JPWO2019003726A1 - 複合部材およびデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
上述の用途以外に、上述のシートはタッチパネルに用いられる。タブレット型コンピュータおよびスマートフォン等の携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触することにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルの普及が進んでいる。
更には、タッチパネルを折り曲げる形態、または丸める形態のデバイス開発が進んでいる。これにより、電子機器のコンパクト化を実現でき、かつスタイリッシュなデザインが可能になり、これらを訴求点とすることができる。
また、特許文献2には、表示素子または薄膜封止層上に中立面を有するディスプレイが示されている。
特許文献3のフレキシブル表示装置は、フレキシブルディスプレイパネル上に配置されたフレキシブルな外側部材と、フレキシブルディスプレイパネルとフレキシブルな外側部材との間に配置された接着部材とを有する。フレキシブルディスプレイパネルとフレキシブルな外側部材のそれぞれに中立面が形成されるように接着部材の弾性率が設定されている。接着部材の弾性率は、フレキシブルディスプレイパネルとフレキシブルな外側部材との弾性率の1/10000〜1/1000である。
絶縁層は、可撓性を有することが好ましい。また、絶縁層は、弾性率が10−1〜30GPaであることが好ましい。
弾性率が高い部材は、シート体で構成されており、かつ第1導電層の絶縁層とは逆側に配置されることが好ましい。
第1保護層は、第1導電層側に設けられた第1粘着層と接していることが好ましい。
第1保護層と第1導電層との界面から、導電層体を曲げ方向に曲げた場合に絶縁層の曲率半径が小さい側に初めて配置される粘着層の界面までの厚みをtdとし、第1保護層の厚みをtsとするとき、ts≦tdであることが好ましい。
導電層体を曲げ方向に曲げた場合に基板の曲率半径が小さい側に設けられた第2粘着層と、導電層体を曲げ方向に曲げた場合に絶縁層の曲率半径が小さい側に設けられた第2導電層とが接していることが好ましい。
導電層体は、絶縁層と、絶縁層の両面の各面に設けられた導電層とを有することが好ましい。この場合、絶縁層は、絶縁基板で構成されていることが好ましい。
また、導電層は、金属で構成されていることが好ましい。
絶縁層と導電層の間、または導電層上に、バリア層を有し、バリア層は、少なくとも窒化ケイ素を含む無機層を有する構成でもよい。バリア層は、無機層と有機層との積層構造であることが好ましい。
本発明は、上述の複合部材を有することを特徴とするデバイスを提供するものである。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されない。
なお、以下において数値範囲を示す「〜」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α1〜数値β1とは、εの範囲は数値α1と数値β1を含む範囲であり、数学記号で示せばα1≦ε≦β1である。
「具体的な数値で表された角度」、「平行」、および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
「透明」とは、光透過率が、波長400〜800nmの可視光波長域において、少なくとも60%以上のことであり、好ましくは75%以上であり、より好ましくは80%以上であり、更により好ましくは85%以上のことである。光透過率は、JIS(日本工業規格) K 7375:2008に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定される。
また、本発明において可撓性を有するとは、折り曲げることができることを意味し、具体的には、曲率半径1mmで折り曲げても割れを生じないことを指す。
なお、図3および図5において図1と同じ構成物には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、図4および図6において図2と同じ構成物には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。図3は部材10と部材11とを交互に合計4層積層したものであり、図5は部材10と部材11とを交互に合計8層積層したものである。
以下、複合部材を有するデバイスとして、表示装置を例にして説明する。
図7は本発明の実施形態の複合部材を有する表示装置を示す模式図である。
更に、表示部22と第1粘着層27との間に設けられたプラスチックフィルム24と透明層25とプラスチックフィルム26とを有する。表示部22側からプラスチックフィルム24と透明層25とプラスチックフィルム26との順で設けられている。また、プラスチックフィルム24と表示部22との間に透明層23が設けられ、反射防止層33とカバー層36との間に透明層34が設けられている。
図7に示す表示装置20から、表示部22と透明層23を除いたものが複合部材21である。
コントローラ37は、タッチセンサー部30に応じたものが適宜用いられる。タッチセンサー部30が静電容量式であれば、静電容量が変化した位置がコントローラ37で検出される。タッチセンサー部30が抵抗膜式であれば、抵抗が変化した位置がコントローラ37で検出される。
タッチセンサー部30は、図8に示されるように、絶縁基板40と、1つの絶縁基板40の両面の各面にそれぞれ形成される検出電極と、検出電極の周辺に形成され、検出電極と電気的に接続された周辺配線とを有する。検出電極が導電層に相当する。
絶縁基板40の表面40a(図9参照)上にそれぞれ第1の方向Yに沿って延び、かつ第1の方向Yに直交する第2の方向Xに並列配置された複数の第1の検出電極42が形成され、複数の第1の検出電極42に電気的に接続された複数の第1の周辺配線43が互いに近接して配列されている。同様に、絶縁基板40の裏面40b(図9参照)上には、それぞれ第2の方向Xに沿って延び、かつ第1の方向Yに並列配置された複数の第2の検出電極44が形成され、複数の第2の検出電極44に電気的に接続された複数の第2の周辺配線45が互いに近接して配列されている。複数の第1の検出電極42と複数の第2の検出電極44とが検出電極である。複数の第1の検出電極42と複数の第2の検出電極44とは、絶縁基板40により電気的に絶縁され、かつ離間して、一部を重ねて配置されている。絶縁基板40は、少なくとも2つの導電層を電気的に絶縁する絶縁層として機能するものであり、絶縁層の一形態である。
タッチセンサー部30では、絶縁基板40において、複数の第1の検出電極42と複数の第2の検出電極44とが平面視で重なって配置される領域が検知領域47である。検知領域47は指等の接触の検出が可能な領域である。
絶縁基板40の表面40aに第1の検出電極42を構成する導電線50が形成され、裏面40bに第2の検出電極44を構成する導電線50が形成された状態のものが導電層体41である。導電層体41は、絶縁基板40と、第1の検出電極42を構成する導電線50と、第2の検出電極44を構成する導電線50とからなり、粘着層が構成に含まれないことが好ましい。絶縁基板40は粘着層よりも弾性率が高い。また、導電層体41は曲げられるため、絶縁基板40は可撓性を有することが好ましい。なお、第1の検出電極42が第2導電層に相当し、第2の検出電極44が第1導電層に相当する。
第1粘着層27は絶縁基板40の裏面40b側に配置され、第2粘着層32は絶縁基板40の表面40a側に配置されている。
タッチセンサー部30は静電容量式のタッチセンサーに限定されず、抵抗膜式タッチセンサーでもよい。タッチセンサー部30の各構成部材については、後に説明する。
