JPWO2019131633A1 - ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法 - Google Patents

Abstract

新規なポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法を提供する。ポリテトラフルオロエチレン粒子を含むポリテトラフルオロエチレン水性分散液に超音波を照射して、ポリテトラフルオロエチレン粒子を凝析させる工程を含むことを特徴とするポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法である。

Description

本発明は、ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法に関する。

ポリテトラフルオロエチレン〔ＰＴＦＥ〕は、その優れた性質から、さまざまな用途に用いられてきた。例えば、ＰＴＦＥを電線、ケーブル、チューブ、フィルター等に成形する場合、ＰＴＦＥ粉末の形態等にしてからＰＴＦＥを成形する。

従来、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）水性分散液からＰＴＦＥ粉末を得る場合、分散液に硝酸や炭酸アンモニウムのような凝析剤を加える凝析法が採用されている（例えば、特許文献１参照）。

ところで、特許文献２には、ＰＴＦＥ以外のガス拡散電極材料を水と混合しない有機溶媒に分散させ、その分散液にＰＴＦＥディスパージョンを添加し、超音波照射又は激しく攪拌、振とうすることによりＰＴＦＥ微粒子を有機溶媒中の前記ガス拡散電極材料と混合、分散することを特徴とするガス拡散電極の反応層原料又はガス供給層原料の製造方法が記載されている。

特表２０１３−５２８６６３号公報 特開２００１−１１６７７号公報

本発明は、新規なポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、ポリテトラフルオロエチレン粒子を含むポリテトラフルオロエチレン水性分散液に超音波を照射して、ポリテトラフルオロエチレン粒子を凝析させる工程を含むことを特徴とするポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法である。

上記ポリテトラフルオロエチレン水性分散液は、炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンの重合を行うことにより得られたものであることが好ましい。

本発明の製造方法は、新規なフルオロポリマー粉末の製造方法である。

本発明を具体的に説明する前に、本明細書で使用する「有機基」について説明する。

本明細書において、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ−、
ＲａＣＯ−、
ＲａＳＯ_２−、
ＲａＣＯＯ−、
ＲａＮＲａＣＯ−、
ＲａＣＯＮＲａ−、
ＲａＯＣＯ−、
ＲａＯＳＯ_２−、及び、
ＲａＮＲｂＳＯ_２−
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
Ｒｂは、独立して、Ｈ又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。

以下に、本発明を具体的に説明する。

本発明のポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）粒子を含むＰＴＦＥ水性分散液に超音波を照射して、ＰＴＦＥ粒子を凝析させる工程（以下「凝析工程」ともいう。）を含む。

上記ＰＴＦＥ粒子はＰＴＦＥからなる。
上記ＰＴＦＥとしては、ＴＦＥ単独重合体であっても、変性ＰＴＦＥであってもよい。変性ＰＴＦＥは、ＴＦＥ単位とＴＦＥと共重合可能な変性モノマーに基づく変性モノマー単位とを含む。

上記変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕等のパーフルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン〔ＣＴＦＥ〕等のクロロフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕等の水素含有フルオロオレフィン；パーフルオロビニルエーテル；パーフルオロアルキルエチレン；エチレン；ニトリル基を有するフッ素含有ビニルエーテル等が挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。

上記パーフルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、例えば、下記一般式（Ｘ）
ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ （Ｘ）
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。

上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式（Ｘ）において、Ｒｆが炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜５である。

上記ＰＡＶＥにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられるが、パーフルオロアルキル基がパーフルオロメチル基であるパーフルオロメチルビニルエーテル〔ＰＭＶＥ〕、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパーフルオロプロピルビニルエーテル〔ＰＰＶＥ〕が好ましい。

パーフルオロアルキルエチレンとしては特に限定されず、例えば、パーフルオロブチルエチレン（ＰＦＢＥ）、パーフルオロヘキシルエチレン（ＰＦＨＥ）、パーフルオロオクチルエチレン（ＰＦＯＥ）等が挙げられる。

上記変性ＰＴＦＥにおける変性モノマーとしては、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、ＶＤＦ、ＰＭＶＥ、ＰＰＶＥ、ＰＦＢＥ、ＰＦＨＥ及びエチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。

上記変性ＰＴＦＥは、変性モノマー単位が０．０００１〜１質量％の範囲であることが好ましい。変性モノマー単位の下限としては、０．００１質量％がより好ましく、０．０１質量％が更に好ましい。変性モノマー単位の上限としては、０．５質量％がより好ましく、０．３質量％が更に好ましい。本明細書において、上記変性モノマー単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造の一部分であって変性モノマーに由来する部分を意味し、全単量体単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造における全ての単量体に由来する部分を意味する。

上記ＰＴＦＥにおいて、分子量の指標として用いられる標準比重（ＳＳＧ）、および溶融粘度（ＭＶ）は特に限定されない。

上記ＰＴＦＥは、非溶融加工性を有し、フィブリル化性を有する高分子量ＰＴＦＥであってもよいし、溶融加工性を有し、フィブリル化性を有しない低分子量ＰＴＦＥであってもよい。

上記非溶融加工性とは、ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８に準拠して、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できない性質を意味し、溶融加工性とは、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できる性質を意味する。

フィブリル化性の有無は、高分子量ＰＴＦＥ粉末を成形する代表的な方法である「ペースト押出し」で判断できる。通常、ペースト押出しが可能であるのは、高分子量のＰＴＦＥがフィブリル化性を有するからである。ペースト押出しにより連続した押出物（押出ストランド）が得られない、あるいはペースト押出しで得られた未焼成の成形物に実質的な強度や伸びがない場合、例えば伸びが０％で引っ張ると切れるような場合はフィブリル化性がないとみなすことができる。

上記高分子量ＰＴＦＥは、標準比重（ＳＳＧ）が２．１３０〜２．２８０であることが好ましい。上記標準比重は、ＡＳＴＭ Ｄ４８９５−８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ Ｄ−７９２に準拠した水置換法により測定する。本発明において、「高分子量」とは、上記標準比重が上記の範囲内にあることを意味する。

上記低分子量ＰＴＦＥは、３８０℃における溶融粘度が１×１０^２〜７×１０^５Ｐａ・ｓである。本発明において、「低分子量」とは、上記溶融粘度が上記の範囲内にあることを意味する。

上記高分子量ＰＴＦＥは、上記低分子量ＰＴＦＥよりも溶融粘度が極めて高く、その正確な溶融粘度を測定することは困難である。他方、上記低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は測定可能であるが、上記低分子量ＰＴＦＥからは、標準比重の測定に使用可能な成形品を得ることが難しく、その正確な標準比重を測定することが困難である。従って、本発明では、上記高分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、標準比重を採用し、上記低分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、溶融粘度を採用する。なお、上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記低分子量ＰＴＦＥのいずれについても、直接に分子量を特定できる測定方法は知られていない。

上記高分子量ＰＴＦＥは、ピーク温度が３３３〜３４７℃であることが好ましく、３３５〜３４５℃であることがより好ましい。上記低分子量ＰＴＦＥは、ピーク温度が３２２〜３３３℃であることが好ましく、３２４〜３３２℃であることがより好ましい。上記ピーク温度は、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥについて示差走査熱量計〔ＤＳＣ〕を用いて１０℃／分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。

上記高分子量ＰＴＦＥは、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥについて示差走査熱量計〔ＤＳＣ〕を用いて１０℃／分の速度で昇温したときの融解熱曲線において、３３３〜３４７℃の範囲に少なくとも１つ以上の吸熱ピークが現れ、上記融解熱曲線から算出される２９０〜３５０℃の融解熱量が６２ｍＪ／ｍｇ以上であることが好ましい。

上記ＰＴＦＥ粒子は、コアシェル構造を有していてもよい。例えば、粒子中に高分子量のＰＴＦＥのコアと、より低分子量のＰＴＦＥまたは変性のＰＴＦＥシェルとを含む変性ＰＴＦＥが挙げられる。このような変性ＰＴＦＥとしては、例えば、特表２００５−５２７６５２号公報に記載されるＰＴＦＥが挙げられる。

上記コアシェル構造としては、次の構造をとり得る。
コア：ＴＦＥ単独重合体 シェル：ＴＦＥ単独重合体
コア：変性ＰＴＦＥ シェル：ＴＦＥ単独重合体
コア：変性ＰＴＦＥ シェル：変性ＰＴＦＥ
コア：ＴＦＥ単独重合体 シェル：変性ＰＴＦＥ
コア：低分子量ＰＴＦＥ シェル：高分子量ＰＴＦＥ
コア：高分子量ＰＴＦＥ シェル：低分子量ＰＴＦＥ

上記コアシェル構造を有するＰＴＦＥ粒子において、コアの比率の下限は、好ましくは０．５質量％、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは３．０質量％、特に好ましくは５．０質量％、最も好ましくは１０．０質量％である。コアの比率の上限は、好ましくは９９．５質量％、より好ましくは９９．０質量％、更に好ましくは９７．０質量％、特に好ましくは９５．０質量％、最も好ましくは９０．０質量％である。

上記コアシェル構造を有するＰＴＦＥ粒子において、シェルの比率の下限は、好ましくは０．５質量％、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは３．０質量％、特に好ましくは５．０質量％、最も好ましくは１０．０質量％である。シェルの比率の上限は、好ましくは９９．５質量％、より好ましくは９９．０質量％、更に好ましくは９７．０質量％、特に好ましくは９５．０質量％、最も好ましくは９０．０質量％である。

上記コアシェル構造を有するＰＴＦＥ粒子において、上記コア又は上記シェルを２層以上の構成とすることもできる。例えば、変性ＰＴＦＥのコア中心部と、ＴＦＥ単独重合体のコア外層部と、変性ＰＴＦＥのシェルとを有する３層構造を有するＰＴＦＥ粒子であってよい。このような３層構造を有するＰＴＦＥ粒子としては、例えば、国際公開第２００６／０５４６１２号に記載されるＰＴＦＥが挙げられる。

本明細書において、ＰＴＦＥを構成する各単量体の含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。

上記ＰＴＦＥ水性分散液はＰＴＦＥ粒子を含む。上記ＰＴＦＥ粒子の濃度は、通常、ＰＴＦＥ水性分散液の１〜７０質量％である。好ましくは８〜６０質量％であり、より好ましくは８〜５０質量％である。ＰＴＦＥ粒子の濃度の更により好ましい下限はＰＴＦＥ水性分散液の１０質量％であり、特に好ましい下限は１５質量％であり、更により好ましい上限は４０質量％であり、特に好ましい上限は３５質量％である。

上記ＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径は、例えば、５０〜５００ｎｍである。平均一次粒子径の下限は、好ましくは１００ｎｍ、より好ましくは１５０ｎｍである。平均一次粒子径の上限は、好ましくは４００ｎｍ、より好ましくは３５０ｎｍであり、更に好ましくは３００ｎｍである。
上記平均一次粒子径は、ＰＴＦＥ粒子濃度を０．１５質量％に調整した水性分散液の単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真における定方向径を測定して決定された平均一次粒子径との検量線を作成し、測定対象である水性分散液について、上記透過率を測定し、上記検量線をもとに決定できる。

上記ＰＴＦＥ水性分散液は、通常、水性媒体を含む。上記水性媒体は、水を含む液体であれば特に限定されず、水に加え、例えば、アルコール、エーテル、ケトン、パラフィンワックス等の有機溶媒を含むものであってもよい。
上記水性媒体は、水が５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上がより好ましく、１００質量％が最も好ましい。

