JPWO2020196555A1 - - Google Patents
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Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004029735A (ja) * | 2002-03-29 | 2004-01-29 | Hoya Corp | 電子デバイス用基板、該基板を用いたマスクブランクおよび転写用マスク、並びにこれらの製造方法、研磨装置および研磨方法 |
| JP2004302280A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Hoya Corp | マスクブランクス用基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法、並びに転写マスクの製造方法 |
| JP2005301304A (ja) * | 2002-03-29 | 2005-10-27 | Hoya Corp | マスクブランク用基板、マスクブランク、および転写用マスク |
| KR20110056209A (ko) * | 2009-11-20 | 2011-05-26 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 |
| KR20110057064A (ko) * | 2009-11-23 | 2011-05-31 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 |
| JP2011141536A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-07-21 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フォトマスク用ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2012009833A (ja) * | 2010-05-24 | 2012-01-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 合成石英ガラス基板及びその製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| TWI616718B (zh) * | 2013-08-30 | 2018-03-01 | Hoya Corp | 反射型光罩基底、反射型光罩基底之製造方法、反射型光罩及半導體裝置之製造方法 |
| JP5780350B2 (ja) * | 2013-11-14 | 2015-09-16 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 |
| US20170363952A1 (en) * | 2014-12-19 | 2017-12-21 | Hoya Corporation | Mask blank substrate, mask blank, and methods for manufacturing them, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| US10948814B2 (en) * | 2016-03-23 | 2021-03-16 | AGC Inc. | Substrate for use as mask blank, and mask blank |
| JP6873758B2 (ja) * | 2016-03-28 | 2021-05-19 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 |
| JP6803186B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-12-23 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 |
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Patent Citations (14)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004029735A (ja) * | 2002-03-29 | 2004-01-29 | Hoya Corp | 電子デバイス用基板、該基板を用いたマスクブランクおよび転写用マスク、並びにこれらの製造方法、研磨装置および研磨方法 |
| JP2005301304A (ja) * | 2002-03-29 | 2005-10-27 | Hoya Corp | マスクブランク用基板、マスクブランク、および転写用マスク |
| JP2004302280A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Hoya Corp | マスクブランクス用基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法、並びに転写マスクの製造方法 |
| KR20110056209A (ko) * | 2009-11-20 | 2011-05-26 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 |
| KR20110057064A (ko) * | 2009-11-23 | 2011-05-31 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크용 기판, 이를 사용하여 제조된 블랭크 마스크 및 그 제조방법 |
| JP2011141536A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-07-21 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | フォトマスク用ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2012009833A (ja) * | 2010-05-24 | 2012-01-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 合成石英ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2017227936A (ja) * | 2012-02-10 | 2017-12-28 | Hoya株式会社 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、マスクブランク及びマスク、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、並びにマスクブランクの製造方法 |
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