JPWO2023162565A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2023162565A5 JPWO2023162565A5 JP2024502928A JP2024502928A JPWO2023162565A5 JP WO2023162565 A5 JPWO2023162565 A5 JP WO2023162565A5 JP 2024502928 A JP2024502928 A JP 2024502928A JP 2024502928 A JP2024502928 A JP 2024502928A JP WO2023162565 A5 JPWO2023162565 A5 JP WO2023162565A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensitive
- radiation
- resin composition
- actinic ray
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022028401 | 2022-02-25 | ||
| PCT/JP2023/002396 WO2023162565A1 (ja) | 2022-02-25 | 2023-01-26 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023162565A1 JPWO2023162565A1 (https=) | 2023-08-31 |
| JPWO2023162565A5 true JPWO2023162565A5 (https=) | 2024-10-29 |
Family
ID=87765467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024502928A Pending JPWO2023162565A1 (https=) | 2022-02-25 | 2023-01-26 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240427242A1 (https=) |
| EP (1) | EP4485073A4 (https=) |
| JP (1) | JPWO2023162565A1 (https=) |
| KR (1) | KR102937060B1 (https=) |
| CN (1) | CN118749087A (https=) |
| TW (1) | TW202340163A (https=) |
| WO (1) | WO2023162565A1 (https=) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023021084A (ja) * | 2021-07-29 | 2023-02-09 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JPWO2024142681A1 (https=) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | ||
| JP2025080485A (ja) * | 2023-11-14 | 2025-05-26 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤 |
| WO2025126742A1 (ja) * | 2023-12-15 | 2025-06-19 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
| WO2025182650A1 (ja) * | 2024-02-28 | 2025-09-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
| WO2025258638A1 (ja) * | 2024-06-12 | 2025-12-18 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物、パターン形成方法、及びオニウム塩化合物 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4639062B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2011-02-23 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2013061648A (ja) | 2011-09-09 | 2013-04-04 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法 |
| JP5740322B2 (ja) * | 2012-02-06 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、化合物 |
| JP6029830B2 (ja) * | 2012-02-07 | 2016-11-24 | 日本電産コパル株式会社 | レンズ駆動装置 |
| KR102075960B1 (ko) | 2012-03-14 | 2020-02-11 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 포토레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 확산 제어제 및 화합물 |
| JP5850873B2 (ja) | 2012-07-27 | 2016-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
| JP5836299B2 (ja) | 2012-08-20 | 2015-12-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法 |
| JP6002705B2 (ja) | 2013-03-01 | 2016-10-05 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法 |
| JP5676021B2 (ja) | 2014-01-06 | 2015-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US9644056B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-05-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Compound, resin and photoresist composition |
| JP6518475B2 (ja) | 2015-03-20 | 2019-05-22 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 |
| JP6648726B2 (ja) | 2017-03-22 | 2020-02-14 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
| KR102395705B1 (ko) | 2017-04-21 | 2022-05-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | Euv광용 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법 |
| KR102537251B1 (ko) | 2018-06-28 | 2023-05-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 수지 |
| JP7076570B2 (ja) | 2018-09-25 | 2022-05-27 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| WO2020158337A1 (ja) | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| JP7247732B2 (ja) * | 2019-04-24 | 2023-03-29 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 |
| JP7704570B2 (ja) * | 2020-06-01 | 2025-07-08 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
2023
- 2023-01-26 EP EP23759571.5A patent/EP4485073A4/en active Pending
- 2023-01-26 JP JP2024502928A patent/JPWO2023162565A1/ja active Pending
- 2023-01-26 KR KR1020247028418A patent/KR102937060B1/ko active Active
- 2023-01-26 WO PCT/JP2023/002396 patent/WO2023162565A1/ja not_active Ceased
- 2023-01-26 CN CN202380023504.2A patent/CN118749087A/zh active Pending
- 2023-02-03 TW TW112103907A patent/TW202340163A/zh unknown
-
2024
- 2024-08-23 US US18/813,980 patent/US20240427242A1/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO2023162565A5 (https=) | ||
| JP5969171B2 (ja) | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | |
| JP4110319B2 (ja) | 感放射線性酸発生剤および感放射線性樹脂組成物 | |
| EP2527380B1 (en) | Photosensitive compositions | |
| JP5267126B2 (ja) | 感放射線性組成物及びそれに用いられる低分子量化合物の製造方法 | |
| JP4557159B2 (ja) | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2004117688A5 (https=) | ||
| JPWO2022244682A5 (https=) | ||
| JP2009501207A (ja) | 光活性化合物 | |
| KR20100131996A (ko) | 감방사선성 조성물, 중합체 및 단량체 | |
| JP2004101706A5 (https=) | ||
| JP2008241931A (ja) | パターン形成方法 | |
| JP2006276760A5 (https=) | ||
| JPH11344808A5 (https=) | ||
| JPWO2023106171A5 (https=) | ||
| TW200521630A (en) | Novel sulfonyldiazomethane compounds, photoacid generator, resist materials and patterning process using the same | |
| JPWO2022270230A5 (https=) | ||
| JPWO2022172597A5 (https=) | ||
| JP2003316007A5 (https=) | ||
| JP2017125007A5 (https=) | ||
| JPWO2025004904A5 (https=) | ||
| JP2004012898A5 (https=) | ||
| JP4924256B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
| JP5365424B2 (ja) | ネガ型感放射線性樹脂組成物 | |
| JPWO2023008127A5 (https=) |