上記ＰＴＦＥ水性分散液は、通常、界面活性剤を含む。上記界面活性剤は、含フッ素界面活性剤であってもよいし、炭化水素系界面活性剤であってもよい。炭化水素系界面活性剤は、フッ素原子を含まない界面活性剤である。
含フッ素界面活性剤及び炭化水素系界面活性剤としては特に限定されず、従来公知の界面活性剤を用いることができ、例えば、後述する含フッ素界面活性剤及び炭化水素系界面活性剤等が挙げられる。

上記ＰＴＦＥ水性分散液において界面活性剤の含有量は特に限定されないが、上記ＰＴＦＥ水性分散液１００質量％に対して０．０００１〜１０．０質量％であることが好ましい。０．０００１質量％未満であると、分散安定性に劣る場合があり、１０．０質量％を超えると、存在量に見合った分散効果がなく実用的でない。上記界面活性剤のより好ましい下限は０．００１質量％であり、更に好ましい下限は０．０１質量％であり、特に好ましい下限は０．０７質量％である。より好ましい上限は８．５質量％であり、更に好ましい上限は１．０質量％であり、更により好ましい上限は０．９０質量％であり、更に好ましい上限は０．４６質量％であり、特に好ましい上限は０．３２質量％である。

上記ＰＴＦＥ水性分散液は、従来公知の方法で得ることができる。

上記ＰＴＦＥ水性分散液としては、ＰＴＦＥ粒子以外に、溶融加工性フッ素樹脂を含むものを用いてもよく、例えば、ＰＴＦＥ粒子を含む水性分散液と溶融加工性フッ素樹脂粒子の水性分散液とを混合したものを用いてもよい。
上記溶融加工性フッ素樹脂としては、例えば、ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体〔ＦＥＰ〕、ＴＦＥ／ＰＡＶＥ共重合体〔ＰＦＡ〕、エチレン／ＴＦＥ共重合体〔ＥＴＦＥ〕、エチレン／ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体等が挙げられるが、中でもＦＥＰが好ましい。

上記凝析工程における超音波の照射は、ＰＴＦＥ粒子を凝析させる観点で、２０Ｗ以上の出力で行うことが好ましい。照射出力が低い場合、凝析時間が長くなり生産性に劣るおそれがある。また、凝析することができず目的とするＰＴＦＥ粉末を得ることができないおそれがある。
上記照射出力は、１００Ｗ以上の出力で行うことがより好ましく、２００Ｗ以上が更に好ましい。出力の上限は特に限定されないが、例えば、３０００Ｗ以下であってよく、１０００Ｗ以下が好ましく、８００Ｗ以下がより好ましい。

上記超音波の照射は、ＰＴＦＥ粒子を凝析させる観点で、１５ｋＨｚ以上の周波数で行うことが好ましい。上記周波数は、１８ｋＨｚ以上がより好ましい。周波数の上限は特に限定されないが、例えば、１００ｋＨｚ以下が好ましく、５０ｋＨｚ以下がより好ましく、４０ｋＨｚ以下が更に好ましい。

上記超音波の照射時間は特に限定されないが、例えば、６０秒以上であることが好ましく、３００秒以上であることがより好ましい。
超音波の照射時間はＰＴＦＥ粒子を凝析させるのに十分な時間であればよく、生産性の観点から、２０分以下であることが好ましい。

上記超音波の照射は、市販の超音波発生装置を用いて行うことができる。
上記超音波照射装置としては、市販の超音波発信装置（例えば、超音波ホモジナイザー）、超音波発信器、循環式超音波照射機、超音波振動子、超音波洗浄器などがあり、これらのものから適宜選択して用いることができる。また、前記水性分散液に超音波を照射する方法は、ＰＴＦＥ水性分散液が凝集する条件であれば、特に制限なく、従来公知の方法を採用することができる。

超音波を照射する具体的な方法としては、例えば、超音波ホモジナイザーのノズル部分をＰＴＦＥ水性分散液に浸して行う方法や、ＰＴＦＥ水性分散液を導入した容器に投げ込み式の超音波振動子を浸して照射する方法、予め水性媒体などを仕込んだ超音波洗浄器にＰＴＦＥ水性分散液が入った容器を導入し照射する方法、槽型に製作された超音波洗浄器や超音波発信器にＰＴＦＥ分散液を導入し照射する方法等が挙げられる。

上記凝析工程は、水性分散液の温度を０〜８０℃に調整した上で超音波を照射することが好ましい。水性分散液の温度の下限は１０℃がより好ましく、２０℃が更に好ましい。水性分散液の温度の上限は５０℃がより好ましく、４０℃が更に好ましい。
また、必要に応じてｐＨを調整してもよい。例えば、超音波を照射する前に炭酸アンモニウムや硝酸などを適宜加える方法等が挙げられる。
水性分散液の比重を１．０３〜１．２０に調整することが好ましい。水性分散液の比重の上限は１．１０がより好ましく、１．０８が更に好ましい。

上記凝析工程により生じる排水中の未凝集の上記ＴＦＥ重合体濃度は、生産性の観点から低いことが好ましく、０．４質量％未満がより好ましく、０．３質量％未満が更に好ましい。

上記凝析工程によりＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ粒子が凝析し、湿潤ＰＴＦＥ粉末が生成する。
本発明の製造方法は、更に、凝析工程で得られた湿潤ＰＴＦＥ粉末を含む凝析後分散液から、湿潤ＰＴＦＥ粉末を単離する工程を含んでもよい。
また、単離した湿潤ＰＴＦＥ粉末を乾燥する工程を含んでもよい。
乾燥は、湿潤ＰＴＦＥ粉末をあまり流動させない状態で、熱風などの加熱手段を用いて行うことが好ましい。乾燥温度は、ポリマーの融点より低い温度であればよいが、通常１００〜３００℃の範囲が適している。上記乾燥は、１２０〜２５０℃、好ましくは１４０〜２３０℃の乾燥温度で行うことができる。上記乾燥は、減圧、真空、高周波と組み合わせてもよい。
乾燥時間は特に限定されず、乾燥後のＰＴＦＥ粉末中の水分を含まなくなるまで行うことが好ましい。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥは、色調Ｌ＊が８８以上であることが好ましく、９０以上であることがより好ましい。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥは、色調Ｚが８０以上であることが好ましく、８５以上であることがより好ましく、９０以上であることが更に好ましい。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥは、３８５℃で１０分間焼成した後の色調Ｌ＊が４０以上であることが好ましく、４５以上であることがより好ましい。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥは、３８５℃で１０分間焼成した後の色調Ｚが１０以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましい。

色調Ｌ＊及びＺを測定するためのサンプルは、４．０ｇのＰＴＦＥの粉末を、内径２８．６ｍｍ、厚み約４ｍｍの円盤状ＰＴＦＥ成形体に成形して得られる。
上記ＰＴＦＥの色調Ｌ＊及びＺは、ＪＩＳ Ｚ８７８１−４に準拠して、測色色差計（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて測定する。
上記焼成は、３８５℃に加熱した電気炉内で１０分間熱処理することで実施する。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末は、見掛密度が０．６０ｇ／ｍｌ以下であることが好ましく、０．５５ｇ／ｍｌ以下であることがより好ましく、０．５２ｇ／ｍｌ以下であることが更に好ましく、０．４０ｇ／ｍｌ以上であることが好ましく、０．４５ｇ／ｍｌ以上であることがより好ましく、０．４７ｇ／ｍｌ以上であることが更に好ましい。
上記見掛密度はＪＩＳ Ｋ６８９２に準拠して測定する値である。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末は、平均粒径が１０００μｍ以下であることが好ましく、８００μｍ以下であることがより好ましく、７００μｍ以下であることが更に好ましく、３００μｍ以上であることが好ましく、４００μｍ以上であることがより好ましく、５００μｍ以上であることが更に好ましい。
上記平均粒径は、ＪＩＳ Ｋ６８９１に準拠して測定する値である。

本発明の製造方法は、超音波を照射することで凝析できるため簡便であり、必ずしも多量の凝析剤等を必要としないため、凝析剤等を除去する工程が必要でない点で有利である。
更に、通常、ＰＴＦＥ水性分散液には界面活性剤が含まれているため、得られるＰＴＦＥ粉末に界面活性剤が残存する。本発明の製造方法では、残存する界面活性剤量が少ないＰＴＦＥ粉末が得られる。

本発明の製造方法は、炭化水素系界面活性剤を用いて製造されたＰＴＦＥ水性分散液からＰＴＦＥ粉末を得る場合に特に有用である。
従来、乳化重合によりＰＴＦＥを製造する場合、含フッ素アニオン界面活性剤が使用されてきたが、最近では、含フッ素アニオン界面活性剤に代えて、炭化水素界面活性剤の使用も提案されている。
しかし、炭化水素系界面活性剤の存在下にＴＦＥの重合を行うと、得られるポリテトラフルオロエチレン粉末が着色する傾向があり、改善の余地があった。

例えば、特表２０１５−５１６０２９号公報には、フッ素化ポリマー樹脂の熱誘起変色を低減させる方法であって、湿潤もしくは乾燥形態のフッ素化ポリマー樹脂を酸化剤に暴露させるステップを含む方法が記載されている。

本発明者等が鋭意検討したところ、ＰＴＦＥ水性分散液に超音波を照射して凝析させると、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ水性分散液から得られるＰＴＦＥ粉末の着色が低減されることが見出された。
すなわち、本発明の製造方法は、ＰＴＦＥ粒子を含むＰＴＦＥ水性分散液に超音波を照射して、ＰＴＦＥ粒子を凝析させる工程を含み、前記ポリテトラフルオロエチレン水性分散液は、炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンの重合を行うことにより得られたものであることが好ましい。

本発明のＰＴＦＥ粉末の製造方法は、ＰＴＦＥ水性分散液が炭化水素系界面活性剤を用いて得られたものであったとしても、得られるＰＴＦＥ粉末の着色を低減することができる。

上記ＰＴＦＥ水性分散液は、炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンの重合を行う工程を含む方法により得ることができる。
すなわち、炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンの重合を行う工程（以下「重合工程」ともいう）、及び、ＰＴＦＥ粒子を含むＰＴＦＥ水性分散液に超音波を照射して、ＰＴＦＥ粒子を凝析させる工程を含むＰＴＦＥ粉末の製造方法も本発明の一つである。

上記重合は、乳化重合であってよい。上記工程において、上記ＴＦＥ、並びに、必要に応じて上述したＴＦＥと共重合可能な変性モノマーを重合することにより、ポリテトラフルオロエチレンからなる粒子を含むＰＴＦＥ水性分散液を得ることができる。

上記重合工程は、炭化水素系界面活性剤の存在下に行う。本発明において、炭化水素系界面活性剤としては、一般に知られているものを使用できる。例えば、特表２０１３−５４２３０８号公報、特表２０１３−５４２３０９号公報、特表２０１３−５４２３１０号公報に記載されているもの等を使用することができる。炭化水素系界面活性剤の詳細は後述する。

