JPWO2020145317A1 - 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020145317A1 JPWO2020145317A1 JP2020565186A JP2020565186A JPWO2020145317A1 JP WO2020145317 A1 JPWO2020145317 A1 JP WO2020145317A1 JP 2020565186 A JP2020565186 A JP 2020565186A JP 2020565186 A JP2020565186 A JP 2020565186A JP WO2020145317 A1 JPWO2020145317 A1 JP WO2020145317A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel sheet
- boron
- aluminum
- grain
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910001224 Grain-oriented electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 85
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 77
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 77
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 28
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 14
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 22
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 abstract description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 19
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 8
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 7
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 7
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000010010 raising Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- GURLNXRFQUUOMW-UHFFFAOYSA-K [Al](Cl)(Cl)Cl.[AlH3] Chemical class [Al](Cl)(Cl)Cl.[AlH3] GURLNXRFQUUOMW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
- C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/26—Methods of annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/76—Adjusting the composition of the atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D6/00—Heat treatment of ferrous alloys
- C21D6/008—Heat treatment of ferrous alloys containing Si
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/005—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment of ferrous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1244—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the heat treatment(s) being of interest
- C21D8/1272—Final recrystallisation annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1283—Application of a separating or insulating coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1288—Application of a tension-inducing coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/46—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for sheet metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1241—Metallic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/48—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
- C23C22/50—Treatment of iron or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/60—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
- C23C22/62—Treatment of iron or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
- C23C22/74—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process for obtaining burned-in conversion coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/16—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of sheets
- H01F1/18—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of sheets with insulating coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2201/00—Treatment for obtaining particular effects
