KR0134570B1 - 전립선 이상비대 치료용 아자스테로이드 화합물, 그것의 제조방법 및 용도 - Google Patents
전립선 이상비대 치료용 아자스테로이드 화합물, 그것의 제조방법 및 용도Info
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Abstract
하기 식 (I)의 화합물 :
(식중, R1은 수소원자, 비치환 알킬기, 아릴-치환 알킬기 또는 헤테로시클릭-치환 알킬기이고; R2는 아릴-치환 알킬기, 헤테로시클릭-치환 알킬기 또는 디아릴아미노기이며; R3는 수소원자, 비치환알킬기, 아릴-치환 알킬기 또는 탄소수 3-6인 알케닐기이고; α-β 및 γ-δ로 나타내는 각각의 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중결합이다) 및 약학적으로 허용 가능한 그의 염 및 에스테르는 전립선 이상비대증의 치료 및 예방에 유용하다. 또한 그의 제조방법을 제공한다.
Description
본 발명은 전립선 이상비대 치료 및 예방에 유용한 일련의 신규한 아자스테로이드 화합물에 관한 것이고, 그것의 제조방법 뿐만아니라 그것을 이용하는 방법 및 조성물을 제공한다.
테스토스테론 5α-환원 효소의 활성을 억제하는 화합물은 전립선 이상비대의 치료 및 예방에 유용할수 있고, 이러한 유형의 활성을 지니어 위목적에 유용할수 있는 수개의 화합물이 미합중국 특허 제 4 179 453 호 및 제 4 760 071호에 개시되어 있지만, 전립선 이상비대에 이용될수 있는 치료법은 매우 제한되어 있다. 이러한 화합물들중, 가장 활성을 지니며 본 발명 화합물과 가장 가깝다고 믿어지는 것들은 하기식(A)의 화합물이다 :
식중, R' 및 R는 둘다 에틸기를 나타내거나(화합물 A1), 또는 R'는 수소원자이고, R는 t-부틸기이다(화합물 A2). 그러나, 이 화합물들이 상당히 강한 활성을 지니는 반면, 더 큰 활성의 화합물을 개발할 필요가 있다.
현재, 본 발명가는 아자스테로이드 골격의 위치 -17에서 어떤 특정 카르바모일 치환체를 지니는 화합물은 우수한 5α-환원효소 억제활성을 지니고 따라서 상기 언급된 유형의 치료 및 예방에 사용될수 있음을 발견하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 전립선 이상비대 치료 및 예방에 유용할 수 있는 신규의 일련의 아자스테로이드 화합물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 보다 특정한 목적은 전립선 이상비대의 치료 및 예방에 있어서 개선된 활성을 지니는 신규의 일련의 아자스테로이드 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명의 화합물은 하기식 (I)의 아자스테로이드 화합물 및 약학적으로 허용 가능한 그것의 염 및 에스테르 :
식중, R1은 수소원자, 탄소수 1∼6인 비치환 알킬기를 나타내거나 하기 정의되는 아릴기, 하기 정의되는 방향족 헤테로시클릭기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환체로 치환되는 탄소수 1∼6인 치환 알킬기를 나타내고;
R2는 하기 정의되는 아릴기 및 하기 정의되는 헤테로시클릭기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환체로 치환되는 탄소수 1∼6인 치환 알킬기 및 그렇지 않으면 비치환 알킬기 또는 카르복시기 및 히드록시기 또는 디아릴 아미노기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 부가적 치환체로 치환되는 치환 알킬기를 나타내며;
R3는 수소원자, 탄소수 1∼6인 비치환 알킬기, 하기 정의되는 아릴기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환체로 치환되는 탄소수 1∼6인 치환 알킬기 또는 탄소수 3∼6인 알케닐기를 나타내고; α-β 및 γ-δ로 나타내는 각 결합은 탄소-탄소 단일 결합 (-CH2-CH2-)또는 탄소=탄소 이중결합 (-CH2=CH2-)이며; 언급된 아릴기는 탄소수 1-6인 알킬기, 탄소수 1-6인 알콕시기, 탄소수 2-7인 알콕시카르보닐기, 히드록시기, 할로겐원자 및 R2가 탄소수 1-5인 지방족 카르복실아실기를 나타내는 식 -NHRa의 기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환체로 치환되거나 비치환되는 6-10개의 고리 탄소원자의 카르복실산 아릴기이고; 언급된 방향족 헤테로 시클릭기는 탄소수 1-6인 알킬기, 탄소수 1-6인 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환체로 치환되거나 치환되지 않으며 질소, 산소 및 황헤테로 원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로원자를 1-3개로 하는 5 또는 6개의 고리 원자를 지닌다.
본 발명은 또한 전립선 이상비대의 치료 및 예방용 조성물을 제공하고, 그 조성물은 담체 또는 희석제를 지닌 혼합물중 최소한 하나의 활성 화합물의 유효량을 함유하고, 그 활성 화합물은 식 (I)의 최소한 하나의 한 화합물 또는 약학적으로 허용가능한 그것의 염 또는 에스테르이다.
본 발명은 또한 여전히 전립선 이상비대의 치료방법을 제공하고, 그 치료방법은 동물에 최소한 하나의 활성 화합물을 투여하는 것으로 이루어지는데, 동물은 바람직하게는 포유동물, 그것은 인간도 될 수 있으며, 활성 화합물은 최소한 하나의 식 (I)의 한 화합물 또는 약학적 허용가능한 그것의 염 또는 에스테르이다.
본 발명은 또한 이하보다 상세하게 기술되는 본 발명 화합물의 제조 방법을 제공한다.
식(I)의 화합물에서 R1은 탄소수 1-6인 알킬기이고, 이것은 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄기일수 있고, 그 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, t-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 헥실 및 이소헥실기가 포함된다. 이들중, 탄소수 1-4인 알킬기, 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸기, 보다 바람직하게는 메틸기 및 에틸기, 가장 바람직한 것은 메틸기이다. 그 알킬기는 상기 정의 및 하기 예시와 같은 아릴기, 상기 정의 및 하기 예시와 같은 방향족 헤테로시클릭기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환체로 바람직하게는 하나 또는 2개의 치환체로 치환되거나 비치환될 수 있다.
그와같은 아릴기의 예로는 하기 기들중 하나 또는 그 이상, 바람직하게는 1-3개 기, 보다 바람직하게는 하나 또는 2개 기로 치환되거나 비치환될 수 있는 페닐 및 나프틸(1-또는 2-나프틸)기를 포함한다 :
알킬기는 1-6개의 탄소원자를 가지며, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, t-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 헥실 및 이소헥실기이고, 이중 메틸기와 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다:
알콕시기는 1-6개의 탄소원자를 가지며, 예를들면, 메톡시,에톡시, 프로폭시,이소프로폭시. 부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, t-부톡시, 펜틸옥시, 이소펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 헥실옥시 및 이소헥실옥시기이고, 이중 메톡시 및 에톡시기가 바람직하고, 메톡시기가 가장 바람직하다:
할로겐원자는, 예를들면, 플루오르, 염소, 브롬 또는 요오드원자이고, 이중 플루오르와 염소가 바람직하다; 알콕시카르보닐기는 2-7개, 바람직하게는 2-5개의 탄소원자를 지니고(즉, 알콕시기 부분 그자체는 1-6개, 바람직하게는 1-4개의 탄소원자를 함유한다.) 예를들면, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 포로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, 부톡시카르보닐, 이소부톡시카르보닐, sec-부톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, 펜틸옥시카르보닐, 이소펜틸옥시카르보닐, 네오펜틸옥시카르보닐, 헥실옥시카르보닐 및 이소헥실카르보닐기이고, 그중 메톡시카르보닐 및 에톡시카르보닐기가 바람직하다; 식 -NMRa의 기는 Ra가 탄소수 1-5의 지방족 카르복실릭 아실기를 나타내며, 예를들면 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 발레릴, 이소발레릴 및 피발로일기이고, 그중 포르밀 및 아세틸기가 바람직하고; 히드록시기.
치환 및 비치환 아릴기의 예로는 페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 2-,3- 및 4-톨릴, 2-,3- 및 4-메톡시페닐, 2-,3- 및 4-에틸페닐, 2-,3- 및 4-에톡시페닐, 2-,3- 및 4-클로로페닐, 2-,3- 및 4-플루오로페닐, 2-,3- 및 4-히드록시페닐, 2-,3- 및 4-아세트아미도페닐 및 2-.3- 및 4-포름아미도페닐기가 포함된다.
R1위 치환체는 헤테로시클릭기일때는, 이것은 1-3개의 고리원자가 질소,산소 및 황헤테로-원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로 원자인 5또는 6개의 고리원자를 가진다. 헤테로시클릭기는 비치환될수도 있고 또는 상기 예시된 바와 같이 탄소수 1-6인 알킬기, 탄소원자 1-6인 알콕시기 및 할로겐원자로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환체로 치환될수 있다. 3개의 헤테로원자가 존재할때는, 이것들은 동일또는 상이할 수 있고 질소, 산소 및 황원자로부터 선택된다: 그러나, 보다 바람직하게는 하나는 질소원자 또는 산소원자이고 다른 하나는 질소원자, 산소원자 떠는 황원자인 것이다. 그러한 기들은 상기 정의된 치환체중 최소한 하나의(바람직하게는 1-3개)치환체로 치환될수 있거나 비치환될 수 있다.
그와 같은 비치환 기의 예로는 푸릴(2-또는 3-), 티에닐(2-또는 3-), 피리딜(2-,3-또는 4-), 피롤릴(2-또는 3-), 이미다졸릴(2-,4-또는 5-), 티아졸릴(2-,4-또는 5-), 이소티아졸릴(3-,4-또는 5-), 옥사졸릴(2-,4-또는 5-), 이속사졸릴(3-,4-또는 5-), 피라진일(2- 또는 3-), 피리미디닐(2-,4-,5- 또는 6-) 및 피리다지닐(3-,4-,5-또는 6-)기가 포함되고, 그중 푸릴 및 티에닐기가 바람직하고 특히 티에닐기가 바람직하다.
R2가 치환 알킬기를 나타낼 때, 알킬 부분은 R1과의 관계에서 상기 예시된 알킬기중 임의의 것이 될 수 있고, 그기는 최소한 한 개는 반드시 치환되어야 하고, 바람직하게는 1-5개(치환가능한 위치의 이용성에 따라)보다 바람직하게는 1-3개, 가장 바람직하게는 1 또는 2개의 치환체로 치환되는 것이다; 이것들은 아릴기 및 방향족 헤테로시클릭기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 한 개의 치환체를 포함하여야만 하며, 이들 아릴기 및 방향족 헤테로시클릭기는 R1으로 나타낸 기 위 치환체의 관계에서 상기 예시된 바와 같고, 임의의 카르복시 또는 히드록시 치환체를 부가로 함유 할수 있다.
R2가 디아릴아미노기를 나타낼 때, 두 개의 아릴 부분은 동일 또는 상이 할수 있고, 그것들은 R1위 아릴 치환체의 관계에서 상기 예시된 바와 같을 수 있다. 바람직한 그와 같은 기는 디페닐아미노기이다.
R3는 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 최소한 하나의 아릴기, 카르복시기 또는 히드록시기로 치환되며, 탄소수 1-6인 치환알킬기를 나타낼 수 있으며 그 경우, 그것들은 모두 R1으로 나타낼 수 있는 유사한 기와 관계해서 상기 예시한 바와 같을 수 있다. 또는, 그것은 알케닐기를 나타낼수 있다. R3가 알케닐기를 나타낼 때, 이것은 탄소수 3-6 이고 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 그와 같은 기의 예로는 알릴, 메트알릴, 2-부텐일, 2-펜텐일 또는 2-헥센일을 포함한다; 이들중 3 또는 4개 탄소원자를 지니는 알케닐기가 바람직하고 특히 알릴기가 바람직하다.
바람직하게는, α-β 결합은 탄소-탄소 단일 결합이고 γ-δ 결합은 탄소-탄소 단일 결합이거나 탄소-탄소 이중 결합이고, 또는 α-β 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고 γ-δ 결합은 탄소-탄소 단일 결합이다.
하기식으로 나타내는 바람직한 기의 예는 하기 기를 포함한다;
벤질아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 메틸벤질) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 플루오로벤질) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 플루오르벤질) 아미노,
펜에킬아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 메틸펜에틸) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 메톡시펜에틸) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 플루오로펜에틸) 아미노,
(2 -,3 - 또는 4 - 클로로펜에틸) 아미노,
(3 - 페닐프로필) 아미노,
(1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 또는 4 - 아세트아미도페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 - 2, 4 -, 2, 5 -, 2, 6 -, 3, 4-, 3, 5 - 또는 3, 6 - 디메톡시페닐) 에틸] 아미노,
(1, 1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
[1, 1 - 디메틸 - 2 - (2, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1, 1 - 디메틸 - 2 - (2, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1, 1 - 디메틸 - 2 - (2, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 에틸] 아미노,
[1, 1 - 디메틸 - 2 - (2, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
벤즈히드릴아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) -디플루오로벤즈히드릴] 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) -디메톡시벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 를루오로벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤즈히드릴] 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) -디히드록시벤즈히드릴] 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) -디메틸벤즈히드릴] 아미노,
(1, 1 - 디페닐에틸) 아미노,
(1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
(1 - 메틸 -1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
(2, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
(1 - 벤질 - 4 - 페닐부틸) 아미노,
(1, 1 - 디페닐에틸) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
트리틸아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -), (2 -, 3 - 또는 4 -) - 트리플루오로트리틸아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -), (2 -, 3 - 또는 4 -) - 트리메틸트리틸아미노,
(1 - 벤질 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
(1 - 벤질 - 1 - 메틸 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - 메틸프로필] 아미노,
(1, 3 - 디페닐프로필) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 프로필] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 프로필] 아미노,
(1, 4 - 디페닐프로필) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 4 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 부틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 4 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 부틸] 아미노,
(1, 메틸 - 3, 3 - 디페닐프로필) 아미노,
[3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - 메틸프로필] 아미노,
[1 - 메틸 - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 3 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 프로필] 아미노,
N - 벤질 - N - 메틸아미노,
N - 벤질 - N - 에틸아미노,
N - 벤질 - N - 이소프로필아미노,
N - 벤질 - N - 이소부틸아미노,
N - 벤질 - N - t - 부틸아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) - N - 이소프로필아미노,
N,N - 디벤질 아미노,
N - 벤질 - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) 아미노,
N - 벤질 - N - 펜이틸아미노,
N - 벤질 - N - (1 - 페닐에틸) 아미노,
N - 벤질 - N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) 아미노,
N,N - 디펜에틸아미노,
N,N - 비스 (1 - 페닐에틸) 아미노,
N - 벤질 - N - (3 - 페닐프로필) 아미노,
(2 - 또는 3 - 푸릴메틸) 아미노,
(2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 피리딜메틸) 아미노,
(2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 푸릴메틸) 아미노,
(2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
[2 - (2 - 또는 3 - 푸릴) 에틸) 아미노,
[2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸) 아미노,
[3 - (2 - 또는 3 - 푸릴) 프로필) 아미노,
[3 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 프로필) 아미노,
[비스 (2 - 또는 3 - 푸릴메틸) 아미노,
[비스 (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
[1, 1 - 비스 (2 - 또는 3 - 푸릴) 에틸) 아미노,
[1, 1 - 비스 (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸) 아미노,
[(2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 푸릴), (2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 푸릴) 메틸) 아미노,
[(2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐), (2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐) 메틸) 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 5 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 5 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 푸릴) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 2 - (2 - 또는 3 - 푸릴) 에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴 - 2 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[2 - 페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - 페닐 - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
N - (2 - 또는 3 - 푸릴메틸) - N - (2 - 또는 3 - 푸릴메틸) 아미노,
N - (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) - N - (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
N - 벤질 - N - (2 - 또는 3 - 푸릴메틸) 아미노,
N - 벤질 - N - (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
(2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
N,N - 디페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤질) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 아세트아미도페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 히드라지노, 및
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 히드라지노
그와 같은 보다 바람직한 기에는 하기 기들이 포함된다 :
(1 -메틸 - 1 - 페닐에틸) 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 아세트아미도페닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2, 3 -, 2, 4 -, 2, 5 -, 2, 6 -, 3, 4 -, 3, 5 - 또는 3, 6 - 디메톡시페닐) 에틸] 아미노,
(2, 1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
벤즈히드릴아미노
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디플루오로벤즈히드릴] - 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디메톡시벤즈히드릴] - 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤즈히드릴) 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤즈히드릴) 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤즈히드릴) 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤즈히드릴) 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤즈히드릴) 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디히드록시벤즈히드릴] - 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디메틸벤즈히드릴] - 아미노,
(1, 1 - 디페닐에틸) 아미노,
(1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) 페닐에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 2 - 페닐에틸] 아미노,
(1 - 메틸 - 1, 2 - 디페닐에틸] 아미노,
(2, 2 - 디페닐에틸] 아미노,
(1, 1 - 디페닐에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - 1 - 페닐에틸] 아미노,
트리틸아미노,
(1 - 벤질 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
(1 - 벤질 - 1 - 메틸 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
N - 벤질 - N - 메틸아미노,
N - 벤질 - N - 에틸아미노,
N - 벤질 - N - 이소프로필아미노,
N - 벤질 - N - 이소부틸아미노,
N - 벤질 - N - t - 부틸아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) - N - 이소프로필아미노,
N - 벤질 - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
N,N - 디벤질아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤질) 아미노,
[비스 (2 - 또는 3 - 푸릴) 메틸] 아미노,
[비스 (2 - 또는 3 - 티에닐) 메틸] 아미노,
[1, 1 - 비스 (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[(2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐), (2 - 또는 3 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐) 메틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 1 - 메틸에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 5 - 메틸 - 2 - 또는 3 - 티에닐) - 1 - 메틸 - 에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 2 - (2 - 또는 3 - 푸릴) 에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 - 푸릴) - 2 - 페닐에틸] 아미노,
[2 - 페닐 - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - 페닐 - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - 1 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
N - (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) - N - (2 - 또는 3 - 티에닐메틸) 아미노,
[1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - 2 - (2 - 또는 3 - 티에닐) 에틸] 아미노,
(2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
N,N - 디페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 아세트아미도페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐) 히드라지노, 및
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 히드라지노
이런 기로 가장 바람직한 것은 다음과 같다 :
(1- 메틸 - 1 - 페닐에틸) 아미노,
[1- 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸페닐)에틸] 아미노,
[1- 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐)에틸] 아미노,
[1- 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 클로로페닐)에틸] 아미노,
[1- 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐)에틸] 아미노,
[1- 메틸 - 1 - (2 -, 3 - 또는 4 - 아세트아미도페닐)에틸] 아미노,
(1, 1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸) 아미노,
벤즈히드릴아미노
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디플루오로벤즈히드릴] - 아미노,
[(2 -, 3 - 또는 4 -), (2' -, 3' - 또는 4' -) - 디메톡시벤즈히드릴] - 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 클로로벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤즈히드릴] 아미노,
(2 -, 3 - 또는 4 - 히드록시벤즈히드릴] 아미노,
(1, 1 -디페닐에틸) 아미노,
(1, 2 -디페닐에틸) 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 -클로로페닐) - 1 - 페닐에틸] - 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 -플루오로페닐) - 1 - 페닐에틸] - 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 -메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 아미노,
[2 - (2 -, 3 - 또는 4 -메톡시페닐) - 1 - 페닐에틸] - 아미노,
N,N - 디벤질아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메틸벤질) 아미노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시벤질) 아미노,
[1 - (2 - 또는 3 -티에닐) - 1 - (2 - 또는 3 -티에닐) 메틸] 아미노,
[2 - 페닐 - 1 - (2 - 또는 3 -티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 - 또는 3 -티에닐) 에틸] 아미노,
[1 - 메틸 - 1 - (2 - 또는 5 - 메틸 - 2 - 또는 3 -티에닐) 에틸] 아미노,
(2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸) 아미노,
N,N - 디페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 플루오로페닐) - N - 페닐히드라지노,
N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) - N - (2 -, 3 - 또는 4 - 메톡시페닐) 히드라지노,
본 발명의 화합물이 카르복시기 또는 페놀성 히드록시기를 함유하는 경우, 이들 화합물은 염기와 염을 형성할 수 있다. 이들 염은 치료용일 경우 약학상 허용가능한 것이기만 하면 그 종류가 특별히 한정되지 않는다. 비치료용일 경우, 예컨대 기타 보다 활성인 화합물의 제조용 중간체로 사용될 경우에는 이러한 제한마저도 적용되지 않는다. 이런 염의 예로는 알칼리 금속 (예. 나트륨, 칼륨 또는 리튬)염, 알칼리 토금속 (예. 바륨, 또는 칼슘)염, 기타 금속 (예. 마그네슘 및 알루미늄)염, 유기염기 (예. 디시클로헥실아민) 염, 및 염기성 아미노산 (예. 리신 또는 아르기닌) 염이 있으며, 이들중에서 바람직한 것은 알칼리 금속염이다.
