KR100488930B1 - 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치 - Google Patents

현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100488930B1
KR100488930B1 KR1019970067783A KR19970067783A KR100488930B1 KR 100488930 B1 KR100488930 B1 KR 100488930B1 KR 1019970067783 A KR1019970067783 A KR 1019970067783A KR 19970067783 A KR19970067783 A KR 19970067783A KR 100488930 B1 KR100488930 B1 KR 100488930B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid crystal
deionized water
developer
crystal glass
nozzle arm
Prior art date
Application number
KR1019970067783A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990048955A (ko
Inventor
이한승
유인수
Original Assignee
비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 filed Critical 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사
Priority to KR1019970067783A priority Critical patent/KR100488930B1/ko
Publication of KR19990048955A publication Critical patent/KR19990048955A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100488930B1 publication Critical patent/KR100488930B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치를 개시한다. 개시된 본 발명은, 액정 글래스(1)는 척(30)상에 안치되고, 한 쌍의 현상액 노즐 암(11,12)이 액정 글래스(1)의 양측부에 높이가 다르게 배치된다. 각 현상액 노즐 암(11,12)은 공압 실린더(15,16)에 의해, 액정 글래스(1)의 일측에서 타측으로 반대 방향으로 이동하면서, 액정 글래스(1)상에 현상액을 도포한다. 현상 공정후, 잔류된 현상액을 제거하는 탈이온수 노즐 암(21)이 각 현상액 노즐 암(11,12)과 직교되게 액정 글래스(1)의 일측부에 배치된다. 탈이온수 노즐 암(21)의 노즐공은 액정 글래스(1)의 평면과 소정 각도로 경사지게 형성되고, 또한 탈이온수 노즐 암(21)은 공기 방울 발생원(25)에 연결되어, 탈이온수와 공기 방울이 같이 액정 글래스(1)상에 분사되므로써, 액정 글래스(1)와 탈이온수간의 마찰력이 대폭 증대된다.

