JPWO2020008304A5 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2020008304A5
JPWO2020008304A5 JP2020528541A JP2020528541A JPWO2020008304A5 JP WO2020008304 A5 JPWO2020008304 A5 JP WO2020008304A5 JP 2020528541 A JP2020528541 A JP 2020528541A JP 2020528541 A JP2020528541 A JP 2020528541A JP WO2020008304 A5 JPWO2020008304 A5 JP WO2020008304A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor
region
contact
transistor
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020528541A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7483606B2 (ja
JPWO2020008304A1 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/IB2019/055427 external-priority patent/WO2020008304A1/ja
Publication of JPWO2020008304A1 publication Critical patent/JPWO2020008304A1/ja
Publication of JPWO2020008304A5 publication Critical patent/JPWO2020008304A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7483606B2 publication Critical patent/JP7483606B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (2)

  1. トランジスタと、前記トランジスタと電気的に接続された容量素子と、を有する半導体装置であって、
    前記トランジスタのチャネル形成領域を有する金属酸化物と、
    前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域を有する第1の導電体
    前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域を有する第2の導電体と、
    前記金属酸化物方に位置し且つ前記トランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第3の導電体と、
    前記第3の導電体の上面と接する領域を有し、且つ第1の開口及び第2の開口を有する第1の絶縁体と、
    前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ記第1の開口を介して前記第1の導電体と電気的に接続された第4の導電体と、
    前記第1の絶縁体位置し且つ前記第1の開口と重なる領域において前記第4の導電体面と接する領域を有する第2の絶縁体と、
    前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第1の開口において前記第4の導電体となりを有する第5の導電体と、
    前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第2の開口を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第6の導電体と、を有し、
    前記第4の導電体は、前記容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
    前記第5の導電体は、前記容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
    前記第6の導電体は、ビット線として機能する領域を有し、
    前記第5の導電体と、前記第6の導電体とは、同じ材料を有する、半導体装置。
  2. 第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタと電気的に接続された第1の容量素子と、第2のトランジスタと、前記第2のトランジスタと電気的に接続された第2の容量素子と、を有する半導体装置であって、
    前記第1のトランジスタのチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタのチャネル形成領域とを有する金属酸化物と、
    前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域を有する第1の導電体と、
    前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第1のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の一方として機能する領域と、を有する第2の導電体と、
    前記金属酸化物の上面と接する領域を有し、且つ前記第2のトランジスタのソース電極及びドレイン電極の他方として機能する領域を有する第3の導電体と、
    前記金属酸化物の上方に位置し、且つ前記第1のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第4の導電体と、
    前記金属酸化物の上方に位置し、且つ前記第2のトランジスタのゲート電極として機能する領域を有する第5の導電体と、
    前記第4の導電体の上面と接する領域と前記第5の導電体の上面と接する領域とを有し、且つ第1の開口、第2の開口及び第3の開口を有する第1の絶縁体と、
    前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ前記第1の開口を介して前記第1の導電体と電気的に接続された第6の導電体と、
    前記第1の絶縁体と接する領域を有し、且つ前記第2の開口を介して前記第3の導電体と電気的に接続された第7の導電体と、
    前記第1の絶縁体の上方に位置し、且つ前記第1の開口と重なる領域において前記第6の導電体の上面と接する領域と、前記第2の開口と重なる領域において前記第7の導電体の上面と接する領域を有する第2の絶縁体と、
    前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第1の開口において前記第6の導電体との重なりを有する第8の導電体と、
    前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第2の開口において前記第7の導電体との重なりを有する第9の導電体と、
    前記第2の絶縁体の上面と接する領域を有し、且つ前記第3の開口を介して前記第2の導電体と電気的に接続された第10の導電体と、を有し、
    前記第6の導電体は、前記第1の容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
    前記第8の導電体は、前記第1の容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
    前記第7の導電体は、前記第2の容量素子の下部電極として機能する領域を有し、
    前記第9の導電体は、前記第2の容量素子の上部電極として機能する領域を有し、
    前記第10の導電体は、ビット線として機能する領域を有し、
    前記第8の導電体と、前記第9の導電体と、前記第10の導電体とは、同じ材料を有する、半導体装置。
JP2020528541A 2018-07-06 2019-06-27 半導体装置 Active JP7483606B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018128911 2018-07-06
JP2018128911 2018-07-06
PCT/IB2019/055427 WO2020008304A1 (ja) 2018-07-06 2019-06-27 半導体装置、および半導体装置の作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2020008304A1 JPWO2020008304A1 (ja) 2021-08-02
JPWO2020008304A5 true JPWO2020008304A5 (ja) 2022-06-29
JP7483606B2 JP7483606B2 (ja) 2024-05-15

Family

ID=69060929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020528541A Active JP7483606B2 (ja) 2018-07-06 2019-06-27 半導体装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11997846B2 (ja)
JP (1) JP7483606B2 (ja)
WO (1) WO2020008304A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022049449A1 (ja) * 2020-09-06 2022-03-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、容量素子、およびその作製方法
WO2023126741A1 (ja) * 2021-12-29 2023-07-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、記憶装置、及び半導体装置の作製方法
WO2023148574A1 (ja) * 2022-02-04 2023-08-10 株式会社半導体エネルギー研究所 記憶装置
WO2023152586A1 (ja) * 2022-02-10 2023-08-17 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び半導体装置の作製方法
WO2023152595A1 (ja) * 2022-02-10 2023-08-17 株式会社半導体エネルギー研究所 記憶装置
WO2023156883A1 (ja) * 2022-02-18 2023-08-24 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び半導体装置の作製方法
WO2024047486A1 (ja) * 2022-09-01 2024-03-07 株式会社半導体エネルギー研究所 記憶装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0964303A (ja) * 1995-08-25 1997-03-07 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置の製造方法
JP2008177225A (ja) * 2007-01-16 2008-07-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
CN103069717B (zh) 2010-08-06 2018-01-30 株式会社半导体能源研究所 半导体集成电路
JP2013021012A (ja) 2011-07-07 2013-01-31 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法
TWI693719B (zh) * 2015-05-11 2020-05-11 日商半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置的製造方法
US10181531B2 (en) 2015-07-08 2019-01-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device including transistor having low parasitic capacitance
JP6884569B2 (ja) 2015-12-25 2021-06-09 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置及びその作製方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2020008304A5 (ja) 半導体装置
JP2020167423A5 (ja)
JP2022043102A5 (ja)
JP2023143961A5 (ja)
JP2017005277A5 (ja)
JP2022050650A5 (ja)
JP2017174492A5 (ja)
JP2021114625A5 (ja)
JP2015179822A5 (ja) 半導体装置
JP2015109433A5 (ja)
JP2017034249A5 (ja) 半導体装置
JP2015188070A5 (ja)
JP2013179295A5 (ja)
JP2012134520A5 (ja) 表示装置
JP2011151383A5 (ja)
JP2015179810A5 (ja) 半導体装置
JP2013214729A5 (ja)
JP2011029635A5 (ja) 半導体装置
JP2015053477A5 (ja) 半導体装置
JP2018061001A5 (ja) トランジスタ
JP2015181151A5 (ja) 半導体装置
JP2011171721A5 (ja)
JP2017028289A5 (ja) 半導体装置
JP2012199528A5 (ja)
JP2015187850A5 (ja) タッチセンサ