유사하게, 상기 산성 화합물은 에스테르를 형성할 수 있으며 이런 에스테르가 치료용일 경우 약학상 허용가능한 것이기만 하면 그 종류가 특별히 한정되지 않는다. 이런 에스테르의 예로는 탄소수 1-6의 알킬기와의 에스테르, 알킬 부분의 탄소수가 1-6인 아릴 - 치환 알킬기와의 에스테르, 또는 탄소수 3-6의 알케닐기와의 에스테르가 있으며 이들중에서 바람직한 것은 탄소수 1-4의 의 알킬기, 벤질기, 벤즈히드릴기 또는 알릴기와의 에스테르이다.
본 발명의 화합물은 분자중에 수개의 부제 탄소원자를 함유하여 광학 이성질체를 형성할 수 있다. 이들 화합물은 모두 본 명세서에서 단일 분자식으로 표시되고 있지만, 본 발명은 그의 라세미체를 포함하여 각 분리된 이성질체 및 혼합물을 포함한다. 입체 특이적 합성 기술이 사용되거나 출발물질로 광학 활성 화합물이 사용되는 경우에는 각 이성질체가 직접 제조될수 있는데, 한편, 이성질체의 혼합물이 제조된 경우에는 통상의 분리기술을 사용하여 각 이성질체를 수득할 수 있다.
본 발명의 화합물로 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식(I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다:
(A) R1는 수소원자, 탄소수 3의 알킬기, 벤질기, 하기 치환기 (a)로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 벤질기, 푸릴메틸기 또는 티에닐메틸기이다 :
치환기 (a)는 탄소수 1-4의 알킬기, 탄소수 1-4의 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실성 아실아미노기로 구성된 군에서 선택한다.
(B)R2는 페닐기, 상기 (A)에서 정의된 치환기 (a)로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환페닐기, 푸릴기, C1∼ C4알킬 치환기로 치환되는 푸릴기, 티에닐기 및 C1∼ C4알킬 치환기로 치환된 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 치환기 1개 이상에 의해 치환된 탄소수 1-4의 의 치환 알킬기 (이 알킬기는 더 치환되지 않거나 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 적어도 하나의 치환기에 의해 치환됨) : 또는 각 페닐기가 비치환되었거나 1개 페닐기 또는 2개 페닐기 모두가 상기 (a)에서 정의된 치환기 (a)로 구성된 군에서 선택된 적어도 하나의 치환기에 의해 치환된 디페닐 아미노기이다.
(C) R3는 수소원자; 탄소수 1-4의 알킬기; 페닐기, 상기(A)에서 정의된 치환기 (a)로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기를 갖는 치환 페닐기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-4의 치환알킬기 ; 또는 탄소수 3 또는 4의 알케닐기이다.
(D)α-β로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합이고 γ-δ로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, α-β로 표시된 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합이다.
이들 중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1가 상기 (A)에서 정의된 바와 동일하고 R2가 상기 (B)에서 정의된 바와 동일하고 R3가 상기 (C)에서 정의된 바와 동일하고, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (D)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물로 보다 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식 (I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 :
(E) R1는 수소원자, 이소프로필기, 벤질기, 하기 치환기 (b)로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환벤질기 또는 티에닐메틸기이다 ;
치환기 (b)는 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 히드록시기, 에톡시카르보닐기, 메톡시카르보닐가, 포름아미도기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택된다.
(F) R2는 페닐기, 상기 (E)에서 정의된 치환기 (b), 푸릴기, 메틸 치환기가 있는 치환푸릴기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기, 티에닐기 및 메틸 치환기를 갖는 치환 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 치환기 1개 이상에 의해 치환된 탄소수 1-4의 치환알킬기 (이 알킬기는 더 치환되지 않거나 적어도 하나의 히드록시 치환기에 의해 치환됨) : 또는 각 페닐기가 비치환되었거나 1개 페닐기 또는 2개 페닐기 모두가 상기 (E)에서 정의된 치환기 (b)로 구성된 군에서 선택된 적어도 하나의 치환기에 의해 치환된 대페닐아미노기이다.
(G) R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 벤질기, 상기 (E)에서 정의된 치환기 (b)로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 치환 벤질기, 적어도 1개의 히드록시 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-3의 치환알킬기 또는 알릴기이다.
이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1가 상기 (E)에서 정의된바와 동일하고, R2가 상기 (F)에서 정의된 바와 동일하고, R3가 상기(G)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (D)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물로 가장 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식(I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 :
(H) R1및 R2는 동일하거나 상이하며, 각각은 벤질기 또는 하기 치환기 (c)로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 벤질기이다 :
치환기 (c)는 메틸기, 메톡시기, 불소원자, 염소원자, 히드록시기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택된다. 또는 (H') R1는 수소원자이고: R2는 페닐기, 상기 (H)에서 정의된 치환기 (c), 푸릴기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-3의 치환 알킬기, 또는 각 페닐기가 비치환되었거나 1개 페닐기 또는 2개 페닐기 모두가 상기 (H)에서 정의된 치환기 (c)로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 디페닐아미노기이다.
(I) R3는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이다. 이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1및 R2가 상기 (H) 또는 (H')에서 정의된 바와 동일하고 R3가 상기 (I)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기(D)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
또는, 본 발명의 화합물로 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식 (I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 :
(J) R1는 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 또는 하기 정의될 아릴기, 하기 정의될 방향족 헤테로고리기 및 카르복시기로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-6의 치환 알킬기이다.
(K) R2는 하기 정의될 아릴기 및 하기 정의될 방향족 헤테로고리기로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-6의 치환 알킬기이다.
(L) R3는 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 또는 하기 정의될 아릴기 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-6의 치환 알킬기이다.
(M)α-β 및 γ-δ로 표시된 결합은 각각 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중결합이다.
상기 (J) -(L)에서 아릴기는 비치환되었거나 탄소수 1-4의 알킬기, 탄소수 1-4의 알콕시기, 히드록시기 및 할로겐원자로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 고리 탄소수 6-10의 탄소고리형 아릴기이다.
상기 (J) 및 (K)에서 방향족 헤테로고리기는 5 또는 6개의 고리원자를 가지며, 이들중 1개는 질소, 산소 및 황 헤테로원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로원자이고, 비치환되었거나 탄소수 1-4의 알킬기, 탄소수 1-4의 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 적어도 1개의 치환기에 의해 치환된 것이다.
이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1가 상기 (J)에서 정의된 바와 동일하고, R2가 상기 (K)에서 정의된 바와 동일하고, R3가 상기(L)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (M)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물로 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식(I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 : (N) R1는 수소원자; 탄소수 1-4의 비치환 알킬기; 또는 페닐기, C1∼C4알킬, C1∼C4알콕시, 할로겐 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 1개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-4의 치환알킬기이다.
(O) R2는 페닐기, 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 1∼4의 알콕시기, 할로겐 원자 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 1-3개의 치환기에 의해 치환된 탄소수 1-4의 치환알킬기이다.
(P) R3는 수소원자: 탄소수 1-4의 알킬기: 페닐가, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 탄소수 1-4의 치환알킬기; 또는 탄소수 3 또는 4의 알케닐기이다.
(Q) α-β로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합이고, γ-δ로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, α-β로 표시된 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합이다.
이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1가 상기 (N)에서 정의된 바와 동일하고, R2가 상기 (O)에서 정의된 바와 동일하고, R3가 상기(P)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (Q)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물로 보다 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식(I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 :
(R) R1는 수소원자이고; R2는 식 -C(CH3)(CH3)-R2'(식중, R2'는 페닐기; 메틸, 메톡시, 클로로, 플루오로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기; 또는 페닐기, 메틸, 메톡시, 플루오로, 클로로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 2 또는 3개 갖는 탄소수 1-3의 치환 알킬기이다)의 기이다.
또는, (R') R1및 R2는 동일하거나 상이하며, 각각은 페닐기, 메틸, 메톡시, 플루오로, 클로로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 하나 갖는 탄소수 1-3의 치환 알킬기이다.
(S) R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 알릴기 또는 벤질기이다.
(T) α-β로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ로 표시된 결합은 탄소-탄소 단일 결합이다.
이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1및 R2가 상기 (R) 또는 (R')에서 정의된 바와 동일하고 R3가 상기 (S)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (T)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물로 바람직한 것은 식중 기호의 정의가 다음과 같은 식(I)의 화합물 및 그의 염 및 에스테르이다 :
(U) R1는 수소원자이고; R2는 디페닐메틸기, 메틸, 메톡시, 플루오로, 클로로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 디페닐메틸기, 1, 2 - 디페닐에틸기, 메틸, 메톡시, 플루오로, 클로로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 1, 2 - 디페닐에에틸기, 1, 1 - 디페닐에틸기, 또는 메틸, 메톡시, 플루오로, 클로로 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 적어도 하나 갖는 치환 1, 1 - 디페닐에틸기이다.
(V) R3는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이다. 이들중에서 특히 바람직한 것은 식중 R1및 R2가 상기 (U)에서 정의된바와 동일하고, R3가 상기 (V)에서 정의된 바와 동일하며, α-β 및 γ-δ로 표시된 결합이 상기 (T)에서 정의된 바와 동일한 화합물이다.
본 발명의 화합물의 특정에는 하기 식 (I-1), (I-2) 및 (I-3)로 표시되며, 이들 식에서 사용된 기호는 표 1, 2 및 3에서 각각 정의된 바와 같고, 표 1는 식(I-1)에 관한 것이고, 표 2는 식(I-2)에 관한 것이며 표 3는 (I-3)에 관한 것이다.
하기 표에서 사용된 약어는 다음과 같은 치환기를 의미한다 :
Ac : 아세틸, All : 알릴, Bu : 부틸, Bz : 벤질, Bzhy : 벤즈히드릴, Et : 에틸, Fur : 푸릴, Me : 메틸, Mec : 메톡시카르보닐, Ph : 페닐, Pr : 프로필, Thi : 티에닐
상기 표에 나열한 화합물중에서 하기의 화합물이 바람직하다. 즉 화합물번호 1-1, 1-2, 1-3, 1-4, 1-5, 1-11, 1-14, 1-16, 1-20, 1-22, 1-28, 1-32, 1-36, 1-38, 1-39, 1-44, 1-45, 1-46, 1-47, 1-48, 1-57, 1-58, 1-70, 1-74, 1-75, 1-76, 1-81, 1-82, 1-85, 1-86, 1-87, 1-88, 1-89, 1-95, 1-96, 1-97, 1-100, 1-101, 1-104, 1-107, 1-108, 1-109, 1-110, 1-111, 1-112, 1-113, 2-1, 2-2, 2-4, 2-5, 2-7, 2-8, 2-12, 2-14, 2-16, 2-17, 2-18, 2-19, 2-20, 2-21, 2-23, 2-24, 2-26, 2-28, 2-29, 2-31, 2-33, 2-34, 2-35, 2-36, 2-42, 2-43, 2-44, 2-47, 2-48, 2-52, 2-54, 2-55, 2-56, 2-57, 2-58, 2-59, 3-1, 3-2, 3-4, 3-5, 3-7, 3-8, 3-12, 3-14, 3-15, 3-16, 3-17, 3-18, 3-19, 3-20, 3-21, 3-23, 3-24, 3-28, 3-29, 3-31, 3-32, 3-33, 3-34, 3-35, 3-36, 3-42, 3-43, 3-45, 3-47, 3-48, 3-50, 3-53, 3-54, 3-55, 3-56, 3-57 및 3-58,
가장 바람직한 화합물의 화합물 번호는 하기와 같다.
1-1 N-(1, 2 - 디페닐에틸) - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-2 N-(디페닐메틸) - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-3 N-(1, 1 - 디페닐에틸) - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-22 N-[2 - (4 - 페틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-36 N-(디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-38 N-(1, 2 - 디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-44 N-(1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-45 N-[1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸)] -3 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-46 N-[1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸)] -4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-47 N-(1 - 메틸 - 1 -페닐에틸) -4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-74 N-[2 - (4 - 메틸페닐) - 1 -페닐에틸] -4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-76 N-(1, 1 - 디페닐에틸) -4 - 메틸 - 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-81 N-[α - (4 - 히드록시페닐) 벤질)] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-82 N-[α - (4 - 히드록시페닐) 벤질)] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-88 N-[1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-89 N-[1 - (4 - 메톡시페닐) - 1- 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-100 N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드;
1-101 N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드;
1-104 N-[1 - (3 - 메톡시페닐) - 1- 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
1-114 N-[1 - 메틸 - 1 - (2 - 푸릴) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복사미드;
2-1 N-(1, 2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-2 N-(1, 2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-4 N-(디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-5 N-(디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-16 N-[1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-17 N-[1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-18 N-(1, 1 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-19 N-(1, 1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-20 N-(1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-21 N-(1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-23 N-(1 - 메틸 - 1 - (2 - 티에닐) 에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-24 N-(1 - 메틸 - 1 - (2 - 티에닐) 에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-28 N-[ - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-29 N-[ - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-35 N-[1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-36 N-[1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-44 N-[2 - (히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-47 N.N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-48 N.N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드;
2-52 N-[1 - (2 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
2-60 N-[1 - 메틸 - 1 - (2 - 푸릴) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-1 N-(1, 2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-2 N-(1, 2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-4 N-(1, 2 - 디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-5. N-(1, 2 - 디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-16. N - [2 -(4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-17. N - [2 -(4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-18. N - (1, 1 - 디페닐에틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-19. N - (1, 1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-20. N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-21. N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-23. N - [1 - 메틸 - 1- (2 - 티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-24. N - [1 - 메틸 - 1- (2 - 티에닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-28. N - [ - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-29. N - [ - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-35. N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-45. N - (2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-47. N.N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드;
3-48. N.N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드;
3-50. N - [1 - (3 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-53. N - [1 - (2 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드;
3-58. N - [1 - 메틸 - 1 - (2 - 푸릴) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복사미드.
본 발명의 화합물은 이러한 형태의 화합물 제조용으로 널리 알려진 다양한 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면, 일반적으로 하기와 같이 제조할 수 있다 :
(a) 일반식 (II)의 아미노 화합물을 일반식 (III)의 아자스테로이드 유도체와 반응시키고;
(b) W 및 W'가 함께 일반식 (IVa)의 기일 경우, 단계 (a)에서 생성된 화합물을 산화시켜 언급한 기를 이란식 (IVb)의 기를 전환시키고, 생성된 화합물을 일반식 (V)의 화합물과 반응시켜 일반식 (IV)의 기로 전환시키며;
(c) 경우에 따라, R3기를 임의의 다른 기로 전환시키고;
(d) 경우에 따라, α-β로 표시한 탄소 - 탄소 단일 결합을 탄소 - 탄소 이중 결합으로 전환시키며;
(e) 경우에 따라, 임의의 단계에서 화합물을 염화 또는 에스테르화시켜 제조한다 :
상기식에서,
R1, R2, R3, α-β 및 γ-δ은 상기에서 정의한 바와 같고, W 및 W'는 함께 일반식 (IV)의 기를 나타내거나, 일반식 (IVa)의 기를 나타내며, Me는 메틸이다. 보다 상세히는, 이들 반응을 다음과 같이 수행한다 :
상기 반응에서, 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (IIIA)의 아자스테로이드 유도체 또는 이의 반응성 유도체와 일반식 (II)의 화합물을 반응시켜 제조한다. 일반식 (II)의 화합물이 하나 이상의 카르복시기를 함유할 경우, 카르복시기는 바람직하게는 당해 분야에서 잘 알려진 보호기 및 시약을 사용하여 반응 이전에 보호한다. 카르복시 - 보호기의 예;는 t-부틸, 벤즈히드릴, 4-메틸벤즈히드릴 및 4-메톡시벤즈히드릴기이다. 반응은 아지드 방법, 활성 에스테르 방법, 혼합산 무수물 방법 또는 축합 방법 등의 펩티드 합성에 사용할 수 있는 통상적인 방법을 사용하여 수행할 수 있다.
이 반응에 있어서, 카르복시-보호기는 보호기의 특성에 따라 통상적인 방법, 예를 들면, 생성된 화합물을 불활성 용매속에서 산처리하여 제거할 수 있다. 사용할 수 있는 산의 예는 : 염산, 브롬화수소산 및 요오드화수소산 등의 할로겐화수소산 ; 및 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산 및 트리플루오로메탄술폰산 등의 강 유기 카르복실산 및 술폰산이고, 이들중에서 유기산이 바람직하다. 사용하는 용매의 특성상에는 특별한 제한이 없지만, 단 반응상에 또는 포함된 시약상에 역영향을 주어서는 안되고, 적어도 어느 정도는 시약들을 용해시킬 수 있어야 한다. 적합한 용매의 예는 : 메틸렌 클로라이드 또는 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소 및 아니솔 또는 디페닐 에테르와 같은 아릴 에테르; 또는 이들의 둘 이상의 혼합물이고, 이중에서 혼합물이 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에 걸쳐 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 -20℃ 내지 50℃, 보다 바람직하게는 -10℃ 내지 약 실온에서 수행하는 것이 편리하다. 반응에 요구되는 시간도 또한 많은 요인에 따라, 특히 반응온도 및 시약의 특성에 따라 매우 광범위할 수 있다. 그러나, 반응을 개략적으로 상기 언급한 바람직한 조건하에서 30분 내지 20시간 동안, 보다 바람직하게는 1시간 내지 10시간 동안 수행하면 일반적으로 충분하다.
아지드 방법 :
아지드 방법은 일반식 (IIIA)의 화합물 또는 이의 에스테르를 불활성 용매 (예 : 디메틸포름아미드)중에 실온 또는 그 이상에서 히드라진과 반응시켜, 이어서 아질산 화합물과 반응시켜 상응하는 아지드 화합물로 전환할 수 있는 아미노산 히드라지드를 제조하고; 이 아지드를 이어서 일반식 (II)의 아미노 화합물과 반응시켜 수행한다.
사용할 수 있는 아질산 화합물의 예는 아질산나트륨과 같은 알칼리 금속 아질산염; 및 이소아밀 아질산염과 같은 알킬 아질산염이다.
반응은 바람직하게는 불활성 용매의 존재하에 수행한다. 사용하는 용매의 특성상에 특별한 제한은 없지만, 단 반응상에 또는 포함된 시약상에 역영향을 주어서는 안되고, 적어도 어느 정도는 시약을 용해시킬수 있어야 한다. 적합한 용매의 예는 ; 디메틸포름아미드 또는 디메틸아세트아미드와 같은 아미드, 특히 지방산 아미드: 디메틸 술폭시드와 같은 술폭시드: 및 N-메틸피롤리돈과 같은 피롤리돈이다. 본 방법의 두 단계는 일반적으로 중간 화합물을 분리하지 않고, 단일 반응 용액에서 수행한다. 반응은 광범위한 온도에 걸쳐 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에서 중요하지 않다. 일반적으로, 제 1 단계를 -50℃ 내지 0℃에서, 제 2 단계를 -10℃ 내지 +10℃에서 수행하는 것이 편리하다. 반응에 요구되는 시간도 또한 많은 요인, 특히 반응 온도 및 시약의 특성에 따라 매우 광범위할 수 있다. 그러나, 반응을 개략적으로 상기에서 언급한 바람직한 조건하에서 5분 내지 1시간 및 10시간 내지 5일 동안 수행하면 일반적으로 제 1 단계 및 제 2 단계를 각각 만족시킨다.