上記重合工程は、重合反応器に、水性媒体、上記界面活性剤、ＴＦＥ及び必要に応じてＴＦＥと共重合可能な変性モノマー、並びに、必要に応じて他の添加剤を仕込み、反応器の内容物を撹拌し、そして反応器を所定の重合温度に保持し、次に所定量の重合開始剤を加え、重合反応を開始することにより行うことができる。重合反応開始後に、目的に応じて、ＴＦＥ等のモノマー、重合開始剤、連鎖移動剤及び上記界面活性剤等を追加添加してもよい。

上記重合において、通常、重合温度は、５〜１２０℃であり、重合圧力は、０．０５〜１０ＭＰａＧである。重合温度、重合圧力は、使用するモノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量、反応速度によって適宜決定される。

上記炭化水素系界面活性剤は、合計添加量で、水性媒体１００質量％に対して０．０００１〜１０質量％の量を添加することが好ましい。より好ましい下限は０．００１質量％であり、更に好ましい下限は０．０１質量％であり、特に好ましい下限は０．１質量％である。より好ましい上限は１．０質量％であり、更に好ましい上限は０．５０質量％であり、特に好ましい上限は０．３５質量％である。０．０００１質量％未満であると、分散力が不充分となるおそれがあり、１０質量％を超えると、添加量に見合った効果が得られず、却って重合速度の低下や反応停止が起こるおそれがある。上記炭化水素系界面活性剤の添加量は、使用するモノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量等によって適宜決定される。

上記重合工程では、炭化水素系界面活性剤を少なくとも１種用いればよい。例えば、後述する炭化水素系界面活性剤を２種以上同時に用いてもよいし、炭化水素系界面活性剤以外のその他の界面活性能を有する化合物を同時に使用してもよい。炭化水素系界面活性剤と含フッ素界面活性剤を併用することもできる。

本発明の製造方法において、炭化水素系界面活性剤とともに、ラジカル重合で反応可能な官能基と親水基とを有する変性モノマー（以下「変性モノマー（Ａ）」と記載する。）を使用してもよい。上記変性モノマー（Ａ）としては、少なくとも１つ以上のビニル基を含む界面活性能を有する化合物であればよい。
上記変性モノマー（Ａ）における親水基としては、例えば、−ＮＨ_２、−ＰＯ_３Ｍ、−ＯＰＯ_３Ｍ、−ＳＯ_３Ｍ、−ＯＳＯ_３Ｍ、−ＣＯＯＭ（各式において、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^７ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ^７は、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）が挙げられる。上記親水基としては、なかでも、−ＳＯ_３Ｍ又は−ＣＯＯＭが好ましい。Ｒ^７としては、Ｈ又はＣ_１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ_１−４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ_１−４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
上記変性モノマー（Ａ）における「ラジカル重合で反応可能な官能基」としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する基が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基は、下記式：
ＣＸ_１Ｘ_３＝ＣＸ_２Ｒ−
（式中、Ｘ_１、Ｘ_２及びＸ_３は、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｈ、ＣＦ_３、ＣＦ_２Ｈ、ＣＦＨ_２、又は、ＣＨ_３であり；Ｒは連結基である。）で示すことができる。好ましくは−ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＣＦ＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＦ_２、−ＣＦ＝ＣＦ_２、−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ_２、−ＣＦ_２−ＣＦ＝ＣＨ_２、−ＣＦ_２−ＣＦ＝ＣＦ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＦ＝ＣＨ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＦ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＦ＝ＣＦ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＦ_３）＝ＣＨ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＦ_２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＦ_３）＝ＣＦ_２、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｏ−ＣＦ_２−ＣＦ＝ＣＨ_２、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＦ_２、−Ｏ−ＣＦ_２−ＣＦ＝ＣＦ_２等の不飽和結合を有する基が挙げられる。
上記変性モノマー（Ａ）としては、例えば、一般式（２７０ａ）：
ＣＦ_２＝ＣＦ−（ＣＦ_２）_{ｎ２７１ａ}−Ｙ^２７１
（式中、ｎ２７１ａは、１〜１０の整数を表し、Ｙ^２７１は、−ＳＯ_３Ｍ^２７１又は−ＣＯＯＭ^２７１を表し、Ｍ^２７１は、Ｈ、ＮＨ_４又はアルカリ金属を表す。）で表される界面活性剤、一般式（２７０ｂ）：
ＣＦ_２＝ＣＦ−（ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）Ｆ）_{ｎ２７１ｂ}−Ｙ^２７１
（式中、ｎ２７１ｂは、１〜５の整数を表し、Ｙ^２７１は、前記定義と同じ。）で表される界面活性剤、一般式（２７０ｃ）：
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦＸ^２７１）_{ｎ２７１ｃ}−Ｙ^２７１
（式中、Ｘ^２７１は、Ｆ又はＣＦ_３を表し、ｎ２７１ｃは、１〜１０の整数を表し、Ｙ^２７１は、前記定義と同じ。）で表される界面活性剤、一般式（２７０ｄ）
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦＸ^２７１Ｏ）_{ｎ２７１ｄ}−ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｙ^２７１
（式中、ｎ２７１ｄは、１〜１０の整数を表し、Ｙ^２７１及びＸ^２７１は、前記定義と同じ。）で表される界面活性剤、一般式：（２７０ｅ）
ＣＸ^２７２ _２＝ＣＦＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ２７１ｅ}−ＣＦ（ＣＦ_３）−Ｙ^２７１
（式中、各Ｘ^２７２は、同一であり、Ｆ又はＨを表す。ｎ２７１ｅは、０又は１〜１０の整数を表し、Ｙ^２７１は、前記定義と同じ。）で表されるモノマー等が挙げられる。

上記重合開始剤としては、上記重合温度範囲でラジカルを発生しうるものであれば特に限定されず、公知の油溶性及び／又は水溶性の重合開始剤を使用することができる。更に、還元剤等と組み合わせてレドックスとして重合を開始することもできる。上記重合開始剤の濃度は、ＴＦＥと共重合可能な変性モノマーの種類、目的とするＰＴＦＥの分子量、反応速度によって適宜決定される。

上記重合開始剤としては、水溶性ラジカル重合開始剤を使用できる。

水溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の水溶性過酸化物であってよく、水溶性無機過酸化物としては、たとえば、過硫酸、過ホウ酸、過塩素酸、過リン酸、過炭酸などのアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩などが挙げられる。水溶性有機過酸化物としては、たとえば、ジコハク酸パーオキサイド、ジグルタル酸パーオキサイド、ｔ−ブチルパーマレエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイドなどが挙げられる。サルファイト類、亜硫酸塩類のような還元剤も併せて含んでもよく、その使用量は過酸化物に対して０．１〜２０倍であってよい。

重合開始剤として、酸化剤と還元剤を組み合わせるレドックス開始剤を用いるのも好ましい。酸化剤としては、過硫酸塩、有機過酸化物、過マンガン酸カリウム、三酢酸マンガン、セリウム硝酸アンモニウム等が挙げられる。還元剤としては、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、臭素酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが挙げられる。亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウムが挙げられる。開始剤の分解速度を上げるため、レドックス開始剤の組み合わせには、銅塩、鉄塩を加えることも好ましい。銅塩としては、硫酸銅（ＩＩ）、鉄塩としては硫酸鉄（ＩＩ）が挙げられる。

上記レドックス開始剤としては、例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸、過硫酸アンモニウム／重亜硫酸塩／硫酸鉄、過硫酸アンモニウム／亜硫酸塩／硫酸鉄、三酢酸マンガン／シュウ酸、セリウム硝酸アンモニウム／シュウ酸、臭素酸塩／亜硫酸塩、臭素酸塩／重亜硫酸塩等が挙げられ、過マンガン酸カリウム／シュウ酸が好ましい。レドックス開始剤を用いる場合は、酸化剤又は還元剤のいずれかをあらかじめ重合槽に仕込み、ついでもう一方を連続的又は断続的に加えて重合を開始させてもよい。例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸を用いる場合、重合槽にシュウ酸を仕込み、そこへ過マンガン酸カリウムを連続的に添加することが好ましい。

重合開始剤の添加量は、特に限定はないが、重合速度が著しく低下しない程度の量（たとえば、数ｐｐｍ対水濃度）以上を重合の初期に一括して、または逐次的に、または連続して添加すればよい。上限は、装置面から重合反応熱で除熱を行ないながら、反応温度を上昇させてもよい範囲であり、より好ましい上限は、装置面から重合反応熱を除熱できる範囲である。

上記水性媒体は、重合を行わせる反応媒体であって、上述したＰＴＦＥ水性分散液に含まれてよい水性媒体を採用できる。

上記重合において、更に、目的に応じて、公知の連鎖移動剤、ラジカル捕捉剤、分解剤を添加し、重合速度、分子量の調整を行うこともできる。

上記連鎖移動剤としては、たとえばマロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、コハク酸ジメチルなどのエステル類のほか、水素、イソペンタン、メタン、エタン、プロパン、メタノール、イソブタン、イソプロパノール、アセトン、各種メルカプタン、四塩化炭素などの各種ハロゲン化炭化水素、シクロヘキサンなどがあげられる。

上記連鎖移動剤の使用量は、目的とするポリマーの分子量、使用する連鎖移動剤の種類、使用する開始剤の種類と使用量などによって適宜選択できるが、通常、供給されるフルオロモノマー全量に対して、１〜５０，０００ｐｐｍであり、好ましくは１〜２０，０００ｐｐｍである。

上記連鎖移動剤は、重合開始前に一括して反応容器中に添加してもよいし、重合開始後に一括して添加してもよいし、重合中に複数回に分割して添加してもよいし、また、重合中に連続的に添加してもよい。

また、上記重合工程において、上記炭化水素系界面活性剤と、所望により用いるその他の界面活性能を有する化合物に加え、各化合物を安定化するため添加剤を使用することができる。上記添加剤としては、緩衝剤、ｐＨ調整剤、安定化助剤、分散安定剤などが挙げられる。

安定化助剤としては、パラフィンワックス、フッ素系オイル、フッ素系溶剤、シリコーンオイルなどが好ましい。安定化助剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。安定化助剤としては、パラフィンワックスがより好ましい。パラフィンワックスとしては、室温で液体でも、半固体でも、固体であってもよいが、炭素数１２以上の飽和炭化水素が好ましい。パラフィンワックスの融点は、通常４０〜６５℃が好ましく、５０〜６５℃がより好ましい。

安定化助剤の使用量は、使用する水性媒体の質量基準で０．１〜１２質量％が好ましく、０．１〜８質量％がより好ましい。安定化助剤は十分に疎水的で、ＴＦＥの乳化重合後にＰＴＦＥ水性乳化液と完全に分離されて、コンタミ成分とならないことが望ましい。

上記重合工程は、上記炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でＴＦＥを重合して、ＰＴＦＥ（Ａ）粒子の水性分散液を製造する工程（Ｉ）、及び、（ＩＩ）上記ＰＴＦＥ（Ａ）粒子の水性分散液中で、上記ＴＦＥをＰＴＦＥ（Ａ）粒子にシード重合するものであってもよい。

