JPWO2023248949A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2023248949A5 JPWO2023248949A5 JP2024506849A JP2024506849A JPWO2023248949A5 JP WO2023248949 A5 JPWO2023248949 A5 JP WO2023248949A5 JP 2024506849 A JP2024506849 A JP 2024506849A JP 2024506849 A JP2024506849 A JP 2024506849A JP WO2023248949 A5 JPWO2023248949 A5 JP WO2023248949A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pore volume
- less
- silica particles
- measured
- silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024190577A JP2025020248A (ja) | 2022-06-20 | 2024-10-30 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022099054 | 2022-06-20 | ||
| JP2022099054 | 2022-06-20 | ||
| PCT/JP2023/022443 WO2023248949A1 (ja) | 2022-06-20 | 2023-06-16 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024190577A Division JP2025020248A (ja) | 2022-06-20 | 2024-10-30 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023248949A1 JPWO2023248949A1 (https=) | 2023-12-28 |
| JPWO2023248949A5 true JPWO2023248949A5 (https=) | 2024-05-28 |
| JP7582551B2 JP7582551B2 (ja) | 2024-11-13 |
Family
ID=89379907
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024506849A Active JP7582551B2 (ja) | 2022-06-20 | 2023-06-16 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP2024190577A Pending JP2025020248A (ja) | 2022-06-20 | 2024-10-30 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024190577A Pending JP2025020248A (ja) | 2022-06-20 | 2024-10-30 | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20250197229A1 (https=) |
| EP (1) | EP4541767A4 (https=) |
| JP (2) | JP7582551B2 (https=) |
| KR (1) | KR20250024936A (https=) |
| CN (1) | CN119585204A (https=) |
| TW (1) | TW202408931A (https=) |
| WO (1) | WO2023248949A1 (https=) |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4897549A (en) * | 1988-12-19 | 1990-01-30 | Zerda Tadeusz W | Method of measuring pore diameters by positronium decay |
| JP3195569B2 (ja) | 1997-08-11 | 2001-08-06 | 守 磯 | 繭型コロイダルシリカの製造方法 |
| JP4257687B2 (ja) * | 1999-01-11 | 2009-04-22 | 株式会社トクヤマ | 研磨剤および研磨方法 |
| JP2009215088A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Nihon Yamamura Glass Co Ltd | 球状シリカガラス微粒子及びその製法 |
| CN105813977A (zh) * | 2013-12-12 | 2016-07-27 | 日产化学工业株式会社 | 二氧化硅粒子及其制造方法以及二氧化硅溶胶 |
| JP7065378B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2022-05-12 | 文修 斎藤 | 多孔質焼結体および空気浄化装置 |
| JP7206695B2 (ja) | 2017-11-10 | 2023-01-18 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 |
| TWI777011B (zh) * | 2017-12-27 | 2022-09-11 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 研磨材料用鏈狀粒子分散液的製造方法 |
| JP7707558B2 (ja) * | 2020-01-28 | 2025-07-15 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JPWO2021153502A1 (https=) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | ||
| JP2021147267A (ja) * | 2020-03-18 | 2021-09-27 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP2022099054A (ja) | 2020-12-22 | 2022-07-04 | 富士電機株式会社 | 自動販売機システムおよび管理サーバ |
-
2023
- 2023-06-16 JP JP2024506849A patent/JP7582551B2/ja active Active
- 2023-06-16 CN CN202380048348.5A patent/CN119585204A/zh active Pending
- 2023-06-16 WO PCT/JP2023/022443 patent/WO2023248949A1/ja not_active Ceased
- 2023-06-16 KR KR1020247041953A patent/KR20250024936A/ko active Pending
- 2023-06-16 EP EP23827134.0A patent/EP4541767A4/en active Pending
- 2023-06-20 TW TW112123172A patent/TW202408931A/zh unknown
-
2024
- 2024-10-30 JP JP2024190577A patent/JP2025020248A/ja active Pending
- 2024-12-20 US US18/990,961 patent/US20250197229A1/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103011099B (zh) | 一种球形介孔氮化碳材料及其制备方法 | |
| JP4296307B2 (ja) | 球状シリカ系メソ多孔体の製造方法 | |
| JP2006188424A5 (https=) | ||
| CN107735169A (zh) | 金属氧化物‑二氧化硅复合气凝胶的制备方法和制备的金属氧化物‑二氧化硅复合气凝胶 | |
| WO2015033643A1 (ja) | 多孔質炭素、調湿吸着材、吸着式ヒートポンプ、及び燃料電池 | |
| JP2020110801A5 (https=) | ||
| Kanezashi et al. | Preparation and gas permeation properties of fluorine–silica membranes with controlled amorphous silica structures: effect of fluorine source and calcination temperature on network size | |
| KR20160059959A (ko) | 구형의 실리카 표면에 나노선 형태로 음각화되어 있는 이산화탄소 건식흡착제용 담체 및 이의 제조방법 | |
| JP6350918B2 (ja) | 吸着／脱離剤 | |
| JPWO2023248949A5 (https=) | ||
| JP2011212531A (ja) | アルキルシラノール除去材及びそれを製造する方法 | |
| JP6394372B2 (ja) | シリカ構造体およびその製造方法 | |
| KR101650236B1 (ko) | 이온성 액체가 담지된 나노기공 다공체를 이용한 이산화탄소 분리용 촉진수송 분리막 | |
| JP2011005389A (ja) | 光触媒粒子 | |
| JP2025020248A5 (https=) | ||
| RU2007138728A (ru) | Высоко пористые мелкие частицы с покрытием, композиция и способ производства | |
| JP2019147099A (ja) | Ｃｏ２吸着材 | |
| KR101544299B1 (ko) | 긴 기공 길이를 갖는 이산화규소 분말 | |
| KR20140007761A (ko) | 나노임프린트 몰드용 합성 석영 유리 및 그의 제조 방법 | |
| JP2008127405A (ja) | コアシェル型球状シリカ系メソ多孔体、それを用いた触媒及び吸着材 | |
| JP4769927B2 (ja) | シリカ吸着材の製造方法 | |
| JP2006027985A (ja) | 球状シリカ系メソ多孔体の製造方法 | |
| CN101613109B (zh) | 硅胶及其制造方法 | |
| CN110773108B (zh) | 一种氧化钛空心纳米管的制备方法及其制备的氧化钛空心纳米管的应用 | |
| CN118234561A (zh) | 含氧化硼的吸附剂以及相关的方法和装置 |