JPH06310419A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理液の無駄をなくし、かつ基板の被処理面
に均一な処理を施す。 【構成】 液晶用ガラス基板１の上面である被処理面１
ａは、可撓性の樹脂などで構成される現像液保持シート
２によって覆われている。液晶用ガラス基板１と現像液
保持シート２の間に位置する現像液供給ノズル３、現像
液回収ノズル４は、それぞれ現像液５を吐出し、吸引回
収する。はじめに現像液供給ノズル３が現像液５を吐出
しつつ、被処理面１ａの一端から他の一端へと水平方向
に移動する。被処理面１ａの全体が現像液保持シート２
によって覆われているために、供給された現像液５は、
表面張力の作用により被処理面１ａの全面にわたって均
一に、しかも無駄の無い十分に薄い所定の厚さをもって
保持される。その後、現像液回収ノズル４が現像液５を
吸引回収しつつ同様に移動する。 【効果】 処理液の無駄がなく、しかも被処理面全体に
均一な処理が施される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば液晶用ガラス
基板などの基板の被処理面に、現像液などの処理液を塗
布して、現像その他の所定の処理を施す基板処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体、液晶などの製造工程において
は、半導体ウエハ、液晶用ガラス基板などの処理対象と
なる基板に、各種の処理液を用いた多様な処理が施され
る。例えば、基板の被処理面にレジストが塗布され所定
のパターンで露光が施された後に、現像液が塗布される
ことにより現像処理が行われる。また、基板の被処理面
にエッチング液を供給して被処理面のエッチングが行わ
れる。

【０００３】所定の処理液を塗布して基板の被処理面に
所定の処理を行う際には、処理液が被処理面の全体にわ
たって均等に塗布される必要がある。このため、例えば
特公昭６０−５３３０７号公報では、基板を囲み基板の
被処理面との間に所定の間隙を有するリングを基板の周
縁近傍に設け、リング内に現像液を保持する基板現像装
置が開示されている。この装置では、リングによって基
板の被処理面の上に所定の厚さを有する膜状に現像液が
保持されるので、基板の被処理面の全面に亘って現像液
が均一に保持される効果が得られる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来技術では一定以上の厚さの現像液を保持する必要があ
るので、現像液が不必要に多く使用されるという欠点を
有している。大量の基板を処理する半導体製造工程或い
は液晶製造工程などには、このことは現像液の多大なロ
スにつながる。

【０００５】この発明は、従来の技術が有する上記の欠
点を解消することを目指したもので、必要十分な処理液
を基板の被処理面に均一に保持することにより、基板の
被処理面に均一な処理を施し、且つ処理液の無駄を省く
ことのできる基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明にかかる基板処
理装置は、基板の被処理面上に処理液を塗布して、当該
被処理面に処理を行う基板処理装置であって、前記被処
理面上に処理液を供給する処理液供給手段と、前記被処
理面を覆うことにより、前記被処理面との間に前記処理
液を浸潤させて保持する処理液保持手段と、を備える。

【０００７】

【作用】この発明の基板処理装置では、基板の被処理面
を処理液保持手段が覆うことによって、表面張力の作用
で処理液が基板の被処理面全体に浸潤する。このため、
基板の被処理面に保持される処理液は小量であり、しか
も被処理面の全面に均一に保持される。

【０００８】

【実施例】＜第１実施例＞

【０００９】図１は、第１の実施例における基板処理装
置の構造と動作を示す説明図である。はじめに図１
（ａ）にもとづいてこの装置の構造について説明する。
この基板処理装置は液晶用ガラス角型基板の現像装置で
あって、処理の対象である角型の液晶用ガラス基板（基
板）１が、図示しない水平に回転する回転台の上に水平
に載置されている。液晶用ガラス基板１の上面すなわち
被処理面１ａは、現像液保持シート（処理液保持手段）
２によって覆われている。現像液保持シート２は例えば
可撓性の樹脂あるいはステンレス鋼で構成され、柔軟に
変形し得る厚さと、液晶用ガラス基板１の被処理面１ａ
の全面を覆う広さとを有している。

【００１０】被処理面と現像液保持シート２との間に現
像液供給ノズル（処理液供給手段）３と現像液回収ノズ
ル４が並んで設けられている。現像液供給ノズル３は線
状の現像液噴出孔を備えており、この噴出孔から現像液
（処理液）を被処理面１ａに向かって吐出する。現像液
回収ノズル４は同じく線状の吸引孔を備えており、この
吸引孔から被処理面１ａ上の現像液を吸引する。これら
の噴出孔および吸引孔は、被処理面１ａの１方向の全幅
以上の長さを有している。現像液供給ノズル３及び現像
液回収ノズル４は、現像液供給ノズル３及び現像液回収
ノズル４の長手方向に垂直な水平方向に移動が可能であ
る。これらのノズルが被処理面１ａの一端から他の一端
にわたって水平移動を行うのにともなって、噴出孔およ
び吸引孔は被処理面１ａに沿ってその全面を走査する。

