JPWO2020090248A1 - 表面処理液、表面処理方法、及び表面処理されたロール状シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ポリマー(A)が、親水性基を有する構成単位(a1)と、単独重合体とした時にガラス転移温度(Tg)が120℃以上となる単量体に由来する構成単位(a2)とを有し、
構成単位(a1)が、LogP値が0.5以下である単量体に由来し、
ポリマー(A)の重量平均分子量が、500以上20,000以下である、表面処理液である。
表面処理されたシートをロール状に巻き取ることと、を含む、表面処理されたロール状シートの製造方法である。
表面処理液は、ポリマー(A)と、溶媒(S)とを含む。当該表面処理液は、被処理体の表面を親水化させる表面処理に用いられる。
以下、表面処理液に含まれる、必須、又は任意の成分について順に説明する。
ポリマー(A)は、親水性基を有する構成単位(a1)と、単独重合体とした時にガラス転移温度(Tg)が120℃以上となる単量体に由来する構成単位(a2)とを有する。
このため、上記のポリマー(A)を含む表面処理液を用いると、表面処理された被処理体の表面に水が接触した場合に、速やかに水が濡れ広がるような表面処理が可能である。
また、上記のポリマー(A)を含む表面処理液を用いて被処理体の表面処理を行うと、被処理体の表面にタック(べたつき)が生じにくい傾向がある。
構成単位(a1)は、親水性基を有する。また、構成単位(a1)は、LogP値が0.5以下である単量体に由来する。ポリマー(A)が、かかる条件を満たす構成単位(a1)を含むことによって、表面処理された被処理体の表面に水が接触した場合に、速やかに水が濡れ広がるような表面処理が可能である。
ここで、LogP値は、オクタノール/水分配係数を意味し、Ghose,Pritchett,Crippenらのパラメータを用い、計算によって算出することができる(J.Comp.Chem.,9,80(1998)参照)。この計算は、CAChe 6.1(富士通株式会社製)のようなソフトウェアを用いて行うことができる。
なお、単量体化合物について、親水性基以外の構造は、上記のLogP値が0.5以下であるように選択される。
親水性基の具体例としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン基、及びアルコール性水酸基等が挙げられる。ポリオキシアルキレン基としては、例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基等が挙げられる。
アニオン部としての1価アニオンの好適な例としては、ハロゲン化物イオン、水酸化物イオン、硝酸イオン、種々の有機カルボン酸又は有機スルホン酸に由来する有機酸イオン等が挙げられる。これらの中では、ハロゲン化物イオンが好ましく、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオンがより好ましく、塩化物イオン、及び臭化物イオンがさらにより好ましく、塩化物イオンが特に好ましい。
これらのカチオン性基の中では、ポリマー(A)への導入が容易であることや、親水化の効果が高いこと等から、4級アンモニウム塩基を含む基が好ましい。
−Ra14−N+R11R12Ra13・X−・・・(I)
(式(I)中、R11、R12、及びR13は、それぞれ独立にN+に結合する炭素原子数1以上4以下のアルキル基であり、R11、R12、及びR13のうちの2つは互いに結合して環を形成してもよく、R14は炭素原子数1以上4以下のアルキレン基であり、X−は1価のアニオンである。)
で表される基が好ましい。
4級アンモニウムカチオン基を含み、且つ末端にスルホン酸アニオン基を有する有機基は、ポリマー(A)において親水性基として作用する。
構成単位(a1)を与えるN置換(メタ)アクリルアミドにおいて、4級アンモニウムカチオン基の数と、スルホン酸アニオン基の数とが同一であるのが好ましい。
構成単位(a1)を与えるN置換(メタ)アクリルアミドの合成や入手が容易であることから、構成単位(a1)を与えるN置換(メタ)アクリルアミドにおける、4級アンモニウムカチオン基の数と、スルホン酸アニオン基の数とは、それぞれ1であるのが好ましい。
当該置換基において4級アンモニウムカチオン基の位置と、スルホン酸アニオン基の位置とは、特に限定されない。
例えば、当該置換基が2以上の枝鎖を有する分岐鎖状の基である場合、少なくとも1つの枝鎖に4級アンモニウムカチオン基が存在し、4級アンモニウムカチオン基が存在する枝鎖とは別の枝鎖の少なくとも1つにおいて、枝鎖の末端にスルホン酸アニオン基が存在すればよい。
