JP2022191163A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2022191163A5
JP2022191163A5 JP2022081348A JP2022081348A JP2022191163A5 JP 2022191163 A5 JP2022191163 A5 JP 2022191163A5 JP 2022081348 A JP2022081348 A JP 2022081348A JP 2022081348 A JP2022081348 A JP 2022081348A JP 2022191163 A5 JP2022191163 A5 JP 2022191163A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
bond
resist material
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022081348A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2022191163A (ja
JP7826834B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2022191163A publication Critical patent/JP2022191163A/ja
Publication of JP2022191163A5 publication Critical patent/JP2022191163A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7826834B2 publication Critical patent/JP7826834B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2022081348A 2021-06-15 2022-05-18 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 Active JP7826834B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021099189 2021-06-15
JP2021099189 2021-06-15

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022191163A JP2022191163A (ja) 2022-12-27
JP2022191163A5 true JP2022191163A5 (https=) 2023-01-27
JP7826834B2 JP7826834B2 (ja) 2026-03-10

Family

ID=84612801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022081348A Active JP7826834B2 (ja) 2021-06-15 2022-05-18 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20230013624A1 (https=)
JP (1) JP7826834B2 (https=)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20250039326A (ko) * 2022-07-15 2025-03-20 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 화합물, 및 고분자 화합물
JP2024157135A (ja) * 2023-04-25 2024-11-07 信越化学工業株式会社 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
JP2025091314A (ja) * 2023-12-06 2025-06-18 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4725427B2 (ja) * 2006-06-06 2011-07-13 Ｊｓｒ株式会社 パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂
JP4822020B2 (ja) * 2007-12-17 2011-11-24 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
JP5292127B2 (ja) * 2009-02-24 2013-09-18 富士フイルム株式会社 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP6477413B2 (ja) * 2015-10-23 2019-03-06 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
KR101960596B1 (ko) * 2016-06-28 2019-07-15 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
JP6973274B2 (ja) * 2017-05-22 2021-11-24 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP6973279B2 (ja) * 2017-06-14 2021-11-24 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP6922841B2 (ja) * 2017-06-21 2021-08-18 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP7666365B2 (ja) * 2022-03-11 2025-04-22 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022191163A5 (https=)
JP5464131B2 (ja) 化学増幅レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
TWI679216B (zh) 光阻組成物及光阻圖型形成方法
KR101357607B1 (ko) 아세탈기를 가지는 산 증폭제 및 이를 포함하는포토레지스트 조성물
TWI471702B (zh) 高分子化合物、正型光阻材料及利用此之圖案形成方法
JP6583167B2 (ja) レジスト材料及びパターン形成方法
TWI591430B (zh) 光阻組成物、光阻圖型之形成方法、化合物
JP2021080245A (ja) オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
KR20120063446A (ko) 염기성 화합물, 화학 증폭 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
CN104761608A (zh) 胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂
TWI571703B (zh) 阻劑組成物及阻劑圖案之製造方法
TW201716866A (zh) 光阻材料及圖案形成方法
JP2023010602A5 (https=)
JP2017078741A (ja) レジスト材料及びパターン形成方法
JP6583168B2 (ja) レジスト材料及びパターン形成方法
JP2017120367A (ja) レジスト材料及びパターン形成方法
JP6477407B2 (ja) レジスト材料及びパターン形成方法
JP2002311587A (ja) 化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2024162373A5 (https=)
JP2022183029A5 (https=)
JP2022173075A5 (https=)
JP2013254081A (ja) 化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、マスクブランクス、及びレジストパターン形成方法
CN110716390A (zh) 抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法
JP2017031377A (ja) 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法
JP2024140135A5 (https=)