JPWO2022003756A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するため、本開示に係る制御装置は、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記姿勢変更部を制御して、前記検知領域を少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させる姿勢変更制御部と、
前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部を有し、
前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第２サブ支持部を前記第１サブ支持部に対して前記第２回転軸周りに回動させる第２回転駆動部を更に有し、
前記姿勢変更制御部は、前記第２サブ支持部が予め設定された第２基準姿勢に維持された状態で、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させた後、前記第２回転駆動部を制御して、前記第２サブ支持部を前記第２基準姿勢から前記第２回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させる。

Claims (13)

1. 検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
   前記センサを支持するセンサ支持部と、
   前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
   前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
   前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
   前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
   前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
   前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部を有し、
   前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
   前記姿勢変更部は、前記第２サブ支持部を前記第１サブ支持部に対して前記第２回転軸周りに回動させる第２回転駆動部を更に有し、
   前記姿勢変更制御部は、前記第２サブ支持部が予め設定された第２基準姿勢に維持された状態で、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させた後、前記第２回転駆動部を制御して、前記第２サブ支持部を前記第２基準姿勢から前記第２回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させる、
   制御装置。
2. 検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
   前記センサを支持するセンサ支持部と、
   前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
   前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
   前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
   前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
   前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
   前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部を有し、
   前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
   前記姿勢変更部は、前記第２サブ支持部が固定され且つ前記第２回転軸と平行に配置された第１シャフトと、前記第１シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第１回転軸周りに回転させる第２回転駆動部と、を有する、
   制御装置。
3. 前記姿勢変更制御部は、停止モードに移行する場合、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部が前記第１基準姿勢となるように前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させ、且つ、前記第２回転駆動部を制御して、前記第２サブ支持部が前記第２基準姿勢となるように前記第２サブ支持部を前記第２回転軸周りに回動させる、
   請求項１または２に記載の制御装置。
4. 前記基台部の回転角度を示す情報を、前記回転角度に対応する前記第１回転駆動部の動作パラメータに対応づけて記憶する回転角度記憶部と、
   前記センサ支持部の姿勢を検出する姿勢検出部と、
   前記センサ支持部の姿勢を特定する姿勢特定部と、を更に備え、
   前記姿勢特定部は、前記姿勢検出部により検出される前記センサ支持部の姿勢に基づいて、前記回転角度記憶部が記憶する前記動作パラメータを補正するための回転角度補正情報を生成し、
   前記姿勢変更制御部は、前記回転角度補正情報に基づいて、前記動作パラメータを補正する、
   請求項１から３のいずれか１項に記載の制御装置。
5. 前記環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報を記憶する環境パラメータ記憶部と、
   前記センサ支持部の姿勢を特定する姿勢特定部と、
   前記センサにより検知される前記検知領域における環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報を取得し、取得した前記環境パラメータ情報を前記姿勢特定部により特定された姿勢を示す姿勢情報に対応づけて前記環境パラメータ記憶部に記憶させる環境パラメータ取得部と、を更に備える、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の制御装置。
6. 前記環境パラメータは、温度であり、
   前記少なくとも１つの機器は、空気調和機であり、
   前記解析部は、前記複数の領域それぞれの温度分布を算出し、
   前記機器制御部は、前記複数の領域それぞれの温度分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの温度が予め設定された基準温度範囲内となるように前記少なくとも１つの機器を制御する、
   請求項１から５のいずれか１項に記載の制御装置。
7. 前記環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報と、前記解析部による解析結果を示す解析結果情報と、の少なくとも一方を含む監視情報を生成し、生成した監視情報を、ネットワークを介して外部機器へ送信する監視情報通知部を更に備える、
   請求項１から６のいずれか１項に記載の制御装置。
8. 少なくとも１つの機器と、
   検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
   前記センサを支持するセンサ支持部と、
   前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
   前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
   前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
   前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
   前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
   前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部を有し、
   前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
   前記姿勢変更部は、前記第２サブ支持部を前記第１サブ支持部に対して前記第２回転軸周りに回動させる第２回転駆動部を更に有し、
   前記姿勢変更制御部は、前記第２サブ支持部が予め設定された第２基準姿勢に維持された状態で、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させた後、前記第２回転駆動部を制御して、前記第２サブ支持部を前記第２基準姿勢から前記第２回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させる、
   機器システム。
9. 少なくとも１つの機器と、
   検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
   前記センサを支持するセンサ支持部と、
   前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
   前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
   前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
   前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
   前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
   前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部を有し、
   前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
   前記姿勢変更部は、前記第２サブ支持部が固定され且つ前記第２回転軸と平行に配置された第１シャフトと、前記第１シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第１回転軸周りに回転させる第２回転駆動部と、を有する、
   機器システム。
10. センサが、検知領域における環境パラメータの分布を検出するステップと、
    制御装置が、前記センサを支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより前記検知領域を少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させるステップと、
    前記制御装置が、前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析するステップと、
    前記制御装置が、解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御するステップと、を含み、
    前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
    前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
    前記制御装置は、前記第２サブ支持部が予め設定された第２基準姿勢に維持された状態で、前記基台部を予め設定された第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させた後、前記第２サブ支持部を前記第２基準姿勢から前記第２回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記基台部を前記第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させるように制御して、前記検知領域を前記複数の領域へ順次移動させる、
    機器制御方法。
11. センサが、検知領域における環境パラメータの分布を検出するステップと、
    制御装置が、前記センサを支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより前記検知領域を少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させるステップと、
    前記制御装置が、前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析するステップと、
    前記制御装置が、解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御するステップと、を含み、
    前記センサ支持部は、前記センサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
    前記第１サブ支持部は、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持し、
    前記制御装置は、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させるとともに、前記第２サブ支持部が固定され且つ前記第２回転軸と平行に配置された第１シャフトに固定されたウォームホイールに噛合するウォームを前記第１回転軸周りに回転させるように制御して、前記検知領域を前記複数の領域へ順次移動させる、
    機器制御方法。
12. コンピュータを、
    検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、前記第１サブ支持部が、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより、前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部と、前記第２サブ支持部を前記第１サブ支持部に対して前記第２回転軸周りに回動させる第２回転駆動部と、を有する姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部、
    前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部、
    前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部、
    として機能させるためのプログラムであって、
    前記姿勢変更制御部は、前記第２サブ支持部が予め設定された第２基準姿勢に維持された状態で、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させた後、前記第２回転駆動部を制御して、前記第２サブ支持部を前記第２基準姿勢から前記第２回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第１回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第１基準姿勢から前記第１回転軸周りに１回転させる、
    プログラム。
13. コンピュータを、
    検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサを支持する第１サブ支持部と、前記第１サブ支持部が固定され且つ予め設定された第１回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、前記第１サブ支持部が、前記センサを、前記第１サブ支持部に対して前記第１回転軸と直交する第２回転軸周りに回転自在に設けられた第２サブ支持部を介して支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより、前記検知領域が少なくとも１つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように、前記基台部を前記第１回転軸周りに回動させる第１回転駆動部と、前記第２サブ支持部が固定され且つ前記第２回転軸と平行に配置された第１シャフトと、前記第１シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第１回転軸周りに回転させる第２回転駆動部と、を有する姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部、
    前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部、
    前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも１つの機器を制御する機器制御部、
    として機能させるためのプログラム。