JPWO2019179815A5 - - Google Patents

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  1. 少なくとも部分的にコーティングされた電極活物質を製造する方法であって、前記方法が、以下の工程:
    (a)一般式Li1+xTM1-x(式中、TMは、Ni、Coと、場合によりMnと、場合によりAl、TiおよびZrから選択される少なくとも1種の金属との組み合わせであり、xは0~0.2の範囲である)で表される電極活物質を提供する工程、
    (b)前記電極活物質を、該電極活物質粒子の表面と反応させた場合に交換または置換される少なくとも1種の基またはイオンを有する、WまたはMoの少なくとも1種の化合物で処理する工程、
    (c)工程(b)で得られた前記物質を化学剤で処理して、WまたはMoの前記化合物を分解する工程、
    (d)一連の工程(b)および(c)を1回~100回繰り返す工程
    を含み、
    得られるコーティングの平均厚さが、0.1~50nmの範囲である、方法。
  2. 工程(b)、(c)および(d)が気相で行われる、請求項1に記載の方法。
  3. 工程(b)による処理のための化合物が、WまたはMoの、カルボニル、C-Cアルキル、アミド、アルコキシド、ハロゲン化物、またはこれらの少なくとも2種の組み合わせから選択される、請求項1または2に記載の方法。
  4. 工程(b)による処理のための前記化合物が、W(CO)およびMo(CO)から選択される、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 工程(c)の分解剤が、酸素、過酸化物、およびオゾンから選択される、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 工程(c)の分解剤が、水素、水、およびC-Cアルキルアルコールから選択される、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記方法が熱の後処理工程(e)を更に含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 工程(b)~(d)が、ロータリーキルン、自由落下ミキサー、連続振動床、または流動床で行われる、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 工程(b)と工程(c)との間においてパージ工程が行われる、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
  10. TMが、一般式(I):
    (NiCoMn1-d(I)
    (式中、aが0.6~0.9の範囲であり、bが0.05~0.2の範囲であり、cが0~0.2の範囲であり、dが0~0.1の範囲であり、MがTi、Zr、およびAlから選択され、そして、a+b+c=1)
    で表される遷移金属の組み合わせである、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
  11. TMが、Ni0.85Co0.1l0.05、Ni0.6Co0.2Mn0.2、Ni0.7Co0.2Mn0.1、Ni0.8Co0.1Mn0.1、Ni0.85Co0.1Mn0.05、および(Ni0.6Co0.2Mn0.21-dAlから選択される、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記方法が更なるコーティング工程(f)を含み、Al、Zn、Ti、Si、P、Zr、Hf、Ni、Li、またはCoの少なくとも1種の酸化物およびこれらの少なくとも2種の組み合わせが請求項1~11のいずれか一項に記載の方法から得られた物質上にコーティングされる、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2021110692A1 (en) * 2019-12-06 2021-06-10 Basf Se Process for manufacturing a coated electrode active material
CN116508176A (zh) * 2020-12-08 2023-07-28 巴斯夫欧洲公司 制备电极活性材料的方法
CN116034092A (zh) * 2020-12-08 2023-04-28 巴斯夫欧洲公司 全固态锂离子电化学电池及其制备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005251716A (ja) 2004-02-05 2005-09-15 Nichia Chem Ind Ltd 非水電解質二次電池用正極活物質、非水電解質二次電池用正極合剤および非水電解質二次電池
US8993051B2 (en) 2007-12-12 2015-03-31 Technische Universiteit Delft Method for covering particles, especially a battery electrode material particles, and particles obtained with such method and a battery comprising such particle
JP5359140B2 (ja) 2008-05-01 2013-12-04 三菱化学株式会社 リチウム遷移金属系化合物粉体、その製造方法並びに、それを用いたリチウム二次電池用正極及びリチウム二次電池
US9196901B2 (en) 2010-06-14 2015-11-24 Lee Se-Hee Lithium battery electrodes with ultra-thin alumina coatings
JP5532330B2 (ja) 2010-09-21 2014-06-25 トヨタ自動車株式会社 リチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法
JP5035712B2 (ja) 2010-09-30 2012-09-26 住友金属鉱山株式会社 非水系電解質二次電池用正極活物質とその製造方法、および該正極活物質を用いた非水系電解質二次電池
JP5472492B2 (ja) 2011-02-04 2014-04-16 トヨタ自動車株式会社 固体電池
EP3121874A1 (en) * 2015-07-20 2017-01-25 Basf Se Cathodes for lithium ion batteries comprising solid lithium oxalate
WO2017042047A1 (en) 2015-09-08 2017-03-16 Basf Se Process for making an electrode active material for lithium ion batteries
JP6662001B2 (ja) 2015-11-27 2020-03-11 住友金属鉱山株式会社 非水系電解質二次電池用正極活物質とその製造方法、被覆液の製造方法
KR101927295B1 (ko) * 2015-11-30 2018-12-10 주식회사 엘지화학 이차전지용 양극활물질 및 이를 포함하는 이차전지
KR102295366B1 (ko) 2016-07-20 2021-08-31 삼성에스디아이 주식회사 리튬이차전지용 니켈계 활물질, 그 제조방법 및 이를 포함하는 양극을 포함한 리튬이차전지
US11302919B2 (en) 2016-07-20 2022-04-12 Samsung Sdi Co., Ltd. Nickel-based active material for lithium secondary battery, method of preparing the same, and lithium secondary battery including positive electrode including the nickel-based active material
WO2019154702A1 (en) 2018-02-09 2019-08-15 Basf Se Process for making an electrode active material, and electrode active material
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