JPWO2020153497A1 - A curved screen printing device including a base material holding device, a base material holding method, and a base material holding device. - Google Patents

A curved screen printing device including a base material holding device, a base material holding method, and a base material holding device. Download PDF

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Abstract

本発明の基材保持装置(1)は、基材(G)が載置される保持面(21A)を有する台座(2)と、基材(G)を保持面(21A)上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニット(3)と、所定の保持位置に位置決めされた基材(G)を台座(2)に吸着するよう構成された吸着ユニット(4)とを備え、位置決めユニット(3)は、基材(G)を台座(2)に押圧するよう構成された第1の押圧ユニット(31)と、台座(2)に設けられ、基材(G)の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材(32)と、基材(G)の外縁を押圧して、基材(G)を外縁接触部材(32)に接触させるよう構成された第2の押圧ユニット(34)とを備えている。The base material holding device (1) of the present invention has a pedestal (2) having a holding surface (21A) on which the base material (G) is placed, and a predetermined base material (G) on the holding surface (21A). It is provided with a positioning unit (3) configured to be positioned at a holding position and a suction unit (4) configured to suck a substrate (G) positioned at a predetermined holding position to a pedestal (2). The positioning unit (3) is provided on the first pressing unit (31) configured to press the base material (G) against the pedestal (2) and the pedestal (2), and is provided on the outer edge of the base material (G). A second outer edge contact member (32) configured to come into contact with a part thereof and a second base material (G) configured to come into contact with the outer edge contact member (32) by pressing the outer edge of the base material (G). It is equipped with a pressing unit (34).

Description

本発明は、基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置に関する。 The present invention relates to a base material holding device, a base material holding method, and a curved screen printing device including a base material holding device.

従来、曲面を有する基材に印刷を施す、曲面スクリーン印刷装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1の曲面スクリーン印刷装置は、基材を保持する台座とスクリーン版とスキージとを印刷方向に相対移動させるとともに、台座を印刷方向に直交する回転軸を中心にして回転させることで、基材の印刷を行う。この曲面スクリーン印刷装置の台座の表面には、基材と同一形状の溝と、台座を貫通する複数の孔とが設けられている。
台座の溝内に基材が載置されて位置決めされると、吸引装置が複数の孔を介して外部空気を吸引する。この吸引によって、基材が台座に固定される。
Conventionally, a curved screen printing device that prints on a substrate having a curved surface is known (see, for example, Patent Document 1).
The curved screen printing apparatus of Patent Document 1 is based on a pedestal holding a base material, a screen plate, and a squeegee by moving them relative to each other in the printing direction and rotating the pedestal around a rotation axis orthogonal to the printing direction. Print the material. On the surface of the pedestal of this curved screen printing device, a groove having the same shape as the base material and a plurality of holes penetrating the pedestal are provided.
When the base material is placed and positioned in the groove of the pedestal, the suction device sucks the external air through the plurality of holes. By this suction, the base material is fixed to the pedestal.

国際公開第2017/086197号International Publication No. 2017/086197

しかしながら、特許文献1に記載のような構成では、基材の曲げのばらつきによって、基材の端部が台座の表面から浮いてしまうと、基材が溝の内縁に接触せずに位置決めを行うことができないおそれがある。また、基材の端部が台座から浮いてしまうと、基材の吸着不良が発生するおそれがある。
基材の位置決めを、位置決めピンと、基材の外縁を位置決めピンの方向に押圧する手段とで構成することも考えられるが、曲げの状態がばらつくと、上述のような位置決めや吸着が適切に行えないという課題が生じうることに変わりはない。
また、曲面を有しない平板を目標として作製された基材であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある。そのような基材を平面状の台座へ固定する場合も、同様の課題が生じうる。
また、平板状の基材を曲面を有する台座へ固定する際にも、同様の課題が生じうる。
However, in the configuration as described in Patent Document 1, when the end portion of the base material floats from the surface of the pedestal due to the variation in bending of the base material, the base material is positioned without contacting the inner edge of the groove. May not be possible. Further, if the end portion of the base material floats from the pedestal, there is a possibility that poor adsorption of the base material may occur.
It is conceivable that the positioning of the base material is composed of a positioning pin and a means for pressing the outer edge of the base material in the direction of the positioning pin, but if the bending state varies, the above-mentioned positioning and suction can be appropriately performed. There is no change in the problem that there is no such thing.
Further, even if the base material is made for a flat plate having no curved surface, warpage may occur at least a part such as an end portion. Similar problems can arise when such a substrate is fixed to a flat pedestal.
Further, the same problem may occur when the flat plate-shaped base material is fixed to the pedestal having a curved surface.

本発明の目的は、板状の基材を適切に位置決めして保持できる基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a base material holding device capable of appropriately positioning and holding a plate-shaped base material, a base material holding method, and a curved screen printing device including a base material holding device.

本発明の一態様の基材保持装置は、板状の基材を保持する基材保持装置であって、前記基材が載置される保持面を有する台座と、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニットと、前記所定の保持位置に位置決めされた基材を前記台座に吸着するよう構成された吸着ユニットとを備え、前記位置決めユニットは、前記基材を前記台座に押圧するよう構成された第1の押圧ユニットと、前記台座に設けられ、前記基材の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材と、前記基材の外縁を押圧して、前記基材を前記外縁接触部材に接触させるよう構成された第2の押圧ユニットとを備えている。 The base material holding device of one aspect of the present invention is a base material holding device for holding a plate-shaped base material, and has a pedestal having a holding surface on which the base material is placed and the base material holding surface. The positioning unit includes a positioning unit configured to be positioned at the above predetermined holding position and a suction unit configured to suck the substrate positioned at the predetermined holding position to the pedestal, and the positioning unit is the said. A first pressing unit configured to press the base material against the pedestal, an outer edge contact member provided on the pedestal and configured to contact a part of the outer edge of the base material, and an outer edge of the base material. It is provided with a second pressing unit configured to bring the base material into contact with the outer edge contact member.

本態様によれば、基材の曲げのばらつき等によって、台座への載置時に基材の一部が浮いてしまっていても、当該基材を台座に押圧して、浮いた部分を台座に近づけつつ、基材を外縁接触部材に押圧できる。このため、基材の外縁が外縁接触部材に確実に接触し、所定の保持位置に位置決めできる。さらに、この所定の保持位置に位置決めされた基材を、台座に押圧しつつ吸着することで、吸着不良を抑制できる。
According to this aspect, even if a part of the base material is floating when it is placed on the pedestal due to variations in bending of the base material, the base material is pressed against the pedestal and the floating part is used as the pedestal. The base material can be pressed against the outer edge contact member while being brought closer. Therefore, the outer edge of the base material can be reliably contacted with the outer edge contact member and can be positioned at a predetermined holding position. Further, by adsorbing the base material positioned at the predetermined holding position while pressing it against the pedestal, it is possible to suppress the adsorption failure.

上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記基材の主面に接触するよう構成された複数の主面接触部材を備えていることが好ましい。
この態様では、第1の押圧ユニットと基材との接触面積を減らせるため、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときの摩擦力を低減できる。
In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit includes a plurality of main surface contact members configured to come into contact with the main surface of the base material.
In this aspect, since the contact area between the first pressing unit and the base material can be reduced, the frictional force when the base material is pressed by the second pressing unit can be reduced.

上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記複数の主面接触部材を独立的に前記台座から進退させるよう構成された進退制御ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、様々な形状の基材に対して、適切な力で押圧できる。また、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときに、主面接触部材を基材の形状に追従させることで、安定した力で基材を押圧できる。
In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit further includes an advance / retreat control unit configured to independently advance / retreat the plurality of main surface contact members from the pedestal.
In this aspect, it is possible to press a substrate having various shapes with an appropriate force. Further, when the base material is pressed by the second pressing unit, the base material can be pressed with a stable force by making the main surface contact member follow the shape of the base material.

