JPWO2020158635A5 - - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、下記のポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物及びポリフッ化ビニリデン膜を提供する。
１． ポリフッ化ビニリデンと、硫酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤及び第４級アンモニウム塩型界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤と、溶媒とを含むポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
２． 前記界面活性剤が、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩から選ばれる少なくとも一種である１のポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
３． 前記界面活性剤の配合量が、ポリフッ化ビニリデン１００質量部に対し０．００１～２０質量部である１又は２のポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
４． １～３のいずれかのポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物から得られるポリフッ化ビニリデン膜。
５． 前記ポリフッ化ビニリデン膜が、β型結晶構造を含むものである４のポリフッ化ビニリデン膜。
６． 前記ポリフッ化ビニリデンのβ型結晶化率が、７０質量％以上である５のポリフッ化ビニリデン膜。
７． １～３のいずれかのポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物を用いてポリフッ化ビニリデン膜を成膜する際に、５５～１０５℃で熱処理することを含むポリフッ化ビニリデン膜の製造方法。
１． ポリフッ化ビニリデンと、硫酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤及び第４級アンモニウム塩型界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤と、溶媒とを含むポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
２． 前記界面活性剤が、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩から選ばれる少なくとも一種である１のポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
３． 前記界面活性剤の配合量が、ポリフッ化ビニリデン１００質量部に対し０．００１～２０質量部である１又は２のポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物。
４． １～３のいずれかのポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物から得られるポリフッ化ビニリデン膜。
５． 前記ポリフッ化ビニリデン膜が、β型結晶構造を含むものである４のポリフッ化ビニリデン膜。
６． 前記ポリフッ化ビニリデンのβ型結晶化率が、７０質量％以上である５のポリフッ化ビニリデン膜。
７． １～３のいずれかのポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物を用いてポリフッ化ビニリデン膜を成膜する際に、５５～１０５℃で熱処理することを含むポリフッ化ビニリデン膜の製造方法。
Claims (5)
- ポリフッ化ビニリデンと、硫酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤及び第４級アンモニウム塩型界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤と、溶媒とを含むポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物から得られるポリフッ化ビニリデン膜であって、
β型結晶構造を含むものであるポリフッ化ビニリデン膜。 - 前記界面活性剤が、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩から選ばれる少なくとも一種である請求項１記載のポリフッ化ビニリデン膜。
- 前記界面活性剤の配合量が、ポリフッ化ビニリデン１００質量部に対し０．００１～２０質量部である請求項１又は２記載のポリフッ化ビニリデン膜。
- 前記ポリフッ化ビニリデンのβ型結晶化率が、７０質量％以上である請求項１～３のいずれか１項記載のポリフッ化ビニリデン膜。
- 前記ポリフッ化ビニリデン膜形成用組成物を用いて請求項１～４のいずれか１項記載のポリフッ化ビニリデン膜を成膜する際に、５５～１０５℃で熱処理することを含むポリフッ化ビニリデン膜の製造方法。
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