上記重合工程により得られるＰＴＦＥ水性分散液は、通常、炭化水素系界面活性剤を含む。上記ＰＴＦＥ水性分散液において炭化水素系界面活性剤の含有量は特に限定されないが、上記ＰＴＦＥ水性分散液１００質量％に対して０．０００１〜１０．０質量％であることが好ましい。０．０００１質量％未満であると、分散安定性に劣る場合があり、１０．０質量％を超えると、存在量に見合った分散効果がなく実用的でない。上記界面活性剤のより好ましい下限は０．００１質量％であり、更に好ましい下限は０．０１質量％であり、特に好ましい下限は０．０７質量％である。より好ましい上限は８．５質量％であり、更に好ましい上限は１．０質量％であり、更により好ましい上限は０．９０質量％であり、殊更に好ましい上限は０．４６質量％であり、特に好ましい上限は０．３２質量％である。

上記重合工程の後で凝析工程の前、若しくは凝析工程中に、顔料や機械的性質を改良するための各種充填剤を添加してもよい。これにより、顔料や各種充填剤を含むＰＴＦＥ粉末が得られる。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末は、成形用として好ましく、好適な用途としては、航空機及び自動車等の油圧系、燃料系のチューブ等が挙げられ、薬液、蒸気等のフレキシブルホース、電線被覆用途等が挙げられる。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末は、加工助剤としても使用できる。加工助剤として使用する場合、上記ＰＴＦＥ粉末をホストポリマー等に混合することにより、ホストポリマー溶融加工時の溶融強度向上や、得られたポリマーの機械的強度、電気特性、難燃性、燃焼時の滴下防止性、摺動性を向上することができる。上記ＰＴＦＥ粉末は、ＰＴＦＥ以外の樹脂と複合させてから加工助剤として使用することもできる。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末は、電池用結着剤、防塵用途として使用することもできる。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末が高分子量ＰＴＦＥである場合、ＰＴＦＥ多孔体（膜）の原料としても有用である。例えばＰＴＦＥ粉末をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、ＰＴＦＥ多孔体（膜）を得ることができる。延伸することによりＰＴＦＥは容易にフィブリル化し、結節と繊維からなるＰＴＦＥ多孔体（膜）となる。この多孔体（膜）は、各種フィルターとして有用であり、薬液フィルターとして、特にエアフィルター濾材として好ましく使用できる。

本発明の製造方法で得られるＰＴＦＥ粉末が低分子量ＰＴＦＥ（ＰＴＦＥマイクロパウダーとも呼ばれる）の粉末である場合、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくいので、滑り性や塗膜表面の質感を向上させることなどを目的とした添加剤として、プラスチック、インク、化粧品、塗料、グリース、オフィスオートメーション機器部材、トナー等の製造に好適である（例えば、特開平１０−１４７６１７号公報参照。）。

以下に、本発明のＰＴＦＥ粉末の製造方法にて使用できる具体的な含フッ素界面活性剤及び炭化水素系界面活性剤について記載する。

含フッ素界面活性剤としては特に限定されないが、含フッ素アニオン性界面活性剤が好ましい。従来から使用されていたパーフルオロオクタン酸やその塩（例えばアンモニウム塩）等も使用することができるが、例えば、米国特許出願公開第２００７／００１５８６４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６５号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６６号明細書、米国特許出願公開第２００７／０２７６１０３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１１７９１４号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１４２５４１号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３１９号明細書、米国特許第３２５０８０８号明細書、米国特許第３２７１３４１号明細書、特開２００３−１１９２０４号公報、国際公開第２００５／０４２５９３号、国際公開第２００８／０６０４６１号、国際公開第２００７／０４６３７７号、国際公開第２００７／１１９５２６号、国際公開第２００７／０４６４８２号、国際公開第２００７／０４６３４５号に記載されたもの等を使用できる。

含フッ素アニオン性界面活性剤としては、ＬｏｇＰＯＷが３．４以下である含フッ素界面活性剤が好ましい。
上記含フッ素界面活性剤は、ＬｏｇＰＯＷが２．５以上であってもよいし、３．０以上であってもよい。
上記ＬｏｇＰＯＷは、１−オクタノールと水との分配係数であり、ＬｏｇＰ［式中、Ｐは、含フッ素界面活性剤を含有するオクタノール／水（１：１）混合液が相分離した際のオクタノール中の含フッ素界面活性剤濃度／水中の含フッ素界面活性剤濃度比を表す］で表されるものである。
ＬｏｇＰＯＷで表されるオクタノール／水分配係数は、カラム：ＴＯＳＯＨ ＯＤＳ−１２０Ｔカラム（φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ）、溶離液：アセトニトリル／０．６質量％ＨＣｌＯ_４水＝１／１（ｖｏｌ／ｖｏｌ％）、流速：１．０ｍｌ／分、サンプル量：３００μＬ、カラム温度：４０℃、検出光：ＵＶ２１０ｎｍの条件で、既知のオクタノール／水分配係数を有する標準物質（ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸及びデカン酸）についてＨＰＬＣを行い、各溶出時間と既知のオクタノール／水分配係数との検量線を作成し、この検量線に基づき、試料液におけるＨＰＬＣの溶出時間から算出する。

上記ＬｏｇＰＯＷが３．４以下の含フッ素界面活性剤としては、一般式：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_４−ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属を表す。）、一般式：
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属原子を表す。）、一般式：
ＣＦ_３ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属原子を表す。）、及び、一般式：
ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属原子を表す。）
からなる群より選択される少なくとも１種の含フッ素界面活性剤であることが好ましい。

ＬｏｇＰＯＷが３．４以下の含フッ素界面活性剤としては、一般式：
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属原子を表す。）、一般式：
ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＯＯＸ
（式中、Ｘは水素原子、ＮＨ_４又はアルカリ金属原子を表す。）
等も挙げることができる。

上記含フッ素界面活性剤が塩である場合、該塩を形成する対イオンとしては、アルカリ金属イオン又はＮＨ^４＋等が挙げられ、アルカリ金属イオンとしては、例えば、Ｎａ^＋、Ｋ^＋等が挙げられる。

ＬｏｇＰＯＷが３．４以下の含フッ素界面活性剤としては、ＣＦ_３ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＨ、ＣＦ_３ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＮＨ_４、ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＯＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＯＯＮＨ_４、ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＯＯＨ、ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＯＯＮＨ_４、ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_４−ＣＯＯＨ、ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_４−ＣＯＯＮＨ_４、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＮＨ_４、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＨ等が挙げられる。

炭化水素系界面活性剤は、同じ分子上に親水性部分及び疎水性部分を有する。これらは、カチオン性、非イオン性またはアニオン性であってよい。

カチオン性界面活性剤は、通常、アルキル化臭化アンモニウムなどのアルキル化ハロゲン化アンモニウムなどの正に帯電した親水性部分と、長鎖脂肪酸などの疎水性部分を有する。

アニオン性界面活性剤は、通常、カルボン酸塩、スルホン酸塩又は硫酸塩などの親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有する。

非イオン性界面活性剤は、通常、帯電した基を含まず、長鎖炭化水素である疎水性部分を有する。非イオン性界面活性剤の親水性部分は、エチレンオキシドとの重合から誘導されるエチレンエーテルの鎖などの水溶性官能基を含む。

非イオン性炭化水素系界面活性剤の例
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、グリセロールエステル、それらの誘導体。

ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル等。

ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等。

ポリオキシエチレンアルキルエステルの具体例：ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノステアレートなど。

ソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートなど。

ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレートなど。

グリセロールエステルの具体例：モノミリスチン酸グリセロール、モノステアリン酸グリセロール、モノオレイン酸グリセロールなど。

上記誘導体の具体例：ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル−ホルムアルデヒド凝縮物、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェートなど。

上記エーテル及びエステルは、１０〜１８のＨＬＢ値を有してよい。

非イオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ製のＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｔｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘシリーズ（Ｘ１５、Ｘ４５、Ｘ１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５−Ｓシリーズ、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＴＭＮシリーズ（ＴＭＮ−６、ＴＭＮ−１０、ＴＭＮ−１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）Ｌシリーズ、ＢＡＳＦ製のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズ（３１Ｒ１、１７Ｒ２、１０Ｒ５、２５Ｒ４（ｍ〜２２、ｎ〜２３）、Ｉｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズ（ＴＤＡ−６、ＴＤＡ−９、ＴＤＡ−１０）等が挙げられる。

アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ＰｒｏｄｕｃｔｓのＶｅｒｓａｔｉｃ（登録商標）１０、ＢＡＳＦ製のＡｖａｎｅｌ Ｓシリーズ（Ｓ−７０、Ｓ−７４等）等が挙げられる。

炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ−Ｌ−Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_４−、−ＰＯ_３ ⁻又は−ＣＯＯ⁻であり、Ｍが、Ｈ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋又はＮＨ_４ ^＋である。−ＡｒＳＯ_３ ⁻は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
具体的には、ＣＨ_３−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｌ−Ｍ（式中、ｎが、６〜１７の整数である。ＬおよびＭが、上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
Ｒが、１２〜１６個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｌが、硫酸塩又はドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）であるものの混合物も使用できる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ^６（−Ｌ−Ｍ）_２（式中、Ｒ^６が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_４−、−ＰＯ_３ ⁻又は−ＣＯＯ⁻であり、Ｍが、Ｈ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋又はＮＨ_４ ^＋である。−ＡｒＳＯ_３ ⁻は、アリールスルホン酸塩である。ａ及びｂは、それぞれ、１以上の整数である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ^７（−Ｌ−Ｍ）_３（式中、Ｒ^７が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキリジン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキリジン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、−ＡｒＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_３ ⁻、−ＳＯ_４−、−ＰＯ_３ ⁻又は−ＣＯＯ⁻であり、Ｍが、Ｈ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋又はＮＨ_４ ^＋である。−ＡｒＳＯ_３ ⁻は、アリールスルホン酸塩である。ａ及びｂは、それぞれ、１以上の整数である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、及び、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。

シロキサン炭化水素系界面活性剤としては、Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｒ．Ｍ．Ｈｉｌｌ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．，ＩＳＢＮ：０−８２４７−００１０４に記載されているものが挙げられる。シロキサン界面活性剤の構造は、明確な疎水性部分および親水性部分を含む。疎水性部分は、１つ以上のジヒドロカルビルシロキサン単位を含み、ここで、シリコーン原子上の置換基が、完全に炭化水素である。
ヒドロカルビル基の炭素原子が、フッ素などのハロゲンによって置換され得る場合に、水素原子によって完全に置換されるという意味では、これらのシロキサン界面活性剤は、炭化水素界面活性剤とみなすこともでき、すなわち、ヒドロカルビル基の炭素原子上の一価置換基は水素である。

シロキサン界面活性剤の親水性部分は、スルフェート、スルホネート、ホスホネート、リン酸エステル、カルボキシレート、カーボネート、スルホサクシネート、タウレート（遊離酸、塩またはエステルとしての）、ホスフィンオキシド、ベタイン、ベタインコポリオール、第４級アンモニウム塩などのイオン性基を含む１つ以上の極性部分を含んでもよい。イオン性疎水性部分は、イオン的に官能化されたシロキサングラフトも含み得る。
このようなシロキサン界面活性剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン−グラフト−（メタ）アクリル酸塩、ポリジメチルシロキサン−グラフト−ポリアクリレート塩およびポリジメチルシロキサングラフト化第４級アミンが挙げられる。
シロキサン界面活性剤の親水性部分の極性部分は、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、および混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテル（ＰＥＯ／ＰＰＯ）などのポリエーテル；単糖類および二糖類；およびピロリジノンなどの水溶性複素環によって形成される非イオン性基を含み得る。エチレンオキシド対プロピレンオキシド（ＥＯ／ＰＯ）の比率は、混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテルにおいて変化され得る。

