JPWO2018230395A1 - 液晶フィルムの製造方法および機能性フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

精細で所望の色階調の画像を表示できるコレステリック液晶層を得ることができ、高い生産性を有する液晶フィルムの製造方法および機能性フィルムの製造方法を提供する。支持体を長手方向に搬送しつつ、コレステリック液晶化合物と感光性のキラル剤とを含む液晶組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、未乾燥状態の液晶組成物の塗布膜にキラル剤が感光する波長の光を照射する照射工程と、塗布膜を加熱して液晶を配向する配向工程と、配向した塗布膜を硬化する硬化工程と、をこの順に有し、照射工程において、支持体側に配置されたパターンマスクを介して塗布膜に光を照射し、パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクであり、照射工程において、多階調のパターンマスクを介して塗布膜に光を照射することで、塗布膜の各領域に対して異なる照射量の光を照射する。

Description

本発明は、液晶フィルムの製造方法および機能性フィルムの製造方法に関する。

コレステリック液晶相を含む層（コレステリック液晶層）は、特定の波長域（選択反射波長帯域）において右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させる性質を有する層として知られている。そのため、コレステリック液晶層は選択反射波長の光を反射することで、これに応じた色の画像を表示することができ、種々の用途へ展開されている。
例えば、特許文献１には、単一層のコレステリック液晶層において、少なくとも１ヶ所に選択反射波長帯域が他の領域とは異なる領域が設けられた構成が記載されており、コレステリック液晶の特性を利用して認証情報を記録することが記載されている。
この特許文献１には、選択反射波長帯域が異なる領域を有するコレステリック液晶層の形成方法として、パターンを形成したマスクを介して紫外線露光することで、パターン化された選択反射波長を有するコレステリック液晶層を形成する方法が記載されている。

特開２００６−１４２６９９号公報

しかしながら、特許文献１に記載されるコレステリック液晶層の形成方法では、コレステリック液晶の塗布液を基板に塗布し乾燥した後に、塗布膜に紫外線を照射して硬化させる際に、パターンマスクを用いて露光を行っている。また、パターンマスクとしては、遮光部と透過部を有する２値のパターンマスクが記載されるのみである。

本発明者らの検討によれば、このような方法で形成されたコレステリック液晶層は、所望の選択反射波長とすること、すなわち、所望の色味ができなかったり、選択反射波長帯域が異なる領域間の境界が滲んで精細さが十分に得られないことがわかった。また、２値のパターンマスクを用いる場合には、コレステリック液晶層に選択反射波長が異なる３種以上の領域を形成する際に、パターンマスクを変えて複数回露光を行なう必要がある。そのため、より多色のコレステリック液晶層を形成するためには、多くの工程が必要となり製造効率が悪いという問題があることがわかった。

本発明は、上記実情に鑑みて、精細で所望の色階調の画像を表示できるコレステリック液晶層を得ることができ、高い生産性を有する液晶フィルムの製造方法および機能性フィルムの製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、長尺な支持体を長手方向に送り出す送出工程と、送り出した支持体を長手方向に搬送しつつ、コレステリック液晶化合物と感光性のキラル剤とを含む液晶組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、未乾燥状態の液晶組成物の塗布膜にキラル剤が感光する波長の光を照射する照射工程と、塗布膜を加熱して液晶を配向する配向工程と、配向した塗布膜を硬化する硬化工程と、をこの順に有し、照射工程において、支持体側に配置されたパターンマスクを介して塗布膜に光を照射し、パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクであり、照射工程において、多階調のパターンマスクを介して塗布膜に光を照射することで、塗布膜の各領域に対して異なる照射量の光を照射することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

（１） 長尺な支持体を長手方向に送り出す送出工程と、
送り出した支持体を長手方向に搬送しつつ、コレステリック液晶化合物と感光性のキラル剤とを含む液晶組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、
未乾燥状態の液晶組成物の塗布膜にキラル剤が感光する波長の光を照射する照射工程と、
塗布膜を加熱して液晶を配向する配向工程と、
配向した塗布膜を硬化する硬化工程と、をこの順に有し、
照射工程において、支持体側に配置されたパターンマスクを介して塗布膜に光を照射し、
パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクであり、
照射工程において、多階調のパターンマスクを介して塗布膜に光を照射することで、塗布膜の各領域に対して異なる照射量の光を照射する液晶フィルムの製造方法。
（２） パターンマスクは、支持体の裏面に形成されている（１）に記載の液晶フィルムの製造方法。
（３） パターンマスクは、長尺な基材フィルムの表面に形成されており、
照射工程において、パターンマスクが形成された基材フィルムが支持体の裏面に貼着された状態で、光の照射を行なう（１）に記載の液晶フィルムの製造方法。
（４） パターンマスクは、グレースケール印刷により形成されたものである（１）〜（３）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（５） 照射工程は、第一照射ステップと第二照射ステップとを有し、
第一照射ステップにおける光の照射量が、第二照射ステップにおける光の照射量よりも少ない（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（６） 第一照射ステップおよび第二照射ステップの照射量の合計が２００ｍＪ／ｃｍ²以下である（５）に記載の液晶フィルムの製造方法。
（７） 照射工程は、第一照射ステップと第二照射ステップとを有し、
第一照射ステップにおいて照射する光のピーク波長と、第二照射ステップにおいて照射する光のピーク波長とが互いに異なる（１）〜（６）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（８） 硬化工程は、塗布膜を光硬化させる工程であり、
硬化工程において照射する光の波長が、照射工程において照射する光の波長とは異なる（１）〜（７）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（９） 硬化工程において、パターンマスクは支持体の裏面側に配置された状態で一体的に搬送されており、
パターンマスクとは反対側の面側に光を照射する（８）に記載の液晶フィルムの製造方法。
（１０） 塗布工程における液晶組成物の塗布方法がバー塗布である（１）〜（９）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（１１） 塗布工程、照射工程、配向工程および硬化工程の組み合わせを２回以上繰り返して２層以上のコレステリック液晶層を形成する液晶フィルムの製造方法であって、
２回以上の照射工程において、同一パターンのパターンマスクを介して光を照射し、かつ、各照射工程における光の照射量を互いに異ならせる（１）〜（１０）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
（１２） （１）〜（１１）のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法の硬化工程の後に、硬化した塗布膜の表面又は前記支持体の裏面に円偏光板を貼着する工程を有する機能性フィルムの製造方法。