上記基材保持装置において、前記主面接触部材は、球体であることが好ましい。
この態様では、球体を基材に点接触させることで、両者の接触面積を最小限に抑えられ、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときの摩擦力を低減できる。
In the base material holding device, the main surface contact member is preferably a sphere.
In this embodiment, by bringing the sphere into point contact with the base material, the contact area between the two can be minimized, and the frictional force when the base material is pressed by the second pressing unit can be reduced.

上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記球体を回転可能に保持するよう構成された球体保持ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときに、基材に接触している球体を回転させることで、基材と球体との摩擦力をより低減でき、基材の位置決めをスムーズに行える。その上、基材の傷付きや破損を抑制できる。
In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit further includes a sphere holding unit configured to rotatably hold the sphere.
In this embodiment, when the base material is pressed by the second pressing unit, the frictional force between the base material and the sphere can be further reduced by rotating the sphere in contact with the base material, and the positioning of the base material can be performed. It can be done smoothly. In addition, scratches and breakage of the base material can be suppressed.

上記基材保持装置において、前記位置決めユニットは、前記基材と前記台座との摩擦力を低減するよう構成された摩擦力低減ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、基材と台座との摩擦力を低減することで、第2の押圧ユニットによる押圧をスムーズに行える。
In the base material holding device, it is preferable that the positioning unit further includes a frictional force reducing unit configured to reduce the frictional force between the base material and the pedestal.
In this aspect, by reducing the frictional force between the base material and the pedestal, the pressing by the second pressing unit can be smoothly performed.

上記基材保持装置において、前記外縁接触部材は、前記台座における前記基材の保持面からの高さが前記基材の厚さ以下に設定されていることが好ましい。
この態様では、基材保持装置を曲面スクリーン印刷装置に適用した場合、印刷時にスクリーン版を基材に接触させても、外縁接触部材の先端が基材の被印刷面から突出しないため、外縁接触部材との接触によるスクリーン版の破損を抑制できる。よって、後工程に影響を及ぼすことがない基材保持装置を提供できる。
In the base material holding device, it is preferable that the height of the outer edge contact member from the holding surface of the base material on the pedestal is set to be equal to or less than the thickness of the base material.
In this aspect, when the base material holding device is applied to a curved screen printing device, even if the screen plate is brought into contact with the base material during printing, the tip of the outer edge contact member does not protrude from the printed surface of the base material, so that the outer edge contact occurs. Damage to the screen plate due to contact with the member can be suppressed. Therefore, it is possible to provide a base material holding device that does not affect the subsequent process.

上記基材保持装置において、前記保持面が曲面を有していてもよい。
この態様の基材保持装置は、曲面を有する基材を適切に位置決めして保持できる。
また、この態様の基材保持装置は、基材を台座に押し曲げて保持することで、平板状の基材を台座の保持面に沿う形状に維持したまま、外縁接触部材に押圧できる。このため、基材の外縁が外縁接触部材に確実に接触し、所定の保持位置に位置決めできる。さらに、この所定の保持位置に位置決めされた基材を、台座に押圧しつつ吸着することで、吸着不良を抑制できる。よって、本態様の基材保持装置は、平板状の基材を曲げて保持する場合にも適切に位置決めして保持できる。
In the base material holding device, the holding surface may have a curved surface.
The base material holding device of this embodiment can appropriately position and hold a base material having a curved surface.
Further, in the base material holding device of this embodiment, by pushing and bending the base material against the pedestal to hold the base material, the flat plate-shaped base material can be pressed against the outer edge contact member while maintaining the shape along the holding surface of the pedestal. Therefore, the outer edge of the base material can be reliably contacted with the outer edge contact member and can be positioned at a predetermined holding position. Further, by adsorbing the base material positioned at the predetermined holding position while pressing it against the pedestal, it is possible to suppress the adsorption failure. Therefore, the base material holding device of this embodiment can be appropriately positioned and held even when the flat plate-shaped base material is bent and held.

また、上記基材保持装置において、前記保持面が平面であってもよい。
この態様の基材保持装置は、曲面を有しない平板を目標として作製された基材であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある基材を、適切に位置決めして保持できる。
Further, in the base material holding device, the holding surface may be a flat surface.
In the base material holding device of this embodiment, even if the base material is made for a flat plate having no curved surface, the base material which may be warped at least a part such as an edge is appropriately positioned. Can be retained.

上記基材保持装置は、前記保持面に載置された基材を加温するよう構成された加温ユニットをさらに有していてもよい。
この態様の基材保持装置は、基材を押し曲げた状態で加熱することで、基材を台座の保持面に沿う形状に固定することができる。加熱温度は例えば室温以上、ガラスの軟化点以下の温度に制御される(例えば25℃〜500℃)。
The base material holding device may further have a heating unit configured to heat the base material placed on the holding surface.
In the base material holding device of this embodiment, the base material can be fixed in a shape along the holding surface of the pedestal by heating the base material in a pressed and bent state. The heating temperature is controlled to, for example, a temperature above room temperature and below the softening point of the glass (for example, 25 ° C to 500 ° C).

本発明の一態様の曲面スクリーン印刷装置は、曲面を有する板状の基材に所定のパターンを印刷する曲面スクリーン印刷装置であって、上述の基材保持装置と、スクリーン版と、前記スクリーン版の上方に配置され、前記スクリーン版を介して前記基材保持装置で保持された前記基材にインクを塗布するよう構成されたスキージと、前記基材保持装置の前記台座と前記スクリーン版と前記スキージとを相対移動させることで、前記基材に前記所定のパターンを印刷するよう構成された印刷制御ユニットとを備えている。
本態様によれば、適切に位置決めされた基材に対して印刷を行えるため、印刷品質を向上できる。
The curved screen printing device according to one aspect of the present invention is a curved screen printing device that prints a predetermined pattern on a plate-shaped base material having a curved surface, and is the above-mentioned base material holding device, a screen plate, and the screen plate. A squeegee arranged above the base material and configured to apply ink to the base material held by the base material holding device via the screen plate, the pedestal of the base material holding device, the screen plate, and the above. It is provided with a print control unit configured to print the predetermined pattern on the substrate by relatively moving the squeegee.
According to this aspect, printing can be performed on an appropriately positioned substrate, so that printing quality can be improved.

本発明の一態様の基材保持方法は、板状の基材を保持する基材保持方法であって、前記基材を台座の保持面に載置し、前記基材を前記台座に押圧し、前記台座に押圧された前記基材の外縁を押圧して、当該基材の外縁の一部に接触する外縁接触部材に接触させることで、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めし、前記台座に押圧され、かつ、前記所定の保持位置に位置決めされた前記基材を前記台座に吸着する。
本態様によれば、基材を適切に位置決めして保持できる。
The base material holding method of one aspect of the present invention is a base material holding method for holding a plate-shaped base material, in which the base material is placed on a holding surface of a pedestal and the base material is pressed against the pedestal. By pressing the outer edge of the base material pressed against the pedestal and bringing it into contact with the outer edge contact member that contacts a part of the outer edge of the base material, the base material is placed in a predetermined holding position on the holding surface. The base material that is positioned in the pedestal, pressed against the pedestal, and positioned at the predetermined holding position is adsorbed on the pedestal.
According to this aspect, the base material can be appropriately positioned and held.