シロキサン界面活性剤の親水性部分は、イオン性部分と非イオン性部分との組合せも含み得る。このような部分としては、例えば、イオン的に末端官能化されたまたはランダムに官能化されたポリエーテルまたはポリオールが挙げられる。本発明の実施に好ましいのは、非イオン性部分を有するシロキサン、すなわち、非イオン性シロキサン界面活性剤である。

シロキサン界面活性剤の構造の疎水性および親水性部分の配置は、ジブロックポリマー（ＡＢ）、トリブロックポリマー（ＡＢＡ）（ここで、「Ｂ」は、分子のシロキサン部分を表す）、またはマルチブロックポリマーの形態をとってもよい。あるいは、シロキサン界面活性剤は、グラフトポリマーを含んでいてもよい。

シロキサン界面活性剤については、米国特許第６，８４１，６１６号明細書にも開示されている。

シロキサンベースのアニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．のＮｏｖｅｏｎ（登録商標）Ｃｏｎｓｕｍｅｒ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓから入手可能なＳｉｌＳｅｎｓｅ^ＴＭＰＥ−１００シリコーン、ＳｉｌＳｅｎｓｅ^ＴＭＣＡ−１シリコーン等が挙げられる。

アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＬＬＣのスルホサクシネート界面活性剤Ｌａｎｋｒｏｐｏｌ（登録商標）Ｋ８３００等も挙げられる。
スルホサクシネート炭化水素系界面活性剤としては、スルホコハク酸ジイソデシルＮａ塩、（ＣｌａｒｉａｎｔのＥｍｕｌｓｏｇｅｎ（登録商標）ＳＢ１０）、スルホコハク酸ジイソトリデシルＮａ塩（Ｃｅｓａｐｉｎｉａ ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＰｏｌｉｒｏｌ（登録商標）ＴＲ／ＬＮＡ）等が挙げられる。

炭化水素系界面活性剤としては、Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．のＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）界面活性剤（ＰｏｌｙＦｏｘ^ＴＭＰＦ−１５６Ａ、ＰｏｌｙＦｏｘ^ＴＭＰＦ−１３６Ａ等）も挙げられる。

上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ）：

（式中、Ｒ^１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、炭素数が合計で５以上である。Ａ^ａは、−ＣＯＯＸ^ａ又は−ＳＯ_３Ｘ^ａ（Ｘ^ａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^４ａ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ）、及び、下記式（ｂ）：

（式中、Ｒ^１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ^３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ａ^ｂは、−ＳＯ_３Ｘ^ｂ又は−ＣＯＯＸ^ｂ（Ｘ^ｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^５ｂ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１〜５であることがより好ましい。また、上記Ｒ^６ｂは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の−Ａ^ｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ）からなる群より選択される少なくとも１種が挙げられる。

界面活性剤（ａ）について説明する。

式（ａ）中、Ｒ^１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ_３−Ｃ（＝Ｏ）−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ^１ａにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。

なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ_３−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ_３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ_２Ｈ_４−で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ_３−Ｃ（＝Ｏ）−で示される基は炭素数が２である。

上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１０１ａ（式中、Ｒ^１０１ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

式（ａ）中、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。

上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１０２ａ（式中、Ｒ^１０２ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。

Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。

式（ａ）中、式中、Ａ^ａは、−ＣＯＯＸ^ａ又は−ＳＯ_３Ｘ^ａ（Ｘ^ａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^４ａ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ^４ａとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘ^ａとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ^４ａ _４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ_４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ_４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ_４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ_４が最も好ましい。Ｘ^ａがＮＨ_４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。

Ｒ^１ａとしては、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。

また、Ｒ^１ａとしては、下記式：

（式中、ｎ^１１ａは０〜１０の整数であり、Ｒ^１１ａは炭素数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ^１２ａは炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ^１１ａが２〜１０の整数である場合、Ｒ^１２ａは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。

ｎ^１１ａとしては、０〜５の整数が好ましく、０〜３の整数がより好ましく、１〜３の整数が更に好ましい。

Ｒ^１１ａとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ^１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１０３ａ（式中、Ｒ^１０３ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ^１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^１２ａは炭素数０〜３のアルキレン基である。上記炭素数は１〜３が好ましい。
Ｒ^１２ａとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ^１２ａとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ^１２ａとしては、エチレン基（−Ｃ_２Ｈ_４−）又はプロピレン基（−Ｃ_３Ｈ_６−）がより好ましい。
Ｒ^１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１０４ａ（式中、Ｒ^１０４ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ^１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。

Ｒ^２ａ及びＲ^３ａとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（−Ｃ_２Ｈ_４−）又はプロピレン基（−Ｃ_３Ｈ_６−）が更に好ましい。

次に界面活性剤（ｂ）について説明する。

式（ｂ）中、Ｒ^１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ^１ｂにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。

なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。

Ｒ^１ｂとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。

Ｒ^１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^１ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）が最も好ましい。

式（ｂ）中、Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ^２ｂ及びＲ^４ｂは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。

Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。

式（ｂ）中、Ｒ^３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。Ｒ^３ｂは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。

上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（−ＣＨ_２−）、エチレン基（−Ｃ_２Ｈ_４−）、イソプロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−）又はプロピレン基（−Ｃ_３Ｈ_６−）が更に好ましい。

Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。

式（ｂ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１〜４０の整数が好ましく、１〜３０の整数がより好ましく、５〜２５の整数が更に好ましい。

式（ｂ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０〜１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０〜１０の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。

ｎ、ｐ及びｑは、合計が６以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。

式（ｂ）中、Ａ^ｂは、−ＳＯ_３Ｘ^ｂ又は−ＣＯＯＸ^ｂ（Ｘ^ｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^５ｂ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ^５ｂとしては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘ^ｂは金属原子又はＮＲ^５ｂ _４（Ｒ^５ｂは上記のとおり）であってよい。
Ｘ^ｂとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ^５ｂ _４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ_４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ_４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ_４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ_４が最も好ましい。Ｘ^ｂがＮＨ_４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、フルオロポリマー中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。

式（ｂ）中、Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１〜５であることがより好ましい。また、上記Ｒ^６ｂは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の−Ａ^ｂに結合する側を指す。

Ｌ^ｂは単結合であることが好ましい。

上記界面活性剤は、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０％以上であることが好ましい。

上記界面活性剤は、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。

上記界面活性剤において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。

上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。

界面活性剤（ａ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。

界面活性剤（ａ）は、式：

（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｅ^ａは脱離基である。）で示される化合物（１０ａ）と、リチウム、及び、式：Ｒ^２０１ａ _３Ｓｉ−Ｃｌ（式中、Ｒ^２０１ａは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^３ａ、Ｒ^２０１ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ａ）を得る工程（１１ａ）、
化合物（１１ａ）と、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ａ）を得る工程（１２ａ）、
化合物（１２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ａ）を得る工程（１３ａ）、及び、
化合物（１３ａ）を酸化させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ａ）を得る工程（１４ａ）、
を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられる。後述する他の製造方法においても同じである。

Ｅ^ａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。後述する他の製造方法においても同じである。

Ｒ^２１ａとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。

上記クロロシラン化合物としては、例えば、

が挙げられる。

工程（１１ａ）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（１２ａ）において、化合物（１１ａ）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１ａ）１モルに対して、上記オレフィンが１〜２モルの量を採用できる。

工程（１２ａ）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。

上記チアゾリウム塩としては、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムブロミド、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。

上記塩基としては、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。

上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基を脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ_４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。

工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（１４ａ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。

上記溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。

化合物（１４ａ）をアルカリと接触させて、−ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、例えばアンモニアの水溶液を使用できる。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ）は、また、式：

（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｒ^２２ａは１価の有機基、Ｅ^ａは脱離基である。）で示されるケトンと、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２３ａは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおり、Ｒ^２４ａは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ａ）を得る工程（２１ａ）、
化合物（２１ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２４ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ａ）を得る工程（２２ａ）、及び、
化合物（２２ａ）を酸化させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２４ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ａ）を得る工程（２３ａ）、
を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^２２ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ^２３ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ^２４ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（−ＣＨ_２−）がより好ましい。

工程（２１ａ）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。

上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。

上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ_４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。

工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（２３ａ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。

上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。

化合物（２３ａ）をアルカリと接触させて、−ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、例えば、アンモニアの水溶液を使用できる。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ）は、また、式：Ｙ^ａ−Ｒ^３ａ−ＣＨ_２−ＯＥ^ａ
（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｙ^ａはハロゲン原子、Ｅ^ａは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ａ）を得る工程（３１ａ）、
化合物（３１ａ）を酸化して、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ａ）を得る工程（３２ａ）、
化合物（３２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ａ）を得る工程（３３ａ）、及び、
化合物（３３ａ）を酸化させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ａ）を得る工程（３４ａ）、
を含む製造方法により製造できる。

工程（３１ａ）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが１〜２モルの量を採用できる。

工程（３１ａ）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが挙げられる。

工程（３２ａ）における酸化は、［（Ｃｎ^＊）Ｒｕ^ＩＩＩ（ＣＦ_３ＣＯ_２）_３］・Ｈ_２Ｏ（式中、Ｃｎ^＊は１，４，７−トリメチルー１，４，７−トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ_４）_２Ｃｅ（ＮＯ_３）_６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。

酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２ａ）を抽出してもよい。

工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ_４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。

工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（３４ａ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。

上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。

化合物（３４ａ）をアルカリと接触させて、−ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、具体的にはアンモニアの水溶液を使用できる。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ）は、また、式：

で示されるジビニルケトンと、式：

で示される２−メチルフランとを反応させて、式：

で示される化合物（５１ａ）を得る工程（５１ａ）、
化合物（５１ａ）と式：

で示されるフランとを反応させて、式：

で示される化合物（５２ａ）を得る工程（５２ａ）、
化合物（５２ａ）を酸の存在下で加熱することにより、式：

で示される化合物（５３ａ）を得る工程（５３ａ）、及び、
化合物（５３ａ）を酸化させて、式：

で示される化合物（５４ａ）を得る工程（５４ａ）、
を含む製造方法により製造できる。

工程（５１ａ）において、ジビニルケトンと２−メチルフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、２−メチルフランが０．５〜１モルの量を採用できる。

工程（５１ａ）における反応は、酸の存在下に実施することができる。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸等があげられる。

工程（５１ａ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、０．１〜２モルの量を採用できる。

工程（５１ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリルが挙げられる。

工程（５２ａ）において、化合物（５１ａ）とフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ａ）１モルに対してフランが１〜２モルの量を採用できる。

工程（５２ａ）における反応は、酸の存在下に実施でき、上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられる。

工程（５２ａ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ａ）１モルに対して、０．１〜２モルの量を採用できる。

工程（５２ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が挙げられる。

工程（５３ａ）では、化合物（５２ａ）を酸の存在下で加熱することにより、フラン環を開環させる。

上記酸としては、塩酸、硫酸が使用できる。

工程（５３ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が例示できる。

工程（５４ａ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。

上記溶媒としては、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。

化合物（５４ａ）をアルカリと接触させて、−ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、具体的にはアンモニアの水溶液を使用できる。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ）は、また、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：

