JPWO2020153497A1 - A curved screen printing device including a base material holding device, a base material holding method, and a base material holding device. - Google Patents
A curved screen printing device including a base material holding device, a base material holding method, and a base material holding device. Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020153497A1 JPWO2020153497A1 JP2020567729A JP2020567729A JPWO2020153497A1 JP WO2020153497 A1 JPWO2020153497 A1 JP WO2020153497A1 JP 2020567729 A JP2020567729 A JP 2020567729A JP 2020567729 A JP2020567729 A JP 2020567729A JP WO2020153497 A1 JPWO2020153497 A1 JP WO2020153497A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- holding
- pedestal
- outer edge
- holding device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 316
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims description 20
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 110
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 24
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 17
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F15/00—Screen printers
- B41F15/14—Details
- B41F15/16—Printing tables
- B41F15/18—Supports for workpieces
- B41F15/30—Supports for workpieces for articles with curved surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F15/00—Screen printers
- B41F15/14—Details
- B41F15/16—Printing tables
- B41F15/18—Supports for workpieces
- B41F15/20—Supports for workpieces with suction-operated elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Screen Printers (AREA)
Abstract
本発明の基材保持装置(1)は、基材(G)が載置される保持面(21A)を有する台座(2)と、基材(G)を保持面(21A)上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニット(3)と、所定の保持位置に位置決めされた基材(G)を台座(2)に吸着するよう構成された吸着ユニット(4)とを備え、位置決めユニット(3)は、基材(G)を台座(2)に押圧するよう構成された第1の押圧ユニット(31)と、台座(2)に設けられ、基材(G)の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材(32)と、基材(G)の外縁を押圧して、基材(G)を外縁接触部材(32)に接触させるよう構成された第2の押圧ユニット(34)とを備えている。The base material holding device (1) of the present invention has a pedestal (2) having a holding surface (21A) on which the base material (G) is placed, and a predetermined base material (G) on the holding surface (21A). It is provided with a positioning unit (3) configured to be positioned at a holding position and a suction unit (4) configured to suck a substrate (G) positioned at a predetermined holding position to a pedestal (2). The positioning unit (3) is provided on the first pressing unit (31) configured to press the base material (G) against the pedestal (2) and the pedestal (2), and is provided on the outer edge of the base material (G). A second outer edge contact member (32) configured to come into contact with a part thereof and a second base material (G) configured to come into contact with the outer edge contact member (32) by pressing the outer edge of the base material (G). It is equipped with a pressing unit (34).
Description
本発明は、基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置に関する。 The present invention relates to a base material holding device, a base material holding method, and a curved screen printing device including a base material holding device.
従来、曲面を有する基材に印刷を施す、曲面スクリーン印刷装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1の曲面スクリーン印刷装置は、基材を保持する台座とスクリーン版とスキージとを印刷方向に相対移動させるとともに、台座を印刷方向に直交する回転軸を中心にして回転させることで、基材の印刷を行う。この曲面スクリーン印刷装置の台座の表面には、基材と同一形状の溝と、台座を貫通する複数の孔とが設けられている。
台座の溝内に基材が載置されて位置決めされると、吸引装置が複数の孔を介して外部空気を吸引する。この吸引によって、基材が台座に固定される。Conventionally, a curved screen printing device that prints on a substrate having a curved surface is known (see, for example, Patent Document 1).
The curved screen printing apparatus of
When the base material is placed and positioned in the groove of the pedestal, the suction device sucks the external air through the plurality of holes. By this suction, the base material is fixed to the pedestal.
しかしながら、特許文献1に記載のような構成では、基材の曲げのばらつきによって、基材の端部が台座の表面から浮いてしまうと、基材が溝の内縁に接触せずに位置決めを行うことができないおそれがある。また、基材の端部が台座から浮いてしまうと、基材の吸着不良が発生するおそれがある。
基材の位置決めを、位置決めピンと、基材の外縁を位置決めピンの方向に押圧する手段とで構成することも考えられるが、曲げの状態がばらつくと、上述のような位置決めや吸着が適切に行えないという課題が生じうることに変わりはない。
また、曲面を有しない平板を目標として作製された基材であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある。そのような基材を平面状の台座へ固定する場合も、同様の課題が生じうる。
また、平板状の基材を曲面を有する台座へ固定する際にも、同様の課題が生じうる。However, in the configuration as described in
It is conceivable that the positioning of the base material is composed of a positioning pin and a means for pressing the outer edge of the base material in the direction of the positioning pin, but if the bending state varies, the above-mentioned positioning and suction can be appropriately performed. There is no change in the problem that there is no such thing.
Further, even if the base material is made for a flat plate having no curved surface, warpage may occur at least a part such as an end portion. Similar problems can arise when such a substrate is fixed to a flat pedestal.
Further, the same problem may occur when the flat plate-shaped base material is fixed to the pedestal having a curved surface.
本発明の目的は、板状の基材を適切に位置決めして保持できる基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a base material holding device capable of appropriately positioning and holding a plate-shaped base material, a base material holding method, and a curved screen printing device including a base material holding device.
本発明の一態様の基材保持装置は、板状の基材を保持する基材保持装置であって、前記基材が載置される保持面を有する台座と、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニットと、前記所定の保持位置に位置決めされた基材を前記台座に吸着するよう構成された吸着ユニットとを備え、前記位置決めユニットは、前記基材を前記台座に押圧するよう構成された第1の押圧ユニットと、前記台座に設けられ、前記基材の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材と、前記基材の外縁を押圧して、前記基材を前記外縁接触部材に接触させるよう構成された第2の押圧ユニットとを備えている。 The base material holding device of one aspect of the present invention is a base material holding device for holding a plate-shaped base material, and has a pedestal having a holding surface on which the base material is placed and the base material holding surface. The positioning unit includes a positioning unit configured to be positioned at the above predetermined holding position and a suction unit configured to suck the substrate positioned at the predetermined holding position to the pedestal, and the positioning unit is the said. A first pressing unit configured to press the base material against the pedestal, an outer edge contact member provided on the pedestal and configured to contact a part of the outer edge of the base material, and an outer edge of the base material. It is provided with a second pressing unit configured to bring the base material into contact with the outer edge contact member.