上記基材保持方法において、前記基材の外縁を押圧するときには、第1の押圧力で前記基材を前記台座に押圧し、前記基材を前記台座に吸着するときには、前記第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で前記基材を前記台座に押圧することが好ましい。
この態様では、位置決め時に、第2の押圧力よりも小さい第1の押圧力で、基材を台座に押圧することで、基材の外縁接触部材への接触をスムーズに行える。吸着時に、第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で、基材を台座に押圧することで、基材の吸着をスムーズに行える。
In the base material holding method, when the outer edge of the base material is pressed, the base material is pressed against the pedestal by the first pressing force, and when the base material is adsorbed on the pedestal, the first pressing force is applied. It is preferable to press the base material against the pedestal with a second pressing force larger than that.
In this embodiment, the base material is pressed against the pedestal with a first pressing force smaller than the second pressing force at the time of positioning, so that the base material can be smoothly contacted with the outer edge contact member. At the time of adsorption, the base material is pressed against the pedestal with a second pressing force larger than the first pressing force, so that the base material can be smoothly adsorbed.

上記基材保持方法において、前記保持面が曲面を有していてもよく、前記保持面が平面であってもよい。 In the base material holding method, the holding surface may have a curved surface, or the holding surface may be a flat surface.

上記基材保持方法において、前記基材が曲面を有していてもよく、前記基材が平板であってもよい。 In the base material holding method, the base material may have a curved surface, or the base material may be a flat plate.

上記基材保持方法において、前記保持面に載置した基材を加温してもよい。 In the base material holding method, the base material placed on the holding surface may be heated.

図1Aは、本発明の一実施形態に係る基材保持装置の概略構成を示す断面模式図である。FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a base material holding device according to an embodiment of the present invention. 図1Bは、本発明の一実施形態に係る基材保持装置の概略構成を示す平面模式図である。FIG. 1B is a schematic plan view showing a schematic configuration of a base material holding device according to an embodiment of the present invention. 図2Aは、上記基材保持装置を用いた基材保持方法の動作説明図である。FIG. 2A is an operation explanatory view of a base material holding method using the above base material holding device. 図2Bは、上記基材保持装置を用いた基材保持方法の動作説明図である。FIG. 2B is an operation explanatory diagram of a base material holding method using the base material holding device. 図2Cは、上記基材保持装置を用いた基材保持方法の動作説明図である。FIG. 2C is an operation explanatory diagram of a base material holding method using the above base material holding device. 図3Aは、図2A〜図2Cに続く基材保持方法の動作説明図である。FIG. 3A is an operation explanatory view of the base material holding method following FIGS. 2A to 2C. 図3Bは、図3Aに続く基材保持方法の動作説明図である。FIG. 3B is an operation explanatory view of the base material holding method following FIG. 3A. 図4Aは前記基材保持装置を備えた曲面スクリーン印刷装置の模式図である。FIG. 4A is a schematic view of a curved screen printing device provided with the base material holding device. 図4Bは曲面スクリーン印刷装置を用いた印刷方法の動作説明図である。FIG. 4B is an operation explanatory diagram of a printing method using a curved screen printing device. 図4Cは曲面スクリーン印刷装置を用いた印刷方法の動作説明図である。FIG. 4C is an operation explanatory diagram of a printing method using a curved screen printing device.

[第一実施形態]
以下、本発明の第一実施形態について説明する。なお、各構成の配置位置を説明するときには、図1AのXYZ軸を基準にして方向を定義し、+X方向を右、−X方向を左、+Y方向を前、−Y方向を後ろ、+Z方向を上、−Z方向を下と表現する。
[First Embodiment]
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described. When explaining the arrangement position of each configuration, the direction is defined with reference to the XYZ axis of FIG. 1A, the + X direction is right, the −X direction is left, the + Y direction is front, the −Y direction is back, and the + Z direction. Is expressed as up, and the -Z direction is expressed as down.

〔基材保持装置の構成〕
基材保持装置1は、図1A及び図1Bに示すように、曲面を有する板状の基材Gを保持する。
基材Gとしては、ガラスや、セラミクス、樹脂、木材、金属などの板が挙げられる。ガラスとしては、無色透明の非晶質ガラスの他、結晶化ガラスや色ガラスなどが挙げられる。基材Gの平面形状は、特に限定されず、多角形、円形、楕円形、その他のいかなる形状であってもよい。
曲面とは、曲率半径が5000mm以下の面を意味する。基材Gに設けられる曲面としては、一方の主面側が他方の主面側に突出する凸面のみで構成されてもよいし、凸面に加えて、逆方向に突出する凹面を含んで構成されてもよいし、凸面及び凹面が複数あってもよい。さらには、凸面又は凹面のみの場合、曲率が異なる部分が存在してもよい。また、平坦部分と屈曲部分が両方存在していてもよいし、ねじれを伴った屈曲部が存在してもよい。
本実施形態の基材Gは、平面視で長方形に形成されており、その長辺方向の中心を中心にして一方向に曲がっている。
基材保持装置1は、台座2と、位置決めユニット3と、吸着ユニット4と、基材保持装置1全体を制御する図示しない制御ユニットとを備えている。
[Structure of base material holding device]
As shown in FIGS. 1A and 1B, the base material holding device 1 holds a plate-shaped base material G having a curved surface.
Examples of the base material G include plates made of glass, ceramics, resin, wood, metal and the like. Examples of the glass include colorless and transparent amorphous glass, as well as crystallized glass and colored glass. The planar shape of the base material G is not particularly limited, and may be a polygonal shape, a circular shape, an elliptical shape, or any other shape.
The curved surface means a surface having a radius of curvature of 5000 mm or less. The curved surface provided on the base material G may be composed of only a convex surface having one main surface side projecting toward the other main surface side, or may include a concave surface projecting in the opposite direction in addition to the convex surface. It may have a plurality of convex and concave surfaces. Furthermore, in the case of only a convex surface or a concave surface, there may be a portion having a different curvature. Further, both a flat portion and a bent portion may be present, or a bent portion with a twist may be present.
The base material G of the present embodiment is formed in a rectangular shape in a plan view, and is bent in one direction about the center in the long side direction thereof.
The base material holding device 1 includes a pedestal 2, a positioning unit 3, a suction unit 4, and a control unit (not shown) that controls the entire base material holding device 1.

台座2には、基材Gが載置される。台座2の表面21は、基材Gの平面形状よりも大きく形成されている。表面21の一部は、基材Gの目標曲げ形状と同じ形状を有する保持面21Aを構成している。本実施形態では、保持面21Aは、凸状に形成されている。
台座2の裏面には、プレート20が固定されている。台座2とプレート20との間には、凹部空間22が設けられている。台座2には、保持面21Aの上方の空間と凹部空間22とを連通する複数の孔23が設けられている。
The base material G is placed on the pedestal 2. The surface 21 of the pedestal 2 is formed larger than the planar shape of the base material G. A part of the surface 21 constitutes a holding surface 21A having the same shape as the target bending shape of the base material G. In the present embodiment, the holding surface 21A is formed in a convex shape.
A plate 20 is fixed to the back surface of the pedestal 2. A recessed space 22 is provided between the pedestal 2 and the plate 20. The pedestal 2 is provided with a plurality of holes 23 that communicate the space above the holding surface 21A and the recessed space 22.

位置決めユニット3は、基材Gを台座2上の所定の保持位置に位置決めする。位置決めユニット3は、第1の押圧ユニット31と、外縁接触部材32と、摩擦力低減ユニット33と、第2の押圧ユニット34とを備えている。 The positioning unit 3 positions the base material G at a predetermined holding position on the pedestal 2. The positioning unit 3 includes a first pressing unit 31, an outer edge contact member 32, a frictional force reducing unit 33, and a second pressing unit 34.