（式中、Ｙ^６１ａはアルキルエステル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ及びＹ^６１ａは上述のとおりである。）で示される化合物（６１ａ）を得る工程（６１ａ）、及び、
化合物（６１ａ）に、アルカリを作用させたのちに酸を作用させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ及びＲ^２１ａは上述のとおりである。）で示される化合物（６２ａ）を得る工程（６２ａ）、
を含む製造方法により製造できる。

工程（６１ａ）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５〜２モルの量を使用できる。

工程（６１ａ）における反応は、金属触媒存在下に実施することができる。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。

工程（６１ａ）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．０１〜０．４モルの量を使用できる。

工程（６１ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが挙げられる。

工程（６２ａ）において、化合物（６１ａ）と上記アルカリとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ａ）１モルに対して上記アルカリが０．６〜２モルの量を使用できる。

工程（６２ａ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ａ）１モルに対して、１．０〜２０．０モルの量を使用できる。

工程（６２ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が挙げられる。

化合物（６２ａ）をアルカリと接触させて、−ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、例えば、アンモニアの水溶液を使用できる。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ｂ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。

界面活性剤（ｂ）は、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びｎは、上記のとおりである。）
で示される化合物（１０ｂ）と、下記式：

（式中、Ｒ^３ｂは、上記のとおりである。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−Ｓ（＝Ｏ）_２−に結合する側を指す。）で示されるサルトンとを反応させて、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^３ｂ、ｎ及びＸ^ｂは、上記のとおりである。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＳＯ_３Ｘ^ｂに結合する側を指す。）で示される化合物（１１ｂ）を得る工程（１１ｂ）を含む製造方法により製造できる。

工程（１１ｂ）における反応は、塩基の存在下に実施できる。
上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン等が挙げられる。上記塩基は、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．５〜２０モルの量で使用できる。

工程（１１ｂ）における反応は、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテル、芳香族化合物、ニトリル、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。

界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは上記のとおりである。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＣＨ_２−ＯＨに結合する側を指す。）
で示される化合物（２０ｂ）を酸化させて、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは上記のとおりである。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＣＯＯＸ^ｂに結合する側を指す。）
で示される化合物（２１ｂ）を得る工程（２１ｂ）を含む製造方法により製造できる。

工程（２１ｂ）における酸化は、化合物（２０ｂ）にニトロソ化剤を作用させることにより実施できる。

上記ニトロソ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸及び亜硝酸イソアミル等が使用できる。

上記ニトロソ化剤は、化合物（２０ｂ）１モルに対して、０．５〜１０モルの量で使用できる。

工程（２１ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、トリフルオロ酢酸、アセトニトリル等が使用できる。

化合物（１０ｂ）及び化合物（２０ｂ）は、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ^１ｂ−ＯＨ
（式中、Ｒ^１１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｙ^１ｂは、−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−又は−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−（ＯＲ^３ｂ）_ｐ−（ＣＲ^４ｂ _２）_ｑ−Ｌ^ｂ−ＣＨ_２−（Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＣＨ_２−に結合する側を指す。）である。）で示される化合物（１００ｂ）をヒドロキシ化して、下記式：

（式中、Ｒ^１１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１０１ｂ）を得る工程（１０１ｂ）、及び、
化合物（１０１ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｒ^１１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１０２ｂ）を得る工程（１０２ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^１１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ^１１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^１１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３〜９の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜９の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が更により好ましく、Ｈ又はメチル基（−ＣＨ_３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。

工程（１０１ｂ）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１ｂ）酸素雰囲気中で化合物（１００ｂ）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２ｂ）化合物（１００ｂ）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ_２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。

方法（１ｂ）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｂ）１モルに対して、０．００１〜１．２モルの量で使用できる。

方法（１ｂ）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１００ｂ）１モルに対して、０．５〜２０モルの量で使用できる。

方法（１ｂ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、具体的にはエーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。

方法（２ｂ）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１００ｂ）１モルに対して、１．０〜１０．０モルの量で使用できる。

化合物（１００ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、具体的にはエーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。

化合物（１００ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、−７８〜２００℃が採用できる。

化合物（１００ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０〜５．０ＭＰａが採用できる。

化合物（１００ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１〜７２時間が採用できる。

方法（２ｂ）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７〜１０モルの量で使用できる。

方法（２ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられる。

工程（１０２ｂ）において、化合物（１０１ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ_３／Ｈ_２ＳＯ_４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム(ＰＣＣ)を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ_２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５〜６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ_３）_３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２］_３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。

工程（１０２ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒を使用でき、具体的には水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。

化合物（１０ｂ）及び化合物（２０ｂ）は、また、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。Ｒ^１０１ｂは、有機基である。）で示される化合物（２００ｂ）をオゾン分解して、下記式：

（式中、Ｒ^１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（２０１ｂ）を得る工程（２０１ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^１０１ｂとしては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ^１０１ｂは、同一でも異なっていてもよい。

工程（２０１ｂ）におけるオゾン分解は、化合物（２００ｂ）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。

オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。

上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられる。

工程（２０１ｂ）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒を使用でき、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。

化合物（１０ｂ）及び化合物（２０ｂ）は、また、下記式：
Ｒ^２１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ^１ｂ−ＯＨ
（式中、Ｙ^１ｂは、上記のとおり。Ｒ^２１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。）で示される化合物（３００ｂ）をエポキシ化して、下記式：

（式中、Ｒ^２１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３０１ｂ）を得る工程（３０１ｂ）、
化合物（３０１ｂ）と、Ｒ^２２ｂ _２ＣｕＬｉ（Ｒ^２２ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：

（式中、Ｒ^２１ｂ、Ｒ^２２ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３０２ｂ）を得る工程（３０２ｂ）、及び、
化合物（３０２ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｒ^２１ｂ、Ｒ^２２ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３０３ｂ）を得る工程（３０３ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^２１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ^２１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^２１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３〜８の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ又はメチル基（−ＣＨ_３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。

Ｒ^２２ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ^２２ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^２２ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３〜９の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜９の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）が最も好ましい。

２個のＲ^２２ｂは、同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^２１ｂ及びＲ^２２ｂは、炭素数が合計で１〜７であることが好ましく、１〜２であることがより好ましい。

工程（３０１ｂ）におけるエポキシ化は、化合物（３００ｂ）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。

上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられる。
上記エポキシ化剤は、化合物（３００ｂ）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（３０１ｂ）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

工程（３０２ｂ）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３０１ｂ）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（３０２ｂ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。

工程（３０３ｂ）において、化合物（３０２ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ_３／Ｈ_２ＳＯ_４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム(ＰＣＣ)を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ_２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５〜６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ_３）_３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２］_３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。

工程（３０３ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒を使用でき、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。

化合物（１０ｂ）及び化合物（２０ｂ）は、また、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｙ^１ｂ−ＯＨ
（式中、Ｒ^１１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１００ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｒ^１１ｂ及びＹ^１ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（４０１ｂ）を得る工程（４０１ｂ）を含む製造方法により製造できる。

工程（４０１ｂ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（１００ｂ）に酸化剤を作用させることにより実施できる。

上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４−ベンゾキノン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン、テトラクロロ−１，２−ベンゾキノン、テトラクロロ−１，４−ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ_２Ｏ_２、ＭｎＯ_２、ＫＭｎＯ_４、ＲｕＯ_４、ｍ−クロロ過安息香酸、酸素等が挙げられる。
上記酸化剤は、化合物（１００ｂ）１モルに対して、０．００１〜１０モルの量で使用できる。

上記水は、化合物（１００ｂ）１モルに対して、０．５〜１０００モルの量で使用できる。

上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｂ）１モルに対して、０．０００１〜１．０モルの量で使用できる。

工程（４０１ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。

界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−（ＯＲ^３ｂ）_ｐ−（ＣＲ^４ｂ _２）_ｑ−Ｌ^ｂ−ＣＯＯＸ^ｂ
（式中、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＣＯＯＸ^ｂに結合する側を指す。）で示される化合物（３０ｂ）を酸化して、下記式：

（Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＣＯＯＸ^ｂに結合する側を指す。）で示される化合物（３１ｂ）を得る工程（３１ｂ）を含む製造方法により製造できる。

工程（３１ｂ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（３０ｂ）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４０１ｂ）における酸化と同様の条件が採用できる。

上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が−ＳＯ_３Ｈ、−ＣＯＯＨ等のＸ^ｂがＨである化合物である場合は、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、これらの基を塩型に変換できる。

上記界面活性剤（ａ）又は（ｂ）を用いて高分子量ＰＴＦＥを製造することもできる。すなわち、上記界面活性剤を使用する本発明の製造方法は、驚くべきことに、従来の含フッ素界面活性剤を使用せずとも、従来の含フッ素界面活性剤を使用する製造方法と同等の分子量を有するＰＴＦＥを製造可能である。
上記界面活性剤（ａ）又は（ｂ）を用いて低分子量ＰＴＦＥを製造することもできる。
低分子量ＰＴＦＥは、重合により製造しても良いし、重合で得られた高分子量ＰＴＦＥを公知の方法（熱分解、放射線照射分解等）で低分子量化して製造することもできる。

上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ１）：

（式中、Ｒ^１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、炭素数が合計で６以上である。Ｘ^ａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^４ａ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ１）、及び、下記式（ｂ１）：

（式中、Ｒ^１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ^２ｂ及びＲ^４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ^３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ｘ^ｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^５ｂ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ^５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＯＳＯ_３Ｘ^ｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ１）からなる群より選択される少なくとも１種も挙げられる。

界面活性剤（ａ１）について説明する。

式（ａ１）中のＲ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａとしては、式（ａ）中のＲ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａとして挙げたものを好ましく採用できる。

Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。

式（ａ１）中のＸ^ａとしては、式（ａ）中のＸ^ａとして挙げたものを好ましく採用できる。

次に界面活性剤（ｂ１）について説明する。

式（ｂ１）中、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂとしては、式（ｂ）中のＲ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂとして挙げたものを好ましく採用できる。

式（ｂ１）において、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＲ^４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。

式（ｂ１）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１〜４０の整数が好ましく、１〜３０の整数がより好ましく、５〜２５の整数が更に好ましく、５〜９、１１〜２５の整数が特に好ましい。

式（ｂ１）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０〜１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０〜１０の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。

ｎ、ｐ及びｑは、合計が５以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。

式（ｂ１）中、Ｘ^ｂとしては、式（ｂ１）中のＸ^ｂとして挙げたものを好ましく採用できる。

界面活性剤（ｂ）としては、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、ｎ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物が好ましい。

上記界面活性剤は、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０％以上であることが好ましい。

上記界面活性剤は、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０〜５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。

上記界面活性剤において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。

上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。

界面活性剤（ａ１）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。

界面活性剤（ａ１）は、式：

（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｅ^ａは脱離基である。）で示される化合物（１０ａ）と、リチウム、及び、式：Ｒ^２０１ａ _３Ｓｉ−Ｃｌ（式中、Ｒ^２０１ａは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^３ａ、Ｒ^２０１ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ａ）を得る工程（１１ａ）、
化合物（１１ａ）と、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ａ）を得る工程（１２ａ）、
化合物（１２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ａ）を得る工程（１３ａ）、及び、
化合物（１３ａ）と、式：

（式中、Ｘ^ａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ、Ｒ^３ａ及びＸ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ａ）を得る工程（１４ａ）を含む製造方法により製造できる。

工程（１１ａ）〜工程（１３ａ）までは、上述した界面活性剤（ａ）と同じである。

工程（１４ａ）において、化合物（１３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１〜２モルの量を採用できる。