本態様によれば、基材の曲げのばらつき等によって、台座への載置時に基材の一部が浮いてしまっていても、当該基材を台座に押圧して、浮いた部分を台座に近づけつつ、基材を外縁接触部材に押圧できる。このため、基材の外縁が外縁接触部材に確実に接触し、所定の保持位置に位置決めできる。さらに、この所定の保持位置に位置決めされた基材を、台座に押圧しつつ吸着することで、吸着不良を抑制できる。
According to this aspect, even if a part of the base material is floating when it is placed on the pedestal due to variations in bending of the base material, the base material is pressed against the pedestal and the floating part is used as the pedestal. The base material can be pressed against the outer edge contact member while being brought closer. Therefore, the outer edge of the base material can be reliably contacted with the outer edge contact member and can be positioned at a predetermined holding position. Further, by adsorbing the base material positioned at the predetermined holding position while pressing it against the pedestal, it is possible to suppress the adsorption failure.
上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記基材の主面に接触するよう構成された複数の主面接触部材を備えていることが好ましい。
この態様では、第1の押圧ユニットと基材との接触面積を減らせるため、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときの摩擦力を低減できる。In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit includes a plurality of main surface contact members configured to come into contact with the main surface of the base material.
In this aspect, since the contact area between the first pressing unit and the base material can be reduced, the frictional force when the base material is pressed by the second pressing unit can be reduced.
上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記複数の主面接触部材を独立的に前記台座から進退させるよう構成された進退制御ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、様々な形状の基材に対して、適切な力で押圧できる。また、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときに、主面接触部材を基材の形状に追従させることで、安定した力で基材を押圧できる。In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit further includes an advance / retreat control unit configured to independently advance / retreat the plurality of main surface contact members from the pedestal.
In this aspect, it is possible to press a substrate having various shapes with an appropriate force. Further, when the base material is pressed by the second pressing unit, the base material can be pressed with a stable force by making the main surface contact member follow the shape of the base material.
上記基材保持装置において、前記主面接触部材は、球体であることが好ましい。
この態様では、球体を基材に点接触させることで、両者の接触面積を最小限に抑えられ、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときの摩擦力を低減できる。In the base material holding device, the main surface contact member is preferably a sphere.
In this embodiment, by bringing the sphere into point contact with the base material, the contact area between the two can be minimized, and the frictional force when the base material is pressed by the second pressing unit can be reduced.
上記基材保持装置において、前記第1の押圧ユニットは、前記球体を回転可能に保持するよう構成された球体保持ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、第2の押圧ユニットで基材を押圧するときに、基材に接触している球体を回転させることで、基材と球体との摩擦力をより低減でき、基材の位置決めをスムーズに行える。その上、基材の傷付きや破損を抑制できる。In the base material holding device, it is preferable that the first pressing unit further includes a sphere holding unit configured to rotatably hold the sphere.
In this embodiment, when the base material is pressed by the second pressing unit, the frictional force between the base material and the sphere can be further reduced by rotating the sphere in contact with the base material, and the positioning of the base material can be performed. It can be done smoothly. In addition, scratches and breakage of the base material can be suppressed.
上記基材保持装置において、前記位置決めユニットは、前記基材と前記台座との摩擦力を低減するよう構成された摩擦力低減ユニットをさらに備えていることが好ましい。
この態様では、基材と台座との摩擦力を低減することで、第2の押圧ユニットによる押圧をスムーズに行える。In the base material holding device, it is preferable that the positioning unit further includes a frictional force reducing unit configured to reduce the frictional force between the base material and the pedestal.
In this aspect, by reducing the frictional force between the base material and the pedestal, the pressing by the second pressing unit can be smoothly performed.
上記基材保持装置において、前記外縁接触部材は、前記台座における前記基材の保持面からの高さが前記基材の厚さ以下に設定されていることが好ましい。
この態様では、基材保持装置を曲面スクリーン印刷装置に適用した場合、印刷時にスクリーン版を基材に接触させても、外縁接触部材の先端が基材の被印刷面から突出しないため、外縁接触部材との接触によるスクリーン版の破損を抑制できる。よって、後工程に影響を及ぼすことがない基材保持装置を提供できる。In the base material holding device, it is preferable that the height of the outer edge contact member from the holding surface of the base material on the pedestal is set to be equal to or less than the thickness of the base material.
In this aspect, when the base material holding device is applied to a curved screen printing device, even if the screen plate is brought into contact with the base material during printing, the tip of the outer edge contact member does not protrude from the printed surface of the base material, so that the outer edge contact occurs. Damage to the screen plate due to contact with the member can be suppressed. Therefore, it is possible to provide a base material holding device that does not affect the subsequent process.
上記基材保持装置において、前記保持面が曲面を有していてもよい。
この態様の基材保持装置は、曲面を有する基材を適切に位置決めして保持できる。
また、この態様の基材保持装置は、基材を台座に押し曲げて保持することで、平板状の基材を台座の保持面に沿う形状に維持したまま、外縁接触部材に押圧できる。このため、基材の外縁が外縁接触部材に確実に接触し、所定の保持位置に位置決めできる。さらに、この所定の保持位置に位置決めされた基材を、台座に押圧しつつ吸着することで、吸着不良を抑制できる。よって、本態様の基材保持装置は、平板状の基材を曲げて保持する場合にも適切に位置決めして保持できる。In the base material holding device, the holding surface may have a curved surface.
The base material holding device of this embodiment can appropriately position and hold a base material having a curved surface.
Further, in the base material holding device of this embodiment, by pushing and bending the base material against the pedestal to hold the base material, the flat plate-shaped base material can be pressed against the outer edge contact member while maintaining the shape along the holding surface of the pedestal. Therefore, the outer edge of the base material can be reliably contacted with the outer edge contact member and can be positioned at a predetermined holding position. Further, by adsorbing the base material positioned at the predetermined holding position while pressing it against the pedestal, it is possible to suppress the adsorption failure. Therefore, the base material holding device of this embodiment can be appropriately positioned and held even when the flat plate-shaped base material is bent and held.
また、上記基材保持装置において、前記保持面が平面であってもよい。
この態様の基材保持装置は、曲面を有しない平板を目標として作製された基材であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある基材を、適切に位置決めして保持できる。Further, in the base material holding device, the holding surface may be a flat surface.
In the base material holding device of this embodiment, even if the base material is made for a flat plate having no curved surface, the base material which may be warped at least a part such as an edge is appropriately positioned. Can be retained.
上記基材保持装置は、前記保持面に載置された基材を加温するよう構成された加温ユニットをさらに有していてもよい。
この態様の基材保持装置は、基材を押し曲げた状態で加熱することで、基材を台座の保持面に沿う形状に固定することができる。加熱温度は例えば室温以上、ガラスの軟化点以下の温度に制御される(例えば25℃〜500℃)。The base material holding device may further have a heating unit configured to heat the base material placed on the holding surface.