また、当該置換基が直鎖状である場合、直鎖状構造の末端以外の任意の位置に4級アンモニウムカチオン基が存在し、直鎖状構造の末端にスルホン酸アニオン基が存在する。
CH2=CR5−CO−NH−R1−N+(R2)(R3)−R4−SO3 −・・・(A1)
(式(A1)中、R1及びR4は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上10以下の2価の炭化水素基であり、R2及びR3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数1以上10以下の炭化水素基であり、R5は水素原子又はメチル基である。)
で表される化合物が好ましい。
R1及びR4としてのアルキレン基の好適な具体例としては、メチレン基、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、及びデカン−1,10−ジイル基が挙げられる。
R2及びR3としての炭化水素基は置換基を有していてもよい。R2及びR3としての炭化水素基が有していてもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。当該置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上4以下のアシル基、炭素原子数2以上4以下のアシルオキシ基、アミノ基、及び1つ又は2つの炭素原子数1以上4以下のアルキル基で置換されたアルキルアミノ基等が挙げられる。
R2及びR3としてのアルキル基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、及びn−デシル基が挙げられる。
親水性基を有するN置換(メタ)アクリルアミド、及び親水性基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、下記式(A2):
CH2=CR22−CO−X−R21・・・(A2)
(式(A2)中、R21は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1以上4以下のアルキル基であり、R22は水素原子又はメチル基であり、Xは−O−又は−NH−である。)
で表される化合物が好ましい。
親水性基を有する(メタ)アクリル酸エステルの好ましい例としては、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、及びポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテル(例えば、メチルエーテル、エチルエーテル等)の(メタ)アクリレートも挙げられる。
なお、ポリマー(A)を構成する全構成単位の量には、後述する連鎖移動剤に由来する末端基の量は含まれない。
構成単位(a2)は、単独重合体とした時にガラス転移温度(Tg)が120℃以上となる単量体に由来する構成単位である。
構成単位(a2)は、表面処理された被処理体の表面における、水の速やかな濡れ広がりに関する効果に寄与する。構成単位(a2)は、特に、表面処理後の、被処理体の表面でのタックの発生の抑制の効果に寄与する。
ここで、上記のガラス転移温度は、分子構造を計算してシミュレートする分子モデリング・ソフトCACheによるシミュレーション値を示す。例えば、ポリマーのガラス転移温度は、CAChe Worksystem Pro. Version 6.1.12.33を用いて、MM geometry(MM2)、PM3 geometryにより構造最適化を行うことで決定される。
多環式炭化水素基は、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、及びテトラシクロアルカンのようなポリシクロアルカンから水素原子を1つ除いた基であってもよいし、ナフタレン、テトラリン、及びアントラセン等の2以上の炭化水素環が縮合した芳香族炭化水素基から水素原子を1つ除いた基であってもよいし、2以上の環式炭化水素基が単結合によって結合した炭化水素化合物から水素原子を1つ除いた基であってもよい。
メタクリル酸ジシクロペンタニルについて、上記の定義に従ったTgの値は132.4℃である。メタクリル酸イソボルニルについて、上記の定義に従ったTgの値は120.7℃である。メタクリル酸アダマンチルについて、上記の定義に従ったTgの値は141.7℃である。
なお、ポリマー(A)を構成する全構成単位の量には、後述する連鎖移動剤に由来する末端基の量は含まれない。
ポリマー(A)は、本発明の目的を阻害しない範囲で、構成単位(a1)及び構成単位(a2)以外のその他の構成単位(a3)を含んでいてもよい。
ポリマー(A)の分子量の調整が容易である点や、ポリマー(A)への被処理体への密着性や、親水性等の諸特性の付与が可能である点等から、ポリマー(A)の末端の少なくとも一部が連鎖移動剤によって封止されているのが好ましい。連鎖移動剤としては、ポリマー(A)の末端の封止が可能である限り特に限定されない。ポリマー(A)の末端との反応性の点で、連鎖移動剤としては、メルカプト化合物が好ましい。
ポリマー(A)が末端ビニル基を有する場合、メルカプト化合物と、末端ビニル基との間に、所謂チオール−エン反応が生じる。かかるチオール−エン反応によりポリマー(A)の末端が容易に封止される。
HS−Ra1−SiRa2 aRa3 3−a・・・(A−I)
(式(A−I)中、炭素原子数1以上20以下の2価の炭化水素基であり、Ra2は、水酸基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、又はハロゲン原子であり、Ra3は、置換基を有してもよい炭素原子数1以上10以下の炭化水素基であり、aは2又は3である。)
で表されるメルカプトシラン化合物も好ましい。
Ra1としての2価の炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、及びアルキレン基とアリーレン基とを組み合わせた基が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
Ra1としてのアルキレン基の好適な具体例としては、メチレン基、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、及びデカン−1,10−ジイル基が挙げられる。
Ra2としてのアルコキシ基の好適な例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、及びn−ブチルオキシ基が挙げられ、メトキシ基、及びエトキシ基がより好ましい。
Ra3がアルキル基である場合の好適な例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、及びn−ブチル基が挙げられ、メチル基、及びエチル基がより好ましい。
アラルキル基としては、ベンジル基、及びフェネチル基が好ましい。
アリール基としては、フェニル基、ナフタレン−1−イル基、及びナフタレン−2−イル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
また、ポリマー(A)の重量平均分子量がかかる範囲内であることによって、被処理体の表面にタック(べたつき)が生じにくい傾向がある。
表面処理液は電解質(B)を含んでいてもよい。表面処理液が電解質(B)を含む場合、ポリマー(A)の種類によっては、表面処理液にポリマー(A)を均一且つ安定して溶解させやすい場合がある。
なお、電解質(B)は、ポリマー(A)以外の物質である。表面処理液中で電離し得るポリマー(A)については、電解質(B)ではなくポリマー(A)として定義される。
電解質(B)の種類は、特に限定されない。電解質(B)は、塩酸、塩化ナトリウム、及び塩化カリウム等の一般的に強電解質とされる物質であっても、アニオン性界面活性剤(例えば、ドデシル硫酸ナトリウム等)やカチオン性界面活性剤(例えば、塩化ベンザルコニウム等)等の一般的に弱電解質とされる物質であってもよい。
電解質(B)の使用量は、例えば、ポリマー(A)100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下が好ましく、50質量部以上200質量部以下がより好ましく、80質量部以上200質量部以下がさらに好ましく、80質量部以上150質量部以下が特に好ましい。
表面処理液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の添加剤を含んでいてもよい。かかる添加剤の例としては、熱重合禁止剤、光重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、着色剤、消泡剤、及び粘度調整剤等が挙げられる。これらの添加剤の使用量は、これらの添加剤の通常使用される量を勘案して、適宜決定される。
表面処理液は、溶媒(S)を含む。溶媒(S)は、水であっても、有機溶剤であっても、有機溶剤の水溶液であってもよい。ポリマー(A)の溶解性、表面処理の作業の安全性、及び低コストである点等から、溶媒(S)が、水と水溶性有機溶媒とを含むのが好ましい。
ここで水溶性有機溶媒は、表面処理液が使用される温度において、所望する濃度で水に対して溶解し得る有機溶媒である。
表面処理液におけるポリマー(A)の濃度は、所望する表面処理効果を得られる限り特に限定されない。表面処理液におけるポリマー(A)の濃度は、0.1質量%以上40質量%以下が好ましく、0.1質量%以上30質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上20質量%以下が特に好ましい。
表面処理液の表面張力は、例えば、表面処理液への界面活性剤の添加や、表面処理液のポリマー(A)の濃度の調整により調整され得る。
表面処理方法は、被処理体の表面に、前述の表面処理液を接触させて、被処理体の表面に被膜を形成させることを含む。
前述の表面処理液を用いることにより、被処理体の表面に接触した表面処理液が、速やかに被処理体の表面に広がると考えられる。これにより、被処理体の表面に、ポリマー(A)を含む被膜が速やかに形成され、表面処理液の接触直後に、被処理体の表面の十分に低い水の接触角を達成できると考えられる。
塗布方法は特に限定されない。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、スプレー法、ローラーコート法、浸漬法等が挙げられる。被処理体が基板である場合、基板の表面に、均一な膜厚の被膜をむらなく形成しやすいことから、塗布方法としてスピンコート法が好ましい。
表面処理液の塗布後には、被処理体の表面をリンス液によりリンスしてもよいが、所望する膜厚の被膜を形成しやすい点からはリンスを行なわないのが好ましい。リンス液としては、前述の溶媒(S)として使用され得る、水や、有機溶媒を用いることができる。リンス液は、有機溶媒の水溶液であってもよく、複数の有機溶媒を含む混合液であってもよい。
有機材料としては、PET樹脂やPBT樹脂等のポリエステル樹脂、各種ナイロン、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、(メタ)アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、及びシリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)等のポリオルガノシロキサン等)等、種々の樹脂材料が挙げられる。
また、種々のレジスト材料に含まれる感光性の樹脂成分や、アルカリ可溶性の樹脂成分も有機材料として好ましい。
無機材料としては、ガラス、シリコンや、銅、アルミニウム、鉄、タングステン等の種々の金属が挙げられる。金属は、合金であってもよい。
前述の表面処理液で表面処理されたチップの表面では、水を含む生体材料由来の被検液が、チップ内の流路に速やかに濡れ広がり、流れる。その結果、前述の表面処理液で表面処理されたチップを用いると、生体材料由来の被検液を用いる診断又は測定を、正確且つ迅速に行いやすい。
前述の通り、前述の表面処理液を用いてシートの表面処理を行うと、シートの表面に水が接触した場合に水が速やかにシートの表面に濡れ広がることに加え、表面処理後のシートの表面におけるタックの発生を良好に抑制できる。
このため、ロール状に巻かれるシートについて、巻取の前に前述の表面処理液を用いて表面処理を施すと、皺や、破れのような巻取時の不良の発生を良好に抑制しつつ、ロール状シートを製造しやすい。
上記の通り、前述の表面処理液は、
シートを表面処理することと、
表面処理されたシートをロール状に巻き取ること、を含む、表面処理されたロール状シートの製造方法において、表面処理用の表面処理液として好ましく使用される。
シートの厚さも特に限定されず、巻取可能な厚さであればよい。
調整例1、調製例2、調製例4、及び調製例5において、構成単位(a1)を与える単量体として、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AAmSO3H)を用いた。2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の、前述の定義に従ったLogP値は−0.48である。
実施例1、実施例2、及び比較例1〜3において、表2記載の種類のポリマーを、ポリマーの濃度が1質量%となるように、水19質量%とIPA80質量%とからなる混合溶媒中に溶解させて表面処理液を得た。
得られた表面処理液を、ポチエチレンテレフタレートフィルムの表面にスピンコート法により塗布することにより、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に膜厚100nmの被膜を形成した。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの被膜を備える面について、以下の方法に従って、水の滴下2秒後の接触角を評価した。
Dropmaster700(協和界面科学株式会社製)を用いポリエチレンテレフタレートフィルムの表面処理された表面に純水液滴(2.0μL)を滴下して、滴下2秒後における接触角として、水の接触角を測定した。ポリエチレンテレフタレートフィルム上の3点の水の接触角の平均値を、表2に記す。
つまり、実施例1又は実施例2の表面処理液を用いて表面処理された被処理体の表面では、水が極めて速やかに濡れ広がる。
つまり、比較例1の表面処理液を用いて表面処理された被処理体の表面では、水が速やかに濡れ広がりにくい。
つまり、比較例2又は実施例3の表面処理液を用いて表面処理された被処理体の表面では、水が速やかに濡れ広がりにくい。
Claims (15)
- ポリマー(A)と、溶媒(S)とを含む、表面処理液であって、
前記ポリマー(A)が、親水性基を有する構成単位(a1)と、単独重合体とした時にガラス転移温度(Tg)が120℃以上となる単量体に由来する構成単位(a2)とを有し、
前記構成単位(a1)が、LogP値が0.5以下である単量体に由来し、
前記ポリマー(A)の重量平均分子量が、500以上20,000以下である、表面処理液。 - 前記溶媒(S)が、水と、水溶性有機溶媒とを含む、請求項1に記載の表面処理液。
- 前記水溶性有機溶媒が、アルコールである、請求項2に記載の表面処理液。
- 前記溶媒(S)における、前記水溶性有機溶媒の含有量が70質量%以上である、請求項2又は3に記載の表面処理液。
- 前記ポリマー(A)の末端の少なくとも一部が、連鎖移動剤により封止されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面処理液。
- 前記ポリマー(A)を構成する全構成単位の量に対する、前記構成単位(a2)の量の比率が、5モル%以上40モル%以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面処理液。
- 前記構成単位(a2)を与える単量体が、多環式炭化水素基を有する単量体である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の表面処理液。
- 前記ポリマー(A)を構成する全構成単位の量に対する、前記構成単位(a1)の量の比率が、60モル%以上95モル%以下である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面処理液。
- 前記表面処理液が、20℃において、20mN/m以上35mN/m以下の表面張力を示す、請求項1〜8のいずれか1項に記載の表面処理液。
- 被処理体の表面に、請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理液を接触させて、前記被処理体の表面に被膜を形成させることを含む、表面処理方法。
- 前記被膜を形成させた後に、前記被膜に対するリンスを行なわない、請求項10に記載の表面処理方法。
- 前記被処理体における、前記被膜を備える面に水を滴下した場合に、滴下から2秒後の、前記被膜を備える面の水の接触角が20°以下である、請求項10又は11に記載の表面処理方法。
- 前記被処理体が、生体材料由来の被検液を用いる診断又は測定用のチップである、請求項10〜12のいずれか1項に記載の表面処理方法。
- 前記被処理体が、シートである、請求項10〜12のいずれか1項に記載の表面処理方法。
- 請求項14に記載の表面処理方法により、シートを表面処理することと、
表面処理された前記シートをロール状に巻き取ることと、を含む、表面処理されたロール状シートの製造方法。
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PETROU PANAGIOTA S. ET AL.: "A biomolecule friendly photolithographic process for fabrication of protein microarrays on polymeric", BIOSENSORS AND BIOELECTRONICS, vol. 22, JPN6019048942, 2007, pages 1994 - 2002, XP055704472, ISSN: 0005038905, DOI: 10.1016/j.bios.2006.08.036 * |
山本将史ら: "COMA−アクリルハイブリッド系樹脂を利用したArFレジストの開発", JSR TECHNICAL REVIEW [オンライン], JPN7019004046, 2002, pages 12 - 17, ISSN: 0005216532 * |
飯濱健治ら: "水性グラビアインキの樹脂組成と堅ろう性", 日本印刷学会誌, vol. 第44巻5号, JPN6019048946, 2007, pages 279 - 285, ISSN: 0005216533 * |
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