本発明によれば、精細で所望の色階調の画像を表示できるコレステリック液晶層を得ることができ、高い生産性を有する液晶フィルムの製造方法および機能性フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明の液晶フィルムの製造方法の一例を実施する製造装置を模式的に示す図である。 図１の製造装置により実施される液晶フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の液晶フィルムの製造方法の他の一例を実施する製造装置を模式的に示す図である。 図３の製造装置により実施される液晶フィルムの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。 図３の製造装置により実施される液晶フィルムの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。 実施例で用いたパターンマスクを表す図である。 実施例で作製された液晶フィルムを表す図である。 本発明で用いられるパターンマスクの他の一例を表す図である。 比較例で用いた２値のパターンマスクを表す図である。 本発明の製造方法で用いられるパターンマスクの一例を表す図である。 図１０に示すパターンマスクを用いて作製された液晶フィルムを表す図である。

以下、本発明の液晶フィルムの製造方法について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「直交」および「平行」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、「直交」および「平行」とは、厳密な直交あるいは平行に対して±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な直交あるいは平行に対しての誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
また、「直交」および「平行」以外で表される角度、例えば、１５°や４５°等の具体的な角度についても、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、本発明においては、角度は、具体的に示された厳密な角度に対して、±５°未満であることなどを意味し、示された厳密な角度に対する誤差は、±３°以下であるのが好ましく、±１°以下であるのが好ましい。

本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
本明細書において、「同一」は、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。また、本明細書において、「全部」、「いずれも」または「全面」などというとき、１００％である場合のほか、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。

可視光は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域の光を示す。非可視光は、３８０ｎｍ未満の波長域または７８０ｎｍを超える波長域の光である。
またこれに限定されるものではないが、可視光のうち、４２０ｎｍ〜４９０ｎｍの波長域の光は、青色光であり、４９５ｎｍ〜５７０ｎｍの波長域の光は、緑色光であり、６２０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長域の光は、赤色光である。
赤外光のうち、近赤外光は７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長域の電磁波である。紫外光は波長１０〜３８０ｎｍの範囲の光である。
本明細書において、選択反射波長とは、対象となる物（部材）における透過率の極小値をＴmin（％）とした場合、下記の式で表される半値透過率：Ｔ１／２（％）を示す２つの波長の平均値のことを言う。
半値透過率を求める式： Ｔ１／２＝１００−（１００−Ｔmin）÷２

本明細書において、「ヘイズ」は、日本電色工業株式会社製のヘーズメーターＮＤＨ−２０００を用いて測定される値を意味する。
理論上は、ヘイズは、以下式で表される値を意味する。
（３８０〜７８０ｎｍの自然光の散乱透過率）/（３８０〜７８０ｎｍの自然光の散乱透過率＋自然光の直透過率）×１００％
散乱透過率は分光光度計と積分球ユニットを用いて、得られる全方位透過率から直透過率を差し引いて算出することができる値である。直透過率は、積分球ユニットを用いて測定した値に基づく場合、０°での透過率である。つまり、ヘイズが低いということは、全透過光量のうち、直透過光量が多いことを意味する。
屈折率は、波長５８９．３ｎｍの光に対する屈折率である。

本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することもできる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

本発明の液晶フィルムの製造方法は、
長尺な支持体を長手方向に送り出す送出工程と、
送り出した支持体を長手方向に搬送しつつ、コレステリック液晶化合物と感光性のキラル剤とを含む液晶組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、
未乾燥状態の液晶組成物の塗布膜にキラル剤が感光する波長の光を照射する照射工程と、
塗布膜を加熱して液晶を配向する配向工程と、
配向した塗布膜を硬化する硬化工程と、をこの順に有し、
照射工程において、支持体側に配置されたパターンマスクを介して塗布膜に光を照射し、
パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクであり、
照射工程において、多階調のパターンマスクを介して塗布膜に光を照射することで、塗布膜の領域に応じて光の照射量を異ならせる液晶フィルムの製造方法である。

また、本発明の機能性フィルムの製造方法は、
上記液晶フィルムの製造方法の硬化工程の後に、硬化した塗布膜の表面または支持体の裏面に円偏光板を貼着する工程を有する機能性フィルムの製造方法である。

＜液晶フィルムの製造方法＞
以下に、本発明の液晶フィルムの製造方法の好適な実施態様の一例について図面を参照して説明する。
図１に、本発明の液晶フィルムの製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう）を実施する液晶フィルムの製造装置（以下、「製造装置」ともいう）の一例の模式的な図を示す。また、図２に、図１に示す製造装置により実施される液晶フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図を示す。
なお、本発明における図は模式図であり、各部の大きさ、各層の厚みの関係、および、位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。