- C21D2201/05—Grain orientation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/02—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing silicon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
従来よりも大きな張力付与が可能なホウ酸アルミニウム被膜を有する方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法を提供する。本発明に係る方向性電磁鋼板は、鋼板と、前記鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有し、前記酸化物は、結晶質酸化物を含み、グロー放電発光分光分析法によって測定される、前記絶縁被膜と前記鋼板との界面におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の最大値は、前記絶縁被膜におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の２．５倍以上４．０倍以下である。
Description
本発明は、方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法に関する。
方向性電磁鋼板は、｛１１０｝＜００１＞を主方位とする結晶組織を有し、変圧器の鉄心材料として多用されており、特にエネルギーロスを少なくするために鉄損の小さい材料が求められている。
特許文献１には、方向性電磁鋼板の鉄損を低減する手段として、仕上げ焼鈍後の鋼板表面にレーザービームを照射して局部的な歪を与え、それによって磁区を細分化する方法が開示されている。
特許文献２には、鉄心加工後の歪取り焼鈍（応力除去焼鈍）を施した後もその効果が消失しない磁区細分化手段が開示されている。
特許文献２には、鉄心加工後の歪取り焼鈍（応力除去焼鈍）を施した後もその効果が消失しない磁区細分化手段が開示されている。
一方で、鉄及び珪素を含有する鉄合金は結晶磁気異方性が大きいため、外部張力を付加すると磁区の細分化が起こり、鉄損の主要素である渦電流損失を低下させることができる。特に、５％以下の珪素を含有する方向性電磁鋼板の鉄損の低減には鋼板に張力を付与することが有効であることが知られている。この張力は、表面に形成された被膜によって付与される。
方向性電磁鋼板には、仕上げ焼鈍工程で鋼板表面の酸化物と焼鈍分離剤とが反応して生成するフォルステライトを主体とする一次被膜、及び特許文献３等に開示されたコロイド状シリカとリン酸塩とを主体とするコーティング液を焼き付けることによって生成する非晶質を主とする二次被膜の２層の被膜によって、板厚０．２３ｍｍの場合で１０ＭＰａ程度の張力が付与されている。
これに対して、特許文献４では、ホウ酸アルミニウム結晶を主とする被膜を表面に有する方向性電磁鋼板が提案されている。
特許文献３に開示されるような従来被膜の場合、被膜量を多くすることによりさらに大きな張力付与が可能で、張力向上による鉄損改善の可能性は残されているものの、付与張力向上のために現状以上に被膜を厚くすることは、占積率の低下をもたらすため好ましくない。このため、占積率低下を引き起こすことなく、密着性に優れ、薄くて鋼板に大きな張力が付与できる被膜が望まれている。
ある被膜が高張力被膜となるためには、被膜のヤング率が高く、かつ熱膨張係数が小さいことが求められる。一般に、結晶は非晶質よりもヤング率が高い。特許文献４に記載されるホウ酸アルミニウムからなる被膜は主たる構成物が結晶であるためシリカとリン酸塩からなる従来の非晶質の被膜よりもヤング率が高い。熱膨張係数も十分に低いため、ヤング率の効果と相まって、特許文献３に開示されたような被膜よりも高い張力を得ることが可能である。
しかしながら、より一層大きな張力を付与可能な被膜が求められている。ホウ酸アルミニウムによる高張力被膜を実現するためには、被膜中にホウ酸アルミニウム結晶を十分に生成する必要がある。張力被膜がすべてホウ酸アルミニウム結晶から構成されていれば理想的であるが、実際には焼き付け時における表面からの元素の蒸散等により、被膜内での元素の不均一性が生じることは不可避である。元素分布が適当ではないとホウ酸アルミニウムが十分に形成されず、高い張力が得られないと考えられるが、これまで元素分布と張力の関係は明らかではなかった。
本発明は、従来よりも大きな張力付与が可能なホウ酸アルミニウム被膜を有する方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、ホウ酸アルミニウム被膜でより高い張力を得るために、被膜内での元素分布と張力の関係を明らかにし、高い張力が得られる条件を明確にする必要があると考えた。そして鋭意検討の結果、被膜と鋼板との界面付近のホウ素量が多いと高い張力が得られることを知見した。
本発明は上記の知見に基づきなされたものであって、その要旨は以下のとおりである。
本発明は上記の知見に基づきなされたものであって、その要旨は以下のとおりである。
（１） 鋼板と、
前記鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有し、
前記酸化物は、結晶質酸化物を含み、
グロー放電発光分光分析法によって測定される、前記絶縁被膜と前記鋼板との界面におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の最大値は、前記絶縁被膜におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の２．５倍以上４．０倍以下である、方向性電磁鋼板。
（２）Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む塗布液を鋼板表面に塗布することと、
露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、前記鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱したのち、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却することと、
前記鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃/秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理することと、を有する、方向性電磁鋼板の製造方法。
前記鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有し、
前記酸化物は、結晶質酸化物を含み、
グロー放電発光分光分析法によって測定される、前記絶縁被膜と前記鋼板との界面におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の最大値は、前記絶縁被膜におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の２．５倍以上４．０倍以下である、方向性電磁鋼板。