활성 에스테르 방법 :
활성 에스테르 방법은 일반식 (IIIA) 의 화합물을 에스테르화제와 반응시켜 활성 에스테르를 제조하고, 이어서 수득한 활성 에스테르를 일반식 (II)의 아미노 화합물과 반응시켜 수행한다.
두 반응은 불활성 용매속에서 수행하는 것이 바람직하다. 사용하는 용매의 특성에 특별한 제한은 없지만, 단 반응상에 Eyh는 포함된 시약상에 역영향을 주어선 안되고, 적어도 어느 정도는 시약을 용해시킬 수 있어야 한다. 적합한 용매의 예는 : 메틸렌클로라이드 또는 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소: 디에틸에테르 또는 테트라히드로푸란과 같은 에테르; 디메틸포름아미드 또는 디메틸아세트아미드와 같은 아미드, 특히 지방산 아미드; 및 아세토니트릴과 같은 니트릴이다.
본 반응에 사용할 수 있는 적합한 에스테르화제는 : N - 히드록시숙신이미드, 1 - 히드록시 벤조트리아졸 및 N - 히드록시 - 5 - 노르보넨 - 2, 3 - 디카르복시미드와 같은 N - 히드록시 화합물: 및 디피리딜 디설파이드와 같은 디설파이드 화합물이다. 활성 에스테르를 제조하는 반응은 바람직하게는 디시클로헥실카르보디이미드, 카르보닐디이미다졸 또는 트리페닐포스핀과 같은 축합제의 존재하에 수행한다.
반응은 광범위한 온도에 걸쳐 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 반응에서 중요하지 않다. 일반적으로, -10℃ 내지 80℃의 온도에서 활성 에스테르 형성 반응을 수행하는 것이 편리하고, 활성 에스테르를 약 실온에서 아미노 화합물과 반응시킨다. 반응에 요구되는 시간도 또한 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 특성에 따라 매우 광범위할 수 있다. 그러나, 반응을 개략적으로 상기에서 언급한 바람직한 조건하에서 30분 내지 10시간동안 수행하면, 일반적으로 각 반응에서는 충분하다.
혼합산 무수물 방법 :
일반식 (IIIA)의 화합물의 혼합산 무수물을 제조한 다음, 일반식 (II)의 아미노 화합물과 반응시킨다.
혼합산 무수물을 제조하는 방법은 일반식 (IIIA)의 산화합물을 혼합산 무수물을 형성할 수 있는 화합물, 예를 들면 : 에틸 클로로카르보네이트 또는 이소부틸 클로로카르보네이트와 같은 저급 (C1∼C4)알킬 할로카르보네이트; 피발로일 클로라이드와 같은 저급 알카노일 할라이드; 디에틸 시아노포스페이트 또는 디페닐 시아노포스페이트와 같은 저급 알킬 또는 디아릴 시아노포스페이트이다. 정상적으로 반응은 불활성 용매 (예 : 상술한 할로탄화수소, 아미드 또는 에테르)속에서 수행하는 것이 바람직하다.
반응은 바람직하게는 트리에틸아민 또는 N - 메틸모르폴린과 같은 유기아민 존재하에 수행한다.
반응은 광범위한 온도에 걸쳐 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 반응에서 중요하지 않다. 일반적으로, -10℃ 내지 50℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다. 반응에 요구되는 시간도 또한 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 특성에 따라 매우 광범위할 수 있다. 그러나, 반응을 개략적으로 상기에서 언급한 바람직한 조건하에서 30분 내지 20시간동안 수행하면, 일반적으로 충분하다.
이렇게 하여 제조한 혼합산 무수물과 일반식 (II)의 아민과의 반응은 바람직하게는 상술한 유기 아민 존재하여, 0℃ 내지 80℃에서, 불활성 용매 (예 : 상술한 아미드 또는 에테르)속에서 일반적으로 1 내지 24 시간 동안 수행한다.
이 반응은 또한 일반식 (IIIA)의 화합물, 일반식 (II)의 화합물 및 혼합산 무수물을 형성할 수 있는 시약을 동시에 반응시켜 수행할 수 있다.
축합 방법 :
축합 방법은 디시클로헥실카르보디이미드, 카르보닐디이미다졸 또는 1-메틸-2-클로로피리디늄요오다이드-트리에틸아민과 같은 축합제의 존재하에 일반식 (IIIA)의 화합물과 일반식 (II) 의 아미노 화합물을 직접 반응시켜 수행할 수 있다. 반응은 이미 언급한 활성 에스테르 제조에 사용되는 방법과 유사한 방법으로 수행한다.
반응 (B) :
R3이 R3a인 일반식 (I)의 화합물 (여기서, R3a는 R3으로 정의한 바와 같이 치환되거나 비치환된 알킬기 또는 알케닐기이다), 즉 일반식 (IB)의 화합물은 R3이 수소원자의 일반식 (I)의 화합물, 즉 일반식 (IA)의 화합물을 일반식 (IIB)의 화합물과 반응시켜 제조할 수 있다 :
(식중, R3는 상기 정의한 바와 같고, X는 할로겐 원자, 바람직하게는 염소, 브롬, 또는 요오드 원자이다) :
(여기서, R1, R2, R3, R3a, X, α-β 및 γ-δ은 상기에서 정의한 바와 같다.)
정상적으로 반응은 불활성 용매속에서 및 염기의 존재하에 수행하는 것이 바람직하다.
사용할 수 있는 적합한 염기는 : 수소화나트륨 또는 수소화칼륨과 같은 알칼리 금속 수소화물 : 나트륨 메톡사이드, 나트륨에톡사이드 또는 칼륨 t-부톡사이드와 같은 알칼리 금속 알콕사이드; 수산화나트륨 또는 수산화칼륨과 같은 알칼리 금속 수산화물; 탄산리튬, 탄산나트륨 또는 탄산칼륨과 같은 알칼리 금속 탄산염이고; 이들 중에서, 알칼리 금속 수소화물이 바람직하다.
사용하는 용매의 특성사에 특별한 제한은 없지만, 단 반응상에 또는 포함된 시약상에 역영향을 주어서는 안되고, 적어도 어느 정도는 시약을 용해시킬 수 있어야 한다. 적합한 용매의 예는 : 물 : 알콜, 예컨대 메탄올 또는 에탄올 : 에테르, 예컨대 디에틸 에테르 또는 테트라히드로푸란 : 방항족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌 : 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소, 예컨대 메틸렌 클로라이드 또는 클로로포름 ; 케톤, 예컨대 아세톤 또는 메틸 에틸 케톤 ; 아미드, 특히 지방산 아미드, 예컨대 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 또는 헥사메틸 포스포릭트리아미드 ; 술폭시드, 예컨대 디메틸술폭시드 ; 이들 용매의 둘 이상의 혼합물 : 이중에서, 아미드가 바람직하다. 필요하다면, 유기 용매 및 물을 포함하는 혼합 용매를 사용하여, 2-상 반응을 테트라부틸암모늄 히드로 술피트와 같은 암모늄염 존재하에 실행할 수 있다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할 수 있으며, 정확한 반응 온도가 반응에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -50℃ 내지 150℃ (보다 바람직하게는 -10℃ 내지 100℃)의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견했다. 반응시간도 또한 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 매우 광범위하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면 30분 내지 24시간(보다 바람직하게는 1시간 내지 10시간) 이면 통상적으로 충분할 것이다.
구조식 (IIIA)의 출발 물질은 공지된 화합물이거나 공지된 방법에 따라서 제조할 수 있다. [예를 들면, J. Med. Chem. 27, 1690 (1984) ; J. Med. Chem. 29, 2298 (1986)]
구조식 (II)의 출발 물질은 공지된 화합물이거나 공지된 방법에 따라서 제조할 수 있다. [예를 들면, Synthesis, 593 (1976) ; J. Org. Chem, 36, 305 (1971) ; Angew. Chem., 82, 138 (1970) ; Synthesis, 24 (1978) ; Synthetis Commun., 18, 777 (1988) ; Synthetic Commun. 18, 783 (1988) ; Organic Reaction, 3, 337 (1946) ; Org. Synthesis. 51, 48 ; Tetrahedron, 30, 2151, (1974) ; 및 J. Org. Chem., 37, 188 (1972)].
[상기식들에서, R1, R2, R3및 γ-δ는 상기 정의한 바와 같다.]
본 반응에 있어서, 구조식(IC)의 화합물 [1,2결합이 이중 결합인 구조식(I)의 화합물]은 1,2 결합이 단일 결합인 구조식(Ib)의 화합물을 하기 네 개 방법중 임의의 방법을 사용하여 탈수소화 시킴으로써 제조된다.
(1) 2,3-디클로로-5, 6-디시아노-p-벤조퀴논과의 탈수소화
구조식(Ib)의 화합물과 2,3-디클로로-5,6-디시아노-p-벤조퀴논의 반응은 불활성 용매내에서 실릴화제 존재하에 실행될 수 있다.
실릴화제의 예는 하기를 포함한다:
비스[(트리-C1-C4알킬)실릴]카르복실아미드, 예컨데
N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)아세트아미드,
N,O-비스(트리프로필실릴)아세트아미드,
N,O-비스(트리부틸실릴)아세트아미드,
N,O-비스(트리메틸실릴)트리플루오로아세트아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)트리플루오로아세트아미드,
N,O-비스(트리프로필실릴)트리플루오로아세트아미드,
N,O-비스(트리부틸실릴)트리플루오로아세트아미드,
N,O-비스(트리메틸실릴)펜타플루오로프로피오닐아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)펜타플루오로프로피오닐아미드,
N,O-비스(트리프로필실릴)펜타플루오로프로피오닐아미드,
N,O-비스(트리부틸실릴)펜타플루오로프로피오닐아미드,
N,O-비스(트리메틸실릴)트리클로로아세트아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)트리클로로아세트아미드,
N,O-비스(트리프로필실릴)트리클로로아세트아미드,
N,O-비스(트리부틸실릴)트리클로로아세트아미드,
바람직하게는
N,O-비스(트리메틸실릴)트리플로오로아세트아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)트리플로오로아세트아미드,
N,O-비스(트리메틸실릴)펜타플로오로피오닐아미드,
N,O-비스(트리에틸실릴)펜타플로오로피오닐아미드,
보다 바람직하게는
N,O-비스(트리메틸실릴)트리플로오로아세트아미드 및
N,O-비스(트리에틸실릴)트리플로오로아세트아미드.
사용될 용매의 성질에는 특정한 제한이 없으나, 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않아야 하며, 적어도 어느 정도는 시약을 용해시킬수 있어야 한다. 적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 ; 및 할로겐화탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소, 예컨데 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 및 카본 테트라클로라이드. 이들중에서, 에테르가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 실행될 수 있으며 정확한 반응 온도가 반응에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 0℃내지 150℃의 온도, 보다 바람직 하게는 실온 내지 120℃의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 광범위하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면, 1 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 3 시간 내지 20 시간이면 충분할 것이다.
(2) 벤젠셀레닌산 무수물과의 탈수소화
구조식(Ib)의 화합물의 산화는 벤젤셀레닌산 무수물의 존재하에 불활성 용매내에서 실행될 수 있다.
용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나. 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않으며, 시약을 적어도 일부는 용해시킬 수 있어야 한다. 적절한 용매의 예는 하기를 포함한다 : 방향족 탄화수소 및 할로겐 방향족 탄화수소,예컨데 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 및 디클로로벤젠; 디아킬아미드, 예컨데 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트아미드; 및 디알킬술폭사이드, 예컨데 디메틸술폭사이드, 이들중에서, 방향족 탄화수소가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할 수 있으며 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 50℃내지 250℃, 보다 바람직하게는 100℃내지 200℃의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 많은 요인들, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 넓은 범위로 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기 바람직한 조건하에서 실행된다면, 1 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 2 내지 10 시간이면 통상적으로 충분할 것이다.
(3) 탈술피닐화
이것은 삼단계로 실행된다 :
(i)화합물(Ib)와 디아릴 디술피드와의 반응
이 반응은 불활성 용매내에서 염기 존재하에 실행될 수 있다.
적절한 디아릴 디술피드의 예는 디페닐 디술피드, 디톨릴 디술피드, 디-p-클로로페닐 디술피드, 디-p-메톡시페닐 디술피드 및 디나프틸 디술피드, 바람직하게는 디페닐 디술피드를 포함한다.
적절한 염기의 예는 디아릴 리듐 아미드, 예컨데 디이소프로필 리튬아미드, 디시클로헥실 리튬아미드 및 이소프로필 시클로헥실 리튬아미드, 바람직하게는 디이소프로필 리튬아미드를 포함한다.
용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않으며 시약을 적어도 어느정도 까지는 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 및 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 이들중에서 에테르가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -78℃ 내지 50℃, 보다 바람직하게는 -30℃ 내지 실온의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 많은 요인에 따라서 특히, 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 넓은 범위로 변화할 수 있다. 그러나, 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면, 1 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 3 내지 20 시간이면 통상적으로 충분할 것이다.
(ii) 술피드의 산화
단계 (i)에서 제조된 술피드의 산화 반응은 불활성 용매내에서 산화제의 존재하에 실행될 수 있다.
적절한 산화제의 예는 하기를 포함한다 : 과산, 예컨데 퍼아세트산, 퍼벤조산, 퍼톨루산 및 m-클로로퍼벤조산 ; 및 알칼리 금속 퍼할로게네이트, 예컨데 나트륨 퍼클로레이트, 칼륨 퍼클로레이트, 나트륨 퍼브로메이트, 리튬 페리오데이트, 나트륨 페리오데이트 및 칼륨 페리오데이트, 이들중에서, 퍼벤조산, m-클로로퍼벤조산, 나트륨 페리오데이트 및 칼륨 페리오데이트가 바람직하다.
용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않으며 시약을 적어도 일부분 까지는 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 알콜, 예컨데 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 부탄올 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 및 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소,예컨데 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 및 카테트라크로라이드, 이들중에서 알콜이 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -20℃ 내지 50℃, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 실온의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면, 1 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 3 내지 20 시간이면 충분할 것이다.
(iii) 탈술피닐화
이 반응은 불활성 용매내에서 유기 염기 존재하에 단계(ii)에서 제조된 s-옥사이드를 가열함으로써 실행될 수 있다.
용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나. 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않으며, 시약을 적어도 어느정도는 용해시킬 수 있어야 한다. 적절한 용매의 예는 하기를 포함한다 : 방향족 탄화수소 및 할로겐화 방향족 탄화수소,예컨데 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 ; 디아킬아미드, 예컨데 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트아미드; 및 디알킬술폭사이드, 예컨데 디메틸술폭사이드, 이들중에서, 방향족 및 할로겐화 방향족 탄화수소가 바람직하다.
염기의 예는 이후의 단계(4) (i) 에 주어진 것과 동일하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 50℃ 내지 250℃, 보다 바람직하게는 100℃ 내지 200℃의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 의존하여 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면, 1 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 3 내지 20 시간이면 통상적으로 충분할 것이다.
(4) 탈-히드로브롬산 방법
이것은 4단계로 실행된다 :
(i) 화합물(Ib)와 옥살릴할라이드와의 반응
반응을 불활성 용매내에서 유기 염기 존재하에 실행될 수 있다.
적절한 옥살릴 할라이드의 예는 옥살릴 클로라이드 및 옥살릴 브로마이드, 바람직하게는 옥살릴 클로라이드를 포함한다.
적절한 유기 염기의 예는 트리에틸아민, 디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]논-5-엔(DBN) 및 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데크-7-엔(DBN), 바람직하게는 트리에틸아민, 디에틸아닐린 또는 피리딘을 포함한다.
사용되는 용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않아야하며 시약을 적어도 어느정도 까지는 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 ; 및 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소, 예컨데 메틸렌클로라이드, 클로로포름 및 카본테트라클로라이드, 이들중에서, 에테르가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -20℃ 내지 100℃, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 실온의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 또한 많은 요인, 특히, 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기 바람직한 조건하에서 실행된다면, 30분 내지 10 시간, 보다 바람직하게는 1 내지 5 시간이면 충분할 것이다.
(ii) 옥살레이트의 브롬화
단계(i)에서 제조된 옥살레이트의 브롬화는 불활성 용매내에서 브롬과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
사용되는 용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미쳐서는 안되며, 적어도 어느정도 까지는 시약을 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 ; 및 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소, 예컨데 메틸렌클로라이드, 클로로포름 및 카본테트라클로라이드, 이들중, 할로겐화 탄화수소가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -20℃ 내지 50℃, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 실온의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 또한 많은 요인들, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기한 바람직한 조건하에서 실행된다면, 30분 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 1 내지 10 시간이면 충분할 것이다.
(iii) 탈-옥실화
반응은 불활성 용매내에서 에틸렌디아민의 존재하에 실행될수 있다.
사용되는 용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응 또는 포함된 용매에 나쁜 영향을 끼치지 않아야하며 시약을 적어도 어느정도 까지 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 ; 및 할로겐화 탄화수소, 예컨데 메틸렌클로라이드, 클로로포름 및 카본테트라클로라이드, 이들중에서, 에테르가 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생할수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 0℃내지 200℃, 보다 바람직하게는 실온내지 100℃의 온도에서 실행하는 것이 하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 또한 많은 요인, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기 바람직한 조건하에서 실행된다면, 30분 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 1내지 10 시간이면 충분할 것이다.
(iv) 탈-히드로브롬화
단계 (iii)에서 제조된 브로마이드의 탈히드로브롬화는 불활성 용매내에서 유기 염기 존재하에서 실행될 수 있다.
적절한 유기 염기의 예는 트리에틸아민, 디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]논-5-엔(DBN) 및 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데크-7-엔(DBN)을 포함하며, 바람직하게는 DBN 또는 DBU이다.
사용되는 용매의 성질에는 특별한 제한은 없으나, 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지않으며 시약을 적어도 어느정도 까지는 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 에테르, 예컨데 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 ; 지방족 또는 방향족일수 있는 탄화수소, 예컨데 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로 헥산 ; 및 할로겐화 탄화수소, 특히 할로겐화 지방족 탄화수소, 예컨데 메틸렌클로라이드, 클로로포름 및 카본테트라클로라이드, 이들중에서, 에테르 또는 탄화수소가 바람직하다.
일반적으로, 반응을 -20℃ 내지 100℃, 보다 바람직하게는 0℃ 내지 50℃의 온도에서 실행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응에 필요한 시간은 또한, 많은 요인들, 특히 반응온도 및 시약의 성질에 따라서 다양하게 변화할 수 있다. 그러나, 단 반응이 상기 바람직한 조건하에서 실행된다면, 30분 내지 10 시간, 보다 바람직하게는 1시간 내지 5 시간이면 통상적으로 충분할 것이다.
5,6 - 결합이 이중결합인 구조식 (I)의 화합물인 구조식 (ID)의 화합물은 구조식 (VI)의 화합물과 구조식 (V)의 아미노 화합물과의 불활성 용매내의 반응에 의해 제조될 수 있다.
사용되는 용매의 성질에 특별한 제한은 없으나, 단 반응 또는 포함된 시약에 나쁜 영향을 미치지 않으며 시약을 적어도 어느정도 용해시킬 수 있어야 한다.
적절한 용매의 예는 하기를 포함한다: 글리콜, 예컨데 에틸렌 글리콜 및 프로필렌 글리콜 ; 디알킬아미드, 예컨데 디메틸포름 아미드 및 디메틸아세트아미드 ; 디알킬 술폭사이드, 예컨데 디메틸 술폭사이드 ; 및 에테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 디메틸에테르 및 프로필렌 글리콜 디에틸에테르. 이들중에서, 글리콜이 바람직하다.
반응은 광범위한 온도에서 발생될 수 있으며, 정확한 반응 온도가 발명에 중요한 것은 아니다. 일반적으로, 반응을 -10℃ 내지 220℃에서 실행하는 것이 바람직하다는 것을 발견하였으며, 바람직하게는 온도를 2시간 내지 5시간 동안 -10℃ 내지 150℃로 상승시킨 다음 혼합물을 150℃ 내지 220℃에서 10분 내지 2시간 (바람직하게는 15분 내지 1시간) 동안 유지시킨다.