図１に示す製造装置１００ａは、長尺な支持体１２ａを用いて、ロールトゥロール（以下、「ＲｔｏＲ」ともいう）によって液晶フィルムの製造を行うものである。周知のように、ＲｔｏＲとは、長尺な被処理物を巻回してなるロールから被処理物を送り出して、長手方向に搬送しつつ成膜等の処理を行い、処理済の被処理物を、再度、ロール状に巻回する製造方法である。

製造装置１００ａは、一例として、送り出しローラ１０２と、第１搬送部１２０と、塗布部１５０と、第２搬送部１２２と、露光部１５２と、加熱部１５４と、硬化部１５６と、第３搬送部１２４と、巻取りローラ１１６と、を有する。第１搬送部１２０、第２搬送部１２２および第３搬送部１２４は、搬送用のローラ等を有し、長尺な被処理物を所定の経路で搬送するものである。
なお、製造装置１００ａは、図示した部材以外にも、搬送ローラ対、支持体のガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被処理物を搬送しつつ塗布による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。

製造装置１００ａにおいて、長尺な支持体１２ａを巻回してなるロール１３０を、送り出しローラ１０２に装填する。
ロール１３０から支持体１２ａを引き出して、第１搬送部１２０、塗布部１５０、第２搬送部１２２、露光部１５２、加熱部１５４、硬化部１５６および第３搬送部１２４を通過して巻取りローラ１１６に到る所定の経路に挿通させる。
また、調製したコレステリック液晶層となる液晶組成物を塗布部１５０の塗布ノズル１０４に供給し、塗布を行う。

ＲｔｏＲを利用する製造装置１００ａでは、ロール１３０からの支持体１２ａの送り出しと、コレステリック液晶層１８を形成した支持体１２ａ（積層フィルム２３ｄ）の巻き取りとを同期して行なう。これにより、長尺な支持体１２ａを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、塗布部１５０において調製した液晶組成物を支持体１２ａに塗布し、露光部１５２において塗布膜を露光し、次いで、加熱部１５４において塗布膜を加熱して液晶を配向し、さらに、硬化部１５６において紫外線照射および／または加熱等を行なって塗布膜を硬化させてコレステリック液晶層１８を形成する。さらに、巻取りローラ１１６において支持体１２ａ上にコレステリック液晶層１８が形成された長尺な積層フィルム２３ｄをロール状に巻回して、ロール１３２とする。
なお、本発明において、液晶フィルムとは、コレステリック液晶層を有するフィルム状物であり、図１および図２に示す例においては、コレステリック液晶層１８が支持体１２ａの表面に積層された積層フィルム２３ｄが本発明の液晶フィルムである。コレステリック液晶層１８は、支持体１２ａに積層された状態で用いられても良いし、支持体１２ａから剥離されて用いられてもよい。

図２にＳ１で示す送出工程において、ロール１３０から送り出される支持体１２ａは、ＰＥＴフィルム等の樹脂フィルムにパターンマスクが形成されたものである。

支持体１２ａを形成する樹脂フィルムとしては、基板（支持体）として利用されている、透明性を有する公知のシート状物が、各種、利用可能である。

具体的には、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ、シクロオレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの、各種の樹脂材料からなるフィルム（樹脂フィルム）が、好適に例示される。

本発明においては、このようなフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層、離型層等の、必要な機能を発現する層（膜）が形成されているものを、支持体１２ａとして用いてもよい。

支持体１２ａが有するパターンマスクは、後述する露光部１５２で照射する光（キラル剤が感光する波長の光）に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクである。
このようなパターンマスクは、例えば、印刷によって形成することができ、樹脂フィルムの表面に形成されるインク層の光透過率が、領域によって異なるように印刷することによって、所望のパターンのマスクとすることができる。具体的には、グレースケール印刷（図６参照）、あるいは、カラー印刷（図８参照）によって形成することができる。

支持体１２ａの厚みは、薄すぎると支持性が低下し、搬送中に折れ曲がり等が発生するおそれがある。一方、厚すぎると可撓性が低下し、搬送し難くなったり、ロールに巻き取った際に大型化したり、あるいは、形成したコレステリック液晶層を支持体１２ａから剥離するのが難しくなるおそれがある。
以上の観点から、支持体１２ａの厚みは、２０μｍ〜１００μｍが好ましく、６０μｍ〜１００μｍがより好ましい。

図１に示すように、ロール１３０から送り出された支持体１２ａは、第１搬送部１２０を通過して、塗布部１５０に到る。塗布部１５０おいて支持体１２ａに塗布処理がなされる。なお、図１に示す例では、塗布部１５０での塗布に際し、支持体１２ａはバックアップローラ１０６に巻き掛けられた状態で、塗布ノズル１０４によって液晶組成物が塗布される。バー塗布など、バックアップローラ１０６無しで塗布可能な方法で塗布を行なう場合には、バックアップローラ１０６は無くてもよい。
図２にＳ２で示すように、塗布工程において、塗布部１０４がコレステリック液晶化合物と感光性キラル剤とを含む液晶組成物を支持体１２ａの表面に塗布して塗布膜２１ａを形成する。支持体１２ａと塗布膜２１ａとの積層体を積層フィルム２３ａとする。
液晶組成物については後に詳述する。

塗布工程における塗布方法としては、エクストルージョン塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、バー塗布、アプリケータ塗布等の塗布法、あるいは、フレキソ印刷等の印刷法の公知の方法を適用できる。
中でも、支持体１２ａ表面に凹凸（パターンマスクとなるインク層による凹凸など）があっても塗布ムラを抑制することができる等の観点からバー塗布が好ましい。