（２）Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む塗布液を鋼板表面に塗布することと、
露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、前記鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱したのち、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却することと、
前記鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃/秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理することと、を有する、方向性電磁鋼板の製造方法。
以上説明したように本発明によれば、絶縁被膜と鋼板との界面付近のホウ素量を制御することで、従来よりも大きな張力付与が可能なホウ酸アルミニウム被膜を有する方向性電磁鋼板を得ることができる。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
＜１．方向性電磁鋼板＞
以下、本実施形態に係る方向性電磁鋼板について説明する。本実施形態に係る方向性電磁鋼板は、鋼板（母材鋼板）と、鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有する。
以下、本実施形態に係る方向性電磁鋼板について説明する。本実施形態に係る方向性電磁鋼板は、鋼板（母材鋼板）と、鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有する。
本実施形態において使用可能な鋼板（母材鋼板）については、二次再結品が完了しているものであれば特に制限はない。母材鋼板として一般的に用いられる鋼板は、例えば仕上げ焼鈍（二次再結品焼鈍）時に形成されたフォルステライト質の一次被膜を有する鋼板が本実施形態において使用可能な鋼板である。
上述したように、鋼板の表面上にはアルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜が設けられている。そして、絶縁被膜の酸化物は、結晶質酸化物を含み、グロー放電発光分光分析法（Ｇｒｏｗ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｏｐｔｉｃａｌ ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＧＤＳ）によって測定される、絶縁被膜と鋼板との界面におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比Ｂ／Ａｌの最大値は、絶縁被膜におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比Ｂ／Ａｌの２．５倍以上４．０倍以下である。これにより、方向性電磁鋼板の張力が向上する。以下、本発明者の着想とともに、詳細に説明する。
本発明者は、絶縁被膜の特性の向上について調査及び検討を行った。その結果、絶縁被膜（張力被膜）と鋼板との界面付近のホウ素量を制御することで高い張力を有した方向性電磁鋼板が得られることを見出した。具体的には、絶縁被膜中のアルミニウムに対するホウ素の発光強度比について、絶縁被膜と鋼板の界面での最大値が絶縁被膜中の値の２．５倍以上４倍以下である場合に高い張力を発現する絶縁被膜を有する方向性電磁鋼板が得られることを見出した。
絶縁被膜の深さ方向の組成を測定する方法は種々あるが、ホウ酸アルミニウムを含む絶縁被膜は、成分としてホウ素、アルミニウム、酸素からなるためこれらを簡便に測定できるグロー放電発光分光分析法による方法が適当である。具体的には、絶縁被膜内の元素分布を定量化するために測定結果を以下のように処理する。
ＡｌとＢについてＧＤＳでスパッタ時間に対する発光強度の変化を測定したのち、両者の発光強度の比Ｂ／Ａｌ（以下Ｂ／Ａｌ値）のスパッタ時間依存性を得るが、図１に示したように、絶縁被膜と鋼板界面付近（以下界面）にあるＢ／Ａｌ値の最大値（以下Ｂ／Ａｌピーク）が高いと高張力が得られることが明らかとなった。ここで、図１におけるＧＤＳチャートにおいて、界面とは鉄（Ｆｅ）の発光強度が０近傍から一定値に立ち上がるまでの間と定義する。図１において、鉄の発光強度が０近傍の領域は絶縁被膜中の分析値であり、また鉄の発光強度が０ではない値でほぼ一定となっている領域は、鋼板の中の分析値である。したがって、図１に示した例において、鉄の発光強度が０近傍（ゼロ近傍とは、後述一定値の５％以下の強度の部分）から立ち上がる放電時間約１００秒から、鉄の発光強度がほぼ２で一定値（ここで、「一定値」とは、鋼板中の鉄発光強度値で、１秒平均の値について、その前の１秒平均の値からの変化が０．０５％以下である領域の値をいう）となる約１５０秒までの間が、被膜成分から鋼板成分に組成が変化する界面に対応する発光強度である。本発明で定義するＢ／Ａｌピークは、この領域で最も高い値を示すピークである。したがって、図１において放電時間１２０秒付近にあるＢ／Ａｌピーク（Ｙ）としたピークが本発明で定義するＢ／Ａｌピークであり、放電時間１０秒付近あるいは１９０秒付近にあるピークは本発明で定義するＢ／Ａｌピークには該当しない。Ｆｅ、Ｂ、Ａｌの発光強度を得るためのグロー放電発光分光分析法の測定条件の一例を表１に示す。
ＧＤＳにおいて、各元素の発光強度の比は、スパッタされた試料の部分のこれら元素の組成比に相関する値を表す。したがって、絶縁被膜から測定されるＢ／Ａｌ値、および絶縁被膜と鋼板との界面付近のＢ／Ａｌピークの比を測定、算出することにより、絶縁被膜と比較した絶縁被膜と鋼板との界面付近のホウ素量を相対的に観察することが可能である。
本発明では、張力付与特性に優れたホウ酸アルミニウム被膜（絶縁被膜）を有した方向性電磁鋼板を得るために、上記のようにして測定したホウ素の発光強度をアルミニウムの発光強度で割った値（発光強度）について、絶縁被膜中のＢ／Ａｌ値をＸとし、Ｂ／Ａｌピークの最大値の値をＹとしたとき、Ｙ／Ｘを２．５以上４．０以下とする。ここで、Ｘの値は、絶縁被膜中のＢ／Ａｌの値のうち、１秒平均のＢ／Ａｌ値について、その前の１秒平均の値からの変化が０．００１以下である領域全体の平均値である。
Ｙ／Ｘが２．５以上４.０以下であるということは、界面でのＢ／Ａｌ値が絶縁被膜中のＢ／Ａｌ値より大きいことを意味し、これはすなわちＡｌの量を基準とすると、界面でのＢの量は絶縁被膜中のＢの量より相対的に多いことを意味する。Ｙ／Ｘの値が適当であると張力が高くなる理由は明らかではないが、被膜張力が高い絶縁被膜の鋼板との界面ではホウ酸アルミニウム結晶の生成が多く起こっていると推定され、このため高張力が発現していると考えられる。この理由は以下のように推定している。