In the base material holding device of this embodiment, the base material can be fixed in a shape along the holding surface of the pedestal by heating the base material in a pressed and bent state. The heating temperature is controlled to, for example, a temperature above room temperature and below the softening point of the glass (for example, 25 ° C to 500 ° C).
本発明の一態様の曲面スクリーン印刷装置は、曲面を有する板状の基材に所定のパターンを印刷する曲面スクリーン印刷装置であって、上述の基材保持装置と、スクリーン版と、前記スクリーン版の上方に配置され、前記スクリーン版を介して前記基材保持装置で保持された前記基材にインクを塗布するよう構成されたスキージと、前記基材保持装置の前記台座と前記スクリーン版と前記スキージとを相対移動させることで、前記基材に前記所定のパターンを印刷するよう構成された印刷制御ユニットとを備えている。
本態様によれば、適切に位置決めされた基材に対して印刷を行えるため、印刷品質を向上できる。The curved screen printing device according to one aspect of the present invention is a curved screen printing device that prints a predetermined pattern on a plate-shaped base material having a curved surface, and is the above-mentioned base material holding device, a screen plate, and the screen plate. A squeegee arranged above the base material and configured to apply ink to the base material held by the base material holding device via the screen plate, the pedestal of the base material holding device, the screen plate, and the above. It is provided with a print control unit configured to print the predetermined pattern on the substrate by relatively moving the squeegee.
According to this aspect, printing can be performed on an appropriately positioned substrate, so that printing quality can be improved.
本発明の一態様の基材保持方法は、板状の基材を保持する基材保持方法であって、前記基材を台座の保持面に載置し、前記基材を前記台座に押圧し、前記台座に押圧された前記基材の外縁を押圧して、当該基材の外縁の一部に接触する外縁接触部材に接触させることで、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めし、前記台座に押圧され、かつ、前記所定の保持位置に位置決めされた前記基材を前記台座に吸着する。
本態様によれば、基材を適切に位置決めして保持できる。The base material holding method of one aspect of the present invention is a base material holding method for holding a plate-shaped base material, in which the base material is placed on a holding surface of a pedestal and the base material is pressed against the pedestal. By pressing the outer edge of the base material pressed against the pedestal and bringing it into contact with the outer edge contact member that contacts a part of the outer edge of the base material, the base material is placed in a predetermined holding position on the holding surface. The base material that is positioned in the pedestal, pressed against the pedestal, and positioned at the predetermined holding position is adsorbed on the pedestal.
According to this aspect, the base material can be appropriately positioned and held.
上記基材保持方法において、前記基材の外縁を押圧するときには、第1の押圧力で前記基材を前記台座に押圧し、前記基材を前記台座に吸着するときには、前記第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で前記基材を前記台座に押圧することが好ましい。
この態様では、位置決め時に、第2の押圧力よりも小さい第1の押圧力で、基材を台座に押圧することで、基材の外縁接触部材への接触をスムーズに行える。吸着時に、第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で、基材を台座に押圧することで、基材の吸着をスムーズに行える。In the base material holding method, when the outer edge of the base material is pressed, the base material is pressed against the pedestal by the first pressing force, and when the base material is adsorbed on the pedestal, the first pressing force is applied. It is preferable to press the base material against the pedestal with a second pressing force larger than that.
In this embodiment, the base material is pressed against the pedestal with a first pressing force smaller than the second pressing force at the time of positioning, so that the base material can be smoothly contacted with the outer edge contact member. At the time of adsorption, the base material is pressed against the pedestal with a second pressing force larger than the first pressing force, so that the base material can be smoothly adsorbed.
上記基材保持方法において、前記保持面が曲面を有していてもよく、前記保持面が平面であってもよい。 In the base material holding method, the holding surface may have a curved surface, or the holding surface may be a flat surface.
上記基材保持方法において、前記基材が曲面を有していてもよく、前記基材が平板であってもよい。 In the base material holding method, the base material may have a curved surface, or the base material may be a flat plate.
上記基材保持方法において、前記保持面に載置した基材を加温してもよい。 In the base material holding method, the base material placed on the holding surface may be heated.
[第一実施形態]
以下、本発明の第一実施形態について説明する。なお、各構成の配置位置を説明するときには、図1AのXYZ軸を基準にして方向を定義し、+X方向を右、−X方向を左、+Y方向を前、−Y方向を後ろ、+Z方向を上、−Z方向を下と表現する。[First Embodiment]
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described. When explaining the arrangement position of each configuration, the direction is defined with reference to the XYZ axis of FIG. 1A, the + X direction is right, the −X direction is left, the + Y direction is front, the −Y direction is back, and the + Z direction. Is expressed as up, and the -Z direction is expressed as down.
〔基材保持装置の構成〕
基材保持装置1は、図1A及び図1Bに示すように、曲面を有する板状の基材Gを保持する。
基材Gとしては、ガラスや、セラミクス、樹脂、木材、金属などの板が挙げられる。ガラスとしては、無色透明の非晶質ガラスの他、結晶化ガラスや色ガラスなどが挙げられる。基材Gの平面形状は、特に限定されず、多角形、円形、楕円形、その他のいかなる形状であってもよい。
曲面とは、曲率半径が5000mm以下の面を意味する。基材Gに設けられる曲面としては、一方の主面側が他方の主面側に突出する凸面のみで構成されてもよいし、凸面に加えて、逆方向に突出する凹面を含んで構成されてもよいし、凸面及び凹面が複数あってもよい。さらには、凸面又は凹面のみの場合、曲率が異なる部分が存在してもよい。また、平坦部分と屈曲部分が両方存在していてもよいし、ねじれを伴った屈曲部が存在してもよい。
本実施形態の基材Gは、平面視で長方形に形成されており、その長辺方向の中心を中心にして一方向に曲がっている。
基材保持装置1は、台座2と、位置決めユニット3と、吸着ユニット4と、基材保持装置1全体を制御する図示しない制御ユニットとを備えている。[Structure of base material holding device]
As shown in FIGS. 1A and 1B, the base
Examples of the base material G include plates made of glass, ceramics, resin, wood, metal and the like. Examples of the glass include colorless and transparent amorphous glass, as well as crystallized glass and colored glass. The planar shape of the base material G is not particularly limited, and may be a polygonal shape, a circular shape, an elliptical shape, or any other shape.
The curved surface means a surface having a radius of curvature of 5000 mm or less. The curved surface provided on the base material G may be composed of only a convex surface having one main surface side projecting toward the other main surface side, or may include a concave surface projecting in the opposite direction in addition to the convex surface. It may have a plurality of convex and concave surfaces. Furthermore, in the case of only a convex surface or a concave surface, there may be a portion having a different curvature. Further, both a flat portion and a bent portion may be present, or a bent portion with a twist may be present.