また、塗布膜２１ａは、支持体１２ａのパターンマスク側に形成されてもよいが、パターンマスクとは反対側の面に形成されるのが好ましい。すなわち、パターンマスクは、支持体１２ａの塗布膜２１ａが形成される面とは反対側の面（裏面）に形成されるのが好ましい。

次に、図１に示すように、積層フィルム２３ａは第２搬送部１２２を通過して露光部１５２に到る。露光部１５２において積層フィルム２３ａは照射工程を施される。
図２にＳ３で示すように、照射工程において、露光装置１０８が支持体１２ａ側から、すなわち、パターンマスクを介して未乾燥状態の塗布膜２１ａに光を照射する。露光装置１０８が照射する光は、塗布膜２１ａ（液晶組成物）中のキラル剤が感光する波長の光である。従って、露光処理によって露光した塗布膜２１ｂが形成される。露光した塗布膜２１ｂ中では、感光性キラル剤が感光し、その構造が変化する。
支持体１２ａと露光した塗布膜２１ｂとの積層体を積層フィルム２３ｂとする。

ここで、パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクである。従って、露光した塗布膜２１ｂは、パターンマスクのパターンに対応して、領域ごとに異なる照射量の光が照射される。
ここで、感光性キラル剤の感光による構造変化の変化量は、照射量に応じて異なる。そのため、露光した塗布膜２１ｂは、パターンマスクのパターンに応じて領域ごとにキラル剤の構造変化の変化量が異なるものとなる。

露光に用いる光の波長は、感光性キラル剤の種類等に応じて設定すればよい。
また、光の照射量も、感光性キラル剤の種類、パターンマスクの光透過率等に応じて設定すればよい。

次に、図１に示すように、積層フィルム２３ｂは搬送されて加熱部１５４に到る。加熱装置１１０において積層フィルム２３ｂは、塗布膜が乾燥され、配向処理を施される。
図２にＳ４で示すように、配向工程において、露光した塗布膜２１ｂを加熱装置１１０が加熱することで、塗布膜２１ｂ中の液晶化合物を配向する。加熱処理によって、キラル剤の構造に応じて液晶化合物を配向した塗布膜２１ｃが形成される。
ここで、前述のとおり塗布膜２１ｃ中においては、露光量が異なる３以上の領域がある。そのため、それぞれの領域では露光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチの長さが異なる構造となる。後に詳述するが、コレステリック液晶相における選択反射波長は、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチに依存する。従って、コレステリック液晶相の螺旋ピッチの長さが異なる３以上の領域を形成することで、選択反射波長が異なる３以上の領域が形成される。
支持体１２ａと配向した塗布膜２１ｃとの積層体を積層フィルム２３ｃとする。

次に、図１に示すように、積層フィルム２３ｃは搬送されて硬化部１５６に到る。硬化部１５６において積層フィルム２３ｃは硬化処理を施される。
図２にＳ５で示すように、硬化工程において、配向した塗布膜２１ｃを硬化部１１２が硬化させてコレステリック液晶層１８を形成する。これにより、コレステリック液晶層１８を有する液晶フィルムが作製される。支持体１２ａとコレステリック液晶層１８との積層体を積層フィルム２３ｄとする。
塗布膜２１ｃの硬化の方法としては、紫外線等の光照射による光硬化、および、加熱による熱硬化等の公知の硬化方法が利用可能である。
光照射により硬化を行なう場合には、パターンマスクとは反対側の面側から塗布膜２１ｃに光を照射するのが好ましい。

次に、作製した液晶フィルム（積層フィルム２３ｄ）は、第３搬送部１２４を通過して巻取りローラ１１６にてロール状に巻回してロール１３２とする。
作製した液晶フィルムのコレステリック液晶層は、選択反射波長の異なる３以上の領域がマスクパターンに応じたパターンで形成された構成を有するため、各領域が選択反射波長の光を反射することで、これに応じた色およびパターンの画像を表示することができる。

従来のように、コレステリック液晶の塗布液を基板に塗布し乾燥した後に、塗布膜に紫外線を照射して硬化させる際に、パターンマスクを用いて露光を行う構成では、乾燥により塗布膜中の液晶化合物が動きにくくなっているため、露光を行なっても液晶化合物の螺旋構造のピッチの変化量が所望の変化量よりも少なくなってしまう。そのため、所望の選択反射波長とすること、すなわち、所望の色味が再現できないという問題があった。
このような場合でも露光量を多くすれば所望の選択反射波長とすることができるが、露光量が多いと未露光部に光が漏れて未露光部も露光されてしまい、露光部と未露光部との（選択反射波長が異なる領域間の）境界が滲んで精細さが十分に得られないという問題があることがわかった。
また、パターンマスクとして、遮光部と透過部を有する２値のパターンマスクを用いる構成では、２値のパターンマスクを用いる場合には、コレステリック液晶層に選択反射波長が異なる３種以上の領域を形成する際に、パターンマスクを変えて複数回露光を行なう必要がある。そのため、より多色のコレステリック液晶層を形成するためには、多くの工程が必要となり製造効率が悪いという問題があることがわかった。