酸化ホウ素は融点が低いため、絶縁被膜中でホウ酸量が多い部分は溶融した酸化ホウ素が元素の拡散を速めていると考えられる。元素の拡散が速いとホウ酸アルミニウムを形成しやすくなると推定され、絶縁被膜焼き付け時に低温からホウ酸アルミニウム結晶が生成し、結果的にホウ酸アルミニウム結晶が多くなると考えられる。上記のような機構でホウ酸アルミニウム結晶が多くなると、被膜張力が高くなるものと考えられる。本発明では界面でのホウ酸の量を確保するためにＢの量に着目し、同じく絶縁被膜中に存在するＡｌの量で規格化したＢ／Ａｌ値を規定し、その値について絶縁被膜中の値に対してその下限を２．５倍とした。ただし、Ｂ／Ａｌピークが高すぎると、界面未反応のホウ素が多くなり湿潤雰囲気下では鋼板表面に水分が到達しやすくなり、錆の発生等問題が生じる場合がある。また、Ｂ／Ａｌピークが高すぎる場合にはかえって被膜張力が低下する場合がある。この原因は、Ｂが界面に集積しすぎると絶縁被膜中でのホウ素の存在が不均一となり、絶縁被膜の一部ではホウ酸アルミニウム結晶の形成が十分ではなくなって被膜張力が低下するためと推定される。このようなことから本発明では被膜中のＢ／Ａｌに対するＢ／Ａｌピークの値に上限を設けており、その値を４．０倍とするとよい結果が得られる。
Ｙ／Ｘは、上述した範囲内であればよいが、絶縁被膜の鋼板との界面におけるホウ酸アルミニウム結晶をより多くし、被膜張力をより一層大きくするために、好ましくは２．６以上、より好ましくは２．７以上である。また、Ｙ／Ｘは、絶縁被膜の鋼板との界面における過剰なホウ素を抑制し、被膜張力の低下を抑制するために、好ましくは３．８以下、より好ましくは３．５以下である。
本実施形態に係る方向性電磁鋼板の絶縁被膜は、厚すぎる場合には方向性電磁鋼板に占める母材鋼板の占積率が低下するため目的に応じてできるだけ薄いものが良く、母材鋼板厚さに対して５％以下の厚さが好ましい。より好ましく２は％以下である。なおこの被膜厚さは、鋼板両面の合計の厚さであり、母材鋼板板厚０．２３ｍｍの場合で例示すると、好ましい５%以下とはで両面合計で１１．５μｍ以下で、片面あたりの５．７５μｍ以下である。同様に、より好ましい２％以下は、両面合計で４．６μｍ以下で、片面あたり２．３μｍ以下である。また、張力付与の観点からは、極端に薄くては十分な効果が得られず、鋼板片面あたり０．１μｍ以上が好ましい。なお、鋼板板厚は特に制限されるものではなく、一例として０．１０ｍｍ以上０．３５ｍｍ以下としてもよい。
＜２．方向性電磁鋼板の製造方法＞
次に、本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法について説明する。本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法は、Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む塗布液を鋼板表面に塗布することと、露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、前記鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱した後、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却することと、前記鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃/秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理することと、を有する。
次に、本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法について説明する。本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法は、Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む塗布液を鋼板表面に塗布することと、露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、前記鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱した後、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却することと、前記鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃/秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理することと、を有する。
本発明者は、上述したような絶縁被膜を実現する手段について、プロセス条件を詳細に検討した。プロセス検討の結果、上述の条件を満たす絶縁被膜を形成するためには、方向性電磁鋼板の母材鋼板に酸化アルミニウムと酸化ホウ素の質量比率Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３が、１．８〜２．６となる塗布液を塗布したのち、塗布後の乾燥及び、焼き付け温度を含む熱処理の温度および雰囲気条件を限定するとよいことが明らかになった。このプロセスは、（ｉ）塗布液乾燥後ホウ酸アルミニウム結晶化前の昇温中におけるホウ素の拡散、（ｉｉ）ホウ酸アルミニウム結晶の核生成、（ｉｉｉ）ホウ酸アルミニウム結晶成長からなる。
以下、上記のプロセス（ｉ）〜（ｉｉｉ）との対応を言及しつつ、本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法について詳細に説明する。
以下、上記のプロセス（ｉ）〜（ｉｉｉ）との対応を言及しつつ、本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法について詳細に説明する。
まず、各工程に先立ち、絶縁被膜を形成する母材鋼板を準備する。母材鋼板としては、上述したような鋼板を準備すればよいが、具体的には、従来公知の方法で仕上げ焼鈍を行って、表面にフォルステライト質の一次被膜が形成された鋼板を準備すればよい。
次に、このような母材鋼板に対し、絶縁被膜を形成するための塗布液を塗布する。塗布液は、Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む。
ホウ素源としては、Ｈ３ＢＯ３で表されるオルトホウ酸が作業性、価格等の点から最も好ましいが、ＨＢＯ２で表されるメタホウ酸、Ｂ２Ｏ３で表される酸化ホウ素、あるいはこれらの混合物も用いることができる。
アルミニウム源としては、酸化アルミニウムや酸化アルミニウム前駆体化合物が挙げられる。酸化アルミニウム前駆体化合物としては、例えば、ベーマイトのようなＡｌ２Ｏ３・ｍＨ２Ｏで表記される酸化アルミニウムの水和物、水酸化アルミニウム等や、硝酸アルミニウム、塩化アルミニウムをはじめとする各種のアルミニウム塩類等が好適に用いられる。
また、塗布液中におけるホウ素源およびアルミニウム源は、Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６となるように含まれる。これにより、適切な組成比で上記絶縁被膜を形成することができる。これに対し、上記質量比が１．８未満である場合、絶縁被膜中のホウ素量が多くなりすぎる結果、ホウ素が界面に集積しすぎ、絶縁被膜中でのホウ素の存在が不均一となり、絶縁被膜の一部ではホウ酸アルミニウム結晶の形成が十分ではなくなって被膜張力が低下する場合がある。また、上記質量比が２．６を超えると、アルミニウム源が多くなりすぎる結果、絶縁被膜と母材鋼板との界面付近におけるホウ素が十分な量とならず、生成するホウ酸アルミニウム結晶が少なくなり、被膜張力が高くならない。
