JPWO2022003756A5 - - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 22
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Description
上記目的を達成するため、本開示に係る制御装置は、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記姿勢変更部を制御して、前記検知領域を少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させる姿勢変更制御部と、
前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部を前記第1サブ支持部に対して前記第2回転軸周りに回動させる第2回転駆動部を更に有し、
前記姿勢変更制御部は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させる。
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記姿勢変更部を制御して、前記検知領域を少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させる姿勢変更制御部と、
前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部を前記第1サブ支持部に対して前記第2回転軸周りに回動させる第2回転駆動部を更に有し、
前記姿勢変更制御部は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させる。
Claims (13)
- 検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部を前記第1サブ支持部に対して前記第2回転軸周りに回動させる第2回転駆動部を更に有し、
前記姿勢変更制御部は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させる、
制御装置。 - 検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
前記複数の領域それぞれにおける前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部が固定され且つ前記第2回転軸と平行に配置された第1シャフトと、前記第1シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第1回転軸周りに回転させる第2回転駆動部と、を有する、
制御装置。 - 前記姿勢変更制御部は、停止モードに移行する場合、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部が前記第1基準姿勢となるように前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させ、且つ、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部が前記第2基準姿勢となるように前記第2サブ支持部を前記第2回転軸周りに回動させる、
請求項1または2に記載の制御装置。 - 前記基台部の回転角度を示す情報を、前記回転角度に対応する前記第1回転駆動部の動作パラメータに対応づけて記憶する回転角度記憶部と、
前記センサ支持部の姿勢を検出する姿勢検出部と、
前記センサ支持部の姿勢を特定する姿勢特定部と、を更に備え、
前記姿勢特定部は、前記姿勢検出部により検出される前記センサ支持部の姿勢に基づいて、前記回転角度記憶部が記憶する前記動作パラメータを補正するための回転角度補正情報を生成し、
前記姿勢変更制御部は、前記回転角度補正情報に基づいて、前記動作パラメータを補正する、
請求項1から3のいずれか1項に記載の制御装置。 - 前記環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報を記憶する環境パラメータ記憶部と、
前記センサ支持部の姿勢を特定する姿勢特定部と、
前記センサにより検知される前記検知領域における環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報を取得し、取得した前記環境パラメータ情報を前記姿勢特定部により特定された姿勢を示す姿勢情報に対応づけて前記環境パラメータ記憶部に記憶させる環境パラメータ取得部と、を更に備える、
請求項1から4のいずれか1項に記載の制御装置。 - 前記環境パラメータは、温度であり、
前記少なくとも1つの機器は、空気調和機であり、
前記解析部は、前記複数の領域それぞれの温度分布を算出し、
前記機器制御部は、前記複数の領域それぞれの温度分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの温度が予め設定された基準温度範囲内となるように前記少なくとも1つの機器を制御する、
請求項1から5のいずれか1項に記載の制御装置。 - 前記環境パラメータの分布を示す環境パラメータ情報と、前記解析部による解析結果を示す解析結果情報と、の少なくとも一方を含む監視情報を生成し、生成した監視情報を、ネットワークを介して外部機器へ送信する監視情報通知部を更に備える、
請求項1から6のいずれか1項に記載の制御装置。 - 少なくとも1つの機器と、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部を前記第1サブ支持部に対して前記第2回転軸周りに回動させる第2回転駆動部を更に有し、
前記姿勢変更制御部は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させる、
機器システム。 - 少なくとも1つの機器と、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサと、
前記センサを支持するセンサ支持部と、
前記センサ支持部の姿勢を変更する姿勢変更部と、
前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように前記姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部と、
前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部と、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部と、を備え、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記姿勢変更部は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記姿勢変更部は、前記第2サブ支持部が固定され且つ前記第2回転軸と平行に配置された第1シャフトと、前記第1シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第1回転軸周りに回転させる第2回転駆動部と、を有する、
機器システム。 - センサが、検知領域における環境パラメータの分布を検出するステップと、
制御装置が、前記センサを支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより前記検知領域を少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させるステップと、
前記制御装置が、前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析するステップと、
前記制御装置が、解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御するステップと、を含み、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記制御装置は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させるように制御して、前記検知領域を前記複数の領域へ順次移動させる、
機器制御方法。 - センサが、検知領域における環境パラメータの分布を検出するステップと、
制御装置が、前記センサを支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより前記検知領域を少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動させるステップと、
前記制御装置が、前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析するステップと、
前記制御装置が、解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御するステップと、を含み、