これに対して、本発明の製造方法においては、液晶組成物の塗布膜を加熱乾燥する前に、未乾燥状態の塗布膜に対して露光を行なうので、塗布膜中の液晶化合物が動きやすく、少ない露光量でも液晶化合物の螺旋構造のピッチの変化量を所望の変化量とすることができる。そのため、容易に所望の選択反射波長とすること、すなわち、所望の色味が再現できる。また、露光量が少ないため、隣接する領域（露光量が異なる領域）に光が漏れることを抑制でき、選択反射波長が異なる領域間の境界が滲むことがなく、精細な画像を得ることができる。
また、パターンマスクとして、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクを用いるため、一度の露光で、コレステリック液晶層に選択反射波長が異なる３以上の領域を形成することができる。そのため、多色のコレステリック液晶層を少ない工程で効率よく製造することができる。
このように本発明の製造方法は、精細で所望の色階調の画像を表示できるコレステリック液晶層を得ることができ、高い生産性を有する。

ここで、パターンマスクは、キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有するものであればよいが、より多くの色を再現して階調を高くできる等の観点から、パターンマスクは、透過率が異なる領域を８以上有するのが好ましく、２５６以上有するのがより好ましい。

また、図１に示す例においては、作製した液晶フィルムをロール状に巻き取る構成としたが、これに限定はされず、作製した液晶フィルムを所定の大きさに裁断する裁断部を有する構成としてもよい。

また、硬化工程における塗布膜の硬化方法が光硬化である場合には、硬化工程において照射する光の波長は、照射工程において照射する光の波長とは異なる波長であることが好ましく、照射工程において照射する光の波長が硬化工程において照射する光の波長よりも長波長であるのが好ましい。具体的には、照射工程において照射する光の波長は、キラル剤が感光する波長であって、重合開始剤が開裂しない波長であるのが好ましい。
硬化工程と照射工程とで、照射する光の波長を異ならせることで照射工程における光照射で塗布膜が硬化してしまうことを抑制でき、液晶化合物の螺旋構造のピッチの変化量を所望の変化量とすることができる。

照射工程において照射する光の波長は、キラル剤の種類に応じてキラル剤が感光する波長を選択すればよい。具体的には、照射工程において照射する光の波長は、３５０ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。すなわち、この波長範囲で感光するキラル剤を用いるのが好ましい。
また、照射工程において照射する光の照射量は、キラル剤の種類等に応じて所望の選択反射波長となる照射量を設定すればよい。

硬化工程において照射する光の波長は、重合開始剤等の種類に応じて、選択すればよい。具体的には、硬化工程において照射する光の波長は、３００ｎｍ〜３５０ｎｍが好ましい。すなわち、この波長範囲で重合反応を開始可能な重合開始剤を用いるのが好ましい。
また、硬化工程において照射する光の照射量は、重合開始剤等の種類等に応じて設定すればよい。

また、図１に示す例では、照射工程において光照射を一度行なう構成としたが、光照射を二度以上に分けて行なう構成としてもよい。例えば、照射工程が第一照射ステップと第二照射ステップとを有する構成としてもよい。
照射工程における光照射を二度以上に分けて行なう構成とすることで、露光によるキラル剤の構造変化をより好適に調整することができ、所望の選択反射波長とすることができる。

その際、第一照射ステップにおける光の照射量が第二照射ステップにおける光の照射量よりも少ないことが好ましい。
キラル剤の構造変化は、光の照射量の合計が少ないときには、光の照射量に対する変化量が大きく、光の照射量の合計が多くなるほど、光の照射量に対する変化量が小さくなる。従って、第一照射ステップにおける光の照射量を第二照射ステップにおける光の照射量よりも少なくすることで、露光によるキラル剤の構造変化をより好適に調整することができる。

また、照射工程が第一照射ステップと第二照射ステップとの照射量の合計は、２００ｍＪ／ｃｍ²以下であるのが好ましい。
照射量の合計を２００ｍＪ／ｃｍ²以下とすることで、未露光部の露光が防げる点で好ましい。

また、第一照射ステップおよび第二照射ステップにおいて、照射する光のピーク波長を異ならせる構成としてもよい。
第一照射ステップにおける光のピーク波長をキラル剤が感光する光のピーク波長からずらした波長とし、第二照射ステップにおける光のピーク波長をキラル剤が感光する光のピーク波長と一致させることで、実質的に、光の照射量を調整することができる。
具体的には、例えば、キラル剤の光吸ピークが３６５ｎｍで、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲で裾野を有するスペクトルであれば、第一照射ステップでは、裾野付近の２６５ｎｍの光を照射し、第二照射ステップでは、ピークの３６５ｎｍの光を照射することで、実質的に、光の照射量を調整することができる。

また、図１に示す例では、コレステリック液晶層１８を形成した直後に、ロール１３２に巻き取る構成としたが、ロール１３２に巻き取る前に、コレステリック液晶層１８の表面に保護フィルム等を貼着する工程を有していてもよい。

さらに、図２にＳ６で示すように、液晶フィルムを作製した後、コレステリック液晶層１８を円偏光板１６に転写する工程を有し、コレステリック液晶層１８と円偏光板１６とを有する機能性フィルムを作製する構成としてもよい。
具体的には、コレステリック液晶層１８を形成した後、ロール１３２に巻き取る前に、コレステリック液晶層１８の表面に円偏光板１６を貼着する構成であってもよいし、コレステリック液晶層１８を形成した後、ロール１３２に巻き取った後に、ロール１３２を一般的な貼合装置に装填して、コレステリック液晶層１８の表面に円偏光板１６を貼着する構成としてもよい。
また、円偏光板１６を貼着した後には、支持体１２ａを剥離する工程を有していてもよい。

円偏光板１６としては限定はなく、直線偏光板とλ／４板とを積層した構成の円偏光板等を用いることができる。また、円偏光板１６は、コレステリック液晶層１８によって反射される円偏光の旋回方向とは逆向きの円偏光を透過するものとする。