【００１１】つぎに図１（ｂ）〜図１（ｅ）をもとに、
この装置の動作について説明する。まず現像液供給ノズ
ル３が現像液５の吐出を開始する。その後現像液供給ノ
ズル３は、現像液５の吐出を継続しつつ、被処理面１ａ
の一端から他端へと水平方向に移動する（図１
（ｂ））。現像液供給ノズル３の移動が完了すると同時
に、現像液５の吐出は停止する。移動が完了した時点で
は、現像液５は被処理面１ａの全面に供給されている
（図１（ｃ））。被処理面１ａの全体が現像液保持シー
ト２によって覆われているために、供給された現像液５
は、表面張力の作用により被処理面１ａの全面にわたっ
て均一に、しかも無駄の無い十分に薄い所定の厚さをも
って保持される。この状態を所定時間にわたって維持す
ることにより、被処理面１ａ上に所定の処理が施され
る。

【００１２】所定の処理が終了すると、まず現像液回収
ノズル４が吸引を開始する。その後現像液回収ノズル４
は、現像液５を吸引回収しつつ被処理面１ａの一端から
他端へと、現像液供給ノズル３の後を追うように水平方
向に移動する（図１（ｄ））。現像液回収ノズル４は、
移動を完了すると同時に吸引を停止する。移動が完了し
たときには、保持されていた現像液５は被処理面１ａの
全体にわたって回収されている（図１（ｅ））。

【００１３】その後、好ましくは現像液の除去を完全に
行うために、被処理面１ａの洗浄が施される。洗浄を行
うには、まず被処理面１ａを覆っている現像液保持シー
ト２が除去された後、被処理面１ａ上に洗浄液が供給さ
れる。このとき、図示しない回転台が回転することによ
り、液晶用ガラス基板１が水平回転する。この水平回転
にともなって、被処理面１ａに残留する現像液が、洗浄
液とともに遠心力の作用で除去される。

【００１４】この実施例の装置では、使用済みの現像液
が現像液回収ノズル４によって回収されるので、現像液
を再利用することも可能である。すなわち、この装置は
現像液の無駄を更に省くことができる利点を有してい
る。

【００１５】＜第２実施例＞

【００１６】図２は、もう１つの実施例における液晶用
ガラス基板の現像装置の構造を示す説明図である。液晶
用ガラス基板１の被処理面１ａの全体を覆っている現像
液保持メッシュ板（処理液保持手段）６は、多孔質のメ
ッシュ板であって、例えばステンレス鋼製の網サッシで
構成される。現像液供給ノズル３および現像液回収ノズ
ル４は現像液保持メッシュ板６の上に配置される。第１
実施例の現像装置と同様に、これらのノズルは現像液を
吐出または吸引しつつ水平移動を行う。吐出された現像
液は、現像液保持メッシュ板６のメッシュ孔を通して、
被処理面１ａと現像液保持メッシュ板６の間に透過す
る。被処理面１ａの全体が現像液保持メッシュ板６によ
って覆われているために、被処理面１ａ上に透過した現
像液は、表面張力の作用により被処理面１ａの全面にわ
たって均一に、しかも無駄の無い十分に薄い所定の厚さ
をもって保持される。使用済みの現像液は、現像液保持
メッシュ板６のメッシュ孔を通して、移動する現像液回
収ノズル４へ回収される。

【００１７】＜第３実施例＞

【００１８】図３は、更にもう１つの実施例における液
晶用ガラス基板の現像装置の構造を示す説明図である。
この装置では、現像液保持シート２の一端は現像液供給
ノズル３に固定され、他端は回転自在の円筒形状の巻取
部材７に固定されている。前述の第１実施例と同様に、
現像液保持シート２は例えば可撓性の樹脂で構成され、
柔軟に変形し得る厚さと、液晶用ガラス基板１の被処理
面１ａの全面を覆う広さとを有している。現像液供給ノ
ズル３が現像液を吐出しつつ水平移動を行うのにともな
って、現像液保持シート２は巻取部材７から繰り出さ
れ、被処理面１ａ上に展開される。現像液供給ノズル３
が移動を完了したときには、現像液保持シート２は被処
理面１ａ全体を覆っている。このため現像液供給ノズル
３から被処理面１ａ上に供給された現像液は、表面張力
の作用により被処理面１ａの全面にわたって均一に、し
かも無駄の無い十分に薄い所定の厚さをもって保持され
る。現像が終了すると、現像液回収ノズル４が、使用済
みの現像液を吸引回収しつつ水平移動する。その後、新
たな液晶用ガラス基板１の処理を開始する前に、現像液
供給ノズル３および現像液回収ノズル４は、図３に示す
初期の位置に復帰する。このとき、巻取部材７が回転し
て現像液保持シート２を巻取る。

