JPWO2020131843A5 - - Google Patents

Description

［００６１］１つの例では、第１の領域における基板２１０上の角度付けされたエッチングプロファイルが、第１の複数の開孔５０６を通過するイオンビーム２１６によって生成され、第２の領域における基板２１０上の角度付けされたエッチングプロファイルが、第２の複数の開孔５１０を通過するイオンビーム２１６によって生成され、第３の領域における基板２１０上の角度付けされたエッチングプロファイルが、第３の複数の開孔５１４を通過するイオンビーム２１６によって生成される。基板上に形成されたフィン又は格子の異なるエッチングプロファイルは、フィルタプレート５００の領域５０４、５０８、５１２によって生成される。フィルタプレート５００内に組み込まれた種々の開孔設計、形状、間隔、密度などを利用して、イオンビーム２１６の特性を変調し、よって、単一のイオンビームチャンバ２０２及び／又はイオンビーム源２０４を利用しつつ、基板上で異なる角度付けされたエッチングプロファイルを可能にしうることが企図される。

［００６６］チャンバ本体６０２に隣接して第２のライナ６３８もまた配置され、第２のライナ６３８は、処理空間６４０を実質的に取り囲むように位置付けられる。１つの実施形態では、第２ライナ６３８は、石英又はセラミック材料のような誘電体材料から製造される。別の実施形態では、第２ライナ６３８は、第１のライナ６３６を製造するために利用されるものに類似の材料から製造される。ライナ６３６、６３８はまた、ライナ６３６、６３８を製造するために利用されるものに類似した様々な材料でコーティングされてもよく、加えて、酸化アルミニウム材料、酸化イットリウム材料、又はジルコニウム材料などの材料でコーティングされてもよい。特定の実施形態では、第１のライナ６３６及び第２のライナ６３８の一方又は両方はオプションである。そのような実施形態では、チャンバ本体６０２は、ライナなしで機能するように製造及び構成されうる。

［００６７］排気口６４８が、第２ライナ６３６及びチャンバ本体６０２を通って形成される。排気口６４８は、処理空間６４０内に配置されたペデスタル６０４の下の位置において、第２ライナ６３６及びチャンバ本体６０２を通って形成される。ポンプ６５０は、排気口６４８、及びペデスタル６０４を囲むポンプポート６４６を介して、処理空間６４０と流体連結する。ポンプ６５０は、処理空間６４０からの材料の排出を可能にする。リッド６１６は、ペデスタル６０４に対向してチャンバ本体６０２に連結されるか、別の方法で一体化される。

［００７１］代替的な実施形態では、第１のガス源６３０及び第２のガス源６３４は、電極６１８を介して処理空間６４０と流体連結しうる。この実施形態では、導管６２８、６３２は、それぞれ、電極６１８を介してガス源６３０、６３４と処理空間６４０との間に連結される。例えば、導管６２８、６３２は、電極６１８を通って延び、又は第２の電極６１８は、ガス供給シャワーヘッドとして機能する複数の開孔を含みうる。開孔は、ガス源６３０、６３４から処理空間６４０内へのガスの流れ経路を提供するために、角度付けされた表面６２１上に配置されうる。