JPWO2024084993A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7848733B2 (ja) * 2023-03-24 2026-04-21 信越化学工業株式会社 オニウム塩型モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
WO2025079648A1 (ja) * 2023-10-11 2025-04-17 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、組成物、樹脂組成物、膜形成用組成物、リソグラフィー用膜形成用組成物、レジスト膜形成用組成物
JP2025091314A (ja) * 2023-12-06 2025-06-18 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物
WO2025142991A1 (ja) * 2023-12-28 2025-07-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び化合物
WO2025205682A1 (ja) * 2024-03-28 2025-10-02 Jsr株式会社 感放射線性組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
TW202547896A (zh) * 2024-06-14 2025-12-16 日商Jsr股份有限公司 感放射線性組成物、圖案形成方法及聚合物
TW202600501A (zh) * 2024-06-21 2026-01-01 日商Jsr股份有限公司 感放射線性組成物、圖案形成方法、化合物及聚合物
JP2026043297A (ja) * 2024-08-28 2026-03-12 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、及び化合物

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5292078B2 (ja) 2008-12-05 2013-09-18 富士フイルム株式会社 感活性光線または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
JP6287369B2 (ja) 2013-03-08 2018-03-07 Jsr株式会社 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体
JP6450660B2 (ja) 2014-08-25 2019-01-09 住友化学株式会社 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6973274B2 (ja) * 2017-05-22 2021-11-24 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP7351262B2 (ja) 2019-07-02 2023-09-27 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP7713327B2 (ja) * 2020-08-03 2025-07-25 住友化学株式会社 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

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