JP2006019742A - 液浸リソグラフィの方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 液浸リソグラフィの方法および装置が説明されている。この方法は、液浸露光ヘッドアセンブリの下の半導体基板の位置決めをするステップ、基板と液浸露光ヘッドアセンブリとの間に浸液を提供するステップおよび浸液と基板との接触領域の境界線に沿って、界面活性のガス状の物質を供給するステップを含む。浸液は基板の少なくとも一領域に接する。少なくとも部分的に浸液と混ぜられたとき、浸液よりも低い表面張力をもつ混合物が形成されるように、界面活性のガス状の物質が選択されるので、境界線から接触領域へ浸液を引っ張る表面張力勾配をつくる。
【選択図】図1
Description
浸液3と混ぜられることによる十分な表面張力の減少;
浸液3の十分な溶解性;
基板1(典型的にはフォトレジスト)と相性がよい;および
浸液3の光学的要求と相性がよい、すなわち、使用される界面活性のガス状の物質4の濃度が、屈折率の変化により、リソグラフ印刷処理を妨げない
は、界面活性のガス状の物質4を選択するために使用される。
2 液浸露光ヘッドアセンブリ
3 浸液
4 界面活性のガス状の物質
5 間隔
6 3相領域
7 狭い細長い孔の形状の噴出口をもつノズル
8 供給部
9 他の側部
10 再循環装置
11 使用済み液収集システム
Claims (25)
- 液浸リソグラフィの方法であって、
液浸露光ヘッドアセンブリの下の基板の位置決めをするステップ;
上記基板と上記液浸露光ヘッドアセンブリとの間に浸液を提供し、上記浸液は上記基板の少なくとも一領域と接するステップ;および
上記浸液と上記基板との上記接触領域の境界線に沿って、界面活性のガス状の物質を供給するステップを組み合わせて含み、少なくとも部分的に上記浸液と混ぜられ、上記浸液よりも低い表面張力を持つ混合物を形成し、上記境界線から上記接触領域へ浸液を引っ張る表面張力勾配を形成することを特徴とする方法。 - 上記界面活性のガス状の物質および上記界面活性のガス状の物質の濃度がフォトレジストと相性がいいように選択される請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、イソプロピル・アルコール(IPA)、ブタノール、エタノール、ヘキサノール、または同等物、またはそれらの混合物を含むグループの1つを含む請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、IPAの蒸気を含む請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、IPAの蒸気および浸液の蒸気を含む請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、不活性ガスをさらに含む請求項3に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、IPAおよびN2の蒸気の混合物を含む請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、上記接触領域の上記境界線に沿って異なる区域に供給される請求項1に記載の方法。
- 上記浸液の閉じ込めが、上記異なる区域の各々で別々に最適化された請求項8に記載の方法。
- 上記異なる区域が、相対速度ベクトルに対する上記境界線の局所方向により選択される請求項8に記載の方法。
- 上記異なる区域が側部、進行部、および後退部に分割される請求項8に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質を供給する上記ステップが、上記接触領域の上記境界線に向いた噴射を提供するステップを含む請求項1に記載の方法。
- 上記界面活性のガス状の物質が、上記接触領域の上記境界線に向き、上記液浸露光ヘッドアセンブリの周りに取り付けられた細長い孔の形状の噴出口により供給される請求項1に記載の方法。
- 上記浸液を供給する上記ステップが、上記液浸露光ヘッドアセンブリの片側で上記浸液を供給するステップおよび上記液浸露光ヘッドアセンブリのもう1つの側で上記浸液を排出するステップを含む請求項1に記載の方法。
- 上記浸液を再循環させるステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 上記浸液を処理するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 液浸リソグラフィの装置であって、
基板を保持する手段;
液浸露光ヘッドアセンブリ;
上記基板と上記液浸露光ヘッドアセンブリとの間に浸液を供給する手段;および
上記浸液と上記基板との接触領域の境界線に沿って、界面活性のガス状の物質を供給する手段を組み合わせて備え、表面張力勾配がつくられて、上記境界線から上記接触領域へ上記浸液を引っ張ることを特徴とする装置。 - 上記界面活性のガス状の物質を供給する上記手段が、上記接触領域の上記境界線に沿って異なる区域に分離される請求項17に記載の装置。
- 上記界面活性のガス状の物質を供給する上記手段が、上記異なる区域の各々の中への上記浸液の閉じこめを別々に最適化するのに適した請求項18に記載の装置。
- 上記異なる区域が、相対速度ベクトルに対する上記境界線の局所方向により選択される請求項18に記載の方法。
- 上記異なる区域が、側部、進行部および後退部に分割される請求項18に記載の装置。
- 上記界面活性のガス状の物質を供給する上記手段が、上記接触領域の上記境界線に向いた噴射を提供する装置を備える請求項17に記載の装置。
- 界面活性のガス状の物質を供給する上記手段が、上記接触領域の上記境界線に向き、上記液浸露光ヘッドアセンブリの周りに取り付けられた細長い孔の形状の噴出口をもつノズルを備える請求項17に記載の装置。
- 上記浸液を供給する上記手段が、上記液浸露光ヘッドアセンブリの片側で上記浸液を供給し、上記液浸露光ヘッドアセンブリのもう1つの側で上記浸液を排出するために配置された請求項17に記載の装置。
- 上記浸液を処理するために配置された再循環装置をさらに備える請求項17に記載の装置。
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