구조식 (VI)의 출발 화합물은 하기 구조식 (VII)의 화합물을 하기 구조식 (II)의 아미노 화합물과 A에 기술되어 있는 방법과 동일한 방법으로 반응시킨 후에 J. Med. Chem. 27, 1690 - 1701 (1984) 및 29, 2298 - 2315 (1986)에 기술된 바와 동일한 방법으로 산화시킴으로써 제조될수 있다.
각각의 반응 단계를 완결한 후에, 각 단계로부터 원하는 화합물을 반응 혼합물로 통상적인 방법에 의해 수득할 수 있다. 예를 들면, 적절한 한 회수 방법에 있어서는 ; 반응 혼합물을 적절히 중화시키고 ; 불용성 물질이 존재한다면 여과시켜 제거하고 ; 용매를 증류시킨 다음 결정을 여과시켜 분리하여 원하는 화합물을 수득하거나 ; 반응 혼합물을 물로 희석시키고 ; 물과 혼합되지 않는 유기 용매로 추출하고 ; 용매를 증류시켜서 원하는 화합물을 수득한다. 원한다면, 이것을 재결정화, 재침전 또는 다양한 크로마토그래피 기술, 특히 칼럼크로마토그래피와 같은 통상적인 방법에 의해 더 정제할 수 있다.
본 발명의 아자스테로이드 화합물은 테스토테론 5α - 환원 효소 활성을 저해하는 현저한 능력을 가지며 독성이 낮다. 그러므로 그들은 전립선 비대증의 치료 및 예방에 가치가 있을 것으로 예견된다.
이 목적을 위하여, 필요하다면, 다른 활성 화합물 및 / 또는 통상적인 담체, 희석제, 보조제 및 / 또는 부형제와 혼합물 형태로 사용되어 제약학적 제제를 형성할 수 있다. 대안적으로, 그들은, 필요하다면, 그 자체만 투여될 수 있다. 제약학적 제제의 형태는 물론 투여 경로의 선택에 따라나, 경구 투여의 경우, 화합물은 예를 들면, 분말, 과립, 시럽, 정제 또는 캡슐 형태로 제형될 수 있으며 ; 비경구 투여를 위해서는 그들은 주사약, 좌약 또는 흡입제로 제형될 수 있다. 이들 제제는 통상적인 방법에 따라서 부형제, 결합제, 붕해제, 윤활제, 안정제 및 교정제와 같은 첨가제를 첨가함으로써 제조될 수 있다. 투여량은 환자의 연령, 질병의 성질 및 정도 및 투여 경로 및 방식에 따르나, 성인 환자의 경구 투여의 경우, 그들은통상적으로 1 내지 100mg의 일일 투여량으로 투여된다. 화합물을 1회 투여 또는 분할 투여, 예를 들면 1인당 2 또는 3회 투여할 수 있다.
본 발명의 화합물의 제조는 하기 비-제한 실시예에 의해 더 상세하게 설명될 것이며, 이들 실시예에 사용된 특정 출발 화합물의 제조는 이후의 제조예에서 기술된다.
[실시예1]
N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
100mg의 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산, 100 μl의 디페닐메틸아민, 75 μl 의 디에틸시아노포스페이트 및 100 μl 의 트리에틸아민을 5ml의 무수 메틸렌 클로라이드에 순서대로 첨가하고 반응 용액을 하룻동안 실온에서 교반시키면서 방치한다. 이것을 100ml 의 메틸렌 클로라이드로 희석하고, 1N 수성염산, 물, 나트륨 히드로겐타르보네이트 수용액 및 나트륨 클로라이드의 포화 수용액으로 순서대로 세척하고, 무수 마그네슘 술페이트 상에서 건조시키고 감압하에 증류시켜 농축한다. 결과 잔사를 15g의 실리카겔을 통하여 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제한다. 아세톤 및 메틸렌 클로라이드 혼합물로의 1:9 내지 1:1 부피의 구배용출에 의하여 137mg의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm ;
0.67 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.00 (15H, m) ;
2.15 - 2.30 (3H, m) ;
2.37 - 2.47 (2H, m) ;
3.03 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
5.46 (1H, br) ;
5.88 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.20 - 7. 38 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3288, 2935, 2868, 1664, 1521, 1493, 1448, 1226, 733, 698.
[실시예2]
N - (1, 1 - 디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
150mg의 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산, 250 μl의 1, 1 - 디페닐에틸아민, 150mg의 2 - 클로로 - 1 -메틸피리디늄 요오다이드 및 150 μl 의 트리에틸아민을 5ml의 무수 아세토니트릴에 용해시키고 용액을 3시간동안 환류하에 가열한다. 이시간의 끝에, 반응 용액을 100ml 의 메틸렌 클로라이드로 희석하고, 1N 수성염산, 물, 나트륨 바이술페이트의 수용액 및 나트륨 클로라이드의 포화 수용액으로 순서대로 세척하고, 무수 마그네슘 술페이트 상에서 건조시킨다 ; 용매를 감압하에서 증류시켜 제거한다. 결과 잔사를 15g의 실리카겔을 통한 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제한다. 아세톤 및 메틸렌 클로라이드 혼합물로의 1:9 내지 1:1 부피의 구배용출에 의하여 165mg의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm ;
0.70 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.20 (3H, s) ;
0.70 - 2.25 (17H, m) ;
2.35 - 2.50 (3H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
5.44 (1H, br) ;
5.98 (10H, m)
7.20 - 7. 40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3300, 2937, 2869, 1665, 1491, 1446, 1360, 1226, 762, 699.
[실시예 3]
N - (1, 2 - 디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물을 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 및 1,2 - 디페닐에틸아민을 실시예 1에 기술된 바와 동일한 방법으로 반응시킴으로써 91% 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.48 0.50 (총 3H, 각각 s) ;
0.88 0.89 (총 3H, 각각 s) ;
0.7 - 2.2 (18H, m) ;
2.35 - 2.47 (2H, m) ;
2.97 - 3.30 (3H, m) ;
5.20 - 5.60 (3H, m) ;
7.02 - 7.37 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3300, 2935, 1664, 1525, 1495, 1358, 1307, 1227, 755, 698.
[실시예 4]
N - N - 디벤질 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물을 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 및 N, N - 디벤질아민을 실시예 1에 기술된 바와 동일한 방법으로 반응시킴으로써 79% 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.89 (3H, s) ;
0.91 (3H, s) ;
0.7 - 1.9 (17H, m) ;
2.3 - 2.5 (2H, m) ;
2.73 (1H, t, J = 8Hz) ;
3.03 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
3.73 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
4.16 (1H, d, J = 16Hz) ;
4.91 (1H, d, J = 16Hz) ;
5.40 (1H, br) ;
5.45 (1H, d, J = 15Hz) ;
7.20 - 7.32 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3196, 2933, 1669, 1633, 1444, 1359, 1306, 1218, 755, 703.
[실시예 5]
N - (2,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물을 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 및 2, 2 - 디페닐에틸아민을 실시예 1에 기술된 바와 동일한 방법으로 반응시켜서 수율 81% 로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.54 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.63 - 2.20 (17H, m) ;
2.36 - 2.54 (2H, m) ;
3.00 (1H, dd, J = 11 5Hz) ;
3.48 (1H, d, J = 6Hz) ;
3.74 (1H, ddd, J = 15, 10 5Hz) ;
4.07 (1H, ddd, J = 15, 10 5Hz) ;
4.21 (1H, t, J = 10Hz) ;
5.20 (1H, br. t, J = 5Hz) ;
5.42 (1H, br) ;
7.18 - 7.37 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1:
3282, 3189, 2934, 1662, 1494, 1449, 1359, 1229, 735, 701.
[실시예 6]
N - (3,3 - 디페닐프로필) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 3,3 - 디페닐프로필아민을 반응시켜서 95% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.20 (18H, m) ;
2.22 - 2.34 (2H, m) ;
2.36 - 2.47 (2H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
3.25 (2H, m)
3.96 (1H, t, J = 8Hz) ;
5.20 (1H, br, t, J = 6Hz) ;
5.47 (1H, br) ;
7.13 - 7.35 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3305, 2935, 2869, 1662, 1532, 1449, 1359, 1307, 1227, 750, 701
[실시예 7]
N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 디페닐메틸아민을 반응시켜서 54% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.97 (3H, s) ;
0.80 - 2.30 (16H, m) ;
3.31 (1H, t, J = 10 Hz) ;
5.30 (1H, br) ;
5.80 (1H, d, J = 9 Hz) ;
5.89 (1H, d, J = 9 Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 9 Hz) ;
6.77 (1H, d, J = 9 Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m)
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2935, 1676, 1600, 1518, 1493, 1448, 698
[실시예 8]
N - (1, 2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시켜서 87% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.47 0.51 (총 3H, 각각 s) ;
0.93 0.95 (총 3H, 각각 s) ;
0.90 - 2.20 (16H, m) ;
2.95 - 3.20 (2H, m) ;
3.30 (1H, t, J = 9 Hz) ;
5.10 - 5.40 (2H, m) ;
5.49 5.58 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
5.80 (1H, m) ;
6.78 (1H, m) ;
7.00 - 7.40 (10H, m)
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2968, 2937, 1675, 1601, 1525, 1495, 1452, 816, 698.
[실시예 9]
N - N - 디벤질 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 N,N - 디벤질아민을 반응시켜서 58% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.90 (3H, s) ;
0.99 (3H, s) ;
0.90 - 1.95 (14H, m) ;
2.40 (1H, q, J = 10 Hz) ;
2.76 (1H, t, J = 9Hz) ;
3.30 (1H, t, J = 9 Hz) ;
3.77 (1H, d, J = 14 Hz) ;
4.18 (1H, d, J = 16 Hz) ;
4.90 (1H, d, J = 16 Hz) ;
5.29 (1H, br) ;
5.45 (1H, d, J = 14 Hz) ;
5.80 (1H, d, J = 10 Hz) ;
6.74 (1H, d, J = 10 Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1 :
2938, 1682, 1636, 1444, 1423, 699.
[실시예 10]
N - (2,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2,2 - 디페닐에틸아민을 반응시켜서 90% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.56 (3H, s) ;
0.95 (3H, s) ;
0.80 - 2.20 (16H, m) ;
3.29 (1H, t, J = 9Hz) ;
3.74 (1H, m) ;
4.08 (1H, m) ;
4.21 (1H, t, J = 8 Hz) ;
5.21 (1H, br. t) ;
5.31 (1H, br) ;
5.80 (1H, d, J = 10 Hz) ;
6.76 (1H, d, J = 10 Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3296, 2933, 1675, 1600, 1517, 1494, 1450, 1226, 816, 700.
[실시예 11]
N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 디페닐메틸아민을 반응시켜서 59% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
1.10 (3H, s) ;
1.00 - 2.00 (16H, m) ;
2.40 - 2.55 (2H, m) ;
4.79 (1H, m) ;
5.89 (1H, d, J = 9 Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 9 Hz) ;
7.16 (1H, br) ;
7.18 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1661, 1485, 1400, 700.
[실시예 12]
N - (1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1,2 - 디페닐에틸아민을 반응시켜서 68% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.50 0.53 (총 3H, 각각 s) ;
1.07 1.09 (총 3H, 각각 s) ;
1.00 - 2.30 (16H, m) ;
2.40 - 2.60 (2H, m) ;
2.98 - 3.22 (2H, m) ;
4.78 (1H, m) ;
5.23 - 5.40 (1H, m)
5.50 5.60 (총 1H, 각각 d, J = 9 Hz) ;
7.00 - 7.40 (1H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3186, 2942, 1662, 1604, 1492, 1386, 1221, 758, 699.
[실시예 13]
N - N - 디벤질 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 N,N - 디벤질아민을 반응시켜 71% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.93 (3H, s) ;
1.12 (3H, s) ;
1.00 - 2.50 (17H, m) ;
2.76 (1H, t, J = 9 Hz) ;
3.75 (1H, d, J = 14 Hz) ;
4.17 (1H, d, J = 16 Hz) ;
4.79 (1H, m) ;
4.92 (1H, d, J = 16 Hz) ;
5.46 (1H, d, J = 14 Hz) ;
7.00 - 7.45 (11H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3200, 2936, 1729, 1664, 1360, 1193, 1182, 1155.
[실시예 14]
N - (1,1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 1,1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸아민을 반응시켜 12% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
1.27 (3H, s) ;
1.43 (3H, s) ;
0.75 - 2.30 (16H, m) ;
2.37 - 2.50 (2H, m) ;
2.83 (1H, d, J = 13Hz) ;
3.05 (1H, dd, J = 10 5Hz) ;
3.20 (1H, d, J = 13Hz) ;
4.95 (1H, br) ;
5.53 (1H, br) ;
7.10 - 7.35 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2937, 2869, 1666, 1502, 1452, 1385, 1360, 1307, 1229, 727, 702
[실시예 15]
N - (1,1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1,1 - 디메틸 - 2 - 페닐에틸아민을 반응시켜 48% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.96 (3H, s) ;
1.27 (3H, s) ;
1.44 (3H, s) ;
0.90 - 2.25 (16H, m) ;
2.82 (1H, d, J = 13Hz) ;
3.20 (1H, d, J = 13Hz) ;
3.32 (1H, t, J = 9Hz) ;
4.97 (1H, br) ;
5.40 (1H, br) ;
5.80 (1H, dd, J = 10 1Hz)
6.77 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.10 - 7.35 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1:
2968, 2933, 1678, 1600, 1503, 1452, 1362, 702
[실시예 16]
N - 벤질 - N - 이소프로필 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 N - 벤질 - N - 이소프로필아민을 반응시켜 70% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 - 2.90 (32H, m) ;
3.02 (1H, m) ;
4.20 4.29 (총 1H, 각각 d, J = 15 17Hz) ;
4.40 4.96 (총 1H, 각각 sep, J = 7Hz) ;
4.82 4.84 (총 1H, 각각 d, J = 17 15Hz) ;
5.40 (1H, br) ;
7.10 - 7.40 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2970, 2937, 1688, 1640, 1451, 1418, 1388, 1360, 1307, 732.
[실시예 17]
N - 벤질 - N - 이소프로필 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 N - 벤질 -N - 이소프로필아민을 반응시켜 40% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 - 2.40 (27H, m) ;
2.48 2.84 (총 1H, 각각 t, J = 9Hz) ;
3.23 - 3.40 (1H, m) ;
4.22 4.30 (총 1H, 각각 d, J = 15 17Hz) ;
4.40 4.95 (총 1H, 각각 sep, J = 7Hz) ;
4.80 4.83 (총 1H, 각각 d, J = 17 15Hz) ;
5.30 (1H, br) ;
5.80 (1H, m) ;
6.75 6.78 (총 1H, 각각 d, J = 9 Hz)
7.10 - 7.40 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1 :
3197, 2971, 2934, 1681, 1636, 1602, 1450, 1417, 1366, 1180, 817, 697.
[실시예 18]
N - (1,1 - 대페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1,1 - 디페닐에틸아민을 반응시켜 32% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.98 (3H, s) ;
0.90 - 2.30 (16H, m) ;
2.20 (3H, s) ;
3.33 (1H, t, J = 9Hz) ;
5.32 (1H, br) ;
5.80 (1H, d, J = 10Hz) ;
5.98 (1H, s) ;
6.78 (1H, d, J = 10 Hz)
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2968, 2935, 1678, 1600, 1491, 1446, 1365, 761, 699.
[실시예 19]
N - (1,1 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1,1 - 디페닐에틸아민을 반응시켜 55% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.73 (3H, s) ;
1.11 (3H, s) ;
1.00 - 2.30 (16H, m) ;
2.20 (3H, s) ;
2.40 - 2.55 (2H, m) ;
4.80 (1H, m) ;
5.98 (1H, br) ;
7.10 - 7.40 (11H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2943, 1681, 1667, 1487, 1447, 1386, 699.
[실시예 20]
N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
300mg의 N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 1에서 제조)를 4ml의 무수 디메틸포롬아미드에 용해시키고, 생성된 용액에 40mg의 수소화 나트륨 (광물유중의 55% w/w 현탄액)을 가한다. 혼합물을 실온에서 30분간 교반한 후, 여기에 실온에서 0 5ml의 요오드화 메틸을 적가한후 ; 혼합물을 70℃에서 2시간 동안 다시 교반한다. 이후에, 반응 용액을 200ml의 디에틸 에테르로 희석하고, 물로 3회 세척한후 염화나트륨 포화 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시킨다. 이어서 용매를 감압하의 증류에 의해 제거한다. 생성된 잔류물을 15g 실리카겔 컬럼 크로마토그래피로 정제한다. 1:20 - 1:4 부피비의 아세톤과 염화메틸렌 혼합물을 사용한 구배용출로써 106mg의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s)
0.88(3H, s)
0.70 - 2.50 (20H, m) ;
2.93 (3H, s) ;
3.02 (1H, dd, J = 12 2Hz) ;
5.88 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.29 (1H, d, J = 8Hz) ;
7.10 - 7.45 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3296, 2937, 1665, 1619, 1528, 1493, 1446, 1397, 1304, 1218, 699.
[실시예 21]
N - (디페닐메틸) - 4 - 에틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 20과 유사한 방법으로 N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 1에서 제조)와 요오드화에틸을 반응시켜 87% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s)
0.88(3H, s)
1.05 (3H, t, J = 8Hz) ;
0.60 - 2.50 (20H, m) ;
3.08 (1H, dd, J = 11 2Hz) ;
3.25(1H, m) ;
3.74(1H, m) ;
5.88 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 8Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3292, 2936, 1671, 1619, 1530, 1447, 1224, 698.
[실시예 22]
N - (디페닐메틸) - 4 - 알릴 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 20과 유사한 방법으로 N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 1에서 제조)와 알릴브로마이드를 반응시켜 47% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s)
0.90(3H, s)
0.70 - 2.40 (18H, m) ;
3.11 (1H, dd, J = 10 3Hz) ;
3.80 (1H, dd, J = 16 5Hz) ;
4.43(1H, m) ;
5.08(1H, m) ;
5.12 (1H, m) ;
5.76 (1H, m) ;
5.87 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.15 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3304, 2936, 1667, 1647, 1624, 1531, 1444, 1223, 698.
[실시예 23]
N - (디페닐메틸) - 4 - 벤질 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 20과 유사한 방법으로 N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 1에서 제조)와 벤질브로마이드를 반응시켜 55% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.65 (3H, s)
0.93 (3H, s)
0.70 - 2.30 (18H, m) ;
2.55 - 2.65 (2H, m) ;
3.10 (1H, dd, J = 11 3Hz) ;
4.45 (1H, d, J = 16Hz) ;
5.03 (1H, d, J = 16Hz) ;
5.85 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.27 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.10 - 7.40 (15H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3310, 3027, 2941, 1643, 1519, 1494, 1451, 1409, 1304, 1226, 699.
[실시예 24]
N - (디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 -4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 제조)과 디페틸메틸아민을 반응시켜 83% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.92 (3H, s) ;
0.80 - 2.30 (16H, m) ;
2.95 (3H, s) ;
3.35 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.86 (1H, d, J = 8 Hz) ;
5.88 (1H, d, J = 8 Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 8 Hz) ;
6.67 (1H, d, J = 10 Hz) ;
7.20 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2966, 2940, 1663, 1602, 1519, 1494, 1448, 1394, 1221, 698.
[실시예 25]
N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 제조)과 디페닐메틸아민을 반응시켜 82% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
1.05 (3H, s) ;
0.80 - 2.35 (16H, m) ;
2.45 - 2.57 (2H, m) ;
3.12 (3H, s) ;
5.04 (1H, m) ;
5.89 (1H, d, J = 9 Hz) ;
6.29 (1H, d, J = 9 Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3314, 2944, 1669, 1642, 1627, 1524, 1494, 1385, 1124, 1054, 699.
[실시예 26]
N - (1,1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 4 - 메틸- 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 2에서 제조)와 1,1 - 디페닐에틸아민과 반응시켜 65% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s)
0.90 (3H, s)
0.70 - 2.30 (18H, m) ;
2.20 (3H, m) ;
2.48 (2H, m) ;
2.94 (3H, s) ;
3.04 (1H, dd, J = 13 14 Hz) ;
5.97 (1H, br) ;
7.20 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2940, 2872, 1681, 1643, 1492, 1446, 1392, 1228, 762, 699.