工程（１４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することができる。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられる。

工程（１４ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，８−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザ−ビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。

工程（１４ａ）における上記塩基の使用量は、化合物（１３ａ）１モルに対して、１〜２モルを採用できる。

工程（１４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（１４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（１４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（１４ａ）を回収してもよい。化合物（１４ａ）が−ＯＳＯ_３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ_３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ１）は、また、式：

（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｒ^２２ａは１価の有機基、Ｅ^ａは脱離基である。）で示されるケトンと、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２３ａは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおり、Ｒ^２４ａは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ａ）を得る工程（２１ａ）、
化合物（２１ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２４ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ａ）を得る工程（２２ａ）、及び、
化合物（２２ａ）と、式：

（式中、Ｘ^ａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２４ａ、Ｒ^３ａ及びＸ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ａ）を得る工程（２３ａ）を含む製造方法により製造できる。

工程（２１ａ）〜工程（２２ａ）までは、上述した界面活性剤（ａ）と同じである。

工程（２３ａ）において、化合物（２２ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１〜２モルの量を採用できる。

工程（２３ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することができる。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられる。

工程（２３ａ）における上記アミンとしては、上記工程（１４ａ）と同じである。

工程（２３ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、１〜２モルの量を採用できる。

工程（２３ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒がを使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（２３ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（２３ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（２３ａ）を回収してもよい。化合物（２３ａ）が−ＯＳＯ_３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ_３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ１）は、また、式：Ｙ^ａ−Ｒ^３ａ−ＯＥ^ａ
（式中、Ｒ^３ａは上述のとおり、Ｙ^ａはハロゲン原子、Ｅ^ａは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ａ）を得る工程（３１ａ）、
化合物（３１ａ）を酸化して、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＥ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ａ）を得る工程（３２ａ）、
化合物（３２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ及びＲ^３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ａ）を得る工程（３３ａ）、及び、
化合物（３３ａ）と、式：

（式中、Ｘ^ａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ及びＸ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ａ）を得る工程（３４ａ）を含む製造方法により製造できる。

工程（３１ａ）〜工程（３３ａ）までは、上述した界面活性剤（ａ）と同じである。

工程（３４ａ）において、化合物（３３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１〜２モルの量を採用できる。

工程（３４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することができる。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられる。

工程（３４ａ）における上記アミンとしては、上記工程（１４ａ）と同じである。

工程（３４ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、１〜２モルの量を採用できる。

工程（３４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルを例示できる。

工程（３４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（３４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（３４ａ）を回収してもよい。化合物（３４ａ）が−ＯＳＯ_３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ_３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ａ１）は、また、式：

（式中、Ｒ^１ａは上述のとおり、Ｒ^２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：

（式中、Ｙ^５１ａはアルコキシル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ及びＲ^２１ａは上述のとおりである。）
で示される化合物（４１ａ）を得る工程（４１ａ）、及び、
化合物（４１ａ）に、式：

（式中、Ｘ^ａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：

（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２１ａ及びＸ^ａは上述のとおりである。）で示される化合物（４２ａ）を得る工程（４２ａ）を含む製造方法により製造できる。

工程（４１ａ）は、上述した界面活性剤（ａ）と同じである。

工程（４２ａ）において、化合物（４１ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１〜２モルの量を採用できる。

工程（４２ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することができる。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられる。

工程（４２ａ）における上記アミンとしては、上記工程（１４ａ）と同じである。

工程（４２ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、１〜２モルの量を採用できる。

工程（４２ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が使用でき、非プロトン性極性溶媒が挙げられ、具体的にはエーテルが挙げられる。

工程（４２ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（４２ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（４２ａ）を回収してもよい。化合物（４２ａ）が−ＯＳＯ_３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ_３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。

各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。

界面活性剤（ｂ１）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。

界面活性剤（ｂ１）は、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−（ＯＲ^３ｂ）_ｐ−（ＣＲ^４ｂ _２）_ｑ−Ｌ^ｂ−ＯＨ
（式中、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ^１１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｌ^ｂは、単結合、−ＣＯ_２−Ｂ−＊、−ＯＣＯ−Ｂ−＊、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−＊、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−＊、又は、−ＣＯ−（但し、−ＣＯ_２−Ｂ−、−ＯＣＯ−Ｂ−、−ＣＯＮＲ^６ｂ−Ｂ−、−ＮＲ^６ｂＣＯ−Ｂ−に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１〜４のアルキル基である。＊は、式中の−ＯＨに結合する側を指す。）で示される化合物（１０ｂ）をヒドロキシ化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１１ｂ）を得る工程（１１ｂ）、
化合物（１１ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１２ｂ）を得る工程（１２ｂ）、及び、
化合物（１２ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１３ｂ）を得る工程（１３ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^１１ｂとしては、上述した界面活性剤（ｂ）におけるＲ^１１ｂと同じものを好適に採用できる。工程（１１ｂ）におけるヒドロキシ化は、上述した工程（１００ｂ）のヒドロキシ化と同じ方法を採用できる。

工程（１２ｂ）は、上述した界面活性剤（ｂ）における工程（１０２ｂ）と同様に行うことができる。

工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（１２ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施できる。上記硫酸化試薬としては、三酸化硫黄ピリジン錯体、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体等の三酸化硫黄アミン錯体、三酸化硫黄ジメチルホルムアミド錯体等の三酸化硫黄アミド錯体、硫酸−ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロ硫酸、濃硫酸、スルファミン酸等が挙げられる。上記硫酸化試薬の使用量としては、化合物（１２ｂ）１モルに対して、０．５〜１０モルが採用できる。

工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ニトリル等が挙げられる。

界面活性剤（ｂ１）は、また、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ^１０１ｂは、有機基である。）で示される化合物（２０ｂ）をオゾン分解して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（２１ｂ）を得る工程（２１ｂ）、及び、
化合物（２１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^１ｂ〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（２２ｂ）を得る工程（２２ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^１０１ｂとしては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ^１０１ｂは、同一でも異なっていてもよい。

工程（２１ｂ）におけるオゾン分解としては、工程（２０１ｂ）と同様の方法を採用できる。

工程（２２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（２１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。

界面活性剤（ｂ１）は、また、下記式：
Ｒ^２１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−（ＯＲ^３ｂ）_ｐ−（ＣＲ^４ｂ _２）_ｑ−Ｌ^ｂ−ＯＨ
（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^ｂ２〜Ｒ^４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ^２１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。）で示される化合物（３０ｂ）をエポキシ化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^２１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３１ｂ）を得る工程（３１ｂ）、
化合物（３１ｂ）と、Ｒ^２２ｂ _２ＣｕＬｉ（Ｒ^２２ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^２１ｂ、Ｒ^２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３２ｂ）を得る工程（３２ｂ）、
化合物（３２ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^２１ｂ、Ｒ^２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３３ｂ）を得る工程（３３ｂ）、及び、
化合物（３３ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^２１ｂ、Ｒ^２２ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３４ｂ）を得る工程（３４ｂ）を含む製造方法により製造できる。

Ｒ^２１ｂ及びＲ^２２ｂしては、上述した界面活性剤（ｂ）におけるＲ^２１ｂ及びＲ^２２ｂと同様である。

工程（３１ｂ）、工程（３２ｂ）及び工程（３３ｂ）は、上述した工程（３０１ｂ）、工程（３０２ｂ）及び工程（３０３ｂ）と同様に実施できる。

工程（３４ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（３３ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。

界面活性剤（ｂ１）は、また、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−（ＯＲ^３ｂ）_ｐ−（ＣＲ^４ｂ _２）_ｑ−Ｌ^ｂ−ＯＨ
（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１０ｂ）を酸化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（４１ｂ）を得る工程（４１ｂ）、及び、
化合物（４１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ〜Ｒ^４ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（４２ｂ）を得る工程（４２ｂ）を含む製造方法により製造できる。

工程（４１ｂ）における酸化は、上述した工程（４０１ｂ）と同様に実施できる。

工程（４２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（４１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。

界面活性剤（ｂ１）は、また、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−ＯＨ
（式中、Ｒ^２ｂ、Ｒ^１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５０）とハロゲン化剤とを反応させて、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−Ｚ^５１ｂ
（式中、Ｒ^２ｂ、Ｒ^１１ｂ及びｎは、上記のとおり。Ｚ^５１ｂは、ハロゲン原子である。）で示される化合物（５１）を得る工程（５１）、
化合物（５１）と、ＨＯ−Ｒ^３ｂ−Ｌ^ｂ−ＯＨ（Ｌ^ｂ及びＲ^３ｂは、上記のとおり。）で示されるアルキレングリコールとを反応させて、下記式：
Ｒ^１１ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＲ^２ｂ _２）_ｎ−Ｏ−Ｒ^３ｂ−Ｌ^ｂ−ＯＨ
（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５２）を得る工程（５２）、
化合物（５２）を酸化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５３）を得る工程（５３）、及び、
化合物（５３）を硫酸エステル化して、下記式：

（式中、Ｌ^ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１１ｂ、ｎ及びＸ^ｂは、上記のとおり。）で示される化合物（５４）を得る工程（５４）を含む製造方法により製造できる。

Ｚ^５１ｂとしては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｂｒがより好ましい。

工程（５１）で使用するハロゲン化剤としては、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロロスクシンイミド等が挙げられる。
上記ハロゲン化剤は、化合物（５０）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（５１）の反応は、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類の存在下に実施できる。
上記ホスフィン類は、化合物（５０）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（５１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、具体的にはエーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。

工程（５２）において、上記アルキレングリコールは、化合物（５１）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（５２）の反応は、塩基の存在下に実施できる。上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
上記塩基は、化合物（５１）１モルに対して、０．５〜１０．０モルの量で使用できる。

工程（５２）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒を使用でき、含窒素極性有機化合物、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。

工程（５３）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（５２）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４１）における酸化と同様の条件が採用できる。

工程（５４）における硫酸エステル化は、化合物（５３）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。

上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が−ＯＳＯ_３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸ^ｂがＨである場合は）、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、−ＯＳＯ_３Ｈを硫酸塩基に変換できる。

また、上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ｃ）：

（式中、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃはＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ^１ｃ及びＲ^３ｃのうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｙ^ｃ−Ｒ^６ｃで示される基、Ｒ^２ｃ及びＲ^５ｃのうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｘ^ｃ−Ａ^ｃで示される基、又は、一般式：−Ｙ^ｃ−Ｒ^６ｃで示される基を表す。また、Ｘ^ｃは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手；Ａ^ｃは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ_３Ｍ又は−ＯＳＯ_３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^７ｃ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ^７ｃは、Ｈ又は有機基）；Ｙ^ｃは、各出現において同一又は異なって、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ^８ｃ−及び−ＮＲ^８ｃＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ^８ｃはＨ又は有機基；Ｒ^６ｃは、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素−炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基；を表す。Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ｃ）も挙げられる。

次に界面活性剤（ｃ）について説明する。

式中、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃはＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ^１ｃ及びＲ^３ｃのうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｙ^ｃ−Ｒ^６ｃで示される基、Ｒ^２ｃ及びＲ^５ｃのうち、少なくとも１つは、一般式：−Ｘ−Ａで示される基、又は、一般式：−Ｙ^ｃ−Ｒ^６ｃで示される基を表す。Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。

Ｒ^１ｃとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。

Ｒ^１ｃとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。

Ｒ^１ｃとしては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）又はエチル基（−Ｃ_２Ｈ_５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ_３）が最も好ましい。