上記質量比は、好ましくは１．９以上２．４以下、より好ましくは２．０以上２．２以下である。
上記質量比は、好ましくは１．９以上２．４以下、より好ましくは２．０以上２．２以下である。
これらの原料を分散媒に分散させて塗布液としてのスラリーを作製する。分散媒は水が最も良いが、他の工程で特に支障がなければ有機溶媒、あるいはこれらの混合物が使用できる。スラリーの固形分濃度は、その作業性等に応じて適宜選択され特に限定されない。
また、このスラリーのうち酸化アルミニウム前駆体として、いわゆるゾルと呼ばれる微粒子分散系を用いることにより薄くて均一、かつ、密着性の良い絶縁被膜が得られる場合がある。これは、鋼板の表面に非金属物質が存在せず、鋼板の金属面上に直接絶縁被膜を形成するような場合に特に顕著である。
塗布液にゾルを用いる場合には、酸化アルミニウム前駆体として上述のベーマイトゾル、及び／又はアルミナゾルと呼ばれているものが作業性、あるいは価格等の点から特に適している。
なお、塗布液は、本発明の奏する効果を阻害しない範囲において、上述した以外の成分を含んでいてもよい。
なお、塗布液は、本発明の奏する効果を阻害しない範囲において、上述した以外の成分を含んでいてもよい。
得られたスラリー（塗布液）は、ロールコーター等のコーター、ディップ法、スプレー吹き付けあるいは電気泳動等、従来公知の方法によって仕上げ焼鈍が完了した方向性電磁鋼板表面に塗布される。
なお、塗布（コーティング）前の塗布液は、ホウ酸の析出や過度な水分の蒸発を防ぐため、例えば２０℃以上４０℃以下の温度に保つとよい。塗布液の温度が低すぎると、ホウ素源の種類や濃度によっては、塗布液中でホウ酸の析出が起こり、温度が高すぎると水分が少なくなりやすく、正常な塗布ができなくなり、いずれの場合も目的とする被膜が得られなくなる場合がある。
次に、露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱する。このような室温から４５０〜６００℃の間の所定の温度までの温度域では、塗布液の加熱、乾燥、及び乾燥終了後に母材鋼板上に形成されたホウ素化合物とアルミニウム化合物との混合物からなる膜状物質の加熱が行われる。
４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度までの昇温速度を２〜５℃／秒に限定するのは、上記プロセス（ｉ）に関し、ホウ素の拡散を十分に行うためである。昇温速度が速すぎるとホウ素の拡散が十分でなくなり、目標とする水溶性成分の組成、量が得られないことに加え、塗布液の乾燥時に突沸による被膜欠陥が生じやすくなる。一方、遅すぎるとホウ素の蒸散が進み過ぎる結果、狙った組成の絶縁被膜が得られなくなる。
なお、上記鋼板の加熱における到達温度は、４５０℃以上６００℃以下であるものであればよいが、好ましくは４８０℃以上５３０℃以下である。これにより、ホウ素の蒸散を抑制したうえで十分にホウ素を拡散させることができるとともに、不要な結晶の生成を抑制することができる。
また、加熱時における雰囲気中の不活性ガスとしては、例えば、窒素や、ヘリウム、アルゴン、キセノン等の希ガスが挙げられる。このうち、コストを抑制するためにも、窒素が好ましい。
また、加熱時における雰囲気は、水素を０〜２５体積％含む。これにより、鋼板と絶縁被膜の間の酸化を抑制し、密着性を確保することができる。これに対し、水素の含有量が２５体積％を超えても、特に問題はないが、コストがかかりすぎる観点から好ましくない。
また、加熱時における雰囲気は、水素を０〜２５体積％含む。これにより、鋼板と絶縁被膜の間の酸化を抑制し、密着性を確保することができる。これに対し、水素の含有量が２５体積％を超えても、特に問題はないが、コストがかかりすぎる観点から好ましくない。
また、加熱時における雰囲気の露点は、０℃以上４０℃以下である。上記露点が０℃未満の場合、絶縁被膜の張力を十分に確保できない。また、上記露点が４０℃を超えると鋼板と絶縁被膜界面の酸化が生じやすく、密着性が劣化する場合があるという問題が生じる。加熱時における雰囲気の露点は、好ましくは、１０℃以上３０℃以下である。
次に、鋼板を、上述した昇温速度で加熱後、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却する。理由は明らかではないが、上述したプロセス（ｉｉ）に関し、このような冷却処理により、ホウ酸アルミニウム結晶の核生成が促進されると推測される。冷却温度が２００℃以下ではない場合、あるいは冷却速度が１０℃／秒未満の場合は十分な被膜張力が得られない。冷却温度は、２００℃以下であればよいが、コスト、所要時間の観点から、過度に低温とすることは好ましくなく、好ましくは１００℃以上２００℃以下である。また、冷却速度は、１０℃／秒以上であればよいが速すぎると均一な冷却が困難になることから好ましくは１０℃／秒以上１５０℃／秒以下である。なお、通常、上述した昇温速度での加熱後直ちに冷却が行われる。
次に、鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃／秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理する。以上のようにして塗布後の鋼板を乾操後、７５０℃以上で焼き付けることによって表面に絶縁被膜としての酸化物被膜を形成する。
そして上述したように、鋼板を、７５０℃まで１０〜１００℃/秒の平均昇温速度で昇温することにより、上述したプロセス（ｉ）に関し、ホウ素の蒸散を抑制することができる。すなわち、６００℃以上の温度域では、特にホウ素の蒸散が進みやすいため、上記のように比較的早い速度で鋼板の昇温を行う。昇温速度が遅いとホウ素の蒸散が進み、狙った組成の絶縁被膜が得られなくなる。昇温速度が速くても問題はないが、１００℃／秒を超えても、より低い昇温速度の場合と比較しても改善が見られないようになり、また急速な昇温は設備コストを押し上げる要因にもなりうることから、昇温速度の実質的な上限は１００℃／秒である。昇温速度は、好ましくは５０℃／秒以上８０℃／秒以下である。
７５０〜１０００℃の間で２０〜１２０秒熱処理する必要があるのは、上述したプロセス（ｉｉｉ）に関し、７５０℃以上でホウ酸アルミニウムの結晶成長が起こり、結晶化が進行するためである。温度及び時間が上記の範囲に満たないと、ホウ酸アルミニウムの結晶化が十分に進行せず、十分な張力が得られなくなる。また、焼き付け温度（熱処理温度）が７５０℃末満の場合、塗布した前駆体が酸化物とならない場合があり、また焼き付け温度が低いため十分な張力が発現せず、好ましくない。
熱処理温度は、上述した範囲内であればよいが、張力向上への効果とコストのバランスの観点から、好ましくは８００℃以上９５０℃以下である。また、熱処理時間は、上述した範囲内であればよいが、好ましくは５０秒以上９０秒以下である。
なお、７５０℃を越えて昇温を行う場合、７５０℃を超えた時点から次に７５０℃未満となるまでの時間を熱処理時間とする。
なお、７５０℃を越えて昇温を行う場合、７５０℃を超えた時点から次に７５０℃未満となるまでの時間を熱処理時間とする。