The base material G of the present embodiment is formed in a rectangular shape in a plan view, and is bent in one direction about the center in the long side direction thereof.
The base
台座2には、基材Gが載置される。台座2の表面21は、基材Gの平面形状よりも大きく形成されている。表面21の一部は、基材Gの目標曲げ形状と同じ形状を有する保持面21Aを構成している。本実施形態では、保持面21Aは、凸状に形成されている。
台座2の裏面には、プレート20が固定されている。台座2とプレート20との間には、凹部空間22が設けられている。台座2には、保持面21Aの上方の空間と凹部空間22とを連通する複数の孔23が設けられている。The base material G is placed on the
A
位置決めユニット3は、基材Gを台座2上の所定の保持位置に位置決めする。位置決めユニット3は、第1の押圧ユニット31と、外縁接触部材32と、摩擦力低減ユニット33と、第2の押圧ユニット34とを備えている。
The
第1の押圧ユニット31は、基材Gを台座2に押圧する。第1の押圧ユニット31は、7個の主面押圧機構311と、当該7個の主面押圧機構311を基材Gに対して昇降させる昇降ユニット312とを備えている。
主面押圧機構311は、進退制御ユニットとしての空圧式または油圧式のシリンダ313と、シリンダ313の出力軸313Aに固定された球体保持ユニット314と、球体保持ユニット314に回転可能に保持された主面接触部材としての球体315とを備えている。
昇降ユニット312は、7個の主面押圧機構311を台座2の上方で保持する保持体316と、保持体316を昇降させる昇降駆動機構317とを備えている。
保持体316は、3個の主面押圧機構311を、台座2上の基材Gの短辺方向の中央において、長辺方向に等間隔に並ぶように保持する。保持体316は、上記3個の主面押圧機構311のうちの1個を、基材Gの中心に位置するように保持する。保持体316は、他の2個の主面押圧機構311を、基材Gの短辺方向の中央よりも一方の長辺側において、長辺方向に等間隔に並び、かつ、長辺方向の位置が上記3個の主面押圧機構311における互いに隣り合う主面押圧機構311の間となるように保持する。保持体316は、残りの2個の主面押圧機構311を、基材Gの中心を通りかつ長辺と平行な仮想線に対して、上記他の2個の主面押圧機構311と線対称の位置で保持する。The first
The main
The elevating
The holding
外縁接触部材32は、基材Gの外縁の一部に接触する。外縁接触部材32は、いわゆる位置決めピンであり、円柱状に形成されている。外縁接触部材32は、台座2の表面21における保持面21Aの外側から突出するように設けられている。3個の外縁接触部材32は、それぞれ、基材Gの左側の短辺中央、基材Gの下側の長辺中央よりも左端側、前記下側の長辺中央よりも右端側の位置に接触するように設けられている。外縁接触部材32の保持面21Aからの高さは、基材Gの厚さ以下に設定されている。
The outer
摩擦力低減ユニット33は、基材Gに台座2から離間する方向への離間力を付与することで、基材Gと台座2との摩擦力を低減する。摩擦力低減ユニット33は、台座2に設けられた凹部空間22および孔23と、凹部空間22に気体を供給する気体供給ユニット331とによって構成されている。
The frictional
第2の押圧ユニット34は、台座2上の基材Gの外縁を押圧して、3個の外縁接触部材32に接触させることで、基材Gの回転を規制しつつ、保持面21A上の保持位置に位置決めする。第2の押圧ユニット34は、3個の外縁押圧機構341を備えている。3個の外縁押圧機構341は、基材Gに対して3個の外縁接触部材32と反対側の位置を押圧するように、保持体316で保持されている。外縁押圧機構341は、垂直シリンダ342と、垂直シリンダ342の出力軸342Aに固定された水平シリンダ343と、水平シリンダ343の出力軸343Aに固定された四角柱状の押圧部材344とを備えている。
The second
吸着ユニット4は、台座2に基材Gを吸着する。吸着ユニット4は、台座2に設けられた凹部空間22および孔23と、凹部空間22を排気する気体排気ユニット41とによって構成されている。
The adsorption unit 4 adsorbs the base material G on the
〔基材保持方法〕
次に、上記基材保持装置1を用いた基材保持方法について説明する。
まず、図1Aに示すように、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34が台座2から上方に離間している初期状態において、作業者または図示しない搬送手段が基材Gを台座2上に載置する。このとき、基材Gの曲率が設計通りであれば、図2Aに示すように、基材Gが全面にわたって台座2の保持面21Aに接触する。しかし、基材Gの曲率が設計からずれている場合、図2Bに示すように、端部が保持面21Aから浮いたり、図2Cに示すように、中央が保持面21Aから浮いたりする。[Base material holding method]
Next, a base material holding method using the base
First, as shown in FIG. 1A, in an initial state in which the first pressing
次に、制御ユニットは、昇降駆動機構317を駆動して保持体316を下降させ、図3Aに示すように、第1の押圧ユニット31の全ての球体315で基材Gを押圧する。そして、制御ユニットは、基材Gのほぼ全面が保持面21Aに接触したタイミング、あるいは、基材Gの外縁の下端が、当該下端に対向する外縁接触部材32の上端よりも下方に位置したタイミングで、保持体316の下降を停止させることによって、後述する第2の押圧力よりも小さい第1の押圧力で基材Gを押圧する。
このとき、図1Aに示すように、全ての球体315の高さ位置を同じにした状態で保持体316を下降させ、球体315が基材Gの上面G1に接触した後に、当該上面G1の形状に合わせてシリンダ313の出力軸313Aを伸縮させてもよい。あるいは、あらかじめ全ての球体315の高さ位置を上面G1の形状に合わせて出力軸313Aを伸縮させた状態で、保持体316を下降させてもよい。Next, the control unit drives the elevating
At this time, as shown in FIG. 1A, the holding
この後、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31での押圧状態を維持したまま、摩擦力低減ユニット33の気体供給ユニット331を駆動し、凹部空間22を介して孔23に気体を供給することで、基材Gに離間力を付与する。この離間力の付与によって、基材Gと台座2との摩擦力が低減する。
次に、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31での押圧状態および摩擦力低減ユニット33での離間力の付与状態を維持したまま、全ての第2の押圧ユニット34の垂直シリンダ342を駆動して水平シリンダ343を下降させる。その後、制御ユニットは、水平シリンダ343を駆動して、図3Bに示すように、押圧部材344の先端で基材Gを外縁接触部材32に押圧し、全ての外縁接触部材32に基材Gが接触して位置決めが終了したタイミングで、出力軸343Aの駆動を停止する。
この押圧部材344による基材Gの押圧時に、基材Gの上面G1と接触している球体315は、シリンダ313の出力軸313Aの伸縮によって、上面G1の形状に追従しながら回転する。After that, the control unit drives the
Next, the control unit drives the
When the base material G is pressed by the pressing
次に、制御ユニットは、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34での押圧状態を維持したまま、気体供給ユニット331の駆動を停止する。制御ユニットは、保持体316を下降させることと、シリンダ313の出力軸313Aを伸ばすこととのうち少なくとも一方を行うことによって、第1の押圧ユニット31による押圧力を第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力に調整する。
その後、制御ユニットは、吸着ユニット4の気体排気ユニット41を駆動し、孔23および凹部空間22内の気体を排気することで、基材Gを台座2に吸着する。
以上の工程によって、基材Gは、台座2の保持面21Aの保持位置に位置決めされ、かつ、外縁接触部材32の先端が当該基材Gから突出しない状態で、当該台座2に保持される。Next, the control unit stops driving the
After that, the control unit drives the
By the above steps, the base material G is positioned at the holding position of the holding
次に、制御ユニットは、水平シリンダ343を制御して、押圧部材344を基材Gから離間させる。そして、制御ユニットは、垂直シリンダ342、シリンダ313および昇降駆動機構317を制御して、第1の押圧ユニット31および第2の押圧ユニット34を図1Aに示す初期状態に復帰させる。