一価の置換基としては、一般式：−Ｙ^ｃ−Ｒ^６ｃで示される基、一般式：−Ｘ^ｃ−Ａ^ｃで示される基、−Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１−２０のアルキル基、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ^９ｃ（Ｒ^９ｃは有機基）、−ＯＨ、−ＣＯＯＲ^９ｃ（Ｒ^９ｃは有機基）又は−ＯＲ^９ｃ（Ｒ^９ｃは有機基）が好ましい。上記アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましい。

Ｒ^９ｃとしては、Ｃ１−１０のアルキル基又はＣ１−１０のアルキルカルボニル基が好ましく、Ｃ１−４のアルキル基又はＣ１−４のアルキルカルボニル基がより好ましい。

式中、Ｘ^ｃは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手を表す。
Ｒ^６ｃがカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基のいずれをも含まない場合は、Ｘはカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を含む２価の連結基であることが好ましい。

Ｘ^ｃとしては、−ＣＯ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯＮＲ^８ｃ−及び−ＮＲ^８ｃＣＯ−からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の連結基、Ｃ１−１０のアルキレン基、又は、結合手が好ましい。Ｒ^８ｃはＨ又は有機基を表す。

Ｒ^８ｃとしては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。

式中、Ａ^ｃは、各出現において同一又は異なって、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ_３Ｍ又は−ＯＳＯ_３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ^７ｃ _４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ^７ｃはＨ又は有機基である。４つのＲ^７ｃは、同一でも異なっていてもよい。）を表す。

Ｒ^７ｃとしては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。

Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ^７ｃ _４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ^７ｃ _４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ_４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ_４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ_４が特に好ましく、ＮＨ_４が最も好ましい。

式中、Ｙ^ｃは、各出現において同一又は異なって、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ^８ｃ−及び−ＮＲ^８ｃＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ^８ｃはＨ又は有機基を表す。

Ｙ^ｃとしては、結合手、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ^８ｃ−及び−ＮＲ^８ｃＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基が好ましく、結合手、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群より選択される２価の連結基がより好ましい。

Ｒ^８ｃとしては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。

式中、Ｒ^６ｃは、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素−炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基を表す。上記Ｒ^６ｃの有機基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。

Ｒ^６ｃのアルキル基は、炭素−炭素原子間にカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を１又は２以上含むことができるが、上記アルキル基の末端にこれらの基を含まない。上記Ｒ^６ｃのアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^６ｃとしては、
一般式：−Ｒ^１０ｃ−ＣＯ−Ｒ^１１ｃで示される基、
一般式：−Ｒ^１０ｃ−ＣＯＯ−Ｒ^１１ｃで示される基、
一般式：−Ｒ^１１ｃで示される基、
一般式：−Ｒ^１０ｃ−ＮＲ^８ｃＣＯ−Ｒ^１１ｃで示される基、又は、
一般式：−Ｒ^１０ｃ−ＣＯＮＲ^８ｃ−Ｒ^１１ｃで示される基、
（式中、Ｒ^８ｃはＨ又は有機基を表す。Ｒ^１０ｃはアルキレン基、Ｒ^１１ｃは置換基を有してもよいアルキル基）が好ましい。
Ｒ^６ｃとしては、一般式：−Ｒ^１０ｃ−ＣＯ−Ｒ^１１ｃで示される基がより好ましい。

Ｒ^８ｃとしては、Ｈ又はＣ１−１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１−４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。

Ｒ^１０ｃのアルキレン基の炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下が特に好ましい。また、Ｒ^１０ｃのアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、３〜１０が更に好ましい。

Ｒ^１１ｃのアルキル基の炭素数は、１〜２０であってよく、１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜１０が更に好ましく、１〜８が更により好ましく、１〜６が殊更好ましく、１〜３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ^１１ｃのアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ^１１ｃとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。

つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。

実施例の各数値は以下の方法により測定した。

ＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ固形分含有量
ＰＴＦＥ水性分散液１ｇを、送風乾燥機中で１５０℃、６０分の条件で乾燥し、水性分散液の質量（１ｇ）に対する、加熱残分の質量の割合を百分率で表した値を採用した。

平均一次粒子径
ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分濃度が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均粒子径とを測定して、検量線を作成する。この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率からＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径を決定した。

標準比重（ＳＳＧ）
ＡＳＴＭ Ｄ４８９５−８９に準拠して作製したＰＴＦＥ成形サンプルを用い、ＡＳＴＭ Ｄ−７９２に記載の水置換法によりＰＴＦＥの標準比重（ＳＳＧ）を測定した。

見掛密度
得られたＰＴＦＥ粉末について、ＪＩＳ Ｋ６８９２に準拠して測定した。

ＰＴＦＥ粉末の平均粒径
得られたＰＴＦＥ粉末について、ＪＩＳ Ｋ６８９１に準拠して測定した。

ＰＴＦＥ粉末の色調
ＰＴＦＥ粉末の色調（Ｌ＊、Ｚ）について、ＪＩＳ Ｚ８７８１−４に準拠して、測色色差計ＺＥ−６０００（日本電色工業株式会社製）（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて測定した。

色調（Ｌ＊、Ｚ）を測定するためのＰＴＦＥ検体の作製方法は以下の通りである。
ＰＴＦＥ粉末を４．０ｇ計量して、内径２８．６ｍｍの円筒金型内に仕込み、８．２７ＭＰaの圧力で１分間保持し、厚みが約４ｍｍの円盤状ＰＴＦＥ成形体（未焼成）を作製した。金型から円盤状ＰＴＦＥ成形体（未焼成）を取り出した後、２４時間、２５℃で放置した。
上記装置を使用して、円盤状ＰＴＦＥ成形体（未焼成）の色調（Ｌ＊、Ｚ）（未焼成）を測定した。
次に、円盤状ＰＴＦＥ成形体（未焼成）を３８５℃に加熱した電気炉内で１０分間熱処理後、電気炉から取り出し、円盤状ＰＴＦＥ成形体（焼成後）を得た。上記装置を使用して、得られた円盤状ＰＴＦＥ成形体（焼成後）の色調（Ｌ＊、Ｚ）（焼成後）を測定した。

合成例１
１０−ウンデセン−１−オール（１６ｇ）、１，４−ベンゾキノン（１０．２ｇ）、ＤＭＦ（１６０ｍＬ）、水（１６ｍＬ）及びＰｄＣｌ２（０．３４ｇ）の混合物を９０℃で１２時間加熱撹拌した。
その後減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を分液及びカラムクロマトグラフィーで精製し、１１−ヒドロキシウンデカン−２−オン（１５．４ｇ）を得た。
得られた１１−ヒドロキシウンデカン−２−オンのスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：１．２９−１．４９（ｍ，１４Ｈ）、２．０８（ｓ，３Ｈ）、２．４５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、３．５１（Ｊ＝６．５，ｔ，２Ｈ）

１１−ヒドロキシウンデカン−２−オン（１３ｇ）、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体（１３．９ｇ）、テトラヒドロフラン（１４０ｍＬ）の混合物を５０℃下１２時間撹拌した。ナトリウムメトキシド（３．８ｇ）／メタノール（１２ｍＬ）溶液を反応液に滴下した。
析出固体を減圧濾過し、酢酸エチルで洗浄し、１０−オキソウンデシル硫酸ナトリウム（１５．５ｇ）（以下、界面活性剤Ａという）を得た。得られた１０−オキソウンデシル硫酸ナトリウムのスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：１．０８（Ｊ＝６．８，ｍ，１０Ｈ）、１．３２（ｍ，２Ｈ）、１．４５（ｍ，２Ｈ）、１．９８（ｓ，３Ｈ）、２．３３（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、３．８３（Ｊ＝６．５，ｔ，２Ｈ）

合成例２
内容積６ＬのＳＵＳ製のオートクレーブに３５００ｇの脱イオン脱気水、１００ｇのパラフィンワックス、０．１２２ｇの界面活性剤Ａを加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行ない、酸素を取り除いた。反応器を７０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、反応器を０．７８ＭＰａにする。重合開始剤として過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）０．０７０ｇを仕込んだ。反応圧が０．７８ＭＰａ一定となるようにＴＦＥを仕込む。反応途中に界面活性剤Ａを９回、トータル１．１０ｇ添加した。ＴＦＥを４２５ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なう。水性分散液を反応器より取り出し、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液Ａを得た。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂ中のＰＴＦＥ固形分濃度は１０．７質量％であった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂに含まれるＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径は１７８ｎｍであった。

比較例１
合成例２で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａに脱イオン水を加え、比重（２５℃）を１．０３０に調整した。アンカー型撹拌翼と邪魔板を備えた内容量が１Ｌのガラス製凝析槽に、比重調整したＰＴＦＥ水性分散液０．５５Ｌを加え、内温が２８℃になるように温度調節した。調節後直ちに硝酸（１０％）１．３ｇを添加すると同時に撹拌速度６００ｒｐｍで撹拌を開始した。撹拌開始後、水性分散液がスラリー状態を経て、湿潤ＰＴＦＥ粉末が形成されたことを確認し、更に１分間撹拌を継続した。
続いて、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、湿潤ＰＴＦＥ粉末と脱イオン水０．５５Ｌを凝析槽内に仕込み、２５℃に調整して、撹拌速度６００ｒｐｍでポリマー粉末を洗浄する操作を２回繰り返した。
洗浄の後、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、熱風循環式乾燥機で１５０℃、１８時間乾燥させ、ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末について標準比重を測定したところ、２．１７５であった。
ＰＴＦＥ粉末の見掛密度、平均粒径、色調（Ｌ＊、Ｚ）を測定した。結果を表１に示す。

実施例１
合成例２で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａに脱イオン水を加え、比重（２５℃）を１．０３０に調整した。希釈後のＰＴＦＥ水性分散液０．５５Ｌを予め２５℃に調整した上で、深さ１８．５ｃｍ及び内径８．５ｃｍを有するガラスビーカーに投入した。
ウルトラソニックホモジナイザーＵＨ−８−３Ｃ（超音波工業株式会社製）のノズル部分を上記希釈ＰＴＦＥ水性分散液に浸し、超音波処理（３００Ｗ，１９ｋＨｚ）を１２分間施したところ、湿潤ＰＴＦＥ粉末が形成されることが確認できた。
湿潤ＰＴＦＥ粉末を凝析排水から濾別した後、アンカー型撹拌翼と邪魔板を備えた１Ｌガラス製の容器を使用して、脱イオン水０．５５Ｌで洗浄した（撹拌速度６００ｒｐｍ）。脱イオン水を入れ替えて、この洗浄操作を更に２回繰り返した。
洗浄の後、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、熱風循環式乾燥機で１５０℃、１８時間乾燥させ、ＰＴＦＥ粉末を得た。
比較例１と同様にして、ＰＴＦＥ粉末の見掛密度、平均粒径、色調（Ｌ＊、Ｚ）を測定した。結果を表１に示す。

Claims (2)

1. ポリテトラフルオロエチレン粒子を含むポリテトラフルオロエチレン水性分散液に超音波を照射して、ポリテトラフルオロエチレン粒子を凝析させる工程を含むことを特徴とするポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法。
2. ポリテトラフルオロエチレン水性分散液は、炭化水素系界面活性剤の存在下に、水性媒体中でテトラフルオロエチレンの重合を行うことにより得られたものである請求項１記載の製造方法。