焼き付け時（昇温および熱処理時）の雰囲気は、窒素等の不活性ガス雰囲気、窒素−水素混合雰囲気等の還元性雰囲気が好ましく、空気、あるいは酸素を過度に含む雰囲気は鋼板を過度に酸化させる可能性があり好ましくない。
雰囲気ガスの露点については０〜４０℃で良好な結果が得られる。
あるいは、焼き付け時の雰囲気は、塗布液の乾燥時における雰囲気と同一であってもよい。
あるいは、焼き付け時の雰囲気は、塗布液の乾燥時における雰囲気と同一であってもよい。
以上のようにして、上述したような絶縁被膜を有する、高い張力を有する方向性電磁鋼板が得られる。
以下に本発明を実施例に基づいてより詳細に説明するが、以下に示す実施例は、本発明のあくまでも一例であって、本発明はかかる実施例にのみ限定されるものではない。
実施例１
市販のホウ酸試薬及び、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末（平均粒径：０．４μｍ）を表２に示した割合で混合した。なお、ホウ酸は酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）相当に換算して秤量した。これに蒸留水を加えてスラリーを作製した。
市販のホウ酸試薬及び、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末（平均粒径：０．４μｍ）を表２に示した割合で混合した。なお、ホウ酸は酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）相当に換算して秤量した。これに蒸留水を加えてスラリーを作製した。
得られたスラリーを、Ｓｉを３．２％含有する厚さ０．２３ｍｍの仕上げ焼鈍が完了した一方向性珪素鋼板（フォルステライト質の一次被膜あり）に、焼き付け後の被膜質量で４．５ｇ／ｍ２となるように塗布した。その後、表２に示す条件で乾燥、冷却後、７５０℃まで昇温し、この温度で均熱時間を１００秒として焼き付け、絶縁被膜を形成した。乾燥時の鋼板の到達温度は５００℃とした。乾燥、冷却、昇温、焼き付け時の雰囲気は、水素を１０％含む窒素雰囲気で、露点は３０℃とした。
絶縁被膜を形成した試料をＸ線回折で測定し、回折線より結晶質ホウ酸アルミニウムの存在を確認した。
絶縁被膜を形成した鋼板の片側の被膜を除去し、鋼板の曲りから被膜張力を算出した。この張力は、フォルステライト層を含まない、ホウ酸アルミニウム被膜のみの張力である。絶縁被膜の除去には水酸化ナトリウム水溶液を用いた。張力は１５ＭＰａ以上を高い張力と定義した。表２の結果から、実施例では、張力の高い絶縁被膜が得られていることがわかる。
絶縁被膜を形成した鋼板の片側の被膜を除去し、鋼板の曲りから被膜張力を算出した。この張力は、フォルステライト層を含まない、ホウ酸アルミニウム被膜のみの張力である。絶縁被膜の除去には水酸化ナトリウム水溶液を用いた。張力は１５ＭＰａ以上を高い張力と定義した。表２の結果から、実施例では、張力の高い絶縁被膜が得られていることがわかる。
実施例２
市販の酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末（平均粒径：０．４μｍ）１００ｇに対し、ホウ酸試薬を酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）相当で４５．３ｇとし、これに蒸留水を加えてスラリーを作製した。Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３は２．２である。
市販の酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末（平均粒径：０．４μｍ）１００ｇに対し、ホウ酸試薬を酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）相当で４５．３ｇとし、これに蒸留水を加えてスラリーを作製した。Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３は２．２である。
これを、Ｓｉを３．２％含有する厚さ０．２３ｍｍの仕上げ焼鈍が完了した一方向性珪素鋼板（フォルステライト質の一次被膜あり）に焼き付け後の被膜重量で４．５ｇ／ｍ２となるように塗布した。これを露点３０℃で水素を１０体積％含む窒素雰囲気中で５００℃まで平均３℃／秒で昇温後、２００℃まで６０℃／秒で冷却したのち、均熱温度まで平均５０℃／秒で昇温し、表３に示す条件で焼き付け、絶縁被膜を形成した。
実施例１と同様に、絶縁被膜を形成した鋼板の片側の被膜を除去し、鋼板の曲りから被膜張力を算出した。この張力は、フォルステライト層を含まない、ホウ酸アルミニウム被膜のみの張力である。絶縁被膜の除去には水酸化ナトリウム水溶液を用いた。張力は１５ＭＰａ以上を高い張力と定義した。表３の結果から、実施例では、高い被膜張力が得られていることがわかる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
Claims (2)
- 鋼板と、
前記鋼板上に設けられた、アルミニウムとホウ素とを含む酸化物からなる絶縁被膜と、を有し、
前記酸化物は、結晶質酸化物を含み、
グロー放電発光分光分析法によって測定される、前記絶縁被膜と前記鋼板との界面におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の最大値は、前記絶縁被膜におけるアルミニウムに対するホウ素の発光強度比の２．５倍以上４．０倍以下である、方向性電磁鋼板。 - Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３換算の質量比が１．８〜２．６のホウ素源およびアルミニウム源を含む塗布液を鋼板表面に塗布することと、
露点が０〜４０℃で水素を０〜２５体積％含む不活性ガス雰囲気中で、前記鋼板を４５０〜６００℃の範囲にある所定の温度まで、平均の昇温速度を２〜５℃／秒で加熱したのち、２００℃以下まで冷却速度１０℃／秒以上の冷却速度で冷却することと、
前記鋼板を、７５０℃まで昇温速度を平均で１０〜１００℃/秒で昇温し、７５０〜１０００℃の温度域で２０〜１２０秒の間熱処理することと、を有する、方向性電磁鋼板の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019000926 | 2019-01-08 | ||
| JP2019000926 | 2019-01-08 | ||
| PCT/JP2020/000341 WO2020145317A1 (ja) | 2019-01-08 | 2020-01-08 | 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2020145317A1 true JPWO2020145317A1 (ja) | 2021-11-25 |
| JP7124892B2 JP7124892B2 (ja) | 2022-08-24 |
Family
ID=71521644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020565186A Active JP7124892B2 (ja) | 2019-01-08 | 2020-01-08 | 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220056585A1 (ja) |