Description

현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치
본 발명은 예를 들어서, 액정 패널 제조를 위한 현상 장비의 현상액 및 탈이온수(DI water) 도포 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 액정 패널에 소정의 집적회로 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정중의 하나인 현상 공정에 사용되는 현상액을 액정 글래스 표면에 도포하고, 이어서 잔류된 현상액을 제거하기 위해서 탈이온수를 액정 글래스에 도포하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 액정 패널의 제조에 있어서는, 포토리소그래피 방법을 이용하여 글래스에 집적회로의 패턴을 형성한다. 집적회로 소자들의 표면 구조를 결정하는 포토리소그래피 공정은 투명판에 그려진 마스터 패턴(master pattern)을 통해 빛을 쪼인 후, 현상액을 이용해서 현상(develop) 공정을 실행하면, 그 패턴이 글래스에 나타나는 감광막 기술에서 발전된 것으로, 마스크에 자외선 등을 조사하여 글래스의 표면에 도포되어 있는 감광막에 원하는 패턴을 선택적으로 복사하는 노광(expose) 공정을 포함한다.
이러한 현상 공정을 수행하는 현상 장비는 현상액을 노즐을 통해서 글래스에 도포하고, 이어서 잔류된 현상액을 제거하기 위해 탈이온수를 도포하는 장치를 포함하고 있는데, 종래의 도포 장치를 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
현상액 노즐 암은 1개로서, 이 현상액 노즐 암이 액정 글래스의 일측에서 타측까지 스캔하는 것에 의해, 액정 글래스상에 현상액이 도포되도록 되어 있다.
한편, 탈이온수 노즐 암은 액정 글래스의 정중앙 상부에 배치되고, 액정 글래스는 스핀 척에 지지되어 있어서, 탈이온수 노즐 암에서 분사된 탈이온수가 스핀 척에 의해 회전되는 액정 글래스의 중앙으로부터 가장자리로 퍼지면서 도포되도록 되어 있다.
그러나, 종래의 현상액 노즐 암은 하나이기 때문에, 액정 글래스의 일측에서 타측까지 스캔하는 시간적 차이로 인하여, 액정 글래스의 중앙부와 가장자리간의 현상액 도포 두께가 상이하다는 문제점이 있다. 따라서, 현상액 균일도의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 종래의 탈이온수 노즐 암에 의한 도포 방식은, 탈이온수가 토출구가 매우 좁은 노즐에서 분사되어, 액정 글래스의 중앙으로부터 가장자리를 향해 퍼지면서 도포되는 것에 의해 현상액을 제거하기 때문에, 액정 글래스에 탈이온수가 부딪칠 때의 마찰력이 약한 관계로, 국부적으로 현상액이 제거되지 못하는 문제점을 갖고 있다.
따라서, 본 발명은 종래의 현상액 및 탈이온수 도포 장치가 안고 있는 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 현상액의 도포 두께가 액정 글래스의 전체 영역에서 균일해지고, 현상액 전체가 완전제거되도록 탈이온수를 도포할 수 있는 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치를 제공하는데 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은 다음과 같은 구성을 갖는다.
액정 글래스는 척상에 안치된다. 액정 글래스의 양측에 현상액 용기에 각기 연결된 현상액 한 쌍의 현상액 노즐 암이 배치되고, 각 현상액 노즐 암은 공압 실린더에 의해 액정 글래스 방향으로 전진되어서, 액정 글래스상에 현상액을 도포하게 된다. 특히, 각 현상액 노즐 암은, 액정 글래스 방향으로 이동시 서로 간섭되지 않도록, 액정 글래스상에 높이가 서로 다르게 배치된다.
현상 공정후, 잔류된 현상액을 제거하기 위해 액정 글래스상에 탈이온수를 도포하는 탈이온수 노즐 암이, 각 현상액 노즐 암의 진행 방향과 직교되는 액정 글래스의 측부에 배치된다. 탈이온수 노즐 암은 탈이온수 용기에 연결되고, 공압 실린더에 의해 액정 글래스 방향으로 전진하게 된다. 특히, 탈이온수가 분사되는 탈이온수 노즐 암의 밑면은, 액정 글래스의 측부 길이 방향을 따라 연장된 긴 직사각형인 것이 바람직하다.
또한, 액정 글래스와 탈이온수간의 마찰력 증대를 위해, 탈이온수 노즐 암에는 공기 방울이 투입되고, 따라서 탈이온수 노즐 암에는 공기 방울 발생원이 연결된다.
상기된 본 발명의 구성에 의하면, 2개의 현상액 노즐 암이 동시에 현상액을 액정 글래스상에 도포하게 되므로써, 액정 글래스 전체에 현상액이 균일하게 도포될 수가 있고, 또한 탈이온수 노즐 암이 액정 글래스의 일측에서 타측으로 이동하면서 탈이온수를 도포하게 되므로써, 현상액을 완전제거하는 것이 가능해진다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 현상액 및 탈이온수 도포 장치를 나타낸 도면이다.
