JP7357696B2 - 基板処理チャンバの漂遊プラズマ防止装置 - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 基板処理チャンバ内の漂遊プラズマを防止するための装置であって、
誘電体材料から形成された管状本体であって、該管状本体の第1の端部から第2の端部まで内部を通る中央開口部を画定する管状本体と、
前記管状本体の第1の端部から半径方向に延びるフランジと、
プラグと
を備え、前記管状本体が、前記中央開口部に配置された前記プラグの第1の部分に沿って前記プラグを取り囲み、前記管状本体の前記第2の端部が、前記プラグの端面と重なる、装置。 - 前記装置は、プラスチック材料から形成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記装置は、ポリオキシメチレン(POM)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、またはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)のうちの少なくとも1つから形成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記フランジは、前記管状本体の前記第2の端部と反対側の前記フランジの側部上に傾斜した外側半径を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記プラグが、光学的に透明な材料を含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記中央開口部が、0.2~0.4インチの直径を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記フランジが、少なくとも1インチの外径または0.1~0.15インチの厚さのうちの少なくとも1つを有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記中央開口部が0.2~0.4インチの直径を有し、前記フランジが少なくとも1インチの外径と0.1~0.15インチの厚さを有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 基板を処理するための装置であって、
チャンバ壁であって、該チャンバ壁の内部空間対向側の内部に凹部が形成されたチャンバ壁と、
前記凹部内に部分的に配置される漂遊プラズマを防止するための装置であって、
誘電体材料から形成された管状本体であって、前記管状本体の第1の端部から第2の端部まで内部を通る中央開口部を画定する管状本体と、
前記管状本体の前記第1の端部から半径方向に延びるフランジであって、前記管状本体は前記凹部内に延び、前記フランジは前記凹部の周囲の前記チャンバ壁に沿って延びる、フランジと
を備える、漂遊プラズマを防止するための装置と、
前記チャンバ壁に隣接して配置されたライナと
を備え、漂遊プラズマを防止するための前記装置が、前記チャンバ壁と前記ライナとの間に配置される、基板を処理するための装置。 - 漂遊プラズマを防止するための前記装置の前記フランジと前記ライナとの対向面の間に画定された間隙をさらに含み、前記間隙を横切って測定される距離は、0.5~1.5mmである、請求項9に記載の装置。
- 前記チャンバ壁を貫通して形成された窓をさらに含み、前記凹部が前記窓の一部である、請求項9または10に記載の装置。
- 基板を処理するための装置であって、
チャンバ壁であって、該チャンバ壁の内部空間対向側の内部に凹部が形成されたチャンバ壁と、
前記チャンバ壁を貫通して形成された窓であって、前記凹部が前記窓の一部である、窓と、
前記凹部内に部分的に配置される漂遊プラズマを防止するための装置と
を備え、漂遊プラズマを防止するための前記装置は、
誘電体材料から形成された管状本体であって、前記管状本体の第1の端部から第2の端部まで内部を通る中央開口部を画定する管状本体と、
前記管状本体の前記第1の端部から半径方向に延びるフランジであって、前記管状本体は前記凹部内に延び、前記フランジは前記凹部の周囲の前記チャンバ壁に沿って延びる、フランジと
を備え、前記窓は、前記チャンバ壁を通して配置された開口部と、前記開口部を部分的に満たすプラグとから形成され、前記管状本体は、前記管状本体の前記第2の端部が前記プラグの端面に近接して終端するように、前記開口部内に延びる、基板を処理するための装置。 - 前記プラグが、主として前記開口部を通って延び、前記チャンバ壁の内部空間対向面に近接するが、到達せずに終端となる、請求項12に記載の装置。
- 前記プラグが、前記チャンバ壁の外面に近接する前記開口部の第1の端部にのみ近接して配置される、請求項12に記載の装置。
- 基板を処理するための装置であって、
チャンバ壁であって、該チャンバ壁の内部空間対向側の内部に凹部が形成されたチャンバ壁と、
前記チャンバ壁を貫通して形成された窓であって、前記凹部が前記窓の一部である、窓と、
前記凹部内に部分的に配置される漂遊プラズマを防止するための装置と
を備え、漂遊プラズマを防止するための前記装置は、
誘電体材料から形成された管状本体であって、前記管状本体の第1の端部から第2の端部まで内部を通る中央開口部を画定する管状本体と、
前記管状本体の前記第1の端部から半径方向に延びるフランジであって、前記管状本体は前記凹部内に延び、前記フランジは前記凹部の周囲の前記チャンバ壁に沿って延びる、フランジと
を備え、前記窓は、前記チャンバ壁を貫通して配置された開口部と、前記開口部を部分的に満たすプラグとから形成され、前記管状本体は、前記管状本体の前記第2の端部が前記プラグの端面に重なるように、前記開口部内に延びる、基板を処理するための装置。 - 前記プラグの第1の端部は、前記管状本体が前記プラグの第1の部分に沿って前記プラグに重なるように、前記第1の端部に近接する前記第1の部分内に、より小さな半径を画定する肩部を含む、請求項15に記載の装置。
- プラズマ処理チャンバ内の漂遊プラズマを低減または防止する方法であって、
前記プラズマ処理チャンバのチャンバ壁とライナとの間に誘電体材料を含む漂遊プラズマ防止装置を配置して、前記漂遊プラズマ防止装置と前記ライナとの対向面の間に、前記チャンバ壁と前記ライナとの間の距離よりも小さい間隙を画定すること、を含む方法。 - 前記チャンバ壁は、前記チャンバ壁の内部空間対向側で内部に形成された凹部を含み、前記方法は、前記漂遊プラズマ防止装置を前記凹部内に部分的に配置することをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記漂遊プラズマ防止装置と前記ライナとの対向面の間の前記間隙を横切って測定される距離は、0.5~1.5mmである、請求項18に記載の方法。
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