第1の押圧ユニット31は、基材Gを台座2に押圧する。第1の押圧ユニット31は、7個の主面押圧機構311と、当該7個の主面押圧機構311を基材Gに対して昇降させる昇降ユニット312とを備えている。
主面押圧機構311は、進退制御ユニットとしての空圧式または油圧式のシリンダ313と、シリンダ313の出力軸313Aに固定された球体保持ユニット314と、球体保持ユニット314に回転可能に保持された主面接触部材としての球体315とを備えている。
昇降ユニット312は、7個の主面押圧機構311を台座2の上方で保持する保持体316と、保持体316を昇降させる昇降駆動機構317とを備えている。
保持体316は、3個の主面押圧機構311を、台座2上の基材Gの短辺方向の中央において、長辺方向に等間隔に並ぶように保持する。保持体316は、上記3個の主面押圧機構311のうちの1個を、基材Gの中心に位置するように保持する。保持体316は、他の2個の主面押圧機構311を、基材Gの短辺方向の中央よりも一方の長辺側において、長辺方向に等間隔に並び、かつ、長辺方向の位置が上記3個の主面押圧機構311における互いに隣り合う主面押圧機構311の間となるように保持する。保持体316は、残りの2個の主面押圧機構311を、基材Gの中心を通りかつ長辺と平行な仮想線に対して、上記他の2個の主面押圧機構311と線対称の位置で保持する。
The first pressing unit 31 presses the base material G against the pedestal 2. The first pressing unit 31 includes seven main surface pressing mechanisms 311 and an elevating unit 312 for raising and lowering the seven main surface pressing mechanisms 311 with respect to the base material G.
The main surface pressing mechanism 311 is mainly a pneumatic or hydraulic cylinder 313 as an advance / retreat control unit, a sphere holding unit 314 fixed to the output shaft 313A of the cylinder 313, and a sphere holding unit 314 rotatably held. It is provided with a sphere 315 as a surface contact member.
The elevating unit 312 includes a holding body 316 that holds seven main surface pressing mechanisms 311 above the pedestal 2, and an elevating drive mechanism 317 that raises and lowers the holding body 316.
The holding body 316 holds the three main surface pressing mechanisms 311 so as to be arranged at equal intervals in the long side direction at the center of the base material G on the pedestal 2 in the short side direction. The holding body 316 holds one of the three main surface pressing mechanisms 311 so as to be located at the center of the base material G. In the holding body 316, the other two main surface pressing mechanisms 311 are arranged at equal intervals in the long side direction on one long side side from the center in the short side direction of the base material G, and in the long side direction. The position is held so as to be between the main surface pressing mechanisms 311 adjacent to each other in the three main surface pressing mechanisms 311. The holding body 316 has the remaining two main surface pressing mechanisms 311 axisymmetric with the other two main surface pressing mechanisms 311 with respect to a virtual line passing through the center of the base material G and parallel to the long side. Hold at the position of.

外縁接触部材32は、基材Gの外縁の一部に接触する。外縁接触部材32は、いわゆる位置決めピンであり、円柱状に形成されている。外縁接触部材32は、台座2の表面21における保持面21Aの外側から突出するように設けられている。3個の外縁接触部材32は、それぞれ、基材Gの左側の短辺中央、基材Gの下側の長辺中央よりも左端側、前記下側の長辺中央よりも右端側の位置に接触するように設けられている。外縁接触部材32の保持面21Aからの高さは、基材Gの厚さ以下に設定されている。 The outer edge contact member 32 comes into contact with a part of the outer edge of the base material G. The outer edge contact member 32 is a so-called positioning pin and is formed in a columnar shape. The outer edge contact member 32 is provided so as to project from the outside of the holding surface 21A on the surface 21 of the pedestal 2. The three outer edge contact members 32 are located at the center of the short side on the left side of the base material G, on the left end side of the lower center of the long side of the base material G, and on the right end side of the center of the lower long side. It is provided so as to come into contact with each other. The height of the outer edge contact member 32 from the holding surface 21A is set to be equal to or less than the thickness of the base material G.

摩擦力低減ユニット33は、基材Gに台座2から離間する方向への離間力を付与することで、基材Gと台座2との摩擦力を低減する。摩擦力低減ユニット33は、台座2に設けられた凹部空間22および孔23と、凹部空間22に気体を供給する気体供給ユニット331とによって構成されている。 The frictional force reducing unit 33 reduces the frictional force between the base material G and the pedestal 2 by applying a separating force to the base material G in a direction away from the pedestal 2. The frictional force reducing unit 33 is composed of a recessed space 22 and a hole 23 provided in the pedestal 2, and a gas supply unit 331 that supplies gas to the recessed space 22.

第2の押圧ユニット34は、台座2上の基材Gの外縁を押圧して、3個の外縁接触部材32に接触させることで、基材Gの回転を規制しつつ、保持面21A上の保持位置に位置決めする。第2の押圧ユニット34は、3個の外縁押圧機構341を備えている。3個の外縁押圧機構341は、基材Gに対して3個の外縁接触部材32と反対側の位置を押圧するように、保持体316で保持されている。外縁押圧機構341は、垂直シリンダ342と、垂直シリンダ342の出力軸342Aに固定された水平シリンダ343と、水平シリンダ343の出力軸343Aに固定された四角柱状の押圧部材344とを備えている。 The second pressing unit 34 presses the outer edge of the base material G on the pedestal 2 and brings it into contact with the three outer edge contact members 32, thereby restricting the rotation of the base material G and on the holding surface 21A. Position to the holding position. The second pressing unit 34 includes three outer edge pressing mechanisms 341. The three outer edge pressing mechanisms 341 are held by the holding body 316 so as to press the positions opposite to the three outer edge contact members 32 against the base material G. The outer edge pressing mechanism 341 includes a vertical cylinder 342, a horizontal cylinder 343 fixed to the output shaft 342A of the vertical cylinder 342, and a square columnar pressing member 344 fixed to the output shaft 343A of the horizontal cylinder 343.

吸着ユニット4は、台座2に基材Gを吸着する。吸着ユニット4は、台座2に設けられた凹部空間22および孔23と、凹部空間22を排気する気体排気ユニット41とによって構成されている。 The adsorption unit 4 adsorbs the base material G on the pedestal 2. The suction unit 4 is composed of a recessed space 22 and a hole 23 provided in the pedestal 2, and a gas exhaust unit 41 that exhausts the recessed space 22.

〔基材保持方法〕
次に、上記基材保持装置1を用いた基材保持方法について説明する。
まず、図1Aに示すように、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34が台座2から上方に離間している初期状態において、作業者または図示しない搬送手段が基材Gを台座2上に載置する。このとき、基材Gの曲率が設計通りであれば、図2Aに示すように、基材Gが全面にわたって台座2の保持面21Aに接触する。しかし、基材Gの曲率が設計からずれている場合、図2Bに示すように、端部が保持面21Aから浮いたり、図2Cに示すように、中央が保持面21Aから浮いたりする。
[Base material holding method]
Next, a base material holding method using the base material holding device 1 will be described.
First, as shown in FIG. 1A, in an initial state in which the first pressing unit 31 and the second pressing unit 34 are separated upward from the pedestal 2, an operator or a transport means (not shown) attaches the base material G to the pedestal 2. Place it on top. At this time, if the curvature of the base material G is as designed, the base material G comes into contact with the holding surface 21A of the pedestal 2 over the entire surface as shown in FIG. 2A. However, when the curvature of the base material G deviates from the design, the end portion floats from the holding surface 21A as shown in FIG. 2B, and the center floats from the holding surface 21A as shown in FIG. 2C.