反射防止層33の厚みは、特に限定されず、1〜100μmが好ましく、1〜50μmがより好ましい。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子等が用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第5048120号公報、特許第5143918号公報、特許第5048120号公報、特許第4691205号公報、特許第4751481号公報、および特許第4751486号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
λ/4板の波長550nmでの面内レタデーション値(Re(550))は、理想値(137.5nm)を中心として、25nm程度の誤差があってもよく、例えば、110〜160nmであることが好ましく、120〜150nmであることがより好ましく、130〜145nmであることが更に好ましい。
なお、上述の角度とは、偏光子の表面の法線方向から視認した際の、偏光子の吸収軸とλ/4板の面内遅相軸とのなす角度を意図する。
λ/4板として上述した広帯域λ/4板を用いた場合には、λ/4板の面内遅相軸とλ/2板の面内遅相軸とのなす角が60°となるように貼り合わせ、λ/2板側を直線偏光の入射側に配置して、且つλ/2板の面内遅相軸を入射直線偏光の偏光面に対して15°または75°に交差して使用することが好ましい。
なお、上述の角度とは、偏光子の表面の法線方向から視認した際の、偏光子の吸収軸とλ/4板の面内遅相軸、偏光子の吸収軸とλ/2板の面内遅相軸とのなす角度をそれぞれ意図する。
上述のプラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、およびポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、およびEVA(酢酸ビニル共重合ポリエチレン)等のポリオレフィン類;ビニル系樹脂;その他、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、(メタ)アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、およびシクロオレフィン系樹脂(COP)等が挙げられる。
プラスチックフィルム24およびプラスチックフィルム26は、例えば、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、およびシクロオレフィンコポリマー(COC)のうち、少なくとも1つで構成されることが好ましい。また、プラスチックフィルム24およびプラスチックフィルム26は、弾性率が10−1〜30GPaであることが好ましい。弾性率とは、引張弾性率のことである。
弾性率は、動的弾性率測定装置または微小硬度試験機(ピコデンター)により測定することができる。
透明層または粘着層と接する各部材との界面の密着力は、剥離を抑制する観点から高い方が好ましい。粘着層と接する各部材との界面の密着力は0.1N/mm以上であることが好ましく、更に好ましくは0.4N/mm以上、最も好ましくは0.7N/mm以上である。
第1粘着層27は、プラスチックフィルム26と第1保護層28とを接着するものであり、かつ応力緩和層として機能するものである。また、第1粘着層27は、導電層体41を曲げ方向Mに曲げた場合に絶縁基板40の曲率半径が大きい側、すなわち、外折り側に配置されるものである。
第2粘着層32は、タッチセンサー部30と反射防止層33とを接着するものであり、かつ応力緩和層として機能するものである。また、第2粘着層32は、導電層体41を曲げ方向Mに曲げた場合に絶縁基板40の曲率半径が小さい側、すなわち、内折り側に配置されるものであり、第1の検出電極42の導電線50と接している(図9参照)。
上述のことから、少なくとも1つの粘着層は、絶縁基板40と、第1の検出電極42との間に形成されない。すなわち、絶縁基板40の表面40aと、第1の検出電極42の導電線50との間に粘着層は形成されない。さらには、絶縁基板40と、第2粘着層32との間にも粘着層は形成されない。
第1保護層28は、上述の第1粘着層27および第2粘着層32より弾性率が高い部材であり、例えば、弾性率は10−1〜30GPaである。弾性率とは、引張弾性率のことである。この場合も、弾性率は、上述のように動的弾性率測定装置または微小硬度試験機(ピコデンター)により測定することができる。
ここで、第1保護層28と第1導電層との界面、すなわち、第1保護層28と、第2の検出電極44の導電線50との界面28a(図9参照)から、導電層体41を曲げ方向M(図9参照)に曲げた場合に絶縁基板40の曲率半径が小さい側に初めて配置される粘着層の界面まで、すなわち、第2粘着層32と反射防止層33との界面32a(図9参照)までの厚みをtd(図9参照)とする。また、第1保護層28の厚みをts(図9参照)とする。
第1保護層28の厚みts(図9参照)は、上述の厚みtdの1/20以上であることが好ましく、より好ましくは1/10以上である。
特に、第1保護層28が第1粘着層27と接している構成の場合、第1保護層28が、外折り側の導電層から内折り側の粘着層間の厚みと同じ程度であれば、すなわち、上述の厚みtdと同程度であれば、第2の検出電極44にかかる引張力等の力を十分小さくすることができる。このことから、第1保護層28の厚みts(図9参照)は、ts≦tdであることが好ましい。
なお、第1保護層28に代えて、10−1〜30GPaの弾性率を有する基材または接着材等を配置してもよい。弾性率とは、引張弾性率のことである。この場合も、弾性率は、上述のように動的弾性率測定装置または微小硬度試験機(ピコデンター)により測定することができる。
なお、複合部材21は、総膜厚が厚いと部材にかかる応力の絶対値が増大するため、総膜厚は薄い方が好ましい。複合部材21の総膜厚は、500μm以下が好ましく、300μm以下が更に好ましい。
なお、図11に示す表示装置20aにおいて、図7に示す表示装置20と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。図11に示す表示装置20aでも、表示部22と透明層23を除いたものが複合部材21である。
第2保護層31は、膜厚が厚いとタッチセンサー部30の第1の検出電極42および第2の検出電極44にかかる応力の絶対値が増大するため、厚みが20μm以下であることが好ましい。
第2保護層31の膜厚は、複合部材21を作製する前の第2保護層31自体の厚みを測定することにより求めることもできるし、前述のように断面電子顕微鏡像より測定することもできる。
図11に示す表示装置20aは、上述のこと以外に、図7に示す表示装置20と同様の効果を得ることができる。
なお、図7に示す表示装置20および図9に示すタッチセンサー部30と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
また、絶縁層48の表面48aに、第1の検出電極42を覆う第2粘着層32が設けられている。
図12に示すタッチセンサー部30aは、図9に示すタッチセンサー部30と同様の効果を得ることができる。
なお、図12に示すタッチセンサー部30aと図13に示すタッチセンサー部30bは、いずれも第1の検出電極42と第2の検出電極44とが、導電層体41を曲げ方向Mに曲げた場合の内折り側に配置されている。
第1の検出電極42は第2保護層31上に設けられている。第2保護層31は、例えば、シート体で構成されるものであり、上述の絶縁基板40と同じもので構成することができる。例えば、上述の絶縁基板40と同じもので構成することができる。
図14に示すタッチセンサー部30cは、図9に示すタッチセンサー部30と同様の効果を得ることができる。
なお、図14に示すタッチセンサー部30cは、第1の検出電極42と第2の検出電極44とが、導電層体41を曲げ方向Mに曲げた場合の外折り側に配置されている。