[실시예 27]
N - (1,1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 -4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 제조)과 1,1 - 디페틸에틸아민을 반응시켜 44% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.93 (3H, s) ;
0.90 - 2.30 (16H, m) ;
2.20 (3H, s) ;
2.96 (3H, s) ;
3.35 (1H, dd, J = 13 4 Hz) ;
5.90 (1H, d, J = 10 Hz) ;
5.98 (1H, br) ;
6.69 (1H, d, J = 10 Hz) ;
7.20 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2940, 1663, 1604, 1492, 1446, 699.
[실시예 28]
N - (1,1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 2와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 제조)과 1,1 - 디페닐에틸아민을 반응시켜 61% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δppm :
0.73 (3H, s) ;
1.06 (3H, s) ;
1.00 - 2.35 (16H, m) ;
2.20 (3H, s) ;
3.13 (3H, s) ;
5.04 (1H, m) ;
5.98 (1H, br) ;
7.20 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2966, 2943, 1670, 1641, 1492, 1447, 1388, 1324, 1241, 699.
[실시예 29]
N - (1,2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸- 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (실시예 2에서 제조)와 1,2 - 디페닐에틸아민과 반응시켜 75% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 0.50 (총 3H, 각각 s) ;
0.85 0.86 (총 3H, 각각 s) ;
0.60 - 2.50 (20H, m) ;
2.91 (3H, s) ;
2.85 - 3.20 (3H, m) ;
5.26 5.33 (총 1H, 각각 dd, J = 8 7Hz) ;
5.47 5.57 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3314, 2937, 2870, 1644, 1529, 1453, 1393, 1305, 1228, 699.
[실시예 30]
N - (1,2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 -4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 제조)과 1,2 - 디페틸에틸아민을 반응시켜 78% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δppm :
0.48 0.52 (총 3H, 각각 s) ;
0.90 0.91 (총 3H, 각각 s) ;
0.80 - 2.20 (16H, m) ;
2.95 (3H, s) ;
2.90 - 3.24 (2H, m) ;
3.33 (1H, d, J = 13Hz) ;
5.27 5.34 (총 1H, 각각 dd, J = 8 7Hz) ;
5.48 5.58 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
5.87 5.89 (총 1H, 각각 d, J = 10Hz) ;
6.67 6.69 (총 1H, 각각 d, J = 10Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3320, 2939, 1659, 1602, 1526, 1226, 699.
[실시예 31]
N - (1,2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 제조)과 1,2 - 디페닐에틸아민을 반응시켜 78% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.49 0.53 (총 3H, 각각 s) ;
1.02 1.03 (총 3H, 각각 s) ;
0.85 - 2.63 (18H, m) ;
3.12 (3H, s) ;
2.95 - 3.25 (2H, m) ;
5.02 (1H, m) ;
5.27 5.34 (총 1H, 각각 dd, J = 8 7Hz) ;
5.50 5.59 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
7.00 - 7.38 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2944, 2871, 1669, 1642, 1524, 1495, 1453, 1387, 1243, 699.
[실시예 32]
N - [(S) - 1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (S) - 1,2 - 디페닐에틸아민과 반응시켜 96% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.50 (3H, s) ;
0.87 (3H, s) ;
0.70 - 3.20 (23H, m) ;
5.26 (1H, q, J = 5Hz) ;
5.47 (1H, br) ;
5.58 (1H, d, J = 5Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2938, 2872, 1663, 1497, 1453, 1360, 1308, 1230, 699.
[실시예 33]
N - [(R) - 1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (R) - 1,2 - 디페닐에틸아민과 반응시켜 96% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.65 - 3.30 (23H, m) ;
5.33 (1H, q, J = 5Hz) ;
5.48 (1H, d, J = 5Hz) ;
6.80 (1H, br) ;
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3218, 2935, 1663, 1494, 1453, 1361, 1305, 1229, 1121, 704.
[실시예 34]
N,N - 디벤질 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4- 메텔 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 3에서 제조)과 N,N - 디벤질아민과 반응시켜 80% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.89 (6H, s) ;
0.65 - 2.50 (19H, m) ;
2.75 (1H, t, J = 10Hz) ;
2.72 (3H, s) ;
3.00 (1H, dd, J = 13 14Hz) ;
3.75 (1H, d, J = 15Hz) ;
4.15 (1H, d, J = 16Hz) ;
4.91 (1H, d, J = 16Hz) ;
5.46 (1H, d, J = 15Hz) ;
7.07 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2941, 2872, 1642, 1494, 1451, 1417, 1389, 1305, 1215, 735, 700.
[실시예 35]
N,N - 디벤질 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 -4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 제조)과 N,N - 디벤질아민을 반응시켜 68% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.90 (3H, s) ;
0.94 (3H, s) ;
0.80 - 2.20 (15H, m) ;
2.75 (1H, d, J = 9Hz) ;
2.95 (3H, s) ;
3.31 (1H, dd, J = 12 4Hz) ;
3.75 (1H, d, J = 13Hz) ;
4.18 (1H, d, J = 15Hz) ;
4.19 (1H, d, J = 15Hz) ;
5.45 (1H, d, J = 13) ;
5.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.64 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.06 - 7.43 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2940, 1664, 1641, 1606, 1494, 1424, 1217, 820, 735, 698.
[실시예 36]
N,N - 디벤질 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 -4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 1과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 제조)과 N,N - 디벤질아민을 반응시켜 74% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.92 (3H, s) ;
1.06 (3H, s) ;
1.00 - 2.60 (17H, m) ;
2.77 (1H, t, J = 9Hz) ;
3.11 (3H, s) ;
3.75 (1H, d, J = 13Hz) ;
4.18 (1H, d, J = 15Hz) ;
4.94 (1H, d, J = 15Hz) ;
5.03 (1H, d, J = 15Hz) ;
7.07 - 7.43 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2967, 2902, 1666, 1641, 1411, 1201, 1054, 732, 697.
[실시예 37]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
30ml 건조 톨루엔에 500g의 3 - 옥소- 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산, 8.00g의 트리페닐포스핀 및 7.00g의 2,2' - 디피리딜디술피드의 순으로 첨가한다. 그 다음, 반응용액을 교반하면서 실온에서 밤새도록 방치한 뒤, 그것을 10g 실리카겔을 통해 칼럼 크로마토그래피로 정제한다.
부피비 1 : 9 내지 1 : 1의 범위의 아세톤과 메틸렌클로라이드의 혼합물을 그레디언트 용리시켜 3- 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산의 2 - 피리딜티오에스테르 5.96g 이 수득된다.
상기 기술된 바대로 제조된 2 - 피리딜티오 에스테르의 150 mg 과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸 - 아민 500mg의 순으로 건조 테트라히드로푸란 5ml에 첨가한다. 그 다음, 반응 용액을 교반하면서 3일간 실온에서 방치한다. 이 기간의 종료시에, 용액을 100ml 메티렌클로라이드로 희석하고, 1N 히드로클로르산 수용액, 물, 소듐히드로겔카르보네이트 수용액 및 염화 나트륨의 포화 수용액의 순으로 세척하고 무수 황산 마그네슘으로 건조한다. 그 다음, 용매는 감압 증류 제거한다. 결과 잔액을 15g 의 실리카겔을 통해 칼럼 크로마토그래피로 정제한다. 부피비 1 : 9 내지 1 : 1의 아세톤과 메틸렌클로라이드의 혼합물을 그레디언트 용리시켜 112mg의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.20 (18H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.72 (3H, s) ;
2.35 - 2.50 (2H, m) ;
3.06 (1H, dd, J = 12 5Hz) ;
5.52 (1H, br) ;
5.60 (1H, br) ;
7.20 - 7.45 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2938, 2919, 1699, 1672, 1495, 1447, 1361, 1308, 1257, 1233, 697.
[실시예 38]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 37과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 70% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.98 (3H, s) ;
0.90 - 2.25 (16H, m) ;
1.71 (3H, s) ;
1.73 (3H, s) ;
3.33 (1H, t, J = 8Hz) ;
5.53 (1H, br) ;
5.69 (1H, br) ;
5.84 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.81 (1H, t, J = 10Hz) ;
7.20 - 7.45 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2969, 2937, 1672, 1598, 1494, 1446, 1254, 821, 761, 696.
[실시예 39]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 37과 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 68% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
1.11 (3H, s) ;
1.00 - 2.60 (18H, m) ;
1.71 (3H, s) ;
1.73 (3H, s) ;
4.83 (1H, m) ;
5.52 (1H, br) ;
7.20 - 7.50 (6H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2969, 2940, 2907, 1707, 1673, 1495, 1448, 1386, 1225, 761, 697.
[실시예 40]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 37과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 (제접 2에서 제조)과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 82% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.89 (3H, s) ;
0.70 - 2.20 (23H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.73 (3H, s) ;
2.47 (2H, m) ;
2.94 (3H, s) ;
3.04 (1H, dd, J = 12 3Hz) ;
5.53 (1H, br) ;
7.20 - 7.50 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3315, 2967, 2942, 1670, 1628, 1547, 1527, 1442, 1368, 1228, 762, 698.
[실시예 41]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 37과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에서 제조)과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 66% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.93 (3H, s) ;
0.90 - 2.35 (16H, m) ;
1.71 (3H, s) ;
1.73 (3H, s) ;
2.96 (3H, s) ;
3.35 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.53 (1H, br) ;
5.85 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.68 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.20 - 7.45 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3332, 2964, 2943, 1674, 1658, 1604, 1537, 1448, 1244, 821, 705.
[실시예 42]
N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
실시예 37과 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에서 제조)과 1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 70%수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
1.06 (3H, s) ;
1.00 - 2.30 (16H, m) ;
1.71 (3H, s) ;
1.74 (3H, s) ;
2.50 - 2.60 (2H, s) ;
3.13 (3H, s) ;
5.04 (1H, m) ;
5.53 (1H, br) ;
7.20 - 7.45 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3333, 2970, 2950, 1677, 1636, 1519, 1448, 1382, 1245, 761, 696.
[실시예 43]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 82%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.80 (20H, m) ;
1.69 (3H, s) ;
1.71 (3H, s) ;
3.08 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
3.80 (3H, s) ;
5.49 (1H, br) ;
6.25 (1H, br) ;
6.88 (2H, d, J = 9Hz) ;
7.30 (2H, d, J = 9Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2939, 1701, 1674, 1615, 1514, 1497, 1455, 1360, 1251, 1180, 1034 827.
[실시예 44]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 78%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.98 (3H, s) ;
0.90 - 2.20 (16H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.72 (3H, s) ;
3.35 (1H, d, J = 9Hz) ;
3.80 (3H, s) ;
5.48 (1H, br) ;
5.76 (1H, br) ;
5.83 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.88 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.32 (2H, d, J = 9Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2969, 2938, 1672, 1599, 1514, 1455, 1248, 1181, 1035, 825.
[실시예 45]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 5엔 - 17β - 카르복실산과 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 65%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
1.10 (3H, s) ;
1.00 - 2.70 (18H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.72 (3H, s) ;
3.80 (3H, s) ;
4.91 (1H, m) ;
5.50 (1H, br.) ;
6.88 (2H, d, J = 9Hz) ;
7.34 (2H, d, J = 9Hz) ;
7.96 (1H, br.).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2940, 1708, 1672, 1514, 1497, 1385, 1251, 1180, 1033, 826.
[실시예 46]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서 기술된 바대로 제조)과 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 82%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.60 (20H, m) ;
1.69 (3H, s) ;
1.71 (3H, s) ;
2.94 (3H, s) ;
3.05 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
3.79 (3H, s) ;
5.49 (1H, br) ;
6.86 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.31 (1H, d, J = 9Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3333, 2940, 1675, 1643, 1513, 1455, 1384, 1304, 1247, 1180, 1035, 828.
[실시예 47]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에 기술된 바대로 제조)과 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 71%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s) ;
0.92 (3H, s) ;
0.80 - 2.30 (16H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.72 (3H, s) ;
2.96 (3H, s) ;
3.36 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
3.79 (3H, s) ;
5.50 (1H, br) ;
5.86 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.69 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.88 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.35 (1H, d, J = 9Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2968, 2940, 1662, 1605, 1513, 1453, 1247, 1180, 1034, 827.
[실시예 48]
N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에 기술된 바대로 제조)과 1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 72%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
1.06 (3H, s) ;
1.00 - 2.30 (16H, m) ;
2.50 - 2.60 (2H, m) ;
1.70 (3H, s) ;
1.72 (3H, s) ;
3.12 (3H, s) ;
3.80 (3H, s) ;
5.04 (1H, m) ;
5.50 (1H, br) ;
6.88 (2H, d, J = 9Hz).
7.32 (1H, d, J = 9Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3344, 2967, 2945, 1670, 1642, 1513, 1455, 1386, 1305, 1247, 1180, 1034, 829.
[실시예 49]
N - [1 - (2 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 1 - (2 - 티에틸) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 96%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
1.81 (3H, s) ;
1.82 (3H, s) ;
0.70 - 2.35 (18H, m) ;
2.39 - 2.45 (2H, m) ;
3.06 (1H, dd, J = 11 4Hz) ;
5.51 (1H, br) ;
5.78 (1H, br) ;
6.91 - 6.99 (2H, m) ;
7.17 (1H, dd, J = 5 2Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3296, 2937, 1663, 1449, 1360, 695.
[실시예 50]
N - [1 - (2 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1 - (2 - 티에닐) - 1 - 메틸에틸아민을 반응시켜 수득률 27%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
1.10 (3H, s) ;
1.05 - 2.30 (16H, m) ;
1.82 (3H, s) ;
1.89 (3H, s) ;
2.47 - 2.53 (2H, m) ;
4.85 (1H, d, J = 3Hz).
5.54 (3H, s) ;
6.91 - 6.99 (2H, m) ;
7.85 (1H, d, J = 3Hz).
7.17 (1H, dd, J = 5 2Hz) ;
7.53 (1H, br.).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3200, 2940, 1706, 1678, 1495, 1386, 1246, 1225, 695.
[실시예 51]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 84%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 0.67 (총 3H, 각각 s) ;
0.89 0.90 (총 3H, 각각 s) ;
0.73 - 2.45 (20H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 11 4Hz) ;
5.84 (1H, d, J = 8Hz) ;
5.88 (1H, br) ;
6.22 - 6.25 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
7.13 - 7.37 (9H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3360, 2978, 1736, 1652, 1514, 1371, 1199.
[실시예 52]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 63%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 0.69 (총 3H, 각각 s) ;
0.96 0.97 (총 3H, 각각 s) ;
0.80 - 2.30 (20H, m) ;
3.33 (1H, t, J = 8Hz) ;
5.68 (1H, br) ;
5.80 - 5.85 (2H, m).
6.23 6.26 (총 1H, 각각 d, J = 10Hz) ;
6.79 6.82 (총 1H, 각각 d, J = 10Hz) ;
7.14 - 7.37 (9H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3293, 2936, 1676, 1601, 1490, 8153, 700.
[실시예 53]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 78%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 0.71 (총 3H, 각각 s) ;
1.08 1.10 (총 3H, 각각 s) ;
1.10 - 2.60 (18H, m) ;
4.89 - 4.91 (1H, m) ;
5.86 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.23 6.26 (총 1H, 각각 d, J = 7Hz) ;
7.15 - 7.38 (9H, m).
7.87 (1H, br.).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2943, 1661, 1490, 1386, 694.
[실시예 54]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서 기술된바대로 제조)과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 78%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 0.67 (총 3H, 각각 s) ;
0.87 0.88 (총 3H, 각각 s) ;
0.70 - 2.60 (20H, m) ;
2.94 (3H, s)
3.01 - 3.07 (1H, m).
5.83 (1H, d, J = 6Hz) ;
6.22 - 6.26 (1H, m).
7.14 - 7.37 (9H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3305, 2940, 1646, 1622, 1521, 1490, 1226, 700.
[실시예 55]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에 기술된 바대로 제조)과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 58%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 0.68 (총 3H, 각각 s) ;
0.91 0.92 (총 3H, 각각 s) ;
0.84 - 2.30 (16H, m) ;
2.94 (3H, s) ;
3.34 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.82 ∼ 5.87 (2H, m) ;
6.23 6.26 (총 1H, 각각 d, J = 8Hz) ;
6.74 6.77 (총 1H, 각각 d, J = 10Hz) ;
7.14 ∼ 7.64 (9H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3430, 2940, 2910, 2447, 1621, 1522, 1463, 1441, 1277, 1250, 1139, 1019, 761.
[실시예 56]
N - [α - (4 - 클로로페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에 기술된 바대로 제조)과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 80%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 0.70 (총 3H, 각각 s) ;
1.04 1.05 (총 3H, 각각 s) ;
1.10 - 2.60 (16H, m) ;
3.12 (3H, s) ;
5.02 - 5.05 (1H, m) ;
5.85 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.23 6.26 (총 1H, 각각 d, J = 7Hz) ;
7.15 - 7.38 (9H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3316, 2945, 1670, 1644, 1518, 1490, 1388, 700.
[실시예 57]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 클로로페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 63%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.70 ∼ 3.02 (21H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 12 4Hz) ;
5.85 5.89 (2H, m) ;
6.19 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.72 - 6.78 (2H, m) ;
7.01 - 7.06 (2H, m) ;
7.19 - 7.34 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3292, 2937, 1652, 1514, 1495, 1228, 699.
[실시예 58]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 히드록시페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 95%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 0.68 (총 3H, 각각 s) ;
0.95 0.96 (총 3H, 각각 s) ;
0.80 ∼ 3.20 (17H, m) ;
3.32 (1H, t, J = 8Hz) ;
5.52 (1H, br.) ;
5.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
5.90 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.19 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.72 - 6.81 (3H, m).
7.02 - 7.07 (2H, m).
7.20 - 7.35 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3292, 2937, 1668, 1613, 1596, 1514, 1495, 1450, 1223, 816, 699.
[실시예 59]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 히드록시페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 77%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.65 0.69 (총 3H, 각각 s) ;
0.99 1.08 (총 3H, 각각 s) ;
0.85 ∼ 2.65 (22H, m) ;
6.17 (1H, s) ;
6.75 ∼ 6.79 (2H, m) ;
7.02 ∼ 7.07 (2H, m) ;
7.20 ∼ 7.35 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3189, 2943, 1673, 1661, 1612, 1514, 1493, 1386, 1222, 832, 700.
[실시예 60]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산 (제법 2에 기술된 바대로 제조)과 α - (4 - 히드록시페닐) 벤질아민을 반응시켜 수득률 46%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s) ;
0.87 0.88 (총 3H, 각각 s) ;
0.70 - 2.50 (21H, m) ;
2.92 (3H, s) ;
3.03 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.84 - 5.87 (1H, m) ;
6.17 - 6.21 (1H, m) ;
6.74 - 6.79 (2H, m) ;
7.02 - 7.06 (2H, m) ;
7.20 - 7.35 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3292, 2940, 1644, 1617, 1590, 1514, 1494, 1452, 1228, 699.
[실시예 61]
N - [(R) - 2 -(4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (R) - 2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 수득률 80%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.47 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
2.25 (3H, s) ;
0.65 - 3.30 (23H, m) ;
5.34 (1H, q, J = 5Hz) ;
5.48 (1H, q, J = 5Hz) ;
6.80 (1H, br.) ;
7.1 - 7.4 (9H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3218, 2935, 1644, 1495, 1305, 1121.
[실시예 62]
N - [(S) - 2 -(4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (S) - 2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 수득률 81%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.70 - 3.02 (23H, m) ;
2.29 (3H, s) ;
5.23 (1H, q, J = 7Hz) ;
5.57 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.50 (1H, br.) ;
6.94 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.02 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.15 - 7.35 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2939, 1664, 1516, 1496, 1371, 1361, 1313, 1234, 1120, 789, 704.
[실시예 63]
N - [(S) - 2 -(4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에 기술된 바대로 제조)과 (S) - 2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 수득률 46%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s) ;
0.85 (3H, s) ;
0.70 - 2.50 (20H, m) ;
2.29 (3H, s) ;
2.91 (3H, s) ;
2.90 - 3.15 (3H, m) ;
5.25 (1H, q, J = 7Hz) ;
5.58 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.95 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.02 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.15 - 7.35 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3323, 2942, 1646, 1516, 1454, 1393, 1305, 1228, 1103, 1037, 700.
