JPWO2023106171A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023106171A5
JPWO2023106171A5 JP2023566258A JP2023566258A JPWO2023106171A5 JP WO2023106171 A5 JPWO2023106171 A5 JP WO2023106171A5 JP 2023566258 A JP2023566258 A JP 2023566258A JP 2023566258 A JP2023566258 A JP 2023566258A JP WO2023106171 A5 JPWO2023106171 A5 JP WO2023106171A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
general formula
sensitive
meta position
radiation
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023566258A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023106171A1 (https=
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/044081 external-priority patent/WO2023106171A1/ja
Publication of JPWO2023106171A1 publication Critical patent/JPWO2023106171A1/ja
Publication of JPWO2023106171A5 publication Critical patent/JPWO2023106171A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023566258A 2021-12-10 2022-11-30 Pending JPWO2023106171A1 (https=)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021201239 2021-12-10
PCT/JP2022/044081 WO2023106171A1 (ja) 2021-12-10 2022-11-30 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2023106171A1 JPWO2023106171A1 (https=) 2023-06-15
JPWO2023106171A5 true JPWO2023106171A5 (https=) 2024-08-22

Family

ID=86730227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023566258A Pending JPWO2023106171A1 (https=) 2021-12-10 2022-11-30

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20240329524A1 (https=)
EP (1) EP4446811A4 (https=)
JP (1) JPWO2023106171A1 (https=)
KR (1) KR102937068B1 (https=)
CN (1) CN118451368A (https=)
TW (1) TW202328064A (https=)
WO (1) WO2023106171A1 (https=)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW202513539A (zh) * 2023-09-26 2025-04-01 日商Jsr股份有限公司 感放射線性組成物及圖案形成方法
WO2025115477A1 (ja) * 2023-11-28 2025-06-05 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩及び酸発生剤

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007293250A (ja) * 2006-03-27 2007-11-08 Fujifilm Corp ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP2013061648A (ja) 2011-09-09 2013-04-04 Rohm & Haas Electronic Materials Llc フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法
JP6075369B2 (ja) 2012-03-14 2017-02-08 Jsr株式会社 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤
JP5850873B2 (ja) 2012-07-27 2016-02-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
JP5836299B2 (ja) 2012-08-20 2015-12-24 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法
JP6002705B2 (ja) 2013-03-01 2016-10-05 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法
JP5676021B2 (ja) 2014-01-06 2015-02-25 富士フイルム株式会社 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US9644056B2 (en) 2015-02-18 2017-05-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Compound, resin and photoresist composition
JP6518475B2 (ja) 2015-03-20 2019-05-22 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物
JP6442370B2 (ja) * 2015-06-26 2018-12-19 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩および光酸発生剤
IL270030B2 (en) 2017-04-21 2023-12-01 Fujifilm Corp A photosensitive composition for EUV light, a method for patterning and a method for producing an electronic device
US11820735B2 (en) 2018-04-12 2023-11-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
US11378883B2 (en) 2018-04-12 2022-07-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
KR102537251B1 (ko) 2018-06-28 2023-05-26 후지필름 가부시키가이샤 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 수지
JP7076570B2 (ja) 2018-09-25 2022-05-27 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
EP3865473A4 (en) * 2018-10-09 2022-11-23 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. TRIPHENYLPHOSPHONIUM SALT COMPOUND AND ITS USES
JP7186592B2 (ja) 2018-12-04 2022-12-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
JP7218162B2 (ja) 2018-12-04 2023-02-06 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
WO2020158337A1 (ja) 2019-01-28 2020-08-06 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
JP7507000B2 (ja) 2019-04-25 2024-06-27 住友化学株式会社 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP7579066B2 (ja) 2019-04-25 2024-11-07 住友化学株式会社 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP7560956B2 (ja) 2019-04-25 2024-10-03 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP7489818B2 (ja) 2019-04-25 2024-05-24 住友化学株式会社 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2021071720A (ja) 2019-10-28 2021-05-06 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
US20230013430A1 (en) * 2019-11-12 2023-01-19 Toyo Gosei Co., Ltd. Sulfonium salt, acid generator, resist composition, and method for producing device
JP7800800B2 (ja) * 2020-09-28 2026-01-16 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法
KR102863079B1 (ko) * 2020-11-27 2025-09-19 삼성전자주식회사 광산발생제, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물, 및 상기 광산발생제의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2023106171A5 (https=)
JP2014059543A5 (https=)
JP2017191242A5 (https=)
JP2015532313A5 (https=)
JP2001270894A5 (https=)
JPH11327147A5 (https=)
JPWO2021002351A5 (https=)
TW201210998A (en) Photoacid generators and photoresists comprising same
JPWO2022065025A5 (https=)
JP2006276760A5 (https=)
JP2007277219A (ja) スルホニウム塩
JP2023126803A5 (https=)
JPWO2022220201A5 (https=)
TWI361337B (en) Photosensitive composition
JP2004271629A5 (https=)
JPWO2023248878A5 (https=)
JP2008546027A5 (https=)
JPWO2022270230A5 (https=)
JPWO2022172597A5 (https=)
JP2009109541A5 (https=)
JPWO2023162565A5 (https=)
JP2003121999A5 (https=)
WO2019180058A1 (en) Negative-working ultra thick film photoresist
KR102685048B1 (ko) 시스템 안정성을 향상시킬 수 있는 habi계 광개시제 및 그 응용
JPWO2021187481A5 (https=)