도시된 바와 같이, 액정 글래스(1)의 밑면 정중앙부가 척(30)상에 안치되어 고정된다. 액정 글래스(1)상으로 현상액을 도포하는 2개의 제 1 및 제 2 현상액 노즐 암(11,12)이 액정 글래스(1)의 좌우측부에 각기 배치된다. 각 현상액 노즐 암(11,12)은 현상액 용기(13,14)에 각기 연결되고, 또한 제 1 및 제 2 공압 실린더(15,16)의 로드(17,18)에 연결되어, 액정 글래스(1) 방향으로 동시에 이동하게 된다. 특히, 각 현상액 노즐 암(11,12)은, 액정 글래스(1) 방향으로 동시에 이동할 때, 서로간에 충돌이 일어나지 않도록, 액정 글래스(1)상을 기준으로 다른 높이를 갖는다.
또한, 액정 글래스(1)의 중앙과 가장자리 부분에 도포되는 현상액의 두께가 보다 균일해지도록, 각 현상액 노즐 암(11,12)에서 분사되는 현상액 유량은, 액정 글래스(1)의 일측에서 타측으로 가면서 점진적으로 줄어들도록 제어된다.
한편, 현상 공정후, 잔류된 현상액을 제거하기 위해서, 탈이온수를 액정 글래스(1)상에 도포하는 탈이온수 노즐 암(21)이 액정 글래스(1)의 전면에 배치된다. 탈이온수 노즐 암(21)은 탈이온수 용기(24)에 연결되고, 공압 실린더(22)의 로드(23)에 연결되어서, 액정 글래스(1)의 일측에서 타측 방향으로 이동하면서 탈이온수를 도포하게 된다.
특히, 탈이온수 노즐 암(21)의 밑면, 즉 탈이온수가 분사되는 다수의 노즐공(미도시)이 형성된 밑면은, 액정 글래스(1)의 길이 방향으로 연장된 직사각형인 것이 바람직하다. 그리고, 각 노즐공은 액정 글래스(1)에 대해 수직을 이루지 않고, 탈이온수가 경사지게 분사되도록 소정의 각도로 경사지게 형성된다. 이는, 탈이온수가 수직하게 분사되는 것보다 경사지게 분사되는 것이, 현상액 제거 효과가 보다 우수하기 때문이다.
또한, 탈이온수는 노즐공에서 분사되어 액정 글래스(1)상에 부딪힐 때, 액정 글래스(1)와의 마찰력이 높아야만 현상액 제거 효과가 보다 높아진다. 이를 위해서, 공기 방울 발생원(25)이 탈이온수 노즐 암(21)에 연결되어, 탈이온수 노즐 암(21)에서 탈이온수와 함께 공기 방울이 같이 분사된다.
이하, 상기와 같이 구성된 본 실시예의 동작을 상세히 설명한다.
먼저, 액정 글래스(1)가 척(30)상에 안치된다. 이어서, 각 공압 실린더(15,16)의 구동에 의해, 제 1 및 제 2 현상액 노즐 암(11,12)이 서로 반대 방향으로 이동되면서, 액정 글래스(1)상에 현상액을 도포한다. 여기서, 각 현상액 노즐 암(11,12)이 액정 글래스(1)의 일측에서 타측으로 이동될 때, 분사되는 현상액 유량이 점진적으로 줄어들도록 제어된다. 따라서, 제 1 현상액 노즐 암(11)이 타측까지 이동된 시점에서 현상액 분사량을 적지만, 그 대신에 이 시점은 제 2 현상액 노즐 암(12)이 현상액 분사량이 가장 많은 초기 위치이므로, 부족한 양이 보충된다. 액정 글래스(1)의 반대측도 마찬가지이다. 그리고, 각 현상액 노즐 암(11,12)의 높이가 서로 다르므로, 이동중에 충돌할 염려는 전혀 없다.
이러한 동작에 의해 현상액이 액정 글래스(1)상에 도포되면, 액정 글래스(1)의 중앙이나 가장자리간에 현상액 두께가 보다 균일해지게 된다.
이렇게 현상 공정이 완료되면, 잔류된 현상액을 탈이온수로 제거하기 위한 공정이 실행된다. 공압 실린더(22)의 구동에 의해, 탈이온수 노즐 암(21)이 액정 글래스(1)의 일측에서 타측으로 이동하면서, 액정 글래스(1)상에 탈이온수를 도포하여, 현상액을 제거하게 된다.
이때, 탈이온수 노즐 암(21)의 형상이 긴 직사각형이므로, 탈이온수가 액정 글래스(1)의 일정 영역에만 집중적으로 분사되지 않고, 골고루 분사될 수가 있고, 또한 노즐공이 사선으로 기울어지게 형성되어 있으므로, 탈이온수가 액정 글래스(1)상에 수직하게 분사되지 않고 경사지게 분사되므로써, 보다 효과적으로 현상액을 제거할 수가 있다.
특히, 탈이온수와 함께 공기 방울이 같이 액정 글래스(1)상으로 도포되므로써, 액정 글래스(1)와 탈이온수간의 마찰력이 매우 높아지게 되어서, 현상액 제거 효과가 극대화된다.
상기된 바와 같이 본 발명에 의하면, 2개의 현상액 노즐 암(11,12)으로 현상액을 도포하게 되므로써, 액정 글래스(1)상의 현상액 두께가 전체에 걸쳐서 균일해지게 된다.
또한, 탈이온수 노즐 암(21)이 긴 직사각 형상이면서, 탈이온수가 공기 방울과 함께 경사지게 분사되게 되므로써, 현상액 제거 효과가 한층 증대된다.
한편, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 현상액 및 탈이온수 도포 장치를 나타낸 도면
- 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 -
1 - 액정 글래스 11,12 - 현상액 노즐 암
13,14 - 현상액 용기 15,16,22 - 공압 실린더
21 - 탈이온수 노즐 암 24 - 탈이온수 용기
25 - 공기 방울 발생원 30 - 척