[실시예 64]
N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 57%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.50 (20H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.45 (1H, br.) ;
6.97 - 7.37 (10H, m) ;
7.51 (1H, br.) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3198, 2934, 1698, 1652, 1589, 1493, 1324, 1188, 1120, 746, 693.
[실시예 65]
N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 22%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
0.97 (3H, s) ;
0.86 - 2.25 (20H, m) ;
3.33 (1H, dd, J = 9 7Hz) ;
5.48 (1H, br.) ;
5.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.79 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.98 - 7.35 (10H, m) ;
7.53 (1H, s) .
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3211, 2931, 1701, 1668, 1589, 1494, 1330, 814, 747, 693.
[실시예 66]
N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 25%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.73 (3H, s) ;
1.10 (3H, s) ;
0.88 - 2.51 (19H, m) ;
4.78 (1H, m) ;
6.98 - 7.31 (10H, m) ;
7.51 (1H, s) .
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3240, 2944, 1682, 1662, 1590, 1495, 1385, 1222, 748, 691.
[실시예 67]
N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 17β - 카르복실산과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 35%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.92 - 2.59 (20H, m) ;
2.95 (3H, s) ;
3.06 (1H, dd, J = 12 3Hz) ;
6.98 - 7.34 (10H, m) ;
7.50 (1H, s) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3236, 3208, 2935, 1695, 1619, 1602, 1494, 754, 693.
[실시예 68]
N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에 기술된 바대로 제조)과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 44%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s) ;
0.92 (3H, s) ;
0.75 - 2.29 (16H, m) ;
2.95 (3H, s) ;
3.34 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.85 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.67 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.98 - 7.35 (10H, m) ;
7.50 (1H, s) .
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3252, 2941, 1664, 1590, 1495, 747, 691.
[실시예 69]
N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드.
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산 (제법 5에 기술된 바대로 제조)과 N,N - 디페닐히드라진을 반응시켜 수득률 25%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.73 (3H, s) ;
1.05 (3H, s) ;
0.85 - 2.40 (16H, m) ;
2.51 - 2.55 (2H, m) ;
3.12 (3H, s) ;
5.02 - 5.05 (1H, m) ;
6.99 - 7.32 (10H, m) ;
7.49 (1H, s) .
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3246, 2964, 1698, 1622, 1591, 1495, 1332, 754, 694.
[실시예 70]
N - [(1S, 2R) - 2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (1R, 2S) - 2 - 아미노 - 1, 2 - 디페닐에탄올을 반응시켜 수득률 60%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.60 (3H, s) ;
0.89 (3H, s) ;
0.70 - 2.50 (23H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.00 (1H, d, J = 5Hz) ;
5.28 (1H, d, J = 5Hz) ;
7.00 - 7.30 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3426, 2938, 1659, 1494, 1453, 1387, 1307, 701.
[실시예 71]
N - [(1S, 2R) - 2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (1R, 2S) - 2 - 아미노 - 1, 2 - 디페닐에탄올을 반응시켜 수득률 88%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.60 (3H, s) ;
0.97 (3H, s) ;
0.90 - 2.20 (23H, m) ;
3.00 (3H, br.) ;
3.32 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.00 (1H, d, J = 5Hz) ;
5.28 (1H, d, J = 5Hz) ;
5.83 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.87 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.05 - 7.30 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3273, 2933, 1664, 1598, 1496, 1455, 822, 700.
[실시예 72]
N - [(1R, 2S) - 2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (1S, 2R) - 2 - 아미노 - 1, 2 - 디페닐에탄올을 반응시켜 수득률 56%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 (3H, s) ;
0.87 (3H, s) ;
0.70 - 2.70 (21H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.07 (1H, d, J = 4Hz) ;
5.30 (1H, dd, J = 7 4Hz) ;
5.76 (1H, br.) ;
6.12 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.96 - 7.08 (4H, m) ;
7.16 - 7.30 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3292, 3210, 2932, 1664, 1490, 1453, 1360, 1308, 698, 586.
[실시예 73]
N - [(1R, 2S) - 2 - 히드록시 - 1, 2 - 디페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 37에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (1S, 2R) - 2 - 아미노 - 1, 2 - 디페닐에탄올을 반응시켜 수득률 71%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.57 (3H, s) ;
0.95 (3H, s) ;
0.80 - 2.80 (17H, m) ;
3.35 (1H, m) ;
5.08 (1H, d, J = 4Hz) ;
5.31 (1H, dd, J = 7 4Hz) ;
5.84 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.05 (1H, br.) ;
6.16 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.84 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.95 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3438, 3278, 2931, 2846, 1679, 1601, 1494, 1452, 1386, 1220, 1124, 1064, 825, 700, 589.
[실시예 74]
N - (α - 메톡시카르보닐 - α - 페닐벤질) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 2에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 디페닐글리신 메틸 에스테르를 반응시켜 수득률 29%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.59 (3H, s) ;
1.08 (3H, s) ;
1.00 - 2.55 (18H, m) ;
3.75 (3H, s) ;
4.80 (1H, m) ;
6.99 (1H, br.) ;
7.20 - 7.45 (11H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2966, 2947, 1745, 1681, 1491, 1449, 1242, 1221, 698.
[실시예 75]
N - (디페닐메틸) - N - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 20에 기재한 바와 유사한 방법으로 N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산 (실시예 24에서 기술된 바대로 제조)과 요오드화메틸을 반응시켜 수득률 55%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.84 (3H, s) ;
0.93 (3H, s) ;
0.80 - 2.45 (16H, m) ;
2.85 (3H, s) ;
2.97 (3H, s) ;
3.35 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.58 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.10 - 7.32 (11H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2934, 1662, 1639, 1606, 1446, 1396, 1272, 1103, 700.
[실시예 76]
N - (디페닐메틸) - 4 - (2 - 카르복시에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
250mg의 N - (디페닐메틸) - 4 - (3 - 히드록시프로필) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 (이후 실시예 77에서 기술된 바대로 제조)를 10ml 아세톤에 용해하고, 1ml의 존스시약 (Jones' reagent)를 그용액에, 0℃에서, 첨가한다. 그다음 반응 혼합물은 0℃에서 30분간 교반한 뒤, 이소프로필 알콜을 그것에 첨가한다. 불용성 물질은 셀리트 (상표명, Celite) 여과기를 사용하여 여과시켜 버리고, 여액을 감압하에 증발 응축시킨다. 침전된 결정은 수집하여 디에틸에테르로 세척하여 202mg의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.88 (3H, s) ;
0.70 - 2.65 (22H, m) ;
3.14 (1H, d, J = 12Hz) ;
3.63 (1H, m) ;
3.83 (1H, m) ;
5.88 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.28 (1H, d, J = 8Hz) ;
7.20 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3301, 2942, 1729, 1643, 1622, 1600, 1494, 1449, 1227, 1193, 1029, 699.
[실시예 77]
N - (디페닐메틸) - 4 - (2 - 카르복시에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 4 - (3 - 히드록시프로필) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 디페닐메틸아민을 반응시켜 수득률 70%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s) ;
0.90 (3H, s) ;
0.70 - 2.30 (20H, m) ;
2.40 - 2.56 (2H, m) ;
2.90 (1H, br.) ;
3.06 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
3.40 - 3.78 (4H, m) ;
5.87 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.30 (1H, d, J = 8Hz) ;
7.18 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3309, 2940, 1644, 1618, 1522, 1494, 1448, 1412, 1227, 699.
[실시예 78]
N - [1, 2 - 디(2 - 티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸아민을 반응시켜 수득률 59%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.58 0.67 (총 3H, 각각 s);
0.99 (3H, s) ;
3.25 - 3.48 (3H, m) ;
5.47 - 5.73 (3H, m) ;
5.84 (1H, dd, J = 11 3Hz) ;
6.72 - 7.25 (7H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2933, 1675, 1498, 695.
[실시예 79]
N - [2 - (4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 - 티에틸) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - (4 - 플루오로페닐) - 1 - (2 - 티에닐) 에틸아민을 반응시켜 수득률 64%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 0.61 (총 3H, 각각 s);
0.95 (3H, s) ;
3.08 - 3.42 (3H, m) ;
5.35 - 5.73 (3H, m) ;
5.82 (1H, dd, J = 11 3Hz) ;
6.73 - 7.23 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1:
3288, 2934, 1675, 1599, 1509, 1443, 1221, 817, 696.
[실시예 80]
N - [2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - (2 - 티에틸) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - (2 - 티에닐) 에틸아민을 반응시켜 수득률 46%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.45 0.58 (총 3H, 각각 s);
0.93 (3H, s) ;
2.31 (3H, s) ;
3.0 - 3.4 (3H, m) ;
5.3 - 5.7 (3H, m) ;
5.82 (1H, dd, J = 11 3Hz) ;
6.6 - 7.2 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3288, 2932, 1675, 1599, 1515, 1227, 816, 695.
[실시예 81]
N - [2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
표제 화합물은 실시예 1에 기재한 바와 유사한 방법으로 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - (4 - 메틸톡시페닐) - 1 - 페닐에틸아민을 반응시켜 수득률 44%로 제조된다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.52 0.53 (총 3H, 각각 2);
0.94 0.95 (총 3H, 각각 2);
2.91 - 3.18 (2H, m) ;
3.31 (1H, br, s) ;
3.76 (3H, s) ;
5.15 - 5.6 (3H, m) ;
5.82 (1H, dd, J = 11, 3Hz) ;
6.72 - 7.37 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2934, 1675, 1600, 1512, 1248, 1177, 817, 699.
[실시예 82]
N - [2 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - (4 - 메톡시페닐) - 1- (2 - 티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 65%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.47 0.58 (총 3H, 각각 s);
0.94 (3H, s);
3.0 - 3.38 (3H, m) ;
3.77 (3H, s);
5.26 (1H, s);
5.20 - 5.67 (2H, m) ;
5.82 (1H, dd, J = 14 6Hz) ;
6.73 - 7.2 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3196, 2931, 1676, 1600, 1513, 1248, 1031, 819.
[실시예 83]
N - [2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 2 - 페닐 - 1- (2 - 티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 54%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 0.61 (총 3H, 각각 s);
1.06 (3H, s);
3.12 (1H, m);
4.7 - 5.7 (2H, m) ;
6.7 - 7.4 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1665, 1601.
[실시예 84]
N - [2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
N-[2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드와 메틸 요오다이드를 반응시킴으로써 실시예 20에서와 유사한 방법으로 표제 화합물 20%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.45 0.60 (총 3H, 각각 s);
1.07 (3H, s);
2.93 (3H, s);
3.21 (3H, m);
4.7 - 5.7 (2H, m) ;
6.7 - 7.4 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1666, 1601.
[실시예 85]
N - [2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산 (제법 5에서와 같이 제조)과 2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물 48%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 0.61 (총 3H, 각각 s);
1.08 (3H, s);
2.92 (3H, s);
4.7 - 5.7 (3H, m) ;
6.7 - 7.4 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxm-1:
1665, 1601.
[실시예 86]
N - [2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 58%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm ;
0.42 0.58 (총 3H, 각각 s);
0.97 (3H, s);
3.05 - 3.38 (3H, m) ;
5.28 (1H, s);
5.37 - 5.74 (2H, m) ;
5.80 (1H, dd, J = 14 5Hz) ;
6.77 (1H, m);
6.91 (2H, m);
7.08 - 7.33 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2967, 2933, 1674, 1600, 1469, 1227, 697.
[실시예 87]
N - [비스 (4 - 메톡시페닐) 메틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 비스 (4 - 메톡시페닐) 메틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 69%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.77 (3H, s);
0.97 (3H, s);
3.32 (1H, t, J = 10Hz) ;
3.78 (3H, s);
3.79 (3H, s);
5.7 - 5.9 (3H, m) ;
6.18 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.7 - 7.2 (9H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2934, 2837, 1678, 1661, 1601, 1509, 1245, 1175, 1034, 818.
[실시예 88]
N - [1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 47%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.57 0.66 (총 3H, 각각 s);
0.98 (3H, s);
3.21 (1H, m);
5.4 - 5.9 (3H, m) ;
6.7 - 7.3 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1670, 1601.
[실시예 89]
N - [1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서와 같이 제조)과 1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 37%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.56 0.66 (총 3H, 각각 s);
0.97 (3H, s);
2.91 (3H, s);
3.12 (1H, m);
5.4 - 5.9 (2H, m) ;
6.7 - 7.3 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1670, 1602.
[실시예 90]
N - [1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 40%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.57 0.67 (총 3H, 각각 s);
0.98 (3H, s);
5.4 - 5.9 (4H, m) ;
6.7 - 7.3 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1665, 1601.
[실시예 91]
N - [1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4- 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에서와 같이 제조)과 1, 2 - 디(2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 49%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.56 0.66 (총 3H, 각각 s);
0.97 (3H, s);
2.93 (3H, s);
5.4 - 5.9 (3H, m) ;
6.7 - 7.3 (6H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1665, 1600.
[실시예 92]
N - [α - (4 - 메톡시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 메톡시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 66%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s);
1.00 (3H, s);
3.36 (1H, m);
3.60 (3H, s);
5.73 (1H, br, s);
5.84 (2H, m);
6.23 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.78 - 7.38 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2935, 1678, 1511, 1248, 818, 699.
[실시예 93]
N - [α - (4 - 메톡시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 메톡시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 40%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.89 (3H, s);
0.70 - 2.70 (20H, m) ;
3.05 (1H, dd, J = 11 4Hz) ;
5.68 (1H, br.);
5.83 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.22 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.82 - 6.88 (2H, m) ;
7.10 - 7.36 (7H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3304, 2935, 1664, 1511, 1248, 1033, 700.
[실시예 94]
N - [α - (4 - 메톡시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서와 같이 제조)과 α - (4 - 메톡시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 46%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.88 (3H, s);
0.70 - 2.30 (16H, m) ;
2.41 - 2.46 (2H, m) ;
2.92 (3H, s);
3.02 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
3.79 (3H, s);
5.83 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.22 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.83 - 6.87 (2H, m) ;
7.11 - 7.35 (7H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3306, 2936, 1644, 1624, 1511, 1248, 1034, 699.
[실시예 95]
N - [α - (4 - 메톡시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔-17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 α - (4 - 메톡시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 57%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s);
1.09 (3H, s);
1.05 - 2.70 (19H, m) ;
3.79 (3H, s);
4.80 - 4.82 (1H, m) ;
5.85 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.23 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.83 - 6.88 (2H, m) ;
7.11 - 7.40 (7H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1661, 1511, 1249, 1033, 700.
[실시예 96]
N - [α - (4 - 메톡시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔-17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에서와 같이 제조)과 α - (4 - 메톡시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 47%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s);
1.04 (3H, s);
1.10 - 2.30 (16H, m) ;
2.40 - 2.54 (3H, m) ;
3.11 (3H, s);
3.79 (3H, s);
5.01 - 5.04 (1H, m) ;
5.85 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.23 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.83 - 6.87 (2H, m) ;
7.12 - 7.35 (7H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3312, 2945, 1669, 1644, 1511, 1248, 1033, 700.
[실시예 97]
N - [2 - 페닐 - 1 - (2-티에닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 2 - 페닐 - 1 -(2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 45%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.45 0.61 (총 3H, 각각 s);
1.07 (3H, s);
4.7 - 5.7 (4H, m) ;
6.7 - 7.4 (8H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1663, 1602.
[실시예 98]
N - [(S) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산 및 (S) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 91%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s);
0.94 (3H, s);
0.90 - 2.20 (16H, m) ;
3.00 - 3.11 (2H, m) ;
3.31 (1H, t, J = 8Hz) ;
5.22 - 5.31 (1H, m) ;
5.47 (1H, br.);
5.59 (1H, d, J = 7Hz) ;
5.80 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.77 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.00 - 7.35 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3225, 2931, 1667, 1602, 1495, 1475, 1453, 1220, 825, 698.
[실시예 99]
N - [(S) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복실산과 (S) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 92%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.54 (3H, s);
1.07 (3H, s);
0.80 - 2.60 (18H, m) ;
3.00 - 3.20 (2H, m) ;
4.77 - 4.80 (1H, m) ;
5.23 - 5.31 (1H, m) ;
5.60 (1H, d, J = 7Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2943, 1677, 1660, 1640, 1518, 1496, 1454, 1386, 1223, 699.
[실시예 100]
N - [(S) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서와 같이 제조)과 (S) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 77%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.50 (3H, s);
0.85 (3H, s);
0.70 - 2.20 (18H, m) ;
2.40 - 2.50 (2H, m) ;
2.92 (3H, s);
2.99 - 3.17 (3H, s) ;
5.26 (1H, q, J = 7Hz) ;
5.88 (1H, d, J = 7Hz) ;
7.03 - 7.34 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3318, 2941, 1645, 1528, 1495, 1454, 1393, 1305, 1228, 1031, 757, 700.
[실시예 101]
N - [(S) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에서와 같이 제조)과 (S) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 90%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s);
0.89 (3H, s);
0.90 - 2.20 (16H, m) ;
2.94 (3H, s);
3.33 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
5.22 - 5.31 (1H, m) ;
5.59 (1H, d, J = 7Hz) ;
5.84 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.65 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3320, 2941, 1659, 1603, 1525, 1495, 1453, 1226, 820, 699.
[실시예 102]
N - [(S) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에서와 같이 제조)과 (S) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 91%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.53 (3H, s);
1.01 (3H, s);
0.90 - 2.30 (16H, m) ;
2.49 - 2.54 (2H, m) ;
3.11 (3H, s);
3.05 - 3.20 (2H, m) ;
5.00 - 5.03 (1H, m) ;
5.27 (1H, q, J = 7Hz) ;
5.60 (1H, d, J = 7Hz) ;
7.00 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3402, 2949, 1648, 1624, 1520, 1468, 1361, 1267, 760, 700.
[실시예 103]
N - [(R) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (R) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 73%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 (3H, s);
0.95 (3H, s);
0.90 - 1.80 (14H, m) ;
2.00 - 2.25 (2H, m) ;
2.95 - 3.23 (2H, m) ;
3.31 (1H, t, J = 7Hz) ;
5.30 - 5.55 (3H, m) ;
5.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3214, 2936, 1676, 1601, 1528, 1495, 1453, 1229, 818, 698.
[실시예 104]
N - [(R) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5- 엔 - 17β - 카르복실산과 (R) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 80%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.49 (3H, s);
1.08 (3H, s);
0.90 - 2.30 (16H, m) ;
2.40 - 2.60 (2H, m) ;
2.90 - 3.25 (2H, m) ;
4.67 - 4.79 (1H, m) ;
5.30 - 5.38 (1H, m) ;
5.50 (1H, d, J = 8Hz) ;
7.10 - 7.40 (11H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3185, 2945, 1670, 1495, 1454, 1386, 1222, 832, 760, 699.
[실시예 105]
N - [(R) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 (제법 2에와 같이 제조)과 (R) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 96%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 (3H, s);
0.87 (3H, s);
0.70 - 2.20 (18H, m) ;
2.30 - 2.50 (2H, m) ;
2.92 (3H, s);
2.95 - 3.20 (3H, m) ;
5.29 - 5.37 (1H, m) ;
5.48 (1H, d, J = 7Hz) ;
7.05 - 7.40 (10H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3317, 2939, 1645, 1527, 1495, 1453, 1392, 1305, 1228, 1032, 699.
[실시예 106]
N - [(R) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (제법 4에와 같이 제조)과 (R) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 86%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.46 (3H, s);
0.90 (3H, s);
0.80 - 2.25 (16H, m) ;
2.95 (3H, s);
2.90 - 3.40 (3H, m) ;
5.29 - 5.38 (1H, m) ;
5.49 (1H, d, J = 7Hz) ;
5.88 (1H, d, J = 9Hz) ;
6.69 (1H, d, J = 9Hz) ;
7.10 - 7.40 (10H, m)1
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3323, 2940, 1663, 1603, 1526, 1495, 1453, 1227, 820, 699.
