐야 한다.

결론적으로, 현상액 분사공정이 매우 복잡해지고, 빈번한 노즐의 교체로 인하여 많은 비효율적인 요소를 가지게 된다.

본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로, 세정수 분사와 현상액 분출을 동시에 할 수 있어 프리현상공정에 적용가능한 일체형 분사노즐을 공급하는 것을 그 목적으로 한다.

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 세정수 및 현상액을 분사하는 장치에 있어서, 세정수 소스에 연결되어 세정수를 공급하는 세정수 공급라인과; 현상액 소스에 연결되어 현상액을 공급하는 현상액 공급라인과; 상기 세정수 공급라인에 연결된 다수의 세정수 공급관과, 상기 현상액 공급라인에 연결된 다수의 현상액 공급관을 그 내에 구비한 아암과; 상기 다수의 세정수 공급관과, 상기 다수의 현상액 공급관에 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 현상액 분사장치를 제공한다.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 다음에 설명하는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.

도 1 및 2 는 각각 종래기술에 따른 현상액 분사공정 및 세정수 분사공정에 대한 사시도이고,

도 3 및 4 는 각각 본 발명에 따른 일체형 분사장치의 현상 아암과, 노즐부의 사시도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >

50 : 현상 아암 52 : 세정수 공급라인

54 : 현상액 공급라인 56 : 현상액 공급관

58 : 세정수 공급관 60, 62 : 노즐

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 일체형 현상액 분사노즐을 상세하게 설명한다. 설명에 있어, 종래기술에 관한 설명에서 언급한 부품과 동일한 부품에 대해서는 동일한 참조부호를 사용한다.

도 3 에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일체형 현상액 분사 노즐은 세정수 공급관(58)과, 현상액 공급관(56)을 그 내에 구비한 현상 아암(50)을 구비한다. 세정수 공급관(58)은 세정수 공급라인(52)에 연결되어 있고, 세정수 공급라인(52)은 세정수 소스(도시되지 않음)에 연결되어 있다. 따라서, 세정수 공급관(58)에는 세정수가 공급되어진다. 현상액 공급관(56)은 현상액 공급라인(54)에 연결되어 있고, 현상액 공급라인(54)은 현상액 소스(도시되지 않음)에 연결되어 있다. 따라서, 현상액 공급관(56)에는 현상액이 공급되어진다.

이와 같이 구성된 현상 아암(50)에는, 도 4 에 도시된 바와 같이, 노즐(60,62)이 부착된다. 노즐(60,62)들은 일렬로 배치되는 것이 바람직하지만, 꼭 이와 같은 식으로 한정되는 것은 아니다. 그리고, 각각의 노즐(60,62)들은 세정수 공급관(58) 혹은 현상액 공급관(56)에 연결되어 있다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 현상액 분사장치가 프리현상공정(pre-wet develop process)에 적용되면, 척(도시되지 않음)위로 위치된 웨이퍼에, 현상 아암(50)이 일회 로딩되어, 세정수 분사, 현상액 분출, 다시 세정수 분사를 순차적으로 그 자리에서 실행할 수 있다. 그 후, 현상 아암(50)은 초기의 위치로 다시 복귀한다.

이상, 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 일체형 현상액 분사장치에 의하면, 현상 아암의 일회의 로딩 및 언로딩으로 현상작업을 끝낼 수 있어 공정을 매우 단순하게 할 수 있다는 장점을 갖는다. 이와 동시에, 프리현상공정을 쉽게 진행할 수 있다. 또한, 공정의 효율이 향상됨으로써, 생산비를 대폭 절감시킬 수 있다.

Claims (2)

1. 세정수 및 현상액을 분사하는 장치에 있어서,

   세정수 소스에 연결되어 세정수를 공급하는 세정수 공급라인과;

   현상액 소스에 연결되어 현상액을 공급하는 현상액 공급라인과;

   상기 세정수 공급라인에 연결된 다수의 세정수 공급관과, 상기 현상액 공급라인에 연결된 다수의 현상액 공급관을 그 내에 구비한 아암과;

   상기 다수의 세정수 공급관과, 상기 다수의 현상액 공급관에 연결된 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 현상액 분사장치
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐은 일렬로 정렬된 형태인 것을 특징으로 하는 현상액 분사장치