次に、制御ユニットは、昇降駆動機構317を駆動して保持体316を下降させ、図3Aに示すように、第1の押圧ユニット31の全ての球体315で基材Gを押圧する。そして、制御ユニットは、基材Gのほぼ全面が保持面21Aに接触したタイミング、あるいは、基材Gの外縁の下端が、当該下端に対向する外縁接触部材32の上端よりも下方に位置したタイミングで、保持体316の下降を停止させることによって、後述する第2の押圧力よりも小さい第1の押圧力で基材Gを押圧する。
このとき、図1Aに示すように、全ての球体315の高さ位置を同じにした状態で保持体316を下降させ、球体315が基材Gの上面G1に接触した後に、当該上面G1の形状に合わせてシリンダ313の出力軸313Aを伸縮させてもよい。あるいは、あらかじめ全ての球体315の高さ位置を上面G1の形状に合わせて出力軸313Aを伸縮させた状態で、保持体316を下降させてもよい。
Next, the control unit drives the elevating drive mechanism 317 to lower the holding body 316, and as shown in FIG. 3A, presses the base material G with all the spheres 315 of the first pressing unit 31. Then, in the control unit, the timing at which almost the entire surface of the base material G comes into contact with the holding surface 21A, or the timing at which the lower end of the outer edge of the base material G is located below the upper end of the outer edge contact member 32 facing the lower end. By stopping the lowering of the holding body 316, the base material G is pressed with a first pressing force smaller than the second pressing force described later.
At this time, as shown in FIG. 1A, the holding body 316 is lowered with the height positions of all the spheres 315 being the same, and after the spheres 315 come into contact with the upper surface G1 of the base material G, the shape of the upper surface G1 is formed. The output shaft 313A of the cylinder 313 may be expanded or contracted according to the above. Alternatively, the holding body 316 may be lowered in a state where the output shaft 313A is expanded and contracted in advance by adjusting the height positions of all the spheres 315 to the shape of the upper surface G1.

この後、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31での押圧状態を維持したまま、摩擦力低減ユニット33の気体供給ユニット331を駆動し、凹部空間22を介して孔23に気体を供給することで、基材Gに離間力を付与する。この離間力の付与によって、基材Gと台座2との摩擦力が低減する。
次に、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31での押圧状態および摩擦力低減ユニット33での離間力の付与状態を維持したまま、全ての第2の押圧ユニット34の垂直シリンダ342を駆動して水平シリンダ343を下降させる。その後、制御ユニットは、水平シリンダ343を駆動して、図3Bに示すように、押圧部材344の先端で基材Gを外縁接触部材32に押圧し、全ての外縁接触部材32に基材Gが接触して位置決めが終了したタイミングで、出力軸343Aの駆動を停止する。
この押圧部材344による基材Gの押圧時に、基材Gの上面G1と接触している球体315は、シリンダ313の出力軸313Aの伸縮によって、上面G1の形状に追従しながら回転する。
After that, the control unit drives the gas supply unit 331 of the frictional force reducing unit 33 while maintaining the pressing state of the first pressing unit 31, and supplies gas to the hole 23 through the recess space 22. Then, a separating force is applied to the base material G. By applying this separation force, the frictional force between the base material G and the pedestal 2 is reduced.
Next, the control unit drives the vertical cylinders 342 of all the second pressing units 34 while maintaining the pressing state of the first pressing unit 31 and the state of applying the separation force of the frictional force reducing unit 33. And lowers the horizontal cylinder 343. After that, the control unit drives the horizontal cylinder 343 to press the base material G against the outer edge contact member 32 with the tip of the pressing member 344 as shown in FIG. 3B, and the base material G is applied to all the outer edge contact members 32. The drive of the output shaft 343A is stopped at the timing when the contact is completed and the positioning is completed.
When the base material G is pressed by the pressing member 344, the sphere 315 in contact with the upper surface G1 of the base material G rotates while following the shape of the upper surface G1 due to the expansion and contraction of the output shaft 313A of the cylinder 313.

次に、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34での押圧状態を維持したまま、気体供給ユニット331の駆動を停止する。制御ユニットは、保持体316を下降させることと、シリンダ313の出力軸313Aを伸ばすこととのうち少なくとも一方を行うことによって、第1の押圧ユニット31による押圧力を第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力に調整する。
その後、制御ユニットは、吸着ユニット4の気体排気ユニット41を駆動し、孔23および凹部空間22内の気体を排気することで、基材Gを台座2に吸着する。
以上の工程によって、基材Gは、台座2の保持面21Aの保持位置に位置決めされ、かつ、外縁接触部材32の先端が当該基材Gから突出しない状態で、当該台座2に保持される。
Next, the control unit stops driving the gas supply unit 331 while maintaining the pressing state of the first pressing unit 31 and the second pressing unit 34. The control unit makes the pressing force by the first pressing unit 31 larger than the first pressing force by performing at least one of lowering the holding body 316 and extending the output shaft 313A of the cylinder 313. Adjust to the second pressing force.
After that, the control unit drives the gas exhaust unit 41 of the adsorption unit 4 to exhaust the gas in the holes 23 and the recessed space 22, thereby adsorbing the base material G to the pedestal 2.
By the above steps, the base material G is positioned at the holding position of the holding surface 21A of the pedestal 2, and is held by the pedestal 2 in a state where the tip of the outer edge contact member 32 does not protrude from the base material G.

次に、制御ユニットは、水平シリンダ343を制御して、押圧部材344を基材Gから離間させる。そして、制御ユニットは、垂直シリンダ342、シリンダ313および昇降駆動機構317を制御して、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34を図1Aに示す初期状態に復帰させる。
この後、基材Gは、台座2に吸着されたまま、印刷、接着剤塗布またはコーティングなどの処理が施される。
Next, the control unit controls the horizontal cylinder 343 to separate the pressing member 344 from the base material G. Then, the control unit controls the vertical cylinder 342, the cylinder 313, and the elevating drive mechanism 317 to return the first pressing unit 31 and the second pressing unit 34 to the initial state shown in FIG. 1A.
After that, the base material G is subjected to processing such as printing, adhesive coating, or coating while being adsorbed on the pedestal 2.

〔基材保持装置、基材保持方法の作用効果〕
上述した基材保持装置1によれば、第1の押圧ユニット31で基材Gを台座2に押圧しつつ、第2の押圧ユニット34で基材Gを外縁接触部材32に押圧するため、台座2への載置時に外縁が浮き上がっていた基材Gであっても、当該基材Gが全ての外縁接触部材32に確実に接触して、保持位置に位置決めされる。さらに、この基材Gを第1の押圧ユニット31で押圧しつつ台座2に吸着することで、吸着不良を抑制できる。
[Action and effect of base material holding device and base material holding method]
According to the base material holding device 1 described above, the base material G is pressed against the pedestal 2 by the first pressing unit 31, and the base material G is pressed against the outer edge contact member 32 by the second pressing unit 34, so that the pedestal is pressed. Even if the base material G has a raised outer edge when placed on the 2, the base material G reliably contacts all the outer edge contact members 32 and is positioned at the holding position. Further, by adsorbing the base material G to the pedestal 2 while pressing it with the first pressing unit 31, it is possible to suppress the adsorption failure.

第1の押圧ユニット31の基材Gに接触する部材を、複数の球体315で構成しているため、当該球体315と基材Gとの接触面積を減らせ、第2の押圧ユニット34で基材Gを押圧するときの摩擦力を低減できる。
球体315を球体保持ユニット314で回転可能に保持しているため、基材Gの位置決めをスムーズに行える上、基材Gの傷付きや破損を抑制できる。
シリンダ313の出力軸313Aの伸縮によって、球体315を上面G1の形状に追従しながら回転させるため、安定した力で基材Gを押圧できる。
Since the member in contact with the base material G of the first pressing unit 31 is composed of a plurality of spheres 315, the contact area between the spheres 315 and the base material G can be reduced, and the base material in the second pressing unit 34. The frictional force when pressing G can be reduced.
Since the sphere 315 is rotatably held by the sphere holding unit 314, the base material G can be smoothly positioned and the base material G can be suppressed from being scratched or damaged.
By expanding and contracting the output shaft 313A of the cylinder 313, the sphere 315 is rotated while following the shape of the upper surface G1, so that the base material G can be pressed with a stable force.