[실시예 107]
N - [(R) - 1, 2 - 디페닐에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (제법 5에와 같이 제조)과 (R) - 1, 2 - 디페닐에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 1에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 82%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.49 (3H, s);
1.03 (3H, s);
0.90 - 2.30 (16H, m) ;
2.50 - 2.60 (2H, m) ;
3.11 (3H, m);
2.99 - 3.20 (2H, m) ;
5.00 - 5.03 (1H, m) ;
5.30 - 5.38 (1H, m) ;
5.50 (1H, d, J = 7Hz).
7.10 - 7.40 (10H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3434, 2940, 1672, 1663, 1649, 1495, 1453, 1389, 758, 701.
[실시예 108]
N - [1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 1 - 메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 2에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 27%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s);
0.97 (3H, s);
0.90 - 1.85 (16H, m) ;
1.81 (3H, s);
1.82 (3H, s);
2.02 - 2.07 (2H, m) ;
3.32 (1H, t, J = 9Hz) ;
5.39 (1H, br.);
5.53 (1H, s);
5.81 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.79 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.91 - 6.99 (2H, m) ;
7.16 - 7.19 (1H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3253, 2931, 1675, 1656, 1596, 1489, 1453, 818, 700.
[실시예 109]
N - [1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제법 2에서와 같이 제조)과 1 - 메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 2에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 42%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.88 (3H, s);
0.70 - 2.25 (18H, m) ;
1.81 (3H, s);
1.82 (3H, s);
2.42 - 2.47 (2H, m) ;
2.92 (3H, s);
3.02 (1H, dd, J = 12 3Hz) ;
5.51 (1H, s);
6.91 - 6.99 (2H, m) ;
7.16 - 7.18 (1H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3312, 2943, 1671, 1627, 1537, 1526, 1383, 1227, 707.
[실시예 110]
N - [1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에서와 같이 제조)과 1 - 메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 2에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 26%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s);
0.92 (3H, s);
0.90 - 1.86 (12H, m) ;
1.81 (3H, s);
1.82 (3H, s);
1.96 - 2.17 (4H, m) ;
2.95 (3H, s);
3.34 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.52 (1H, s);
5.86 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.68 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.91 - 6.99 (2H, m) ;
7.16 - 7.19 (1H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3323, 2967, 2941, 1658, 1604, 1540, 1245, 821.
[실시예 111]
N - [1 - 메틸 - 1 -(2 - 티에닐) 에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 5에서와 같이 제조)과 1 - 메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸아민을 반응시킴으로써 실시예 2에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 50%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.71 (3H, s);
1.05 (3H, s);
1.05 - 2.29 (16H, m) ;
1.82 (3H, s);
1.83 (3H, s);
2.50 - 2.55 (2H, m) ;
3.11 (3H, s);
5.01 - 5.04 (1H, m) ;
5.54 (1H, s);
6.91 - 7.00 (2H, m) ;
7.16 - 7.19 (1H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3321, 2966, 1677, 1636, 1522, 1383, 1247, 688.
[실시예 112]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제법 4에서와 같이 제조)과 α - (4 - 히드록시페닐) 벤질아민을 반응시킴으로써 실시예 37에서와 유사한 방법으로 표제 화합물을 90%의 수율로 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.91 (3H, s);
0.93 - 2.03 (16H, m) ;
2.18 - 2.22 (2H, m) ;
2.94 (3H, s);
3.35 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.83 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.16 (3H, s);
6.70 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.75 - 6.80 (2H, m) ;
7.01 - 7.06 (2H, m) ;
7.20 - 7.35 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3274, 2943, 1641, 1615, 1599, 1514, 820, 703.
[실시예 113]
N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 기재한 것으로 제조)과 α - (4 - 히드록시페닐) 벤질아민을 실시예 37에서 기재한 유사한 방법으로 반응시켜 25% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.70 (3H, s);
1.04 (3H, s);
1.07 - 2.30 (17H, m) ;
2.49 - 2.55 (2H, m) ;
3.12 (3H, s);
5.04 (1H, dd, J = 5 2Hz) ;
5.87 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.20 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.73 - 6.78 (2H, m) ;
7.02 - 7.07 (2H, m) ;
7.22 - 7.36 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3282, 2946, 1628, 1595, 1517, 1452, 1274, 1239, 701.
[실시예 114]
N - [(S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 71% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s);
0.94 (3H, s);
0.90 - 2.20 (16H, m) ;
2.28 (3H, s);
3.00 - 3.07 (2H, m) ;
3.31 (1H, t, J = 7Hz) ;
5.23 (1H, dd, J = 14 7Hz) ;
5.40 (1H, bH);
5.58 (1H, d, J = 7Hz) ;
5.80 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.77 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.93 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.03 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.19 - 7.33 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmax cm-1:
3438, 3226, 2931, 1683, 1676, 1607, 1475, 698.
[실시예 115]
N - [(S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸 ] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 (S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 81% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.54 (3H, s);
1.07 (3H, s);
1.00 - 2.60 (19H, m) ;
2.28 (3H, s);
3.00 - 3.09 (2H, m) ;
4.76 - 4.79 (1H, m) ;
5.24 (1H, dd, J = 14 7Hz) ;
5.58 (1H, dH J = 7Hz);
6.93 (2H, d, J=8Hz) ;
7.03 (2H, d, J=8Hz) ;
7.17 - 7.33 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3420, 3140, 2944, 1678, 1660, 1637, 1518, 707.
[실시예 116]
N - [(S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 기재한 것으로서 제조)과 (S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 50% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.51 (3H, s);
0.89 (3H, s);
0.80 - 2.20 (16H, m) ;
2.28 (3H, s);
2.94 (3H, s);
3.02 - 3.07 (2H, m) ;
3.33 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.20 - 5.30H (1H, m) ;
5.57 (1H, d, J=7Hz) ;
5.87 (2H, d, J=10Hz) ;
6.66 (1H, d, J=10Hz) ;
6.93 (2H, d, J=8Hz) ;
7.03 (2H, d, J=8Hz) ;
7.19 - 7.33 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3359, 2945, 1651, 1598, 1525, 1448, 700.
[실시예 117]
N - [(S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸 ] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 기재한 것으로서 제조)과 (S) - 1 - 페닐 - 2 - (4 - 메틸페닐) 에틸아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 58% 수율로 표제 화합물을 제조한다.H
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.53 (3H, s);
1.01 (3H, s);
1.05 - 2.27 (16H, m) ;
2.28 (3H, s);
2.49 - 2.54 (2H, m) ;
3.03 - 3.07 (2H, m) ;
3.11 (3H, s);
5.02 (1H, dH, J = 5 2Hz) ;
5.24 (1H, dd, J = 15 7Hz) ;
5.58 (1H, d, J = 7Hz) ;
6.93 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.03 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.19 - 7.33 (5H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3396, 2945, 1665, 1645, 1627, 1519, 1471, 704.
[실시예 118]
N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드
N-디페닐메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 640mg을 20ml의 건조 디옥산 중에서 용해시키고, 생성된 용액에 310mg의 2, 3 - 디클로로 - 5, 6 - 디시아노 - p - 벤조퀴논 및 1356mg의 N, O - 비스(트리메틸실릴) 트리플루오로아세트아미드를 가한다. 반응 용액은 그후 실온에서 4시간 동안 교반하고, 4시간 후 13시간동안 환류하에서 가열한다. 반응 혼합물을 그후 실온까지 냉각시키고 100ml의 염화 메틸렌으로 희석한다. 그후 1N의 염산 수용액, 물, 탄산수소나트륨 및 포화 염화나트륨 수용액 순으로 세척하고, 그후 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 감압하에서 증발 응축시킨다. 생성 잔류물은 15g의 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한다. 부피비로 1:9 - 2:3 범위인 아세톤 및 염화 메틸렌 혼합물로 경사 용리하여 360mg의 표제 화합물을 수득한다. 표제 화합물의 NMR 및 IR은 실시예 7에서 기재한 것으로서 제조한 화합물과 같았다.
[실시예 119]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 17β - 카르복실산과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 73% 수율로 표제 화합물을 제조한다.H
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.65 (3H, s);
0.89 (3H, s);
0.75 - 2.20 (18H, m) ;
1.65 (3H, s);
1.68 (3H, s);
2.13 (3H, s);
2.37 - 2.43 (2H, m) ;
3.05 (1H, dH, J = 12 4Hz) ;
7.31 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.45 (2H, d, J = 8Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3303, 3194, 2940, 2917, 1698, 1672, 1609, 1546, 1495, 1405, 829, 560.
[실시예 120]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 59% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3+ CD3OD), δ ppm :
0.66 (3H, s);
0.97 (3H, s);
1.00 - 2.20 (16H, m) ;
1.66 (3H, s);
1.68 (3H, s);
2.13 (3H, s);
3.32 (1H, dd J = 9 6Hz) ;
5.80 (1H, dH, J = 10Hz) ;
6.82 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.32 (2H, d, J = 9Hz) ;
7.45 (2H, d, J = 9Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3305, 3193, 2936, 1707, 1672, 1606, 1545, 1495, 1321, 822, 561.
[실시예 121]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β -카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 50% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s);
1.10 (3H, s);
1.00 - 2.50 (18H, m) ;
1.66 (3H, s);
1.68 (3H, s);
2.18 (3H, s);
7.32 (2H, d, J = 9Hz) ;
7.45 (2H, dH J = 9Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1a :
3300, 3194, 2939, 1705, 1671, 1610, 1574, 1495, 1387, 1322, 1225, 830, 561.
[실시예 122]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β -카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산(제조예 2에서 기재한 것으로서 제조)과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 40% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 (3H, s);
0.90 (3H, s);
0.75 - 2.50 (21H, m) ;
1.67 (3H, s);
1.69 (3H, s);
2.15 (3H, s);
2.93 (3H, s);
3.04 (1H, dH, J = 12 3Hz) ;
5.54 (1H, br);
7.33 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.42 (2H, d, J = 8Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3305, 2938, 1688, 1673, 1623, 1530, 1398, 1318, 1252, 834, 557.
[실시예 123]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 4에서 기재한 것으로서 제조)과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 67% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.93 (3H, s);
0.90 - 2.20 (17H, m) ;
1.67 (3H, s);
1.70 (3H, s);
2.17 (3H, s);
2.96 (3H, s);
3.35 (1H, dH, J = 13 3Hz) ;
5.54 (1H, br);
5.89 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.69 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.33 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.42 (2H, d, J = 8Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3309, 2971, 2936, 1689, 1675, 1605, 1534, 1315, 1256, 824.
[실시예 124]
N - [1-(4-아세트아미도페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β -카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산(제조예 5에서 기재한 것으로서 제조)과 4 - (1 - 아미노 - 1 - 메틸에틸) 아세트아닐리드를 실시예 37에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 61% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.69 (3H, s);
1.63 (3H, s);
1.00 - 2.30 (17H, m) ;
1.67 (3H, s);
1.70 (3H, s);
2.15 (3H, s);
2.50 - 2.58 (2H, m) ;
3.12 (3H, sH ;
5.04 (1H, dd, J = 5 2Hz) ;
5.55 (1H, br);
7.34 (2H, d, J = 8Hz) ;
7.41 (2H, d, J = 8Hz).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3302, 2968, 1667, 1653, 1641, 1529, 1382, 1319, 1264, 835, 560.
[실시예 125]
N - [4,4'-디메톡시디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β -카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복실산과 4,4'-디메톡시벤즈히드릴아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 50% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
1.09 (3H, s);
1.10 - 2.30 (20H, m) ;
2.45 - 2.50 (2H, m) ;
3.79 (3H, s);
4.77 - 4.79 (1H, m) ;
5.81 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.18 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.82 - 6.88H (4H, m) ;
7.11 - 7.18 (4H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
1662, 1609, 1511, 1488, 1248, 1176, 1035, 831.
[실시예 126]
N - [4-메톡시디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복스아미드
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복실산 (제조에 4에서 기재한 것으로서 제조)과 4-메톡시벤즈히드릴아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 51% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s);
0.91 (3H, s);
0.90 - 1.88 (12H, m) ;
1.90 - 2.10 (2H, m) ;
2.17 - 2.30 (2H, m) ;
2.95 (3H, s);
3.34 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
3.79 (3H, s);
5.83 - 5.87 (1H, m) ;
5.85 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.23 (2H, d, J = 8Hz) ;
6.66 (1H, d, J = 10Hz) ;
7.12 - 7.16 (2H, m) ;
7.20 - 7.36 (5H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3312, 2939, 1663, 1604, 1511, 1248, 820, 699.
[실시예 127]
N - [4,4'-디메톡시디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 17β -카르복스아미드
3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복실산과 4,4'-디메톡시벤즈히드릴아민을 실시예 1에서 기재한 것과 유사한 방법으로 반응시켜 51% 수율로 표제 화합물을 제조한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.67 (3H, s);
0.89 (3H, s);
0.70 - 2.35 (18H, m) ;
2.37 - 2.43 (2H, m) ;
3.04 (1H, dd, J = 11 4Hz) ;
3.78 (3H, s);
3.79 (3H, s);
5.54 (1H, br) ; H 5.79 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.17 (1H, d, J = 8Hz) ;
6.82 - 6.88 (4H, m) ;
7.10 - 7.16 (4H, m).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3305, 2936, 1659, 1511, 1247, 1175, 1034, 830.
[제조예 1]
메틸 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β -카르복실레이트
건조 디메틸포름아미드 74ml중에 있는 5.18g의 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β -카르복실레이트 현탁액을 30ml의 건조 디메틸포름아미드중에 있는 0.82g의 수소화 나트륨 현탁액 광물성 유중 55% w/w 분산)을 실온에서 적가하고, 상기 현탁액을 70℃에서 1시간 동안 교반한다. 1시간후, 22.1g의 요오드화 메틸을 실온에서 혼합물에 적하하고 혼합물은 실온에서 100분동안 교반한 후 70℃에서 1시간 동안 더 교반한다. 그후 반응 혼합물은 디에틸 에테르로 희석하고, 물(두번) 및 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고 무수 황산 나트륨 상에서 건조시킨다 : 그후 용매는 감압하에서 증류시켜 제거한다. 생성된 잔류물은 290g의 실리카겔 컬머 크로마토그래피로 정제한다. 부피비로 1:5 - 1:2 범위에 있는 아세톤 및 염화메틸렌 혼합물로 경사 용리하여 표제 화합물 2.95g을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.66 (3H, s);
0.88 (3H, s);
0.77 - 2.60 (20H, m) ;
2.92 (3H, s);
3.03 (1H, dd, J = 12 3Hz) ;
3.67 (3H, s).
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2932, 1732, H1649, 1209.
[제조예 2]
메틸 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β -카르복실산
1.68g의 수산화칼륨 및 3.0ml의 물을 12.1ml의 메탄올 중에 있는 2.94g의 메틸 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β -카르복실레이트 (제조예 1에서 기재한 것으로서 제조) 용액에 가하고, 혼합물은 환류하에서 3시간 동안 교반한다. 3시간 후에 반응 혼합물을 감압하에서 증발 응축시킨다. 생성 잔류물은 염산 수용액을 가하여 산화시킨다. 석출된 결정을 여과로 모으고, 물로 세척하고 공기중에서 건조시켜 2.2g의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.72 (3H, s);
0.88 (3H, s);
0.75 - 2.60 (21H, m) ;
2.93 (3H, s);
3.07 (1H, dd, J = 12 3Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2938, 1716, 1604, 1212, 1191, 723.
[제조예 3]
메틸 H4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복실레이트
110ml의 건조디메틸아세트아미드 중에 있는 2.99g의 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복실레이트를 빙냉하면서 10ml의 건조 디메틸아세트아미드 중에 있는 0.79g의 수소화나트륨 현탁액(광물성유중에서 55% w/w 분산)을 가한다. 그리고 현탁액을 70℃에서 30분 동안 교반한다. 30분 후에, 실온에서 요오드화메틸 13.0g을 현탁액에 적가하고, 혼합물은 실온에서 2.5시간 동안 교반한다. 반응 혼합물은 그후 디에틸 에테르로 희석하고 물(세번) 및 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고 무수 황산 나트륨 상에서 건조시킨다 : 용매는 감압하에서 증발시켜 제거한다. 생성 잔류물은 160g의 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제한다. 부피비로 1:20 - 1:2 범위에 있는 아세톤 및 염화 메틸렌 혼합물로 경사 용리하여 2.15g의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.68 (3H, s);
0.92 (3H, s);
0.88 - 2.20 (15H, m) ;
2.36 (1H, t, J = 9Hz) ;
2.96 (3H, s);
3.36 (1H, dd, J = 13 4Hz) ;
3.67 (3H, s);
5.91 (1H, dH J = 10Hz) ;
6.71 (1H, d, J = 10Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2944, 1729, 1660, 1606, 1432, 1218, 1199, 1174, 1154, 822.
[제조예 4]
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복실산
1.22g의 수산화칼륨 (순도 85 w/w %) 및 2.2ml의 물을 8.8ml의 디옥산중에 있는 2.15g의 메틸 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β -카르복실레이트 (제조예 3에서 기재한 것으로서 제조) 용액에 가하고 혼합물은 환류하에서 3시간 동안 교반한다. 3시간 후에 반응 혼합물을 감압하에서 증발 응축 시킨다. 생성 잔류물은 염산 수용액을 가하여 산화시킨다. 석출된 결정을 여과로 모으고, 물로 세척하고 공기중에서 건조시켜 2.15g의 표제 화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.73 (3H, s);
0.92 (3H, s);
0.80 - 2.20 (16H, m) ;
2.37 (1H, t, J = 9Hz) ;
2.96 (3H, s);
3.37 (1H, dd, J = 13 3Hz) ;
5.88 (1H, d, J = 10Hz) ;
6.74 (1H, d, J = 10Hz) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
2939, 1713, 1655, 1589, 1451, 1220, 1213, 1199, 823.
[제조예 5]
4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β -카르복실산
메탄올중에 있는 40% v/v의 메틸아민용액 37ml를 150ml의 에틸렌글리콜 중에 있는 26.0g의 17β -카르복시 - 5 - 옥소 - A - 노르 - 3, 5 - 세코안드로스탄 - 3 - 카르복실산 용액에 가하고, 혼합물은 30분 동안 같은 온도에서 교반한다. 그후 반응 혼합물을 교반하면서 점차로 가열하여 180℃가 되게하고 180℃에서 30분간 더 교반한다. 30분후에 생성 혼합물을 실온으로 냉각시키고 200ml의 물을 가한다. 석출된 결정을 여과하여 모으고 물로 세척하고 공기중에서 건조시켜 22.0g의 표제화합물을 수득한다.
NMR 스펙트럼 (CDCl3), δ ppm :
0.77 (3H, s);
1.05 (3H, s);
1.00 - 2.70 (18H, m) ;
2.37 (1H, t, J = 9Hz) ;
3.13 (3H, s);
5.03 - 5.06 (1H, m) ;
IR 흡수 스펙트럼 (KBr), νmaxcm-1:
3459, 2943, 1726, 1616, 1474, 1393, 1329, 1230, 1168, 1057.
[시험예]
(1) 쥐 전립선으로부터 5α 환원효소의 제조
성숙한 수컷쥐(몸무게 350-450g, sprague-Dawley종)의 전립선염을 가위로 작은 조각이 되게 자른다. 약 3 중량부의 완충액 [0.33M 설탕, 1mM 디티오트레톨, 50μM 니코틴아미드아데닌 디누클레오티드 인산-환원형 (NADPH) 및 0.001% PMSF (페닐메틸술포닐 플루오라이드)를 함유하는 2mM의 인산 칼륨 완충액 (pH 7.4)]을 조직 조각 1 중량부에 가하고, 혼합물은 폴리트론 (상품명, KINEMATICA GmbH) 균질기로 우선 균질화하고 그후 테프론(상품명)유리 균질기로 균질화한다. 이렇게하여 균질화한 전립선 조직 현탁액을 원심분리 (140000 x g, 60분)하여 침전물을 분리한다.
상기 기재한 완충액 약 3 중량부를 침전물 1부에 가하여 현탁시키고, 현탁액을 다시 원심분리 (140000 x g, 60분)하여 세척하고 침전물은 분리한다. 이것은 쥐 5a -환원효소 제조로 생각된다. 상기 기재한 완충액의 충분한 양을 용액의 단백질 함량이 20-40mg/ml가 되게 하기 위해 상기 침전물에 가한다. 용액을 냉각시키고 -80℃에서 저장한다. 단백질 함량은 단백질 표준물질로서 소속동물의 γ-글로불린 (Cohn Fraction II, Sigma)를 사용하여 Bil-Rad 단백질 분석으로 결정한다.