図7に示す構成の表示装置20および図11に示す構成の表示装置20aは、いずれも表示部22を曲げ方向Mに曲げたとき、曲率半径が大きい側に配置されているが、表示部22は曲率半径が大きい側に配置することが好ましい。また、図7に示す構成の表示装置20および図11に示す構成の表示装置20aは、いずれも、上述の曲げ方向Mのように、予め定められた方向に曲げて使用されることが好ましい。曲げる方向が予め定められている場合には、曲げる方向以外の方向に曲げて使用することは好ましくない。
図15は本発明の実施形態の複合部材を有する表示装置の第1の例を示す模式的斜視図であり、図16は本発明の実施形態の複合部材を有する表示装置の第1の例の使用状態を示す模式的斜視図である。なお、図15および図16において、図7と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
表示装置60では、表示領域60d全域を利用する場合には、図16に示すように、第1側部60bと、第2側部60cとを開いた状態とする。なお、第1側部60bと第2側部60cとのうち、いずれか一方を開いた状態で使用することもできる。
表示装置62では、表示領域62cを利用する場合には、図18に示すように、第1側部62aと第2側部62bとを開いた状態とする。
図7に示す構成の表示装置20および図11に示す構成の表示装置20aは、例えば、図19に示す表示装置64のように、巻芯65に巻き取ることができる。表示装置64は、詳細に示していないが表示装置20と同じ構成である。表示装置64の表示領域64aが上述のカバー層36の表面36aに相当する。表示装置64は、表示領域64aが内側になるように巻芯65に巻き取られている。表示装置64は、上述の表示装置20と同じく、折り曲げ耐性があるため、タッチセンサー部30のタッチ感度が低下することがない。表示装置64では、表示領域64aを利用する場合には表示装置64を引き出す。
<絶縁基板>
絶縁基板40は、第1の検出電極42および第2の検出電極44を電気的に絶縁し、かつ離間して配置することができれば、その種類は特に限定されない。絶縁基板40としては、透明基材が好ましく、プラスチックフィルムがより好ましい。
絶縁基板40を構成する材料の具体例としては、TAC(トリアセチルセルロース)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PI(ポリイミド)、COP(ポリシクロオレフィン)、COC(ポリシクロオレフィン共重合体)、ポリカーボネート、(メタ)アクリル樹脂、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PE(ポリエチレン)、PP(ポリプロピレン)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、またはポリ塩化ビニリデンが好ましく、TAC、PET、PI、COP、またはCOCがより好ましく、PET、またはCOPが更に好ましい。なお、「(メタ)アクリル」はアクリルおよびメタクリルの双方、またはいずれかを表す。
プラスチックフィルムとしては融点が約290℃以下であることが好ましい。
絶縁基板40の全光線透過率は、85〜100%であることが好ましい。
絶縁基板40の厚みは特に制限されず、通常、25〜500μmの範囲で任意に選択することができる。なかでも、絶縁基板40の厚みが薄い方が曲げに適するため、絶縁基板40の厚みは25〜80μmが好ましく、25〜60μmがより好ましく、25〜40μmが更に好ましい。
下塗り層の形成方法は特に制限されず、例えば、高分子を含む下塗り層形成用組成物を絶縁基板40上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下塗り層形成用組成物には、必要に応じて、溶剤が含まれていてもよい。溶剤の種類は特に制限されず、公知の溶剤が例示される。また、高分子を含む下塗り層形成用組成物として、高分子の微粒子を含むラテックスを使用してもよい。
下塗り層の厚みは特に制限されず、導電部の密着性がより優れる点で、0.02〜0.3μmが好ましく、0.03〜0.2μmがより好ましい。
また、絶縁基板40は、上述のように導電層を電気的に絶縁する絶縁層の一形態である。絶縁層としては、絶縁基板40のような基板等のシート状のものに限定されず、塗布膜のような膜または層のような形態でもよい。塗布膜のような膜または層の場合でも、絶縁基板40と同様に、第1の検出電極42および第2の検出電極44を電気的に絶縁し、かつ離間して配置することができる。
導電線50の線幅wは特に限定されず、30μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、10μm以下が更に好ましく、9μm以下が特に好ましく、7μm以下が最も好ましく、0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる。
導電線が引き出し配線として適用される場合には、導電線の線幅は500μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましく、30μm以下が更に好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗のタッチパネル電極を比較的容易に形成できる。
導電線50の幅wおよび厚みtの測定は、まず、走査電子顕微鏡を用いて、導電線50の断面電子顕微鏡像を取得する。次に、断面電子顕微鏡像から導電線50の幅wおよび厚みtを求める。
開口部の一辺の長さは、800μm以下が好ましく、600μm以下がより好ましく、400μm以下が更に好ましく、5μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、80μm以上が更に好ましい。
可視光透過率の点から、開口率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、95%以上であることが更に好ましい。開口率とは、絶縁基板40の表面40aにおいて導電線50を除いた透過性部分が表面40a全体に占める割合に相当する。
導電線50の中には、導電線50と絶縁基板40との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、導電線50と絶縁基板40との密着性がより優れる理由から、樹脂が好ましく、より具体的には、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
更に、上述の方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、特開2014−209332号公報の段落0056〜0114に記載の方法が挙げられる。
曲げに優れる観点から、導電線50に銀細線を用い、銀細線からなるメッシュパターンを含む態様が挙げられる。
バリア層は、少なくとも1層の無機層を有するものであり、有機層と無機層との積層構造が好ましい。バリア層は、2層以上の有機層と2層以上の無機層とが交互に積層しているものであってもよい。バリア層を構成する層数に関しては特に制限はなく、典型的には2層〜30層が好ましく、3層〜20層がさらに好ましい。
また、バリア層は、有機層および無機層以外の他の構成層を含んでいてもよい。
バリア層の厚みは0.5μm〜15μmであることが好ましく、1μm〜10μmであることがより好ましい。
無機層は、金属化合物を含む。無機層は複合フィルムのバリア性に主に寄与する層であればよい。
無機層における金属化合物の量は、無機層の総質量に対し、90質量%以上であればよく、95質量%以上であることが好ましく、99質量%以上であることがより好ましく、99.9質量%以上であることがさらに好ましい。無機層は実質的に金属化合物からなっていてもよい。