【００１９】＜第４実施例＞

【００２０】図４は、更にもう１つの実施例における液
晶用ガラス基板の現像装置の構造と動作を示す説明図で
ある。図４（ａ）に示すように、この実施例では現像液
保持メッシュ板６の上に重ねて平坦な天板８が設置され
ている。現像液保持メッシュ板６は、第２実施例と同様
に多孔質のメッシュ板であって、例えばステンレス鋼製
の網サッシで構成される。現像液保持メッシュ板６およ
び天板８は、ともに液晶用ガラス基板１の被処理面１ａ
を全面にわたって覆い得る広さを有しており、被処理面
１ａの上方において鉛直方向に移動可能である。

【００２１】現像を行うには、まず現像液保持メッシュ
板６と天板８とを互いに近接させた状態で図示しない現
像液溜めに溜められた現像液の中に浸す。その結果、現
像液が表面張力の作用により、現像液保持メッシュ板６
と天板８との間に浸潤する。現像液を保持した現像液保
持メッシュ板６と天板８は、図示しない回転台に載置さ
れる液晶用ガラス基板１の上方まで一体で移動する（図
４（ｂ））。つづいて、現像液保持メッシュ板６と天板
８は、現像液保持メッシュ板６が被処理面１ａに軽く接
触するまで、同じく一体で下降する（図４（ｃ））。そ
の後、天板８を下方へ押し付ける。これにより、現像液
保持メッシュ板６と天板８の間に保持されていた現像液
５が、現像液保持メッシュ板６が有するメッシュ孔を通
過して被処理面１ａ上へにじみ出る（図４（ｅ））。現
像に要する所定時間にわたって、この状態を維持する。
現像液保持メッシュ板６が被処理面１ａの全面を覆って
いるために、現像液が表面張力の作用により被処理面１
ａの全面にわたって均一に、しかも無駄の無い十分に薄
い所定の厚さをもって保持される。

【００２２】現像が終了すると、天板８に加えられてい
た押圧力が解放される。このとき、被処理面１ａへにじ
み出ていた現像液５の相当部分が現像液保持メッシュ板
６へ回収される。その後、現像液保持メッシュ板６と天
板８は、互いに接触したまま一体で上方へ移動する。被
処理面１ａに残留する現像液５は、第１実施例と同様に
洗浄および遠心除去される。

【００２３】＜変形例＞

【００２４】（１）上述の各実施例において、被処理面
１ａ上に現像液５が保持されている状態で、図示しない
回転台を振動的に微小回動させることにより、液晶用ガ
ラス基板１を現像液保持シート２または現像液保持メッ
シュ板６と相対的に微小回動させてもよい。このことに
より、現像液５が被処理面上で撹拌され、現像処理の進
行が加速される。液晶用ガラス基板１を微小回動させる
代わりに、現像液保持シート２または現像液保持メッシ
ュ板６を微小回動させてもよい。

【００２５】（２）液晶用ガラス基板１が載置される回
転台の中央部を周辺に対して凹状とすることにより、液
晶用ガラス基板１を凹状にわずかにたわませて保持して
もよい。これにより、液晶用ガラス基板１の周辺部にお
いて、現像液保持シート２または現像液保持メッシュ６
との間隔が小さくなるので、現像液５の流出をより効果
的に防止できる。

【００２６】（３）以上の実施例では、基板現像装置の
例を示したが、この発明は基板エッチング装置の他、処
理液を使用して基板の被処理面に所定の処理を施す装置
一般に実施が可能である。

【００２７】

【発明の効果】この発明における基板処理装置では、基
板の被処理面を処理液保持手段が覆うことによって、表
面張力の作用で処理液が基板の被処理面全体に浸潤する
ので、小量の処理液が被処理面の全面に均一に保持され
る。このため、この処理装置によって、基板の被処理面
に均一な処理を施すことができ、しかも処理液の無駄を
省くことができるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施例における基板処理装置
の説明図である。

【図２】この発明の第２の実施例における基板処理装置
の説明図である。

【図３】この発明の第３の実施例における基板処理装置
の説明図である。

【図４】この発明の第４の実施例における基板処理装置
の説明図である。

【符号の説明】

１ 液晶用ガラス基板（基板） １ａ 被処理面 ２ 現像液保持シート（処理液保持手段） ３ 現像液供給ノズル（処理液供給手段） ４ 現像液回収ノズル ５ 現像液（処理液） ６ 現像液保持メッシュ板（処理液保持手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上山 勉 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の被処理面上に処理液を塗布して、
   当該被処理面の処理を行う基板処理装置であって、 前記被処理面上に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記被処理面を覆うことにより、前記被処理面との間に
   前記処理液を浸潤させて保持する処理液保持手段と、 を備える基板処理装置。