JPWO2025004621A5 - - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023106132 | 2023-06-28 | ||
| PCT/JP2024/018785 WO2025004621A1 (ja) | 2023-06-28 | 2024-05-22 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2025004621A1 JPWO2025004621A1 (https=) | 2025-01-02 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025529525A Pending JPWO2025004621A1 (https=) | 2023-06-28 | 2024-05-22 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20260104639A1 (https=) |
| JP (1) | JPWO2025004621A1 (https=) |
| KR (1) | KR20260027927A (https=) |
| TW (1) | TW202500600A (https=) |
| WO (1) | WO2025004621A1 (https=) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2026054063A1 (ja) * | 2024-09-09 | 2026-03-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ヨウ素含有(メタ)アクリル酸エステル化合物及びヨウ素・水酸基含有重合体の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102395705B1 (ko) * | 2017-04-21 | 2022-05-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | Euv광용 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법 |
| JP7636178B2 (ja) * | 2020-02-28 | 2025-02-26 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
2024
- 2024-05-22 KR KR1020257042360A patent/KR20260027927A/ko active Pending
- 2024-05-22 JP JP2025529525A patent/JPWO2025004621A1/ja active Pending
- 2024-05-22 WO PCT/JP2024/018785 patent/WO2025004621A1/ja not_active Ceased
- 2024-06-05 TW TW113120723A patent/TW202500600A/zh unknown
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2025
- 2025-12-17 US US19/422,570 patent/US20260104639A1/en active Pending
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