バリア層は、少なくとも1層の窒化ケイ素を含む層を無機層として含む。窒化ケイ素を含む層において、窒化ケイ素の量は、窒化ケイ素を含む層の総質量に対し、60質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
複数の無機層を含む場合、複数の無機層を構成する金属化合物は同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。すなわち、バリア層が複数の無機層を含む場合、複数の無機層はいずれも窒化ケイ素を含む層であることが好ましい。
無機層の平滑性は、1μm角の平均粗さ(Ra値)が3nm未満であることが好ましく、1nm以下がより好ましい。
無機層は基板または後述の有機層の表面に直接形成されることが好ましい。
バリア層は、少なくとも1層の有機層を含む。バリア層において、有機層は少なくとも1層の無機層と直接接していることが好ましい。
有機層は、好ましくは、重合性化合物を含む重合性組成物の硬化により形成することができる。
上述の重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物、および/または、エポキシまたはオキセタンを末端または側鎖に有する化合物であることが好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物が特に好ましい。エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物の例としては、(メタ)アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物、スチレン系化合物、無水マレイン酸等が挙げられ、(メタ)アクリレート系化合物が好ましく、特にアクリレート系化合物が好ましい。
スチレン系化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、4−ヒドロキシスチレン、4−カルボキシスチレン等が好ましい。
(メタ)アクリレート系化合物として具体的には、例えば、特開2013−43382号公報の段落0024〜0036または特開2013−43384号公報の段落0036〜0048に記載の化合物を用いることができる。また、WO2013/047524に記載の式(2)で表される式の化合物等のフルオレン骨格を有する多官能アクリルモノマーを用いることもできる。
有機層形成のための重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合に関与する化合物の合計量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5〜5モル%であることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはBASF社から市販されているイルガキュア(Irgacure)シリーズ(例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819等)、ダロキュア(Darocure)シリーズ(例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173等)、クオンタキュア(Quantacure)PDO、ランベルティ(Lamberti)社から市販されているエザキュア(Ezacure)シリーズ(例えば、エザキュアTZM、エザキュアTZT、エザキュアKTO46等)等が挙げられる。
有機層形成のための重合性組成物は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。シランカップリング剤としては、ケイ素に結合するメトキシ基、エトキシ基、アセトキシ基等の加水分解可能な反応性基とともに、エポキシ基、ビニル基、アミノ基、ハロゲン基、メルカプト基、(メタ)アクリロイル基から選択される1つ以上の反応性基を有する置換基を同じケイ素に結合する置換基として有するものが好ましい。シランカップリング剤は、(メタ)アクリロイル基を有していることが特に好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、WO2013/146069に記載の一般式(1)で表されるシランカップリング剤およびWO2013/027786に記載の一般式(I)で表されるシランカップリング剤等が挙げられる。
シランカップリング剤の、重合性組成物の固形分(揮発分が揮発した後の残分)中に占める割合は、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。
有機層の作製のため、上述の重合性組成物は、先ず、層状とされる。層状にするためには、通常、基板または無機層等の支持体の上に、重合性組成物を塗布すればよい。塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第2681294号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストルージョンコート法(ダイコート法とも呼ばれる)が例示され、この中でもエクストルージョンコート法が好ましく採用できる。
無機層の表面に有機層形成のための重合性組成物を塗布する際は、エクストルージョンコート法を用いて行なうことが好ましい。
塗布された重合性組成物は、次いで、乾燥してもよい。
有機層の硬度は高いことが好ましい。有機層の硬度が高いと無機層が平滑に成膜され、その結果としてバリア性が向上することがわかっている。有機層の硬度はナノインデンテーション法に基づく微小硬度として表すことができる。有機層の微小硬度は100N/mm以上であることが好ましく、150N/mm以上であることがより好ましい。
有機層と無機層の積層は、層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し成膜することにより行うことができる。
バリア層は、基板のカバー層側の面に設けられていれば、表示部への水分の到達を抑制することができる。このため、バリア層は基板のカバー層側の面に設けることが好ましい。なお、バリア層は、基板の表面および裏面の両面に設けてもよい。
バリア層は、基板に設ける以外にも、導電線を覆うようにして第1の検出電極または第2の検出電極の上に設けてもよい。これにより、表示部への水分の到達を抑制し、かつ導電線への水分の到達を抑制することができ、導電線の腐食も防止することができる。検出電極の上にバリア層を設ける場合も、バリア層は、基板のカバー層側に配置された検出電極の上に設けられていればよい。
バリア層を基板の両面、または基板の両面側に設ける場合、基板がバリア層で覆われる構成となるため、第1の検出電極および第2の検出電極、ならびに基板から十分に水分を追い出した状態にした後、バリア層を設けることが好ましい。具体的には、バリア層を設ける前に、第1の検出電極および第2の検出電極が形成された基板に対して脱水工程を行うことが好ましい。なお、バリア層を設けると水分が出にくくなるので、基板としては、水分を吸いにくいものが好ましく、例えば、COPおよびCOCが好ましい。
<第1実施例>
第1実施例では、実施例1〜12ならびに比較例1および比較例2の複合部材を作製し、曲げによる導電層の抵抗の上昇の程度を調べた。以下、抵抗上昇試験について説明する。
得られた複合部材について、曲げる前後で、両面に形成された各導電層の抵抗を測定し、曲げる前後の導電層の抵抗上昇を調べた。なお、下記表1および表2において、内折り側とは下記表1および表2の欄の上側であり、カバー層に近い方の導電層を指す。また、外折り側とはその反対側の導電層を指し、下記表1および表2の欄の下側である。