前記センサ支持部は、前記センサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、
前記第1サブ支持部は、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持し、
前記制御装置は、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させるとともに、前記第2サブ支持部が固定され且つ前記第2回転軸と平行に配置された第1シャフトに固定されたウォームホイールに噛合するウォームを前記第1回転軸周りに回転させるように制御して、前記検知領域を前記複数の領域へ順次移動させる、
機器制御方法。 - コンピュータを、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、前記第1サブ支持部が、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより、前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部と、前記第2サブ支持部を前記第1サブ支持部に対して前記第2回転軸周りに回動させる第2回転駆動部と、を有する姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部、
前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部、
として機能させるためのプログラムであって、
前記姿勢変更制御部は、前記第2サブ支持部が予め設定された第2基準姿勢に維持された状態で、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を予め設定された第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させた後、前記第2回転駆動部を制御して、前記第2サブ支持部を前記第2基準姿勢から前記第2回転軸周りに予め設定された角度だけ回動させ、その後、前記第1回転駆動部を制御して、前記基台部を前記第1基準姿勢から前記第1回転軸周りに1回転させる、
プログラム。 - コンピュータを、
検知領域における環境パラメータの分布を検出するセンサを支持する第1サブ支持部と、前記第1サブ支持部が固定され且つ予め設定された第1回転軸周りに回転自在な基台部と、を有し、前記第1サブ支持部が、前記センサを、前記第1サブ支持部に対して前記第1回転軸と直交する第2回転軸周りに回転自在に設けられた第2サブ支持部を介して支持するセンサ支持部の姿勢を変更することにより、前記検知領域が少なくとも1つの機器が設置された空間における予め設定された複数の領域へ順次移動するように、前記基台部を前記第1回転軸周りに回動させる第1回転駆動部と、前記第2サブ支持部が固定され且つ前記第2回転軸と平行に配置された第1シャフトと、前記第1シャフトに固定されたウォームホイールと、前記ウォームホイールに噛合するウォームを前記第1回転軸周りに回転させる第2回転駆動部と、を有する姿勢変更部を制御する姿勢変更制御部、
前記検知領域における前記環境パラメータの分布に基づいて、前記複数の領域それぞれの状況を解析する解析部、
前記解析部による解析結果に基づいて、前記少なくとも1つの機器を制御する機器制御部、
として機能させるためのプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023091638A JP7438433B2 (ja) | 2020-06-29 | 2023-06-02 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2020/025458 WO2022003756A1 (ja) | 2020-06-29 | 2020-06-29 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023091638A Division JP7438433B2 (ja) | 2020-06-29 | 2023-06-02 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022003756A1 JPWO2022003756A1 (ja) | 2022-01-06 |
JPWO2022003756A5 true JPWO2022003756A5 (ja) | 2022-09-27 |
JP7309072B2 JP7309072B2 (ja) | 2023-07-14 |
Family
ID=79315738
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022533261A Active JP7309072B2 (ja) | 2020-06-29 | 2020-06-29 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
JP2023091638A Active JP7438433B2 (ja) | 2020-06-29 | 2023-06-02 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023091638A Active JP7438433B2 (ja) | 2020-06-29 | 2023-06-02 | 制御装置、機器システム、機器制御方法およびプログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7309072B2 (ja) |
WO (1) | WO2022003756A1 (ja) |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2755031B2 (ja) * | 1992-02-27 | 1998-05-20 | ダイキン工業株式会社 | 空気調和機 |
CN1056225C (zh) * | 1992-03-07 | 2000-09-06 | 三星电子株式会社 | 空调系统 |
JPH05288366A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-11-02 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 二重床空調システム |
JP2006226988A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外線センサシステム |
JP5240488B2 (ja) | 2006-07-05 | 2013-07-17 | 株式会社ダイフク | 物品受止め装置及び物品処理設備 |
JP5288366B2 (ja) | 2007-09-03 | 2013-09-11 | 東芝エレベータ株式会社 | エレベータ巻上機のブレーキ開放装置およびそれを備えたエレベータシステム |
KR101310097B1 (ko) | 2011-05-16 | 2013-09-24 | 한국항공우주연구원 | 태양 추적 센서를 이용한 태양광선 반사 장치 |
US9568075B2 (en) | 2013-10-28 | 2017-02-14 | Seiko Epson Corporation | Robot, robot control device, and robot system |
JP2015200639A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | ダイキン工業株式会社 | 温度分布データ生成システム |
JP6568385B2 (ja) * | 2015-04-15 | 2019-08-28 | アズビル株式会社 | 空調制御装置 |
JP6690279B2 (ja) * | 2016-02-10 | 2020-04-28 | 株式会社リコー | 制御装置、機器制御システム、プログラム |
JP7128577B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-08-31 | セコム株式会社 | 監視装置 |
US10634380B2 (en) * | 2018-04-10 | 2020-04-28 | Osram Sylvania Inc. | System for monitoring occupancy and activity in a space |
-
2020
- 2020-06-29 WO PCT/JP2020/025458 patent/WO2022003756A1/ja active Application Filing
- 2020-06-29 JP JP2022533261A patent/JP7309072B2/ja active Active
-
2023
- 2023-06-02 JP JP2023091638A patent/JP7438433B2/ja active Active
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