この後、基材Gは、台座2に吸着されたまま、印刷、接着剤塗布またはコーティングなどの処理が施される。Next, the control unit controls the
After that, the base material G is subjected to processing such as printing, adhesive coating, or coating while being adsorbed on the
〔基材保持装置、基材保持方法の作用効果〕
上述した基材保持装置1によれば、第1の押圧ユニット31で基材Gを台座2に押圧しつつ、第2の押圧ユニット34で基材Gを外縁接触部材32に押圧するため、台座2への載置時に外縁が浮き上がっていた基材Gであっても、当該基材Gが全ての外縁接触部材32に確実に接触して、保持位置に位置決めされる。さらに、この基材Gを第1の押圧ユニット31で押圧しつつ台座2に吸着することで、吸着不良を抑制できる。[Action and effect of base material holding device and base material holding method]
According to the base
第1の押圧ユニット31の基材Gに接触する部材を、複数の球体315で構成しているため、当該球体315と基材Gとの接触面積を減らせ、第2の押圧ユニット34で基材Gを押圧するときの摩擦力を低減できる。
球体315を球体保持ユニット314で回転可能に保持しているため、基材Gの位置決めをスムーズに行える上、基材Gの傷付きや破損を抑制できる。
シリンダ313の出力軸313Aの伸縮によって、球体315を上面G1の形状に追従しながら回転させるため、安定した力で基材Gを押圧できる。Since the member in contact with the base material G of the first pressing
Since the
By expanding and contracting the
第2の押圧ユニット34で基材Gを押圧するときに、基材Gに離間力を付与して台座2との摩擦力を低減することで、第2の押圧ユニット34の押圧をスムーズに行える。
When the base material G is pressed by the second
位置決め時に基材Gを台座2に押圧する力を、吸着時よりも小さくしているため、第2の押圧ユニット34の押圧による基材Gのスムーズな移動と、基材Gの台座2へのスムーズな吸着とを両立できる。
Since the force for pressing the base material G against the
[第二実施形態]
以下、本発明の第二実施形態について説明する。なお、上記第一実施形態と同様の部分は、説明を適宜省略または簡略化する。[Second Embodiment]
Hereinafter, the second embodiment of the present invention will be described. In the same parts as in the first embodiment, the description thereof will be omitted or simplified as appropriate.
〔基材保持装置の構成〕
本実施形態の基材保持装置は、曲面を有する保持面に平板状の基材Gを保持する。すなわち、平板状の基材Gを押し曲げて、曲面を有する保持面に沿う形状に固定し保持する。
ここで平板状の基材とは、少なくとも台座の保持面に接する面が平面である基材を意味する。平面とは、曲率半径が5000mm超の面を意味する。基材Gの種類や基材保持装置の構成は、第一実施形態と同様である。[Structure of base material holding device]
The base material holding device of the present embodiment holds the flat base material G on the holding surface having a curved surface. That is, the flat plate-shaped base material G is pushed and bent to be fixed and held in a shape along the holding surface having a curved surface.
Here, the flat plate-shaped base material means a base material whose surface in contact with the holding surface of the pedestal is at least flat. The plane means a surface having a radius of curvature of more than 5000 mm. The type of the base material G and the configuration of the base material holding device are the same as those in the first embodiment.
〔基材保持装置、基材保持方法の作用効果〕
上記基材保持装置の、曲面を有する保持面に平板状の基材Gを載置した場合、基材Gは自重により多少たわむかもしれないが、例えば図2Bに示すように、端部が保持面21Aから浮く可能性がある。本実施形態の基材保持装置を用いて第一実施形態と同様の基材保持方法を実施することで、第一実施形態と同様の効果を得ることができる。[Action and effect of base material holding device and base material holding method]
When a flat plate-shaped base material G is placed on a holding surface having a curved surface of the base material holding device, the base material G may bend slightly due to its own weight, but the end portion is held, for example, as shown in FIG. 2B. It may float from
〔基材保持装置、基材保持方法の変形例〕
なお、本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良ならびに設計の変更などが可能である。[Modification of base material holding device and base material holding method]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various improvements and design changes can be made without departing from the gist of the present invention.
例えば、主面押圧機構311を1個以上6個以下、あるいは、8個以上設けてもよく、基材Gの台座2から浮いている部分を押圧できる位置に配置してもよい。
主面接触部材として、球体315に代えてまたは併用して、ローラを適用してその円筒部分を基材Gに線接触させてもよいし、円柱状や多角柱状の部材を適用してもよい。円柱状や多角柱状の部材を適用する場合、基材Gに接触させる面を平面状にしてもよいし、基材Gの曲面と同じ形状にしてもよい。
主面押圧機構311に進退制御ユニットを設けずに、保持体316に球体保持ユニット314を保持させてもよく、この場合、球体保持ユニット314が球体315を回転不能に保持してもよい。さらに球体保持ユニット314を設けずに、保持体316に球体315(主面接触部材)を保持させてもよい。For example, one or more and six or less or eight or more main
As the main surface contact member, instead of or in combination with the
The holding
外縁接触部材32を4個以上設けてもよい。
外縁接触部材として、円柱状の外縁接触部材32に代えてまたは併用して、多角柱状の部材を適用してもよい。多角柱状の部材を適用する場合、基材Gに点接触するように設けてもよいし、線接触するように設けてもよい。線接触するように設ける場合、基材Gの回転を規制できれば、2個の外縁接触部材を基材Gの長辺および短辺にそれぞれ線接触するように設けてもよい。
基材Gの回転を規制できれば、例えば平面視でL字状の1個の外縁接触部材を基材Gの角部に線接触するように設けてもよい。
外縁接触部材32の保持面21Aからの高さを、基材Gの厚さを超える高さに設定してもよい。Four or more outer
As the outer edge contact member, a polygonal columnar member may be applied in place of or in combination with the columnar outer
If the rotation of the base material G can be regulated, for example, one L-shaped outer edge contact member in a plan view may be provided so as to make line contact with the corner portion of the base material G.