抵抗は、配線間の抵抗値を、デジタルマルチメーターを用いて測定した。
曲げは、得られた複合部材を、オートクレーブにより温度40℃、圧力0.5MPaの条件で20分処理した。次いで、処理後の複合部材に対し、折り曲げ試験機(面状体無負荷U字伸縮試験機(DLDMLH−FS)(ユアサシステム株式会社製))を用いて、折り曲げ半径を2mmとして折り曲げを10万回実施した。
曲げ試験では、複合部材を曲げた際にカバー層の表面が内側になるように曲げ方向Mを設定した。
10万回の曲げ試験後の複合部材について、抵抗を測定して抵抗上昇を求めた。抵抗上昇量を「Δ(デルタ)」とする。抵抗上昇を下記評価基準にて評価した。評価結果を表1および表2に示す。
「A」:ほぼ変化なし Δ<300Ω
「B」:中程度の変化 300Ω≦Δ≦1000Ω
「C」:中程度の変化 1000Ω<Δ 断線せず
「D」:断線
上述の評価が「D」となる断線とは、抵抗値が50MΩ以上、または装置の計測範囲以上のことを指す。断線の具体的な物理状態としては、例えば、配線が途中で破断し、物理的につながっていないような状態を指す。
<透明導電フィルムの作製方法>
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
温度38℃、pH(potential of hydrogen)4.5に保たれた下記1液に、下記2液および3液の各々90%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmの核粒子を形成した。続いて下記の4液および5液を8分間にわたって加え、更に、下記の2液および3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、0.21μmまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
水:750mL
ゼラチン:9g
塩化ナトリウム:3g
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン:20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム:10mg
クエン酸:0.7g
2液:
水:300mL
硝酸銀:150g
3液:
水:300mL
塩化ナトリウム:38g
臭化カリウム:32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液):8mL
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液):10mL
4液:
水:100mL
硝酸銀:50g
5液:
水:100mL
塩化ナトリウム:13g
臭化カリウム:11g
黄血塩:5mg
上述の乳剤に1,3,3a,7−テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10-2モル/モルAg、クエン酸3.0×10-4モル/モルAg、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAg、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
上述の塗布液に、含有するゼラチンに対して、(P−1)で表されるポリマーとジアルキルフェニルPEO硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス(分散剤/ポリマーの質量比が2.0/100=0.02)とをポリマー/ゼラチン(質量比)=0.5/1になるように添加した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、上述の(P−1)で表されるポリマーは、特許第3305459号および特許第3754745号を参照して合成した。
厚みが40μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを基板として用意した。基板の両面に、上述のポリマーラテックスを塗布して、厚み0.05μmの下塗り層を設けた。
次に、下塗り層上に、上述のポリマーラテックスとゼラチン、および光学濃度が約1.0で現像液のアルカリにより脱色する染料の混合物から成るアンチハレーション層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は2/1であり、ポリマーの含有量は0.65g/m2であった。
上述のアンチハレーション層の上に、上述の感光性層形成用組成物を塗布し、更に上述のポリマーラテックスとゼラチンとエポクロスK−2020E(商品名:日本触媒株式会社製、オキサゾリン系架橋反応性ポリマーラテックス(架橋性基:オキサゾリン基))、スノーテックスC(登録商標、商品名:日産化学工業株式会社製、コロイダルシリカ)とを固形分質量比(ポリマー/ゼラチン/エポクロスK−2020E/スノーテックスC(登録商標))1/1/0.3/2で混合した組成物をゼラチン量が0.08g/m2となるように塗布し、両面に感光性層が形成された支持基体を得た。両面に感光性層が形成された支持基体をフィルムAとする。形成された感光性層は、銀量6.2g/m2、ゼラチン量1.0g/m2であった。
導電線50形成の露光マスクとして、上述の図10に示すようなメッシュパターンを有する露光マスクをそれぞれ用意した。上述のフィルムAの両面に、メッシュパターンの露光マスクを配置し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を、予め定められたパターン間隔で繰り返し行った。メッシュパターンには、格子の一辺の長さを150μm、線幅を4μmに設定したものを用いた。
露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液(商品名:CN16X用N3X−R、富士フィルム株式会社製)を用いて現像処理を行った。更に、純水でリンスし、乾燥することで、両面に銀細線からなるパターン部と、ゼラチン層とが形成された支持基体を得た。ゼラチン層は銀細線間に形成されていた。得られたフィルムをフィルムBとする。
現像液1リットル(L)中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン:0.037mol/L
N−メチルアミノフェノール:0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム:0.140mol/L
水酸化ナトリウム:0.360mol/L
臭化ナトリウム:0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム:0.187mol/L
フィルムBに対して、タンパク質分解酵素(ナガセケムテックス株式会社製ビオプラーゼAL−15FG)の水溶液(タンパク質分解酵素の濃度:0.5質量%、液温:40℃)への浸漬を120秒間行った。フィルムBを水溶液から取り出し、温水(液温:50℃)に120秒間浸漬し、洗浄した。ゼラチン分解処理後のフィルムをフィルムCとする。
上述のフィルムCに対して、金属製ローラからなるカレンダ装置を用いて、30kNの圧力でカレンダ処理を行った。このとき、線粗さRa=0.2μm、Sm=1.9μm(株式会社キーエンス製形状解析レーザ顕微鏡VK−X110にて測定(JIS−B−0601−1994))の粗面形状を有するPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム2枚を、これらの粗面が上述のフィルムCの表面および裏面と向き合うように共に搬送して、上述のフィルムCの表面および裏面に粗面形状を転写形成した。
上述のカレンダ処理後、温度150℃の過熱蒸気槽を120秒間かけて通過させて、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムが透明導電フィルムである。