第2の押圧ユニット34で基材Gを押圧するときに、基材Gに離間力を付与して台座2との摩擦力を低減することで、第2の押圧ユニット34の押圧をスムーズに行える。 When the base material G is pressed by the second pressing unit 34, the base material G is subjected to a separation force to reduce the frictional force with the pedestal 2, so that the second pressing unit 34 can be pressed smoothly. ..

位置決め時に基材Gを台座2に押圧する力を、吸着時よりも小さくしているため、第2の押圧ユニット34の押圧による基材Gのスムーズな移動と、基材Gの台座2へのスムーズな吸着とを両立できる。 Since the force for pressing the base material G against the pedestal 2 at the time of positioning is smaller than that at the time of suction, the base material G can be smoothly moved by pressing the second pressing unit 34 and the base material G can be moved to the pedestal 2. Both smooth adsorption can be achieved.

[第二実施形態]
以下、本発明の第二実施形態について説明する。なお、上記第一実施形態と同様の部分は、説明を適宜省略または簡略化する。
[Second Embodiment]
Hereinafter, the second embodiment of the present invention will be described. In the same parts as in the first embodiment, the description thereof will be omitted or simplified as appropriate.

〔基材保持装置の構成〕
本実施形態の基材保持装置は、曲面を有する保持面に平板状の基材Gを保持する。すなわち、平板状の基材Gを押し曲げて、曲面を有する保持面に沿う形状に固定し保持する。
ここで平板状の基材とは、少なくとも台座の保持面に接する面が平面である基材を意味する。平面とは、曲率半径が5000mm超の面を意味する。基材Gの種類や基材保持装置の構成は、第一実施形態と同様である。
[Structure of base material holding device]
The base material holding device of the present embodiment holds the flat base material G on the holding surface having a curved surface. That is, the flat plate-shaped base material G is pushed and bent to be fixed and held in a shape along the holding surface having a curved surface.
Here, the flat plate-shaped base material means a base material whose surface in contact with the holding surface of the pedestal is at least flat. The plane means a surface having a radius of curvature of more than 5000 mm. The type of the base material G and the configuration of the base material holding device are the same as those in the first embodiment.

〔基材保持装置、基材保持方法の作用効果〕
上記基材保持装置の、曲面を有する保持面に平板状の基材Gを載置した場合、基材Gは自重により多少たわむかもしれないが、例えば図2Bに示すように、端部が保持面21Aから浮く可能性がある。本実施形態の基材保持装置を用いて第一実施形態と同様の基材保持方法を実施することで、第一実施形態と同様の効果を得ることができる。
[Action and effect of base material holding device and base material holding method]
When a flat plate-shaped base material G is placed on a holding surface having a curved surface of the base material holding device, the base material G may bend slightly due to its own weight, but the end portion is held, for example, as shown in FIG. 2B. It may float from surface 21A. By implementing the same base material holding method as the first embodiment using the base material holding device of the present embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

〔基材保持装置、基材保持方法の変形例〕
なお、本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良ならびに設計の変更などが可能である。
[Modification of base material holding device and base material holding method]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various improvements and design changes can be made without departing from the gist of the present invention.

例えば、主面押圧機構311を1個以上6個以下、あるいは、8個以上設けてもよく、基材Gの台座2から浮いている部分を押圧できる位置に配置してもよい。
主面接触部材として、球体315に代えてまたは併用して、ローラを適用してその円筒部分を基材Gに線接触させてもよいし、円柱状や多角柱状の部材を適用してもよい。円柱状や多角柱状の部材を適用する場合、基材Gに接触させる面を平面状にしてもよいし、基材Gの曲面と同じ形状にしてもよい。
主面押圧機構311に進退制御ユニットを設けずに、保持体316に球体保持ユニット314を保持させてもよく、この場合、球体保持ユニット314が球体315を回転不能に保持してもよい。さらに球体保持ユニット314を設けずに、保持体316に球体315(主面接触部材)を保持させてもよい。
For example, one or more and six or less or eight or more main surface pressing mechanisms 311 may be provided, or may be arranged at a position where a portion floating from the pedestal 2 of the base material G can be pressed.
As the main surface contact member, instead of or in combination with the sphere 315, a roller may be applied to bring the cylindrical portion into line contact with the base material G, or a columnar or polygonal columnar member may be applied. .. When a columnar or polygonal columnar member is applied, the surface in contact with the base material G may be flat or may have the same shape as the curved surface of the base material G.
The holding body 316 may hold the sphere holding unit 314 without providing the advance / retreat control unit in the main surface pressing mechanism 311. In this case, the sphere holding unit 314 may hold the sphere 315 non-rotatably. Further, the sphere 315 (main surface contact member) may be held by the holding body 316 without providing the sphere holding unit 314.

外縁接触部材32を4個以上設けてもよい。
外縁接触部材として、円柱状の外縁接触部材32に代えてまたは併用して、多角柱状の部材を適用してもよい。多角柱状の部材を適用する場合、基材Gに点接触するように設けてもよいし、線接触するように設けてもよい。線接触するように設ける場合、基材Gの回転を規制できれば、2個の外縁接触部材を基材Gの長辺および短辺にそれぞれ線接触するように設けてもよい。
基材Gの回転を規制できれば、例えば平面視でL字状の1個の外縁接触部材を基材Gの角部に線接触するように設けてもよい。
外縁接触部材32の保持面21Aからの高さを、基材Gの厚さを超える高さに設定してもよい。
Four or more outer edge contact members 32 may be provided.
As the outer edge contact member, a polygonal columnar member may be applied in place of or in combination with the columnar outer edge contact member 32. When the polygonal columnar member is applied, it may be provided so as to make point contact with the base material G or may be provided so as to make line contact. In the case of providing the base material G so as to make line contact, if the rotation of the base material G can be restricted, the two outer edge contact members may be provided so as to make line contact with the long side and the short side of the base material G, respectively.
If the rotation of the base material G can be regulated, for example, one L-shaped outer edge contact member in a plan view may be provided so as to make line contact with the corner portion of the base material G.
The height of the outer edge contact member 32 from the holding surface 21A may be set to a height exceeding the thickness of the base material G.

摩擦力低減ユニットとして、離間力を付与する構成に代えてまたは併用して、保持面21Aにローラを設け、当該ローラの回転によって基材Gを移動させてもよい。
気体供給ユニット331が気体を供給する孔を、吸着ユニット4の気体排気ユニット41が気体を排気する孔とは別に設けてもよい。
摩擦力低減ユニットを設けなくてもよい。
As the frictional force reducing unit, a roller may be provided on the holding surface 21A instead of or in combination with a configuration in which a separating force is applied, and the base material G may be moved by the rotation of the roller.
The hole for supplying the gas by the gas supply unit 331 may be provided separately from the hole for exhausting the gas by the gas exhaust unit 41 of the adsorption unit 4.
It is not necessary to provide a friction force reducing unit.

外縁押圧機構341を4個以上設けてもよい。外縁押圧機構341は外縁接触部材とで基材Gの回転を規制できれば、基材Gに対して外縁接触部材と反対側の位置以外の位置を押圧するように設けてもよい。また、外縁押圧機構341は1個あるいは2個だけ設けてもよい。
押圧部材として、四角柱状の押圧部材344に代えてまたは併用して、円柱状や四角以外の多角柱状の部材を適用してもよい。
外縁押圧機構341に、垂直シリンダ342を設けずに、保持体316に水平シリンダ343を保持させてもよい。
外縁押圧機構341を保持体316とは別の部材に保持させてもよい。
Four or more outer edge pressing mechanisms 341 may be provided. If the rotation of the base material G can be restricted by the outer edge contact member, the outer edge pressing mechanism 341 may be provided so as to press the base material G at a position other than the position opposite to the outer edge contact member. Further, only one or two outer edge pressing mechanisms 341 may be provided.
As the pressing member, a columnar or polygonal columnar member other than the square may be applied in place of or in combination with the square columnar pressing member 344.
The horizontal cylinder 343 may be held by the holding body 316 without providing the vertical cylinder 342 in the outer edge pressing mechanism 341.
The outer edge pressing mechanism 341 may be held by a member different from the holding body 316.