The height of the outer
摩擦力低減ユニットとして、離間力を付与する構成に代えてまたは併用して、保持面21Aにローラを設け、当該ローラの回転によって基材Gを移動させてもよい。
気体供給ユニット331が気体を供給する孔を、吸着ユニット4の気体排気ユニット41が気体を排気する孔とは別に設けてもよい。
摩擦力低減ユニットを設けなくてもよい。As the frictional force reducing unit, a roller may be provided on the holding
The hole for supplying the gas by the
It is not necessary to provide a friction force reducing unit.
外縁押圧機構341を4個以上設けてもよい。外縁押圧機構341は外縁接触部材とで基材Gの回転を規制できれば、基材Gに対して外縁接触部材と反対側の位置以外の位置を押圧するように設けてもよい。また、外縁押圧機構341は1個あるいは2個だけ設けてもよい。
押圧部材として、四角柱状の押圧部材344に代えてまたは併用して、円柱状や四角以外の多角柱状の部材を適用してもよい。
外縁押圧機構341に、垂直シリンダ342を設けずに、保持体316に水平シリンダ343を保持させてもよい。
外縁押圧機構341を保持体316とは別の部材に保持させてもよい。Four or more outer
As the pressing member, a columnar or polygonal columnar member other than the square may be applied in place of or in combination with the square
The
The outer edge
位置決め時に基材Gを台座2に押圧する力を、上記実施形態では吸着時よりも小さくしたが、大きくしてもよいし、同じにしてもよい。
In the above embodiment, the force for pressing the base material G against the
基材保持装置1で保持された基材Gに対して、印刷、接着剤塗布およびコーティング以外に、研削、研磨などの加工や、フィルム貼合、マスキングなどの処理を施したり、寸法測定を行ってもよい。
In addition to printing, adhesive application and coating, the base material G held by the base
また、上記実施形態の基材保持装置及び基材保持方法は、台座の保持面が曲面を有するが、それに限定されない。たとえば、曲面を有しない平板を目標として作製された基板であっても、端部等少なくとも一部に反りが生じる可能性がある。そのような基板を、保持面が平面である台座に固定する場合でも、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、上記実施形態で説明した効果を達成することができる。また、曲面を有する基板を、保持面が平面である台座に固定する場合でも、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、上記実施形態で説明した効果を達成することができる。すなわち、本発明の基材保持装置及び基材保持方法は、少なくとも一部に反りが生じる可能性のある平板状の基板を対象としてもよく、台座の保持面は平面であってもよい。 Further, in the base material holding device and the base material holding method of the above-described embodiment, the holding surface of the pedestal has a curved surface, but the method is not limited thereto. For example, even if the substrate is manufactured for a flat plate having no curved surface, warpage may occur at least a part such as an end portion. Even when such a substrate is fixed to a pedestal having a flat holding surface, the base material holding device and the base material holding method of the present invention can achieve the effects described in the above-described embodiment. Further, even when the substrate having a curved surface is fixed to a pedestal having a flat holding surface, the base material holding device and the base material holding method of the present invention can achieve the effects described in the above-described embodiment. That is, the base material holding device and the base material holding method of the present invention may target a flat plate-shaped substrate in which at least a part of the substrate may be warped, and the holding surface of the pedestal may be flat.
また、本発明の基材保持装置は、例えば台座の内部にヒーターユニットを備え、基材を加熱する構成を有しても良い。基材を押し曲げた状態で加熱することで、基材を台座の表面に沿う形状に固定することができる。加熱温度は室温以上、ガラスの軟化点以下の温度に制御される(例えば25℃〜500℃)。特に、平板状の基材を曲面を有する保持面に固定する場合に、本発明の基材保持装置はヒーターユニットを備えることが好ましい。 Further, the base material holding device of the present invention may be provided with a heater unit inside the pedestal, for example, and may have a configuration for heating the base material. By heating the base material in a bent state, the base material can be fixed in a shape along the surface of the pedestal. The heating temperature is controlled to a temperature above room temperature and below the softening point of the glass (for example, 25 ° C to 500 ° C). In particular, when fixing a flat plate-shaped base material to a holding surface having a curved surface, it is preferable that the base material holding device of the present invention includes a heater unit.
〔曲面スクリーン印刷装置の構成〕
曲面スクリーン印刷装置10は、曲面を有する板状の基材Gに所定のパターンを印刷する。曲面スクリーン印刷装置10は、図4Aに示すように、基材保持装置1と、スクリーン版11と、スキージ12と、印刷制御ユニット13とを備えている。[Construction of curved screen printing device]
The curved
スクリーン版11は、図4Aにおける基材保持装置1の右側に設けられている。
スキージ12は、スクリーン版11の上方に配置されている。
印刷制御ユニット13は、台座2とスクリーン版11とスキージ12とを相対移動させる。The
The
The
〔曲面スクリーン印刷装置を用いた印刷方法〕
次に、上記曲面スクリーン印刷装置10を用いた印刷方法について説明する。なお、台座2、スクリーン版11およびスキージ12の移動方向や動作順序などは、以下の内容に限定されず、基材Gに印刷できるいかなる移動方向や動作順序などを適用してもよい。
まず、上述の基材保持方法を用いて、基材保持装置1で基材Gを台座2の所定の保持位置に位置決めして保持する。
そして、印刷制御ユニット13は、図4Bに示すように、台座2を移動させてスクリーン版11の直下に位置させる。この台座2の移動の際、印刷制御ユニット13は、図4Bにおける基材Gの右端が最もスクリーン版11に近づくように、台座2を回転させる。[Printing method using curved screen printing device]
Next, a printing method using the curved
First, using the above-mentioned base material holding method, the base material G is positioned and held at a predetermined holding position of the
Then, as shown in FIG. 4B, the
次に、印刷制御ユニット13は、スクリーン版11を下降させて基材Gに接近させた後、スキージ12を下降させて、スクリーン版11の下面を基材Gの上面G1に押し当てる。この後、印刷制御ユニット13は、スクリーン版11を固定したまま、図4Cに示す位置まで、スキージ12を水平方向に移動させるとともに、このスキージ12の移動に同期させて、台座2を左および下に移動させつつ、右回りに回転させる。このスキージ12および台座2の動きによって、スキージ12がインクをスクリーン版11から押し出し、基材Gの印刷範囲全体に塗布する。
このとき、外縁接触部材32の先端が基材Gの上面G1から突出していないため、印刷時において、スクリーン版11と外縁接触部材32とが接触しない。その結果、スクリーン版11の破損を抑制できる。
その後、印刷制御ユニット13は、台座2、スクリーン版11およびスキージ12を図4Aに示す初期位置に復帰させる。Next, the
At this time, since the tip of the outer
After that, the
このような印刷方法では、基材保持装置1によって適切に位置決めされた基材Gに対して印刷を行うため、印刷品質を向上できる。
In such a printing method, printing is performed on the base material G appropriately positioned by the base
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、2019年1月24日出願の日本特許出願2019−010187に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。Although the present invention has been described in detail and with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
This application is based on Japanese Patent Application No. 2019-010187 filed on January 24, 2019, the contents of which are incorporated herein by reference.