(実施例1)
実施例1は、カバー層(厚みが40μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム)と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015G(品名))と、λ/4層と、偏光子層と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、タッチセンサー部を構成する透明導電フィルムとを貼り合せて積層した。タッチセンサー部の下方に、厚みが1μmの接着剤層を介して、厚みが10μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを設けた。厚みが10μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムの下方に粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、ポリイミドフィルム(膜厚30μm)と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、ポリイミドフィルム(膜厚125μm)との順で貼り合せて積層して、複合部材を形成した。上述の粘着層の厚みは、いずれも25μmとした。上述の厚みが1μmの接着剤層は、アクリル系接着剤を用いて形成したものである。上述の厚みが1μmの接着剤層が、粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
なお、下記表1および表2において、括弧内の数値は膜厚を示す。また、下記表1および表2において、「PET」はポリエチレンテレフタレートフィルムを示し、「PI」はポリイミドフィルムを示す。
(実施例2)
実施例2は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが0.8μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが0.8μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV(Ultra Violet)露光し硬化して作製したものである。なお、実施例2〜実施例4および実施例6〜12では、いずれも保護層が、粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
実施例3は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが5μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが5μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV露光し硬化して作製したものである。
(実施例4)
実施例4は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが15μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが15μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV露光し硬化して作製したものである。
実施例5は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが15μmの保護層を設けた点、および粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、透明導電フィルムとの間に厚みが15μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが15μmの2つの保護層は、いずれも荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV露光し硬化して作製したものである。なお、実施例5では、外折り側の保護層が、粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
(実施例6)
実施例6は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが40μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが40μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV露光し硬化する工程を3回繰り返すことにより作製したものである。
(実施例7)
実施例7は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが100μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
上述の厚みが100μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV露光し硬化する工程を6回繰り返すことにより作製したものである。
実施例8は、実施例4に比して、タッチセンサー部の構成が異なり、それ以外は、実施例4と同じ構成とした。
実施例8では、タッチセンサー部の基板の、カバー層側の面にバリア層を設けた。バリア層は、以下のようにして作製した。
TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート;ダイセルセルテック株式会社製)、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学株式会社製)および重合性酸性化合物(KARAMER PM−21、日本化薬株式会社製)を、質量比14.1:3.5:1で混合してなる組成物を調製した。
この組成物18.6gと、紫外線重合開始剤(ランベルティ株式会社製、ESACURE KTO46)1.4gと、2−ブタノン180gとを混合して、有機層形成用組成物を調製した。
次いで、窒素置換法を用いて酸素濃度を0.1%としたチャンバー内で高圧水銀ランプの紫外線を照射(積算照射量約1J/cm2)することにより、有機層形成用組成物を硬化させ、基板の表面に厚み4000nm±50nmの有機層を形成した。
無機層(窒化ケイ素膜)の形成は、一般的なCCP(容量結合プラズマ方式)−CVD(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて行った。原料ガスは、シランガス(流量160sccm(standard cubic centimeter per minute)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)、および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。成膜圧力は40Paとした。電源は周波数13.56MHzの高周波電源を用い、プラズマ励起電力を2.5kWとした。
実施例9は、実施例8に比して、タッチセンサー部の構成が異なり、それ以外は、実施例8と同じ構成とした。
実施例9では、タッチセンサー部の基板の両面にバリア層を設けた。実施例9のバリア層は、上述の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ基板の両面にバリア層を設けた以外は実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例10)
実施例10は、実施例8に比して、タッチセンサー部の構成が異なり、それ以外は、実施例8と同じ構成とした。