位置決め時に基材Gを台座2に押圧する力を、上記実施形態では吸着時よりも小さくしたが、大きくしてもよいし、同じにしてもよい。 In the above embodiment, the force for pressing the base material G against the pedestal 2 at the time of positioning is smaller than that at the time of adsorption, but it may be larger or the same.

基材保持装置1で保持された基材Gに対して、印刷、接着剤塗布およびコーティング以外に、研削、研磨などの加工や、フィルム貼合、マスキングなどの処理を施したり、寸法測定を行ってもよい。 In addition to printing, adhesive application and coating, the base material G held by the base material holding device 1 is subjected to processing such as grinding and polishing, film bonding, masking and the like, and dimensional measurement is performed. You may.

また、上記実施形態の基材保持装置及び基材保持方法は、台座の保持面が曲面を有するが、それに限定されない。たとえば、曲面を有しない平板を目標として作製された基板であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある。そのような基板を、保持面が平面である台座に固定する場合でも、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、上記実施形態で説明した効果を達成することができる。また、曲面を有する基板を、保持面が平面である台座に固定する場合でも、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、上記実施形態で説明した効果を達成することができる。すなわち、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、少なくとも一部に反りが生じる可能性のある平板状の基板を対象としてもよく、台座の保持面は平面であってもよい。 Further, in the base material holding device and the base material holding method of the above-described embodiment, the holding surface of the pedestal has a curved surface, but the method is not limited thereto. For example, even if the substrate is manufactured for a flat plate having no curved surface, warpage may occur at least a part such as an end portion. Even when such a substrate is fixed to a pedestal having a flat holding surface, the base material holding device and the base material holding method of the present invention can achieve the effects described in the above-described embodiment. Further, even when the substrate having a curved surface is fixed to a pedestal having a flat holding surface, the base material holding device and the base material holding method of the present invention can achieve the effects described in the above-described embodiment. That is, the base material holding device and the base material holding method of the present invention may target a flat plate-shaped substrate in which at least a part of the substrate may be warped, and the holding surface of the pedestal may be flat.

また、本発明の基材保持装置は、例えば台座の内部にヒーターユニットを備え、基材を加熱する構成を有しても良い。基材を押し曲げた状態で加熱することで、基材を台座の表面に沿う形状に固定することができる。加熱温度は室温以上、ガラスの軟化点以下の温度に制御される(例えば25℃〜500℃)。特に、平板状の基材を曲面を有する保持面に固定する場合に、本発明の基材保持装置はヒーターユニットを備えることが好ましい。 Further, the base material holding device of the present invention may be provided with a heater unit inside the pedestal, for example, and may have a configuration for heating the base material. By heating the base material in a bent state, the base material can be fixed in a shape along the surface of the pedestal. The heating temperature is controlled to a temperature above room temperature and below the softening point of the glass (for example, 25 ° C to 500 ° C). In particular, when fixing a flat plate-shaped base material to a holding surface having a curved surface, it is preferable that the base material holding device of the present invention includes a heater unit.

〔曲面スクリーン印刷装置の構成〕
曲面スクリーン印刷装置10は、曲面を有する板状の基材Gに所定のパターンを印刷する。曲面スクリーン印刷装置10は、図4Aに示すように、基材保持装置1と、スクリーン版11と、スキージ12と、印刷制御ユニット13とを備えている。
[Construction of curved screen printing device]
The curved screen printing device 10 prints a predetermined pattern on a plate-shaped base material G having a curved surface. As shown in FIG. 4A, the curved screen printing device 10 includes a base material holding device 1, a screen plate 11, a squeegee 12, and a printing control unit 13.

スクリーン版11は、図4Aにおける基材保持装置1の右側に設けられている。
スキージ12は、スクリーン版11の上方に配置されている。
印刷制御ユニット13は、台座2とスクリーン版11とスキージ12とを相対移動させる。
The screen plate 11 is provided on the right side of the base material holding device 1 in FIG. 4A.
The squeegee 12 is arranged above the screen plate 11.
The print control unit 13 relatively moves the pedestal 2, the screen plate 11, and the squeegee 12.

〔曲面スクリーン印刷装置を用いた印刷方法〕
次に、上記曲面スクリーン印刷装置10を用いた印刷方法について説明する。なお、台座2、スクリーン版11およびスキージ12の移動方向や動作順序などは、以下の内容に限定されず、基材Gに印刷できるいかなる移動方向や動作順序などを適用してもよい。
まず、上述の基材保持方法を用いて、基材保持装置1で基材Gを台座2の所定の保持位置に位置決めして保持する。
そして、印刷制御ユニット13は、図4Bに示すように、台座2を移動させてスクリーン版11の直下に位置させる。この台座2の移動の際、印刷制御ユニット13は、図4Bにおける基材Gの右端が最もスクリーン版11に近づくように、台座2を回転させる。
[Printing method using curved screen printing device]
Next, a printing method using the curved screen printing apparatus 10 will be described. The movement direction and operation order of the pedestal 2, the screen plate 11, and the squeegee 12 are not limited to the following contents, and any movement direction and operation order that can be printed on the base material G may be applied.
First, using the above-mentioned base material holding method, the base material G is positioned and held at a predetermined holding position of the pedestal 2 by the base material holding device 1.
Then, as shown in FIG. 4B, the print control unit 13 moves the pedestal 2 and positions it directly under the screen plate 11. When the pedestal 2 is moved, the print control unit 13 rotates the pedestal 2 so that the right end of the base material G in FIG. 4B is closest to the screen plate 11.

次に、印刷制御ユニット13は、スクリーン版11を下降させて基材Gに接近させた後、スキージ12を下降させて、スクリーン版11の下面を基材Gの上面G1に押し当てる。この後、印刷制御ユニット13は、スクリーン版11を固定したまま、図4Cに示す位置まで、スキージ12を水平方向に移動させるとともに、このスキージ12の移動に同期させて、台座2を左および下に移動させつつ、右回りに回転させる。このスキージ12および台座2の動きによって、スキージ12がインクをスクリーン版11から押し出し、基材Gの印刷範囲全体に塗布する。
このとき、外縁接触部材32の先端が基材Gの上面G1から突出していないため、印刷時において、スクリーン版11と外縁接触部材32とが接触しない。その結果、スクリーン版11の破損を抑制できる。
その後、印刷制御ユニット13は、台座2、スクリーン版11およびスキージ12を図4Aに示す初期位置に復帰させる。
Next, the print control unit 13 lowers the screen plate 11 to bring it closer to the base material G, then lowers the squeegee 12 to press the lower surface of the screen plate 11 against the upper surface G1 of the base material G. After that, the print control unit 13 horizontally moves the squeegee 12 to the position shown in FIG. 4C while fixing the screen plate 11, and synchronizes with the movement of the squeegee 12 to move the pedestal 2 to the left and lower. Rotate clockwise while moving to. By the movement of the squeegee 12 and the pedestal 2, the squeegee 12 pushes out the ink from the screen plate 11 and applies it to the entire printing range of the base material G.
At this time, since the tip of the outer edge contact member 32 does not protrude from the upper surface G1 of the base material G, the screen plate 11 and the outer edge contact member 32 do not come into contact with each other during printing. As a result, damage to the screen plate 11 can be suppressed.
After that, the print control unit 13 returns the pedestal 2, the screen plate 11, and the squeegee 12 to the initial positions shown in FIG. 4A.