1…基材保持装置、2…台座、3…位置決めユニット、4…吸着ユニット、10…曲面スクリーン印刷装置、11…スクリーン版、12…スキージ、13…印刷制御ユニット、31…第1の押圧ユニット、32…外縁接触部材、33…摩擦力低減ユニット、34…第2の押圧ユニット、313…シリンダ(進退制御ユニット)、314…球体保持ユニット、315…球体(主面接触部材)、G…基材。 1 ... Base material holding device, 2 ... Pedestal, 3 ... Positioning unit, 4 ... Adsorption unit, 10 ... Curved screen printing device, 11 ... Screen plate, 12 ... Squeegee, 13 ... Printing control unit, 31 ... First pressing unit , 32 ... outer edge contact member, 33 ... friction force reduction unit, 34 ... second pressing unit, 313 ... cylinder (advance / retreat control unit), 314 ... sphere holding unit, 315 ... sphere (main surface contact member), G ... base Material.
Claims (18)
前記基材が載置される保持面を有する台座と、
前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めするよう構成された位置決めユニットと、
前記所定の保持位置に位置決めされた基材を前記台座に吸着するよう構成された吸着ユニットとを備え、
前記位置決めユニットは、
前記基材を前記台座に押圧するよう構成された第1の押圧ユニットと、
前記台座に設けられ、前記基材の外縁の一部に接触するよう構成された外縁接触部材と、
前記基材の外縁を押圧して、前記基材を前記外縁接触部材に接触させるよう構成された第2の押圧ユニットとを備えている、基材保持装置。A base material holding device that holds a plate-shaped base material,
A pedestal having a holding surface on which the base material is placed, and
A positioning unit configured to position the substrate at a predetermined holding position on the holding surface, and a positioning unit.
It is provided with a suction unit configured to suck the base material positioned at the predetermined holding position on the pedestal.
The positioning unit is
A first pressing unit configured to press the substrate against the pedestal,
An outer edge contact member provided on the pedestal and configured to come into contact with a part of the outer edge of the base material.
A base material holding device including a second pressing unit configured to press the outer edge of the base material to bring the base material into contact with the outer edge contact member.
請求項7に記載の基材保持装置と、
スクリーン版と、
前記スクリーン版の上方に配置され、前記スクリーン版を介して前記基材保持装置で保持された前記基材にインクを塗布するよう構成されたスキージと、
前記基材保持装置の前記台座と前記スクリーン版と前記スキージとを相対移動させることで、前記基材に前記所定のパターンを印刷するよう構成された印刷制御ユニットとを備えている曲面スクリーン印刷装置。A curved screen printing device that prints a predetermined pattern on a plate-shaped substrate having a curved surface.
The base material holding device according to claim 7 and
Screen version and
A squeegee arranged above the screen plate and configured to apply ink to the base material held by the base material holding device via the screen plate.
A curved screen printing apparatus including a print control unit configured to print the predetermined pattern on the substrate by relatively moving the pedestal of the substrate holding device, the screen plate, and the squeegee. ..
前記基材を台座の保持面に載置し、
前記基材を前記台座に押圧し、
前記台座に押圧された前記基材の外縁を押圧して、当該基材の外縁の一部に接触する外縁接触部材に接触させることで、前記基材を前記保持面上の所定の保持位置に位置決めし、
前記台座に押圧され、かつ、前記所定の保持位置に位置決めされた前記基材を前記台座に吸着する、基材保持方法。It is a base material holding method for holding a plate-shaped base material.
The base material is placed on the holding surface of the pedestal, and the base material is placed on the holding surface of the pedestal.
The base material is pressed against the pedestal, and the base material is pressed against the pedestal.
By pressing the outer edge of the base material pressed against the pedestal and bringing it into contact with the outer edge contact member that contacts a part of the outer edge of the base material, the base material is placed in a predetermined holding position on the holding surface. Position and
A base material holding method in which the base material pressed by the pedestal and positioned at the predetermined holding position is adsorbed on the pedestal.
前記基材を前記保持面に吸着するときには、前記第1の押圧力よりも大きい第2の押圧力で前記基材を前記台座に押圧する、請求項12に記載の基材保持方法。When pressing the outer edge of the base material, the base material is pressed against the pedestal with the first pressing force.