実施例10では、タッチセンサー部の両面の各面の導電線上にバリア層を設けた。実施例10のバリア層は、上述の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ両面の各面の導電線上にバリア層を設けた以外は実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例11)
実施例11は、実施例8に比して、タッチセンサー部の構成が異なり、それ以外は、実施例8と同じ構成とした。
実施例11では、タッチセンサー部の両面の各面の導電線上にバリア層として、厚み30nmの窒化ケイ素膜だけを設けた。実施例11の窒化ケイ素膜は、上述の実施例8と同じ作製方法で作製した。
(実施例12)
実施例12は、実施例8に比して、タッチセンサー部の構成が異なり、それ以外は、実施例8と同じ構成とした。
実施例12では、タッチセンサー部の基板の、カバー層側の面の導電線上にバリア層を設けた。実施例12のバリア層は、上述の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつカバー層側の面の導電線上にバリア層を設けた以外は実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
比較例1は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムが設けられていない点、すなわち、粘着層よりも弾性率が高い部材が設けられていない点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。
(比較例2)
比較例2は、実施例1に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムが設けられていない点、およびタッチセンサー部の基板がガスバリアフィルムである点が異なり、それ以外は、実施例1と同じ構成とした。比較例2は、比較例1と同じく粘着層よりも弾性率が高い部材が設けられていない。
<第2実施例>
第2実施例では、以下に示す実施例20〜31および比較例10について、導電層の抵抗上昇および剥がれを評価した。以下、抵抗上昇および剥がれについて説明する。
導電層の抵抗上昇は、評価を含め上述の第1実施例の抵抗上昇と同じであるため、その詳細な説明は省略する。なお、抵抗上昇は、外折り側だけを評価した。
剥がれについては、実施例20〜31および比較例10の各複合部材を、オートクレーブにより温度40℃、圧力0.5MPaの条件で20分処理した。次いで、処理後の各複合部材に対し、折り曲げ試験機(面状体無負荷U字伸縮試験機(DLDMLH−FS)(ユアサシステム株式会社製)を用いて、折り曲げ半径を2mmとして折り曲げを10万回実施した。折り曲げを10万回実施した後の各複合部材の状態を目視により観察し、剥がれについて下記評価基準にて評価した。評価結果を下記表3および表4に示す。
剥がれの評価基準
「A」:剥がれなし
「B」:わずかに剥がれあり
「C」:剥がれあり
(実施例20)
実施例20は、カバー層(厚みが40μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム)と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015G(品名))と、λ/4層と、偏光子層と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、タッチセンサー部とを貼り合せて積層した。タッチセンサー部の下方に、厚みが1μmの接着剤層を介して、厚みが10μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを設けた。厚みが10μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムの下方に粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、ポリイミドフィルム(膜厚30μm)と、粘着層(リンテック株式会社製MO−3015C(品名))と、ポリイミドフィルム(膜厚125μm)との順で貼り合せて積層して、複合部材を形成した。上述の粘着層の厚みは、いずれも25μmとした。上述の厚みが1μmの接着剤層は、アクリル系接着剤を用いて形成したものである。上述の厚みが1μmの接着剤層が、粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
なお、下記表3および表4において、括弧内の数値は膜厚を示す。また、下記表3および表4において、「PET」はポリエチレンテレフタレートフィルムを示し、「PI」はポリイミドフィルムを示す。
タッチセンサー部は、まず、厚さ40μmのCOP(シクロオレフィンポリマー)基材上に荒川化学工業株式会社製XSR−5Nを2μmの厚さに塗布し、UV(Ultra Violet)露光により硬化させて、第1塗布膜を形成した。第1塗布膜上に、厚さ0.05μmのMo膜、厚さ0.3μmのAl膜、および厚さ0.05μmのMo膜の順に積層された第1積層膜を、スパッタ法を用いて形成した。第1積層膜をフォトリソグラフィ法を用いて導電層のパターンにパターニングして、1層目の導電層を形成した。
さらに、1層目の導電層を覆って、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nを3μmの厚さに塗布し、UV露光により硬化させて、第2塗布膜を形成した。第2塗布膜上に、厚さ0.05μmのMo膜、厚さ0.3μmのAl膜、および厚さ0.05μmのMo膜の順に積層された第2積層膜を、スパッタ法を用いて形成した。第2積層膜をフォトリソグラフィ法を用いて導電層のパターンにパターニングして、2層目の導電層を形成した。なお、1層目の導電層と外部配線との電気的接続をとる部分として、この後、第1塗布膜に、フォトリソグラフィ法を用いて開口部を形成した。
なお、タッチセンサー部に関し、下記表3および表4では、2つの導電層を、いずれも外折り側に配置したものを「片面2層電極(外折り側電極)」と表記し、2つの導電層を、いずれも内折り側に配置したものを「片面2層電極(内折り側電極)」と表記した。
実施例21は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが2μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
上述の厚みが2μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV(Ultra Violet)露光し硬化して作製したものである。なお、実施例21〜実施例23では、いずれも保護層が、粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
(実施例22)
実施例22は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが15μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
上述の厚みが15μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV(Ultra Violet)露光し硬化して作製したものである。
実施例23は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムに代えて、厚みが25μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
上述の厚みが25μmの保護層は、荒川化学工業株式会社製XSR−5Nをスクリーン印刷で塗布し、UV(Ultra Violet)露光し硬化して作製したものである。
