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富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
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2009-12-14 |
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羅門哈斯電子材料有限公司 |
磺醯基光酸產生劑及含該光酸產生劑之光阻
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2010-01-25 |
2018-02-23 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 |
질소-함유 화합물을 포함하는 포토레지스트
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2010-03-31 |
2015-09-24 |
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物
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(ko)
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2010-04-22 |
2015-07-17 |
히타치가세이가부시끼가이샤 |
유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치
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JP5756672B2
(ja)
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2010-04-27 |
2015-07-29 |
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
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(ja)
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2010-07-30 |
2014-04-16 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法
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JP6049250B2
(ja)
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2010-11-30 |
2016-12-21 |
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
光酸発生剤
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(ko)
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2011-02-07 |
2013-11-22 |
금호석유화학 주식회사 |
광산발생제, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 레지스트 조성물
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(ja)
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2011-03-03 |
2012-09-27 |
Fujifilm Corp |
締結補助具及びリールの締結方法並びにリールアセンブリ
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JP5651636B2
(ja)
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2011-07-28 |
2015-01-14 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
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JP6089389B2
(ja)
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2011-10-18 |
2017-03-08 |
日立化成株式会社 |
電子受容性化合物及びその製造方法、該化合物を含む重合開始剤、有機エレクトロニクス材料及びこれらを用いた有機薄膜、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、表示素子、照明装置、並びに表示装置
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JP2014156585A
(ja)
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2013-01-16 |
2014-08-28 |
Cemedine Co Ltd |
光硬化性組成物
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CN106939074B
(zh)
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2013-03-08 |
2020-06-16 |
日立化成株式会社 |
含有离子性化合物的处理液
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US9067909B2
(en)
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2013-08-28 |
2015-06-30 |
Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device
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TWI662364B
(zh)
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2015-12-31 |
2019-06-11 |
Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
光致抗蝕劑組合物、包含光致抗蝕劑組合物的經塗佈基板及形成電子裝置的方法
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