| EP (1) | EP3910093A4 (ja) |
| JP (1) | JP7124892B2 (ja) |
| KR (1) | KR102628699B1 (ja) |
| CN (1) | CN113272473B (ja) |
| BR (1) | BR112021012749A2 (ja) |
| WO (1) | WO2020145317A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7481628B2 (ja) | 2020-10-08 | 2024-05-13 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板の張力被膜形成用塗布剤及びその製造方法並びにこれを用いた方向性電磁鋼板の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09272983A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-10-21 | Nippon Steel Corp | 耐食性に優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
| JP2001152354A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-06-05 | Nippon Steel Corp | 被膜特性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
| JP2002309381A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Nippon Steel Corp | 方向性電磁鋼板の絶縁皮膜形成方法 |
| JP2017532438A (ja) * | 2014-08-07 | 2017-11-02 | ポスコＰｏｓｃｏ | 方向性電磁鋼板用予備コーティング剤組成物、これを含む方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE789262A (fr) | 1971-09-27 | 1973-01-15 | Nippon Steel Corp | Procede de formation d'un film isolant sur un feuillard d'acierau silicium oriente |
| JPS5518566A (en) | 1978-07-26 | 1980-02-08 | Nippon Steel Corp | Improving method for iron loss characteristic of directional electrical steel sheet |
| JPS6286175A (ja) | 1985-10-14 | 1987-04-20 | Nippon Steel Corp | 方向性電磁鋼板の処理方法 |
| JP2688147B2 (ja) | 1992-08-21 | 1997-12-08 | 新日本製鐵株式会社 | 低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 |
| JP2664326B2 (ja) * | 1993-04-19 | 1997-10-15 | 新日本製鐵株式会社 | 低鉄損一方向性珪素鋼板 |
| JP3162570B2 (ja) * | 1994-04-13 | 2001-05-08 | 新日本製鐵株式会社 | 低鉄損一方向性珪素鋼板およびその製造方法 |
| JP3379027B2 (ja) * | 1994-04-13 | 2003-02-17 | 新日本製鐵株式会社 | 方向性電磁鋼板被膜形成用塗布剤 |
| DE60139222D1 (de) * | 2000-04-24 | 2009-08-27 | Nippon Steel Corp | Kornorientiertes Elektroblech mit ausgezeichneten magnetischen Eigenschaften |
| US9617615B2 (en) * | 2013-09-19 | 2017-04-11 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method for manufacturing same |
| JP6156646B2 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-07-05 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 磁気特性および被膜密着性に優れる方向性電磁鋼板 |
| JP7027925B2 (ja) * | 2018-02-06 | 2022-03-02 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板とその製造方法 |
| US20220243315A1 (en) * | 2019-02-08 | 2022-08-04 | Nippon Steel Corporation | Grain oriented electrical steel sheet, forming method for insulation coating of grain oriented electrical steel sheet, and producing method for grain oriented electrical steel sheet |
-
2020
- 2020-01-08 US US17/421,164 patent/US20220056585A1/en active Pending
- 2020-01-08 WO PCT/JP2020/000341 patent/WO2020145317A1/ja unknown
- 2020-01-08 JP JP2020565186A patent/JP7124892B2/ja active Active
- 2020-01-08 EP EP20738905.7A patent/EP3910093A4/en active Pending
- 2020-01-08 CN CN202080008246.7A patent/CN113272473B/zh active Active
- 2020-01-08 BR BR112021012749-6A patent/BR112021012749A2/pt unknown
- 2020-01-08 KR KR1020217020607A patent/KR102628699B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09272983A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-10-21 | Nippon Steel Corp | 耐食性に優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