The base material holding method according to claim 12, wherein when the base material is adsorbed on the holding surface, the base material is pressed against the pedestal with a second pressing force larger than the first pressing force.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019010187 | 2019-01-24 | ||
JP2019010187 | 2019-01-24 | ||
PCT/JP2020/002611 WO2020153497A1 (en) | 2019-01-24 | 2020-01-24 | Base material retention device, base material retention method, and curved surface screen printing device equipped with base material retention device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020153497A1 true JPWO2020153497A1 (en) | 2021-11-25 |
JP7327415B2 JP7327415B2 (en) | 2023-08-16 |
Family
ID=71736977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020567729A Active JP7327415B2 (en) | 2019-01-24 | 2020-01-24 | Substrate holding device, substrate holding method, and curved screen printing apparatus provided with substrate holding device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3882031B1 (en) |
JP (1) | JP7327415B2 (en) |
CN (1) | CN113226771B (en) |
WO (1) | WO2020153497A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7082859B2 (en) * | 2020-07-07 | 2022-06-09 | 聯策科技股▲分▼有限公司 | Flexible Substrate Horizontal Wet Process Method |
CN115352180B (en) * | 2022-08-08 | 2023-10-10 | 深圳市首瓷新技术科技有限公司 | Non-planar appearance structural member backboard printing cavity structure, jig and application thereof |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5684962A (en) * | 1979-12-13 | 1981-07-10 | Tdk Corp | Hot melt screen printing machine |
JPH0369366A (en) * | 1989-08-09 | 1991-03-25 | Pilot Corp:The | Method for registering thin wall substrate in screen printing process |
JPH06210827A (en) * | 1993-01-18 | 1994-08-02 | Sanyo Electric Co Ltd | Screen printing machine |
JP2003034013A (en) * | 2001-07-25 | 2003-02-04 | Juki Corp | Cream solder printing machine |
JP2007160692A (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Yamaha Motor Co Ltd | Screen printing apparatus |
JP2009119612A (en) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Micro-Tec Co Ltd | Squeegee for screen printing, and screen printing device |
JP2012092395A (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Canon Inc | Film formation method and film formation apparatus |
US20160039196A1 (en) * | 2013-04-08 | 2016-02-11 | Asm Assembly Systems Switzerland Gmbh | Workpiece referencing system for and method of referencing workpieces supported by a workpiece carrier |
WO2017086197A1 (en) * | 2015-11-18 | 2017-05-26 | 旭硝子株式会社 | Curved-surface screen-printing device, curved-surface screen-printing method, and production method for substrate having printing layer |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55158999A (en) * | 1979-05-30 | 1980-12-10 | Tdk Corp | Screen printing plate and manufacturing of the same |
JPH11289148A (en) * | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Ibiden Co Ltd | Substrate surface treatment method |
US7182019B2 (en) * | 2004-01-23 | 2007-02-27 | Exatec, Llc | Screen printing apparatus |
JP2006281729A (en) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Yamaha Motor Co Ltd | Printing apparatus and printing method |
JP4950530B2 (en) * | 2006-03-16 | 2012-06-13 | 富士機械製造株式会社 | Substrate fixing device |
JP2009119512A (en) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Method and apparatus for cooling flange of t-shape |
JP5439211B2 (en) * | 2010-02-05 | 2014-03-12 | 株式会社日立製作所 | Screen printing machine and printing method |
JP2012125940A (en) * | 2010-12-13 | 2012-07-05 | Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd | Screen printer |
CN106061740B (en) * | 2014-03-07 | 2019-01-01 | 雅马哈发动机株式会社 | Silk-screen printing device and method for printing screen |
JP6622500B2 (en) * | 2015-07-29 | 2019-12-18 | 株式会社Fuji | Transport device |
JP6876520B2 (en) * | 2016-06-24 | 2021-05-26 | キヤノントッキ株式会社 | Substrate sandwiching method, substrate sandwiching device, film forming method, film forming device, and electronic device manufacturing method, substrate mounting method, alignment method, substrate mounting device |
JP2019010187A (en) | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 株式会社三洋物産 | Game machine |
-
2020
- 2020-01-24 CN CN202080007454.5A patent/CN113226771B/en active Active
- 2020-01-24 JP JP2020567729A patent/JP7327415B2/en active Active
- 2020-01-24 EP EP20745921.5A patent/EP3882031B1/en active Active
- 2020-01-24 WO PCT/JP2020/002611 patent/WO2020153497A1/en unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5684962A (en) * | 1979-12-13 | 1981-07-10 | Tdk Corp | Hot melt screen printing machine |
JPH0369366A (en) * | 1989-08-09 | 1991-03-25 | Pilot Corp:The | Method for registering thin wall substrate in screen printing process |
JPH06210827A (en) * | 1993-01-18 | 1994-08-02 | Sanyo Electric Co Ltd | Screen printing machine |
JP2003034013A (en) * | 2001-07-25 | 2003-02-04 | Juki Corp | Cream solder printing machine |
JP2007160692A (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Yamaha Motor Co Ltd | Screen printing apparatus |
JP2009119612A (en) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Micro-Tec Co Ltd | Squeegee for screen printing, and screen printing device |
JP2012092395A (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Canon Inc | Film formation method and film formation apparatus |
US20160039196A1 (en) * | 2013-04-08 | 2016-02-11 | Asm Assembly Systems Switzerland Gmbh | Workpiece referencing system for and method of referencing workpieces supported by a workpiece carrier |
WO2017086197A1 (en) * | 2015-11-18 | 2017-05-26 | 旭硝子株式会社 | Curved-surface screen-printing device, curved-surface screen-printing method, and production method for substrate having printing layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3882031A4 (en) | 2022-07-06 |
CN113226771A (en) | 2021-08-06 |
WO2020153497A1 (en) | 2020-07-30 |
EP3882031B1 (en) | 2023-10-25 |
JP7327415B2 (en) | 2023-08-16 |
EP3882031A1 (en) | 2021-09-22 |
CN113226771B (en) | 2023-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6750095B2 (en) | Film sticking apparatus and film sticking method used for three-dimensional glass having opposite curved sides | |
JP6047439B2 (en) | Peeling apparatus and peeling method | |
KR101512590B1 (en) | Detaching apparatus and detaching method | |
JPWO2020153497A1 (en) | A curved screen printing device including a base material holding device, a base material holding method, and a base material holding device. | |
JP6207997B2 (en) | Pattern forming apparatus and pattern forming method | |
KR101541643B1 (en) | Detaching apparatus | |
KR101771838B1 (en) | Detaching apparatus | |
TW201524791A (en) | Pad printing apparatus | |
KR20170072146A (en) | Transfer apparatus and transfer method | |
KR100509281B1 (en) | Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Drive Chip Of Flat Panel Display | |
JP5243585B2 (en) | Substrate supply device | |
JP2016132227A (en) | Transfer device and transfer method | |
KR102067981B1 (en) | Substrate cutting apparatus | |
KR101489055B1 (en) | Pattern forming apparatus | |
JP6013212B2 (en) | Pattern forming device | |
US20150124235A1 (en) | Tray for an exposure machine | |
KR20210079906A (en) | Scribing apparatus | |
TWI589361B (en) | Heating machine | |
JP5878822B2 (en) | Pattern transfer apparatus and pattern transfer method | |
JP2018015932A (en) | Transfer device and transfer method | |
JP6893466B2 (en) | Printing equipment, transfer roller | |
KR20140105392A (en) | Pattern forming apparatus and pattern forming method | |
JP5894466B2 (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
KR200325972Y1 (en) | Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Drive Chip Of Flat Panel Display | |
JP6112620B2 (en) | Electronic device pattern printing apparatus and printing method therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230717 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7327415 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |