JPWO2020008304A5 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020008304A5 JPWO2020008304A5 JP2020528541A JP2020528541A JPWO2020008304A5 JP WO2020008304 A5 JPWO2020008304 A5 JP WO2020008304A5 JP 2020528541 A JP2020528541 A JP 2020528541A JP 2020528541 A JP2020528541 A JP 2020528541A JP WO2020008304 A5 JPWO2020008304 A5 JP WO2020008304A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor
- region
- contact
- transistor
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 43
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 14
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
Claims (2)
- トランジスタと、前記トランジスタと電気的に接続された容量素子と、を有する半導体装置であって、
前記トランジスタのチャネル形成領域を有する金属酸化物と、
前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域を有する第1の導電体と、
前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域を有する第2の導電体と、
前記金属酸化物の上方に位置し、且つ前記トランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第3の導電体と、
前記第3の導電体の上面と接する領域を有し、且つ第1の開口及び第2の開口を有する第1の絶縁体と、
前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ前記第1の開口を介して前記第1の導電体と電気的に接続された第4の導電体と、
前記第1の絶縁体の上方に位置し、且つ前記第1の開口と重なる領域において前記第4の導電体の上面と接する領域を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第1の開口において前記第4の導電体との重なりを有する第5の導電体と、
前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第2の開口を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第6の導電体と、を有し、
前記第4の導電体は、前記容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
前記第5の導電体は、前記容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
前記第6の導電体は、ビット線として機能する領域を有し、
前記第5の導電体と、前記第6の導電体とは、同じ材料を有する、半導体装置。 - 第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタと電気的に接続された第1の容量素子と、第2のトランジスタと、前記第2のトランジスタと電気的に接続された第2の容量素子と、を有する半導体装置であって、
前記第1のトランジスタのチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタのチャネル形成領域とを有する金属酸化物と、
前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域を有する第1の導電体と、
前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域と、を有する第2の導電体と、
前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域を有する第3の導電体と、
前記金属酸化物の上方に位置し、且つ前記第1のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第4の導電体と、
前記金属酸化物の上方に位置し、且つ前記第2のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第5の導電体と、
前記第4の導電体の上面と接する領域と前記第5の導電体の上面と接する領域とを有し、且つ第1の開口、第2の開口及び第3の開口を有する第1の絶縁体と、
前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ前記第1の開口を介して前記第1の導電体と電気的に接続された第6の導電体と、
前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ前記第2の開口を介して前記第3の導電体と電気的に接続された第7の導電体と、
前記第1の絶縁体の上方に位置し、且つ前記第1の開口と重なる領域において前記第6の導電体の上面と接する領域と、前記第2の開口と重なる領域において前記第7の導電体の上面と接する領域を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第1の開口において前記第6の導電体との重なりを有する第8の導電体と、
前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第2の開口において前記第7の導電体との重なりを有する第9の導電体と、
前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第3の開口を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第10の導電体と、を有し、
前記第6の導電体は、前記第1の容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
前記第8の導電体は、前記第1の容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
前記第7の導電体は、前記第2の容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
前記第9の導電体は、前記第2の容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
前記第10の導電体は、ビット線として機能する領域を有し、
前記第8の導電体と、前記第9の導電体と、前記第10の導電体とは、同じ材料を有する、半導体装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018128911 | 2018-07-06 | ||
JP2018128911 | 2018-07-06 | ||
PCT/IB2019/055427 WO2020008304A1 (ja) | 2018-07-06 | 2019-06-27 | 半導体装置、および半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020008304A1 JPWO2020008304A1 (ja) | 2021-08-02 |
JPWO2020008304A5 true JPWO2020008304A5 (ja) | 2022-06-29 |
JP7483606B2 JP7483606B2 (ja) | 2024-05-15 |
Family
ID=69060929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020528541A Active JP7483606B2 (ja) | 2018-07-06 | 2019-06-27 | 半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11997846B2 (ja) |
JP (1) | JP7483606B2 (ja) |
WO (1) | WO2020008304A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022049449A1 (ja) * | 2020-09-06 | 2022-03-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、容量素子、およびその作製方法 |
WO2023126741A1 (ja) * | 2021-12-29 | 2023-07-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、記憶装置、及び半導体装置の作製方法 |
WO2023148574A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 記憶装置 |
WO2023152586A1 (ja) * | 2022-02-10 | 2023-08-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、及び半導体装置の作製方法 |
WO2023152595A1 (ja) * | 2022-02-10 | 2023-08-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 記憶装置 |
WO2023156883A1 (ja) * | 2022-02-18 | 2023-08-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、及び半導体装置の作製方法 |
WO2024047486A1 (ja) * | 2022-09-01 | 2024-03-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 記憶装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0964303A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP2008177225A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
CN103069717B (zh) | 2010-08-06 | 2018-01-30 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体集成电路 |
JP2013021012A (ja) | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
TWI693719B (zh) * | 2015-05-11 | 2020-05-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
US10181531B2 (en) | 2015-07-08 | 2019-01-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including transistor having low parasitic capacitance |
JP6884569B2 (ja) | 2015-12-25 | 2021-06-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及びその作製方法 |
-
2019
- 2019-06-27 US US17/256,349 patent/US11997846B2/en active Active
- 2019-06-27 JP JP2020528541A patent/JP7483606B2/ja active Active
- 2019-06-27 WO PCT/IB2019/055427 patent/WO2020008304A1/ja active Application Filing
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2020008304A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2020167423A5 (ja) | ||
JP2022043102A5 (ja) | ||
JP2023143961A5 (ja) | ||
JP2017005277A5 (ja) | ||
JP2022050650A5 (ja) | ||
JP2017174492A5 (ja) | ||
JP2021114625A5 (ja) | ||
JP2015179822A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015109433A5 (ja) | ||
JP2017034249A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015188070A5 (ja) | ||
JP2013179295A5 (ja) | ||
JP2012134520A5 (ja) | 表示装置 | |
JP2011151383A5 (ja) | ||
JP2015179810A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013214729A5 (ja) | ||
JP2011029635A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015053477A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2018061001A5 (ja) | トランジスタ | |
JP2015181151A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2011171721A5 (ja) | ||
JP2017028289A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2012199528A5 (ja) | ||
JP2015187850A5 (ja) | タッチセンサ |