| JP2001152354A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-06-05 | Nippon Steel Corp | 被膜特性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
| JP2002309381A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Nippon Steel Corp | 方向性電磁鋼板の絶縁皮膜形成方法 |
| JP2017532438A (ja) * | 2014-08-07 | 2017-11-02 | ポスコＰｏｓｃｏ | 方向性電磁鋼板用予備コーティング剤組成物、これを含む方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20220056585A1 (en) | 2022-02-24 |
| EP3910093A1 (en) | 2021-11-17 |
| KR102628699B1 (ko) | 2024-01-25 |
| CN113272473A (zh) | 2021-08-17 |
| KR20210097180A (ko) | 2021-08-06 |
| BR112021012749A2 (pt) | 2021-09-08 |
| WO2020145317A1 (ja) | 2020-07-16 |
| EP3910093A4 (en) | 2022-08-03 |
| JP7124892B2 (ja) | 2022-08-24 |
| CN113272473B (zh) | 2023-07-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2550675C1 (ru) | Способ изготовления листа из текстурированной электротехнической стали | |
| JP6547835B2 (ja) | 方向性電磁鋼板、及び方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP7010305B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| EP3178965B1 (en) | Pre-coating agent composition for grain-oriented electrical steel sheet, grain-oriented electrical steel sheet comprising same, and manufacturing method therefor | |
| WO2019013351A1 (ja) | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JPWO2019013348A1 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| WO2020145317A1 (ja) | 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP7027925B2 (ja) | 方向性電磁鋼板とその製造方法 | |
| WO2021054409A1 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| JP6881581B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| JP7356017B2 (ja) | 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPWO2019013352A1 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| US11952646B2 (en) | Grain-oriented electrical steel sheet having excellent insulation coating adhesion without forsterite coating | |
| US20220090226A1 (en) | Method for producing grain-oriented electrical steel sheet | |
| US12031191B2 (en) | Grain-oriented electrical steel sheet and method for manufacturing same | |
| JP6885206B2 (ja) | レーザー磁区制御用方向性電磁鋼板とその製造方法 | |
| RU2780701C1 (ru) | Лист анизотропной электротехнической стали и способ его производства | |
| JP7448819B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| KR102709639B1 (ko) | 방향성 전자 강판 | |
| JPWO2020149342A1 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| JP2020111812A (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| JP2022062529A (ja) | 方向性電磁鋼板の張力被膜形成用塗布剤及びその製造方法並びにこれを用いた方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| WO2020145318A1 (ja) | 方向性電磁鋼板、方向性電磁鋼板の製造方法、及び、方向性電磁鋼板の製造に利用される焼鈍分離剤 | |
| CN115851004A (zh) | 一种耐热刻痕型取向硅钢涂层用涂液、取向硅钢板及其制造方法 | |
| JPH07278831A (ja) | 低鉄損一方向性珪素鋼板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210628 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220510 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220615 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220712 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220725 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7124892 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |