JPWO2023026908A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US202163237813P | 2021-08-27 | 2021-08-27 | |
| JP2022021526 | 2022-02-15 | ||
| PCT/JP2022/031012 WO2023026908A1 (ja) | 2021-08-27 | 2022-08-17 | 基板支持器及び基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023026908A1 JPWO2023026908A1 (https=) | 2023-03-02 |
| JPWO2023026908A5 true JPWO2023026908A5 (https=) | 2025-03-04 |
Family
ID=85321990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023543832A Pending JPWO2023026908A1 (https=) | 2021-08-27 | 2022-08-17 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240194514A1 (https=) |
| JP (1) | JPWO2023026908A1 (https=) |
| KR (1) | KR20240046246A (https=) |
| TW (1) | TW202329192A (https=) |
| WO (1) | WO2023026908A1 (https=) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024252740A1 (ja) * | 2023-06-05 | 2024-12-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4703828B2 (ja) * | 2000-09-07 | 2011-06-15 | 株式会社アルバック | スパッタリング装置及び薄膜製造方法 |
| JP2004158751A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP5357639B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2013-12-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP6165452B2 (ja) * | 2013-02-01 | 2017-07-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
| JP6452449B2 (ja) * | 2015-01-06 | 2019-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及び基板処理装置 |
| JP7325294B2 (ja) * | 2019-10-17 | 2023-08-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP2021141277A (ja) | 2020-03-09 | 2021-09-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及びプラズマ処理装置 |
-
2022
- 2022-08-17 TW TW111130862A patent/TW202329192A/zh unknown
- 2022-08-17 WO PCT/JP2022/031012 patent/WO2023026908A1/ja not_active Ceased
- 2022-08-17 KR KR1020247008584A patent/KR20240046246A/ko active Pending
- 2022-08-17 JP JP2023543832A patent/JPWO2023026908A1/ja active Pending
-
2024
- 2024-02-26 US US18/586,860 patent/US20240194514A1/en active Pending
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