コレステリック液晶層１８と円偏光板１６とを積層した構成とすることで、コレステリック液晶層１８側（以下、表面側ともいう）から入射した光のうち、コレステリック液晶層１８では、選択反射波長の一方の円偏光が反射され、それ以外の光はコレステリック液晶層１８を透過し、円偏光板１６に入射する。円偏光板１６に入射した光のうち、他方の円偏光は円偏光板１６を透過する。
一方、円偏光板１６側（以下、裏面側ともいう）から入射した光は、円偏光板１６により他方の円偏光に変換されて円偏光板１６を透過し、コレステリック液晶層１８に入射する。
円偏光板１６を透過した他方の円偏光は、コレステリック液晶層１８のコレステリック液晶相の螺旋の旋回方向と逆の旋回方向であるため、コレステリック液晶層１８で反射されずにコレステリック液晶層１８を透過する。
従って、コレステリック液晶層１８と円偏光板１６とを積層した機能性フィルムを表面側から観察した際には、裏面側から入射し透過する他方の円偏光により、機能性フィルムの向こう側の光景が視認されるとともに、コレステリック液晶層１８の反射領域の選択反射波長の光が視認される。すなわち、表面側から見た際には、機能性フィルムの向こう側の光景とともに、コレステリック液晶層１８のパターン形状に応じた模様の画像が視認される。
一方、機能性フィルムを裏面側から観察した際には、表面側から入射し透過する左円偏光により、機能性フィルムの向こう側の光景が視認されるが、表面側からは観察できるコレステリック液晶層１８により表示される画像は視認されない。
このようにコレステリック液晶層１８と円偏光板１６とを積層した機能性フィルムは、透明性を有していながら、一方の面側（コレステリック液晶層側）から見た画像と、他方の面側（円偏光板側）から見た画像とが異なるフィルムとすることができる。

なお、コレステリック液晶層１８と円偏光板１６との間には、粘着層を有していてもよい。
また、円偏光板をコレステリック液晶層の表面に貼着する構成に限定はされず、円偏光板を支持体の裏面に貼着する構成であってもよい。すなわち、コレステリック液晶層と支持体と円偏光板とを有する機能性フィルムとしてもよい。

ここで、図１および図２に示す例においては、支持体１２ａがパターンマスクを有する構成としたが、これに限定はされず、パターンマスクを有するフィルムを支持体に貼着する構成としてもよい。
図３に、本発明の液晶フィルムの製造方法の他の一例を実施する製造装置を模式的に示す。

図３に示す製造装置１００ｂは、ＲｔｏＲによって液晶フィルムの製造を行なうものである。製造装置１００ｂは、送り出しローラ１０２と、供給ローラ１４０と、第１搬送部１２０と、塗布部１５０と、第２搬送部１２２と、露光部１５２と、加熱部１５４と、硬化部１５６と、第３搬送部１２４と、回収ローラ１４４と、巻取りローラ１１６と、を有する。
なお、図３に示す製造装置１００ｂは、供給ローラ１４０および回収ローラ１４４を有する以外は、図１に示す製造装置１００ａによる製造方法と同じであるので同じ部位には同じ符号を付し以下の説明は異なる部位を主に行なう。また、図３に示す製造装置１００ｂによる製造方法は、支持体１２ｂにマスクフィルム１４を貼着する工程および剥離する工程を有する以外は、図１に示す製造装置１００ａによる製造方法と同じであるので、以下の説明は異なる工程を主に行なう。

製造装置１００ｂにおいて、長尺な支持体１２ｂを巻回してなるロール１３０を、送り出しローラ１０２に装填する。なお、支持体１２ｂには、パターンマスクが形成されていない。
ロール１３０から支持体１２ｂを引き出して、第１搬送部１２０、塗布部１５０、第２搬送部１２２、露光部１５２、加熱部１１０、硬化部１５４および第３搬送部１２４を通過して巻取りローラ１１６に到る所定の経路に挿通させる。
また、調製したコレステリック液晶層となる液晶組成物を塗布部１０４の所定位置に充填する。

また、供給ローラ１４０には、基材フィルム２０と基材フィルム２０の表面にパターンマスクとして形成されたインク層２２とを有するマスクフィルム１４（図４参照）を巻回してなるロール１４２を装填し、ロール１４２からマスクフィルム１４を引き出して、第１搬送部１２０から第３搬送部１２４に到る所定の搬送経路に挿通させる。供給ローラ１４０は、支持体１２ｂの搬送方向において、送り出しローラと第１搬送部１２０との間に配置されている。

また、第３搬送部１２４の搬送ローラの位置において、支持体１２ｂからマスクフィルム１４を剥離して、支持体１２ｂから剥離したマスクフィルム１４を回収ローラ１４４に挿通させる。回収ローラ１４４は、支持体１２ｂの搬送方向において、第３搬送部１２４と巻取りローラ１１６との間に配置されて、マスクフィルム１４をロール１４６に回収するものである。

製造装置１００ｂでは、ロール１３０からの支持体１２ｂの送り出しと、コレステリック液晶層１８を形成した支持体１２ｂ（積層フィルム２３ｄ）の巻き取りとを同期して行なう。
まず、長尺な支持体１２ｂを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、マスクフィルム１４を支持体１２ｂの裏面に貼着して積層フィルム２５ａとする（図４参照）。
次に、塗布部１０４において調製した液晶組成物を支持体１２ｂの表面に塗布して積層フィルム２５ｂとする（図５参照）。