Claims (4)

  1. 액정 글래스가 상부에 안치되는 척; 상기 액정 글래스의 양측에 각기 배치되고, 액정 글래스상에 다른 높이를 갖도록 배치되어, 액정 글래스상에 현상액을 도포하는 한 쌍의 현상액 노즐 암; 상기 각 현상액 노즐 암에 연결된 현상액 용기; 상기 각 현상액 노즐 암을 액정 글래스를 향해 반대 방향으로 동시에 이동시키는 공압 실린더; 상기 각 현상액 노즐 암과 직교하게 액정 글래스의 일측부에 배치되어, 현상 공정후 잔류된 현상액을 제거하도록 탈이온수를 액정 글래스상에 도포하며, 탈이온수가 액정 글래스의 일정 영역에만 집중 분사되지 않도록, 다수개의 노즐이 형성된 밑면이 직사각형 형상을 갖는 탈이온수 노즐 암; 상기 탈이온수 노즐 암에 연결된 탈이온수 용기; 및 상기 탈이온수 노즐 암을 액정 글래스상으로 이동시키는 공압 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 각 현상액 노즐 암은, 액정 글래스의 일측에서 타측으로 이동되면서 현상액 유량이 점진적으로 줄어들도록 제어되는 것을 특징으로 하는 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 탈이온수 노즐 암의 각 노즐공은 액정 글래스의 표면에 대해서 소정 각도로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 탈이온수 노즐 암에, 탈이온수와 액정 글래스간의 마찰력 증대를 위해, 공기 방울을 공급하는 공기 방울 발생원이 연결된 것을 특징으로 하는 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치.
KR1019970067783A 1997-12-11 1997-12-11 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치 KR100488930B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970067783A KR100488930B1 (ko) 1997-12-11 1997-12-11 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970067783A KR100488930B1 (ko) 1997-12-11 1997-12-11 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990048955A KR19990048955A (ko) 1999-07-05
KR100488930B1 true KR100488930B1 (ko) 2005-10-26

Family

ID=37305534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970067783A KR100488930B1 (ko) 1997-12-11 1997-12-11 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100488930B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3926544B2 (ja) * 2000-08-25 2007-06-06 東京エレクトロン株式会社 現像処理装置
KR100815906B1 (ko) * 2001-12-29 2008-03-21 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 제조장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0246464A (ja) * 1988-08-08 1990-02-15 Seiko Epson Corp 現像方法
JPH06118226A (ja) * 1992-10-02 1994-04-28 Kyodo Printing Co Ltd Lcdカラーフィルタ基板端面の残膜除去装置
KR940017880A (ko) * 1992-12-31 1994-07-27 김주용 벡터 변환기
JPH06310419A (ja) * 1993-04-26 1994-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
KR960042161A (ko) * 1995-05-31 1996-12-21 엄길용 액정기판의 코팅용액 도포방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0246464A (ja) * 1988-08-08 1990-02-15 Seiko Epson Corp 現像方法
JPH06118226A (ja) * 1992-10-02 1994-04-28 Kyodo Printing Co Ltd Lcdカラーフィルタ基板端面の残膜除去装置
KR940017880A (ko) * 1992-12-31 1994-07-27 김주용 벡터 변환기
JPH06310419A (ja) * 1993-04-26 1994-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
KR960042161A (ko) * 1995-05-31 1996-12-21 엄길용 액정기판의 코팅용액 도포방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990048955A (ko) 1999-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5885755A (en) Developing treatment apparatus used in the process for manufacturing a semiconductor device, and method for the developing treatment
US20060151015A1 (en) Chemical liquid processing apparatus for processing a substrate and the method thereof
JP2006019742A (ja) 液浸リソグラフィの方法および装置
KR100488930B1 (ko) 현상 장비의 현상액 및 탈이온수 도포 장치
CN104216216A (zh) 涂布装置的洗边腔室和洗边方法
JP4157116B2 (ja) 基板処理装置
CN110389501B (zh) 基板处理装置
CN109669322B (zh) 掩模清洁设备和清洁掩模的方法
JP6814847B2 (ja) 現像方法
KR20090021970A (ko) 도포장치
KR100481537B1 (ko) 웨이퍼 현상 장치
JP2006202893A (ja) 現像方法及び現像装置
KR100454637B1 (ko) 매엽식 반도체 웨이퍼용 약액 분사노즐
JPWO2004064129A1 (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
KR20050099333A (ko) 반도체 소자 제조를 위한 현상 설비 및 이에 사용되는노즐 세정장치
KR200191716Y1 (ko) 세정수 분사와 현상액 분사를 동시에 할 수 있는 일체형현상노즐
KR19990041115A (ko) 액정 패널 제조용 현상액 도포 장치
KR100815906B1 (ko) 액정표시소자 제조장치
KR100801841B1 (ko) 감광막 현상 장치
KR100649014B1 (ko) 감광막 잔류물의 제거 장치
US20070264599A1 (en) Method for manufacturing semiconductor device using immersion lithography process with filtered air
KR20000059288A (ko) 광배향막 도포방법 및 장치
KR20030083779A (ko) 액정표시소자용 처리장치 및 처리방법
JPH11154634A (ja) 半導体装置の製造方法及び製造装置
NL1030447C2 (nl) Inrichting en werkwijze voor megasonische immersielithografie belichting.

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130417

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140421

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150416

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160418

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170417

Year of fee payment: 13

EXPY Expiration of term