このような印刷方法では、基材保持装置1によって適切に位置決めされた基材Gに対して印刷を行うため、印刷品質を向上できる。 In such a printing method, printing is performed on the base material G appropriately positioned by the base material holding device 1, so that the print quality can be improved.

本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、2019年1月24日出願の日本特許出願2019−010187に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
Although the present invention has been described in detail and with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
This application is based on Japanese Patent Application No. 2019-010187 filed on January 24, 2019, the contents of which are incorporated herein by reference.

1…基材保持装置、2…台座、3…位置決めユニット、4…吸着ユニット、10…曲面スクリーン印刷装置、11…スクリーン版、12…スキージ、13…印刷制御ユニット、31…第1の押圧ユニット、32…外縁接触部材、33…摩擦力低減ユニット、34…第2の押圧ユニット、313…シリンダ(進退制御ユニット)、314…球体保持ユニット、315…球体(主面接触部材)、G…基材。 1 ... Base material holding device, 2 ... Pedestal, 3 ... Positioning unit, 4 ... Adsorption unit, 10 ... Curved screen printing device, 11 ... Screen plate, 12 ... Squeegee, 13 ... Printing control unit, 31 ... First pressing unit , 32 ... outer edge contact member, 33 ... friction force reduction unit, 34 ... second pressing unit, 313 ... cylinder (advance / retreat control unit), 314 ... sphere holding unit, 315 ... sphere (main surface contact member), G ... base Material.

Claims (18)

板状の基材を保持する基材保持装置であって、
前記基材が載置される保持面を有する台座と、
前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニットと、
前記所定の保持位置に位置決めされた基材を前記台座に吸着するよう構成された吸着ユニットとを備え、
前記位置決めユニットは、
前記基材を前記台座に押圧するよう構成された第1の押圧ユニットと、
前記台座に設けられ、前記基材の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材と、
前記基材の外縁を押圧して、前記基材を前記外縁接触部材に接触させるよう構成された第2の押圧ユニットとを備えている、基材保持装置。
A base material holding device that holds a plate-shaped base material,
A pedestal having a holding surface on which the base material is placed, and
A positioning unit configured to position the substrate at a predetermined holding position on the holding surface, and a positioning unit.
It is provided with a suction unit configured to suck the base material positioned at the predetermined holding position on the pedestal.
The positioning unit is
A first pressing unit configured to press the substrate against the pedestal,
An outer edge contact member provided on the pedestal and configured to come into contact with a part of the outer edge of the base material.
A base material holding device including a second pressing unit configured to press the outer edge of the base material to bring the base material into contact with the outer edge contact member.
前記第1の押圧ユニットは、前記基材の主面に接触するよう構成された複数の主面接触部材を備えている、請求項1に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to claim 1, wherein the first pressing unit includes a plurality of main surface contact members configured to come into contact with the main surface of the base material. 前記第1の押圧ユニットは、前記複数の主面接触部材を独立的に前記台座から進退させるよう構成された進退制御ユニットをさらに備えている、請求項2に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to claim 2, wherein the first pressing unit further includes an advance / retreat control unit configured to independently advance / retreat the plurality of main surface contact members from the pedestal. 前記主面接触部材は球体である、請求項2または3に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to claim 2 or 3, wherein the main surface contact member is a sphere. 前記第1の押圧ユニットは、前記球体を回転可能に保持するよう構成された球体保持ユニットをさらに備えている、請求項4に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to claim 4, wherein the first pressing unit further includes a sphere holding unit configured to rotatably hold the sphere. 前記位置決めユニットは、前記基材と前記台座との摩擦力を低減する摩擦力低減ユニットをさらに備えている、請求項1から5のいずれか一項に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a frictional force reducing unit for reducing the frictional force between the base material and the pedestal. 前記外縁接触部材は、前記保持面からの高さが前記基材の厚さ以下に設定されている、請求項1から6のいずれか一項に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to any one of claims 1 to 6, wherein the height from the holding surface of the outer edge contact member is set to be equal to or lower than the thickness of the base material. 前記保持面が曲面を有する、請求項1から7のいずれか一項に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to any one of claims 1 to 7, wherein the holding surface has a curved surface. 前記保持面が平面である、請求項1から7のいずれか一項に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to any one of claims 1 to 7, wherein the holding surface is a flat surface. 前記保持面に載置された基材を加温するよう構成された加温ユニットをさらに有する、請求項1から9のいずれか一項に記載の基材保持装置。 The base material holding device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a heating unit configured to heat the base material placed on the holding surface. 曲面を有する板状の基材に所定のパターンを印刷する曲面スクリーン印刷装置であって、
請求項7に記載の基材保持装置と、
スクリーン版と、
前記スクリーン版の上方に配置され、前記スクリーン版を介して前記基材保持装置で保持された前記基材にインクを塗布するよう構成されたスキージと、
前記基材保持装置の前記台座と前記スクリーン版と前記スキージとを相対移動させることで、前記基材に前記所定のパターンを印刷するよう構成された印刷制御ユニットとを備えている曲面スクリーン印刷装置。
A curved screen printing device that prints a predetermined pattern on a plate-shaped substrate having a curved surface.
The base material holding device according to claim 7 and
Screen version and
A squeegee arranged above the screen plate and configured to apply ink to the base material held by the base material holding device via the screen plate.
A curved screen printing apparatus including a print control unit configured to print the predetermined pattern on the substrate by relatively moving the pedestal of the substrate holding device, the screen plate, and the squeegee. ..
板状の基材を保持する基材保持方法であって、
前記基材を台座の保持面に載置し、
前記基材を前記台座に押圧し、
前記台座に押圧された前記基材の外縁を押圧して、当該基材の外縁の一部に接触する外縁接触部材に接触させることで、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めし、
前記台座に押圧され、かつ、前記所定の保持位置に位置決めされた前記基材を前記台座に吸着する、基材保持方法。
It is a base material holding method for holding a plate-shaped base material.
The base material is placed on the holding surface of the pedestal, and the base material is placed on the holding surface of the pedestal.
The base material is pressed against the pedestal, and the base material is pressed against the pedestal.
By pressing the outer edge of the base material pressed against the pedestal and bringing it into contact with the outer edge contact member that contacts a part of the outer edge of the base material, the base material is placed in a predetermined holding position on the holding surface. Position and
A base material holding method in which the base material pressed by the pedestal and positioned at the predetermined holding position is adsorbed on the pedestal.
前記基材の外縁を押圧するときには、第1の押圧力で前記基材を前記台座に押圧し、
前記基材を前記保持面に吸着するときには、前記第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で前記基材を前記台座に押圧する、請求項12に記載の基材保持方法。
When pressing the outer edge of the base material, the base material is pressed against the pedestal with the first pressing force.
The base material holding method according to claim 12, wherein when the base material is adsorbed on the holding surface, the base material is pressed against the pedestal with a second pressing force larger than the first pressing force.
前記保持面が曲面を有する、請求項12または13に記載の基材保持方法。 The substrate holding method according to claim 12 or 13, wherein the holding surface has a curved surface. 前記保持面が平面である、請求項12または13に記載の基材保持方法。 The substrate holding method according to claim 12 or 13, wherein the holding surface is a flat surface. 前記基材が曲面を有する、請求項12から15のいずれか一項に記載の基材保持方法。 The base material holding method according to any one of claims 12 to 15, wherein the base material has a curved surface. 前記基材が平板である、請求項12から15のいずれか一項に記載の基材保持方法。 The base material holding method according to any one of claims 12 to 15, wherein the base material is a flat plate. 前記保持面に載置した基材を加温する、請求項12から17のいずれか一項に記載の基材保持方法。 The base material holding method according to any one of claims 12 to 17, wherein the base material placed on the holding surface is heated.
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