次に、露光部１５２において塗布膜を露光する。その際、支持体１２ｂに貼着したマスクフィルム１４側から塗布膜２１ａに光を照射する。
ここで、マスクフィルム１４が有するパターンマスクは、インク層２２によってキラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域が形成されている、多階調のパターンマスクである。従って、パターンマスクを介して塗布膜２１ａに光を照射することで、パターンマスクのパターンに対応して、領域ごとに異なる照射量の光が照射されて、選択反射波長が異なる３以上の領域を形成することができる。

その際、パターンマスク（インク層２２）側を支持体１２ｂに貼着するのが好ましい。
本発明の製造方法は、ＲｔｏＲで支持体１２ｂを搬送しながら光の照射を行なうため、塗布膜に対して、種々の方向から光が入射することになるため、光が漏れてしまい、領域の境界が滲んでしまうおそれがある。従って、パターンマスクとを支持体１２ｂに貼着してパターンマスクと塗布膜との距離を短くすることで、光の漏れを抑制でき、より精細な画像を形成することができる。

次いで、加熱部１１０において塗布膜を加熱して液晶を配向し、さらに、硬化部１１２において紫外線照射および／または加熱等を行なって塗布膜を硬化させてコレステリック液晶層１８を形成して、マスクフィルム１４、支持体１２ｂおよびコレステリック液晶層１８を有する積層フィルム２５ｅとする。
その後、支持体１２ｂからマスクフィルム１４を剥離する。剥離したマスクフィルム１４は、回収ローラ１４４においてロール状に巻回してロール１４６とする。
さらに、巻取りローラ１１６において支持体１２ｂ上にコレステリック液晶層１８が形成された長尺な積層フィルム２３ｄをロール状に巻回して、ロール１３２とする。

このように、パターンマスクが形成された基材フィルム（マスクフィルム１４）を支持体の裏面に貼着して照射工程（露光）を行なう構成としてもよい。
なお、図３に示す例では、マスクフィルム１４を支持体１２ｂに貼着した状態で、塗布工程、照射工程、配向工程、および、硬化工程を行なう構成としたが、少なくとも、照射工程をマスクフィルム１４を支持体１２ｂに貼着した状態で行なえばよく、他の工程は、マスクフィルム１４を貼着しない状態で行なってもよい。
例えば、塗布工程の後に支持体１２ｂにマスクフィルム１４を貼着する構成であってもよい。あるいは、支持体１２ｂにマスクフィルム１４が貼着された積層体をロール状に巻回したロール１３０を送り出しローラ１０２に装填して、支持体１２ｂにマスクフィルム１４が貼着された積層体を被処理物として送り出す構成としてもよい。
また、例えば、照射工程と配向工程との間にマスクフィルム１４を剥離する構成であってもよく、配向工程と硬化工程との間にマスクフィルム１４を剥離する構成であってもよい。あるいは、マスクフィルム１４を剥離せずに、巻取りローラ１１６においてマスクフィルム１４が積層された状態でロール状に巻回してロール１３２とする構成であってもよい。

なお、硬化工程において、マスクフィルム１４が支持体１２ｂに貼着された状態である場合には、マスクフィルム１４とは反対側の面側に光を照射するのが好ましい。

ここで、図１及び図２に示す例においては、支持体１２ａ上に１層のコレステリック液晶層１８を形成する構成としたが、これに限定はされず、塗布工程、照射工程、配向工程および硬化工程の組み合わせを２回以上行なって、２層以上のコレステリック液晶層を形成する構成としてもよい。
例えば、コレステリック液晶層を形成した支持体を被処理物として再度、製造装置に供給することで、コレステリック液晶層の上にコレステリック液晶層を形成する構成としてもよい。あるいは、製造装置が、支持体の搬送方向において、送り出しローラと巻取りローラとの間に、塗布部、露光部、加熱部および硬化部の組み合わせを２以上有する構成としてもよい。

２回以上の照射工程を行なう場合には、同一パターンのパターンマスクを介して光を照射し、かつ、各照射工程における光の照射量を互いに異なるものとするのが好ましい。
これにより、コレステリック液晶層の表面に垂直な方向から見た際に、同じ位置での選択反射波長が、各コレステリック液晶層で異なるものとなる。この構成によって、複数のコレステリック液晶層の選択反射波長の光が混ざった色が視認される。すなわち、種々の色を再現することができる。例えば、コレステリック液晶層を３層構成とし、各コレステリック液晶層がそれぞれ赤色、緑色および青色を反射するものとすることで白色を再現することができる。

（コレステリック液晶層）
次に、コレステリック液晶層について説明する。
コレステリック液晶層とは、コレステリック液晶相を含む層のことを言う。コレステリック液晶層はコレステリック液晶相を固定してなる層である。
コレステリック液晶層は、選択反射波長の光の右円偏光あるいは左円偏光を反射し、選択反射波長の他方の円偏光および他の波長域の光を透過する。

コレステリック液晶相を固定した構造は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている構造であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることない状態に変化した構造であればよい。なお、コレステリック液晶相を固定した構造においては、コレステリック液晶相の光学的性質が保持されていれば十分であり、液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

コレステリック液晶相の選択反射波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。そのため、この螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射波長を調節することができる。コレステリック液晶相のピッチは、重合性液晶化合物と共に用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。
また、選択反射を示す選択反射帯域（円偏光反射帯域）の半値幅Δλ（ｎｍ）は、コレステリック液晶相の屈折率異方性Δｎと螺旋のピッチＰとに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射帯域の幅の制御は、Δｎを調節して行うことができる。Δｎは、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類およびその混合比率、ならびに、配向時の温度により調節できる。なお、コレステリック液晶相における反射率はΔｎに依存することも知られており、同程度の反射率を得る場合に、Δｎが大きいほど、螺旋ピッチの数を少なく、すなわち膜厚を薄く、することができる。
螺旋のセンスおよびピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 １９６頁に記載の方法を用いることができる。