(2) 쥐 5α - 환원효소 억제의 분석
시험할 시험 화합물이 용해되어 있는 5μl의 디메틸 술폭시드 또는 에탄올 용액을 쥐 5α - 환원효소 (단백질 함량, 1mg), 1μM (14C) 테스토스테론, 1mM 디티오트레이톨 및 500μM NADPH (시험 화합물의 마지막 농도 10-8)을 함유하는 40mM의 인산칼륨 완충액 (pH 6.5) 0.5ml에 가하고 37℃에서 15-30분 동안 배양한다. 대조군으로 용매만을 시료에 가하였다. 그후 각각 10μg 테스토스테론, 5α - 디히드로테스토스테론 및 안드로스텐디온을 함유하는 2ml의 에틸 아세테이트를 가하여 반응을 중지시켰다. 혼합물을 원심 분리 (1400 x g, 5분) 하였다. 에틸아세테이트 층을 분리하여 다른 시험관에 이동시키고, 질소기체로 분무하면서 증발건조시킨다. 스테로이드를 40μl의 에틸 아세테이트에 용해시킨다. 용액을 얇은 막 크로마토그래피판 (LKSDF 실리카판, Whatman)에 점적하고 에틸 아세테이트와 시클로헥산의 혼합물 (부피비로 1:1)로 2번 실온에서 전개한다. 스테로이드 부분을 자외 방사선에 의한 색 전개 또는 1% 황산세슘 / 10% 황산 용액과 함께 가열하여 확인한다. 얇은 막 크로마토그래피 판 위에서 방사능은 bio-image 검편기 (Fuji Film Co. Ltd.)로 측정한다. 효소 활성은 초기에 가한 [14C] 테스토스테론으로부터 전환한 [14C] 5α - 디히드로 - 테스토스테론의 [ 전환비율 (%) ]양으로 주어진다. 시험 시료의 쥐 5α - 환원효소 억제 활성율은 하기식으로부터 산출된다 :
결과를 하기 표에 나타낸다.
(3) 급성 독성 시험
활성화합물을 0.5% 카르복시메틸 셀룰로오스수용액에 현탁시켜, 수컷 ddy 생쥐 (생후 5주)에 경구투여 (투여량 : 1,000mg/kg(체중))하고, 7일간 관찰하였다. 활성 화합물로는, 실시예 9, 실시예 25, 실시예 29 및 실시예 30의 화합물을 사용하였으며, 각 화합물을 3마리의 생쥐에 투여하였다.
결과
상기 급성 독성 시험에 있어서, 사망 예는 없었다.
(4) 제제화 데이터
실시예 9의 화합물 10g, 유당 85g 및 옥수수 전분 1g을 블렌더로 혼합한후, 이 혼합물 150mg을 정제화시키면, 실시예 9의 화합물10mg을 함유하는 정제가 얻어진다.
Claims (40)
- 일반식(I)의 화합물 및 약학적으로 허용 가능한 그의 염 및 에스테르 :식중,R1은 수소원자, 탄소수 1-6인 비치환 알킬기를 나타내거나 또는 하기 정의되는 아릴기, 하기 정의되는 방향족 헤테로시클릭기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기를 나타내고;R2는 하기 정의되는 아릴기 및 하기 정의되는 헤테로시클릭기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기 및 그렇지 않으면 비치환 알킬기 또는 카르복시기 및 히드록시기 또는 디아릴 아미노기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 부가적 치환기로 치환되는 치환 알킬기를 나타내며;R3는 수소원자, 탄소수 1-6인 비치환 알킬기, 하기 정의되는 아릴기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기 또는 탄소수 3-6인 알케닐기를 나타내고;α-β 및 γ-δ로 나타내는 각 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중결합이며;상기 언급된 아릴기는 탄소수 1-6인 알킬기, 탄소수 1-6인 알콕시기, 탄소수 2-7인 알콕시카르보닐기, 히드록시기, 할로겐원자 및 R2가 탄소수 1-5인 지방족 카르복실아실기를 나타내는 식 -NHRa의 기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되거나 비치환되는 탄소수 6-10인 고리의 카르복실산 아릴기이고;상기 언급된 방향족 헤테로 시클릭기는 탄소수 1-6인 알킬기, 탄소수 1-6인 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환기로 치환되거나 치환되지 않으며 질소, 산소 및 황헤테로 원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로원자를 1-3개 갖는 5 또는 6개의 고리 원자를 지닌다.
- 제1항에 있어서, R1은 수소원자 ; 탄소수 3인 알킬기 ; 벤질기; 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환되는 치환 벤질기; 푸릴메틸기 ; 또는 티에닐메틸기를 나타내고;상기 치환기(a)가 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실 아실아미노기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R2가 페닐기 ; 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환되는 치환페닐기; 푸릴기; C1- C4알킬 치환기로 치환된 푸릴기; 티에닐기; 및 C1- C4알킬 치환기로 치환된 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되고 더 이상의 치환기가 없거나 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환된 탄소수 1-4인 치환 알킬기이고 ;상기 치환기(a)가 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실 아실아미노기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R2가, 각각의 페닐기가 비치환되었거나 그중 하나 또는 둘 모두가 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환된 디페닐 아미노기이고 ;상기 치환기(a)는 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실 아실아미노기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자, 탄소수 1-4의 알킬기, 페닐기, 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환된 치환 페닐기, 카르복시기 및 히드록시기의 최소한 하나로 치환되는 탄소수 1-4인 치환알킬기, 또는 탄소수 3 또는 4의 알케닐기이며;상기 치환기(a)가 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실 아실아미노기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, α-β로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합이고 γ-δ 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, 또는 α-β 로 나타내는 상기 결합이 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 표시된 나타내는 상기 결합이 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 탄소수 3인 알킬기, 벤질기, 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환된 치환벤질기, 푸릴메틸기 또는 티에닐메틸기이고 ;R2는 페닐기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환된 치환페닐기 ; 푸릴기; C1-C4아릴 치환기로 치환된 푸릴기; 티에닐기; 및 C1- C4알킬 치환기로 치환된 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되고 더 이상의 치환기가 없거나 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환된 탄소수 1-4인 치환 알킬기이거나 ;R2는 각각의 페닐기가 비치환되었거나 그중 하나 또는 두개가 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환되는 디페닐 아미노기이고 ;R3은 수소원자, 탄소수 1-4의 알킬기, 페닐기, 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (a)로 치환된 치환 페닐기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나로 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환알킬기, 또는 탄소수 3 또는 4의 알케닐기이고;상기 치환기(a)가 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자, 히드록 시기, 탄소수 2-5의 알콕시카르보닐기 및 탄소수 1-5의 지방족 카르복실 아실아미노기로 구성된 군에서 선택되며;α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합이고 γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 이중 결합이거나, 또는 α-β 로 나타내는 상기 결합이 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 상기결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서 R1이 수소원자, 이소프로필기, 벤질기, 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되는 치환벤질기, 또는 티에닐메틸기이고 ;상기 치환기(b)는 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 히드록시기, 에톡시카르보닐기, 메톡시카르보닐기, 포름아미도기 및 에세트아미도기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R2가 페닐기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환된 치환페닐기 ; 푸릴기; 메틸 치환기가 있는 치환 푸릴기; 티에닐기; 및 메틸 치환기가 있는 치환 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되고 더 이상의 치환기가 없거나 최소한 하나의 히드록시 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환 알킬기이거나, 또는 각각의 페닐기가 비치환되거나 그중 하나 또는 2개가 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되며;상기 치환기(b)는 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 히드록시기, 에톡시카르보닐기, 메톡시카르보닐기, 포름아미도기 및 에세트아미도기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자; 메틸기; 에틸기; 벤질기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되는 치환 벤질기; 최소한 하나의 히드록시 치환기로 치환된 1-3인 치환 알킬기; 또는 알릴기이고;상기 치환기(b)는 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 히드록시기, 에톡시카르보닐기, 메톡시카르보닐기, 포름아미도기 및 에세트아미도기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 이소프로필기, 벤질기, 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되는 치환벤질기, 또는 티에닐메틸기이고 ;R2는 페닐기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되는 치환페닐기 ; 푸릴기; 메틸 치환기가 있는 치환 푸릴기; 티에닐기; 및 메틸 치환기가 있는 치환 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되고 더 이상의 치환기가 없거나 최소한 하나의 히드록시 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환 알킬기이거나, 또는 각각의 페닐기가 비치환되거나 그중 하나 또는 2개가 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환기로 치환되는 디페닐아미노기이며 :R3이 수소원자; 메틸기; 에틸기; 벤질기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (b)로 치환되는 치환 벤질기; 최소한 하나의 히드록시 치환기로 치환되는 1-3인 치환 알킬기; 또는 알릴기이고;상기 치환기(b)는 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 히드록시기, 에톡시카르보닐기, 메톡시카르보닐기, 포름아미도기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택되며 ;α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합이며 γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, 또는 α-β 로 나타내는 상기 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 상기결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2는 동일 또는 상이하며, 각각은 벤질기 또는 하기에 정의될 최소한 하나의 치환기 (c)로 치환되는 치환 벤질기이며 ;상기 치환기 (c)는 메틸기, 메톡시기, 불소원자, 염소원자, 히드록시기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 의해서, R1는 수소원자이고, R2는 페닐기; 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (c)로 치환되는 치환 페닐기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-3인 치환 알킬기이거나 또는 각각의 페닐기가 비치환되었거나 그중 하나 또는 2개가 하기 정의될 치환기 (c)로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 디페닐아미노기이고;상기 치환기 (c)는 메틸기, 메톡시기, 불소원자, 염소원자, 히드록시기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자, 메틸기 또는 에틸기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 동일 또는 상이하며, 각각이 벤질기 또는 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (c)로 치환되는 치환 벤질기이고 ;상기 치환기 (c)는 메틸기, 메톡시기, 불소원자, 염소원자, 히드록시기 및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택되며;R3은 수소원자,메틸기 또는 에틸기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수수원자이고, R2는 페닐기, 하기 정의될 최소한 하나의 치환기 (c)로 치환되는 치환페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 치환기로 치환되는 탄소수 1-3인인 치환 알킬기이거나, 또는 페닐기가 비치환되거나 그중 하나 또는 2개가 하기 정의될 치환기 (c)로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 치환기로 디페닐아미노기이며 ;상기 치환기(c)는 메틸기, 메톡시기, 불소원자, 염소원자, 히드록시기및 아세트아미도기로 구성된 군에서 선택되며;R3은 수소원자,메틸기 또는 에틸기이고 ;α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합이며 γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, 또는 α-β 로 나타내는 상기 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 상기결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 또는 하기 정의될 아릴기, 하기 정의될 방향족 헤테로시클릭기 및 카르복시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기이고;상기 방향족 헤테로시클릭기는 고리 원자 하나가 질소, 산소 및 황 헤테로 원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로 원자이며, 비치환되거나 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 5 또는 6개의 고리 원자가 있음을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R2는 하기 정의될 아릴기 및 하기 정의될 방향족 헤테로시클릭기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기이고;상기 아릴기는 비치환되거나, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 히드록시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는, 6 내지 10개의 고리 탄소 원자가 있는 카르보시클릭 아릴기이며;상기 방향족 헤테로시클릭기는 고리 원자 하나가 질소, 산소 및 황 헤테로 원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로 원자이며, 비치환되거나, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는, 5 또는 6개의 고리 원자가 있음을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 하기 정의될 아릴기 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6의 치환 알킬기이다.상기 아릴기는 비치환되거나, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 히드록시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는, 6 내지 10개의 고리 탄소 원자가 있는 카르보시클릭 아릴기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, α-β 및 γ-δ 로 나타내는 각각의 결합이 각각 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 탄소수 1-6인 비치환알킬기, 또는 하기 정의될 아릴기, 하기 정의될 방향족 헤테로시클릭기 및 카르복시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기이고;R2는 하기 정의될 아릴기 및 하기 정의될 방향족 헤테로시클릭기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6인 치환 알킬기이며;R3은 수소원자, 탄소수 1-6의 비치환알킬기, 하기 정의될 아릴기 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-6의 치환 알킬기이고;상기 아릴기는 비치환되거나, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 히드록시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는, 6 - 10개의 고리 탄소 원자가 있는 카르보시클릭 아릴기이고;상기 방향족 헤테로시클릭기는 고리 원자 하나가 질소, 산소 및 황 헤테로 원자로 구성된 군에서 선택된 헤테로 원자이고, 비치환되거나 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기 및 할로겐 원자로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기로 치환되는 5 또는 6개의 고리 원자를 가지며; α-β 및 γ-δ 로 나타내는 각각의 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 탄소수 1-4인 비치환 알킬기, 또는 페닐기, C1- C4알킬, C1- C4알콕시, 할로겐 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 하나의 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환알킬기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R2가 페닐기, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기를 갖는도 하나 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 또는 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 1-3개의 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환알킬기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자: 탄소수 1-4인 알킬기: 페닐기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 탄소수 1-4인 치환알킬기, 또는 탄소수 3-4의 알케닐기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, α-β 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합이고, γ-δ 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, α-β 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 탄소수 1-4인 비치환 알킬기, 또는 페닐기, C1- C4알킬, C1- C4알콕시, 할로겐 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 하나의 치환기로 치환된 탄소수 1-4인 치환 알킬기이고 ;R2는 페닐기, 탄소수 1-4인 알킬기, 탄소수 1-4인 알콕시기, 할로겐 원자 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 또는 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 1-3개의 치환기로 치환되는 탄소수 1-4인 치환알킬기이며;R3은 수소원자, 탄소수 1-4인 알킬기: 페닐기, 카르복시기 및 히드록시기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 탄소수 1-4인 치환알킬기, 또는 탄소수 3 또는 4인 알케닐기이고 ;α-β 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합이고, γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이거나, 또는 α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 상기 결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자이며, R2는 하기식 -C(CH3)(CH3)-R2'(식중, R2'는페닐기, 메틸, 메톡시, 염소, 불소및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 또는 페닐기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 치환기를 2 또는 3개의 치환기가 있는 탄소수 1-3의 치환 알킬기이다)의 기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 동일 또는 상이하며, 각각은 페닐기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 하나의 치환기가 있는 탄소수 1-3인 치환 알킬기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 알릴기 또는 벤질기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, α-β 로 나타내는 결합이 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이고, γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자이고, R2는 하기식 -C(CH3)(CH3)-R2'(식중, R2'는페닐기, 메틸, 메톡시, 염소, 불소및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 또는 페닐기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기를 갖는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 2 또는 3개의 치환기가 있는 탄소수 1-3의 치환 알킬기이다)의 기이며; R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 알릴기 또는 벤질기이고; α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이며, γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 동일 또는 상이하며, 각각은 페닐기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 및 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 페닐기, 푸릴기 및 티에닐기로 구성된 군에서 선택된 하나의 치환기가 있는 탄소수 1-3인 치환 알킬기이고 ; R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 알릴기 또는 벤질기이며; α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이며, γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자이며, R2는 디페닐메틸기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 디페닐메틸기, 1, 2 - 디페닐에틸기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 1, 2 - 디페닐에틸기, 1, 1 - 디페닐에틸기, 또는 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택되는 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 1, 1 - 디페닐에틸기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R3이 수소원자, 메틸기 또는 에틸기임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자이고, R2는 디페닐메틸기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 디페닐메틸기, 1, 2 - 디페닐에틸기, 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 1, 2 - 디페닐에틸기, 1, 1 - 디페닐에틸기, 또는 메틸, 메톡시, 불소, 염소 또는 히드록시 치환기로 구성된 군에서 선택된 최소한 하나의 치환기가 있는 치환 1, 1 - 디페닐에틸기이며, R3은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이고; α-β 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합이며, γ-δ 로 나타내는 결합은 탄소-탄소 단일 결합임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항에 있어서, 하기 기재의 화합물 :N - (1, 2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - (1, 1 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - (1, 2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [1 - 메틸 - 1 - (2 - 티에닐)에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [1 - 메틸 - 1 - (2 - 티에닐)에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [2 - (4 - 메틸페닐) - 1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [1,1 -디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [α - (4 - 히드록시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N - [1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드 ;N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드 ;N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르보히드라지드 ;N - [1-(3-메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드;N - [1- 메틸 - 1 - (2 - 푸릴) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스탄 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - 페닐 - 2 - (4 -메탈페닐) 에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - 페닐 - 2 - (4 -메탈페닐) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1.1 -디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1.1 -디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 -메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 -메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 -메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 -메틸 - 1 - (2-티에닐) 에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (α - (4 - 히드록시페닐) 벤질) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (α - (4 - 히드록시페닐) 벤질) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 - (4 - 메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (2 - 히드록시 - 1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드 ;N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드 ;N - (1 - (2 -메톡시페닐) -1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 - 메틸 - 1 -(2 -푸릴) -에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자 - 5α - 안드로스트 - 1 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,2 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,2 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (디페닐메틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (디페닐메틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [2 - (4 - 메틸페닐) -1 - 페닐에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [2 - (4 - 메틸페닐) -1 - 페닐에틸] -4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,1 - 디페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1,1 - 디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (1 - 메틸 - 1 - 페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - 메틸 - 1 - (2- 티에닐)에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - 메틸 - 1 - (2- 티에닐)에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [α - (4 -히드록시페닐) 벤질] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [α - (4 -히드록시페닐) 벤질] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - (4 -메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - (4 -메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - (2 - 히드록시 - 1,2 -디페닐에틸) - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N,N - 디페닐 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드 ;N,N - 디페닐 - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르보히드라지드 ;N - [1 - (3 -메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;N - [1 - (2 -메톡시페닐) - 1 - 메틸에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드; 및N - [1 - 메틸 - 1 - (2-푸릴) 에틸] - 4 - 메틸 - 3 - 옥소 - 4 - 아자안드로스트 - 5 - 엔 - 17β - 카르복스아미드;
- 제1항 내지 제37항중 어느 한 항에 기재된 최소한 하나의 일반식 (I)의 화합물 또는 약학적으로 허용 가능한 그의 염 또는 에스테르인 최소한 하나의 활성 화합물의 유효량을 담체 또는 희석제와의 혼합물로서 함유함을 특징으로 하는 전립선 이상 비대증의 치료 및 예방용 조성물.
- 제1항 내지 제37항중 어느 한 항에 기재된 최소한 하나의 일반식 (I)의 화합물 또는 약학적으로 허용 가능한 그의 염 또는 에스테르인 최소한 하나의 활성 화합물을 사람을 제외한 동물에 투여하는 것을 포함함을 특징으로 하는 전립선 이상 비대증의 치료 방법.
- (a) 하기식 (II)의 아미노 화합물(식중, R1및 R2는 제 1항에서 정의한 바와 같다)을 하기식 (III)의 아자스테로이드 유도체(식중, W 및 W'는 함께 하기 식 (IV)의 기또는 하기 식 (IVa)의 기(식중, α-β, γ-δ 및 R3은 제1항에서 정의한 바와 같으며, Me는 메틸이다)를 나타낸다.와 반응시키고;(b) W 및 W'가 함께 상기 식 (IVa)의 기를 나타내는 경우, 상기 (a) 단계에서 제조한 화합물을산화시켜 상기 기를 하기 식 (IVb)의 기로 전환시키고, 생성된 화합물을 하기 식 (V)의 화합물NH2R3(V)(식중, R3은 제1항에서 정의한 바와 같다)과 반응시켜 상기 기를 식 (IV)의 기로 전환시키는 단계로 구성되며, 상기 R3으로 나타내는 기는 어떠한 다른 기로 전환시킬 수 있고, α-β 로 나타내는 탄소-탄소 단일 결합은 탄소-탄소 이중 결합으로 전환시킬수 있으며, 어느 단계에서, 상기 화합물을 염화시키거나 에스테르화시킬 수 있음을 특징으로 하는, 제1항 내지 제37항중 어느 한 항에 기재된 화합물의 제조 방법.
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