(実施例24)
実施例24は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムが設けられていない点、タッチセンサー部の2つの導電層を、いずれも内折り側に配置した構成である点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
実施例24は、タッチセンサー部のCOP基材が粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
(実施例25)
実施例25は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムが設けられていない点、タッチセンサー部の2つの導電層を、いずれも内折り側に配置した構成である点、タッチセンサー部の内折り側に厚さ15μmの保護層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
実施例25は、タッチセンサー部のCOP基材が粘着層よりも弾性率が高い部材に相当する。
実施例26は、実施例22に比して、タッチセンサー部のCOP基材のカバー層側の面にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例22と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例27)
実施例27は、実施例22に比して、タッチセンサー部の保護層側の導電層上にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例22と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例28)
実施例28は、実施例22に比して、タッチセンサー部のCOP基材のカバー層側の面と、保護層側の導電層上にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例22と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
実施例29は、実施例24に比して、タッチセンサー部のCOP基材の保護層側の面にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例24と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例30)
実施例30は、実施例24に比して、タッチセンサー部のカバー層側の導電層上にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例24と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
(実施例31)
実施例31は、実施例24に比して、タッチセンサー部のCOP基材の保護層側の面と、カバー側の導電層上にバリア層を設けた点が異なり、それ以外は、実施例24と同じ構成とした。バリア層は、上述の第1実施例の実施例8のバリア層と同じ構成であり、かつ実施例8のバリア層と同じ作製方法で作製した。
比較例10は、実施例20に比して、厚みが1μmの接着剤層および厚みが10μmのPETフィルムが設けられていない点、すなわち、粘着層よりも弾性率が高い部材が設けられていない点が異なり、それ以外は、実施例20と同じ構成とした。
10a、11a、Ds 応力
11 部材
12 積層体
20、20a 表示装置
21 複合部材
22 表示部
23、25、27 透明層
24、26 プラスチックフィルム
27 第1粘着層
28 第1保護層
30、30a、30b、30c タッチセンサー部
31 第2保護層
32 第2粘着層
33 反射防止層
34 透明層
36 カバー層
36a 表面
37 コントローラ
40 絶縁基板
40a、48a 表面
40b、48b 裏面
41 導電層体
42 第1の検出電極
43 第1の周辺配線
44 第2の検出電極
45 第2の周辺配線
47 検知領域
48 絶縁層
50 導電線
60、62、64 表示装置
60a 中央部
60b、62a 第1側部
60c、62b 第2側部
60d、62c、64a 表示領域
60e、62d 端部
M 曲げ方向
X 第2の方向
Y 第1の方向
t、ts 厚み
td 距離
w 線幅
Claims (15)
- 絶縁層と、前記絶縁層により電気的に絶縁され、かつ離間して配置された、少なくとも2つの導電層と、を備える導電層体と、
少なくとも1つの粘着層と、
前記少なくとも2つの導電層のうち前記導電層体を曲げ方向に曲げた場合に前記絶縁層の曲率半径が大きい側に設けられた第1導電層と接する、前記粘着層よりも弾性率が高い部材とを有し、
前記粘着層は、前記絶縁層と前記導電層との間以外、および前記第1導電層と前記粘着層よりも弾性率が高い前記部材との間以外に配置され、
前記絶縁層は、前記粘着層よりも弾性率が高いことを特徴とする複合部材。 - 前記絶縁層は、可撓性を有する請求項1に記載の複合部材。
- 前記絶縁層は、弾性率が10−1〜30GPaである請求項1または2に記載の複合部材。
- 前記粘着層よりも弾性率が高い前記部材は、シート体で構成されており、かつ前記第1導電層の前記絶縁層とは逆側に配置される請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記第1導電層に、前記粘着層より弾性率の高い第1保護層が積層されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記第1保護層は、前記第1導電層側に設けられた第1粘着層と接している請求項5に記載の複合部材。
- 前記第1保護層と前記第1導電層との界面から、前記導電層体を前記曲げ方向に曲げた場合に前記絶縁層の曲率半径が小さい側に初めて配置される粘着層の界面までの厚みをtdとし、前記第1保護層の厚みをtsとするとき、ts≦tdである請求項5または6に記載の複合部材。
- 前記導電層体を前記曲げ方向に曲げた場合に前記基板の曲率半径が小さい側に設けられた第2導電層に、厚みが20μm以下の第2保護層が積層されており、前記第2保護層は、前記第2導電層側に設けられた第2粘着層と接している請求項1〜7のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記導電層体を前記曲げ方向に曲げた場合に前記基板の曲率半径が小さい側に設けられた第2粘着層と、前記導電層体を前記曲げ方向に曲げた場合に前記絶縁層の曲率半径が小さい側に設けられた第2導電層とが接している請求項1〜7のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記導電層体は、前記絶縁層と、前記絶縁層の両面の各面に設けられた前記導電層とを有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記絶縁層は、絶縁基板で構成されている請求項10に記載の複合部材。
- 前記導電層は、金属で構成されている請求項1〜11のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記絶縁層と前記導電層の間、または前記導電層上に、バリア層を有し、前記バリア層は、少なくとも窒化ケイ素を含む無機層を有する請求項1〜12のいずれか1項に記載の複合部材。
- 前記バリア層は、前記無機層と有機層との積層構造である請求項13に記載の複合部材。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載の複合部材を有することを特徴とするデバイス。
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