コレステリック液晶相の反射光は円偏光である。反射光が右円偏光であるか左円偏光であるかは、コレステリック液晶相は螺旋の捩れ方向による。コレステリック液晶相による円偏光の選択反射は、コレステリック液晶相の螺旋の捩れ方向が右の場合は右円偏光を反射し、螺旋の捩れ方向が左の場合は左円偏光を反射する。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類または添加されるキラル剤の種類によって調節できる。

反射する光の波長領域を広くするには、選択反射波長λをずらした層を順次積層することで実現することができる。また、ピッチグラジエント法と呼ばれる層内の螺旋ピッチを段階的に変化させる方法で、波長範囲を広げる技術も知られており、具体的にはＮａｔｕｒｅ ３７８、４６７−４６９（１９９５）、特開平６−２８１８１４号公報、および、特許４９９０４２６号公報に記載の方法などが挙げられる。

本発明において、コレステリック液晶層の領域における選択反射波長は、可視光（３８０〜７８０ｎｍ程度）および近赤外光（７８０〜２０００ｎｍ程度）のいずれの範囲にも設定することが可能であり、その設定方法は上述した通りである。

ここで、前述のとおり、本発明の製造方法で作製する液晶フィルムにおいては、コレステリック液晶層は、選択反射波長が異なる３以上の領域を有する。
例えば、コレステリック液晶層は、赤色光（６２０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長域の光）を選択反射波長とする領域、緑色光（４９５ｎｍ〜５７０ｎｍの波長域の光）を選択反射波長とする領域、および、青色光（４２０ｎｍ〜４９０ｎｍの波長域の光）を選択反射波長とする領域を有する構成とすることができる。
また、赤外線を選択反射波長とする反射領域を有していてもよい。なお、赤外線とは、７８０ｎｍを超え、１ｍｍ以下の波長領域の光であり、中でも、近赤外領域とは、７８０ｎｍを超え、２０００ｎｍ以下の波長領域の光である。

（液晶組成物）
コレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、液晶化合物および感光性キラル剤を含む液晶組成物が挙げられる。液晶化合物は重合性液晶化合物であることが好ましい。
重合性液晶化合物を含む液晶組成物はさらに界面活性剤、重合開始剤等を含んでいてもよい。

−−重合性液晶化合物−−
重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物であることが好ましい。
コレステリック液晶層を形成する棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。

重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。

重合性液晶化合物の具体例としては、下記式（１）〜（１１）に示す化合物が挙げられる。

［化合物（１１）において、Ｘ¹は２〜５(整数）である。］

また、上記以外の重合性液晶化合物としては、特開昭５７−１６５４８０号公報に開示されているようなコレステリック相を有する環式オルガノポリシロキサン化合物等を用いることができる。さらに、前述の高分子液晶化合物としては、液晶を呈するメソゲン基を主鎖、側鎖、あるいは主鎖および側鎖の両方の位置に導入した高分子、コレステリル基を側鎖に導入した高分子コレステリック液晶、特開平９−１３３８１０号公報に開示されているような液晶性高分子、特開平１１−２９３２５２号公報に開示されているような液晶性高分子等を用いることができる。

また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の添加量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、７５〜９９．９質量％であることが好ましく、８０〜９９質量％であることがより好ましく、８５〜９０質量％であることが特に好ましい。

−−キラル剤（光学活性化合物）−−
キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋の捩れ方向または螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（Super-twisted nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）、イソソルビド、イソマンニド誘導体を用いることができる。
キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。

なお、前述のとおり、コレステリック液晶層を製造する際に、光照射によってコレステリック液晶相の螺旋ピッチの大きさを制御するものである。従って、光に感応しコレステリック液晶相の螺旋ピッチを変化させ得るキラル剤（感光性キラル剤とも称する）を用いる。
感光性キラル剤とは、光を吸収することにより構造が変化し、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを変化させ得る化合物である。このような化合物としては、光異性化反応、光二量化反応、および、光分解反応の少なくとも１つを起こす化合物が好ましい。
光異性化反応を起こす化合物とは、光の作用で立体異性化または構造異性化を起こす化合物をいう。光異性化化合物としては、例えば、アゾベンゼン化合物、および、スピロピラン化合物などが挙げられる。
また、光二量化反応を起こす化合物とは、光の照射によって、二つの基の間に付加反応を起こして環化する化合物をいう。光二量化化合物としては、例えば、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、および、ベンゾフェノン誘導体などが挙げられる。

上記感光性キラル剤としては、以下の一般式（Ｉ）で表されるキラル剤が好ましく挙げられる。このキラル剤は、光照射時の光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチ（捻れ力、螺旋の捻れ角）などの配向構造を変化させ得る。

一般式（Ｉ）中、Ａｒ¹とＡｒ²は、アリール基または複素芳香環基を表す。
Ａｒ¹とＡｒ²で表されるアリール基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６〜４０が好ましく、総炭素数６〜３０がより好ましい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、シアノ基、または、複素環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、または、アリールオキシカルボニル基がより好ましい。

このようなアリール基のうち、下記一般式（III）または（IV）式で表されるアリール基が好ましい。

一般式（III）中のＲ¹および一般式（IV）中のＲ²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、または、シアノ基を表す。なかでも、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アシルオキシ基が好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシル基、または、アシルオキシ基がより好ましい。
一般式（III）中のＬ¹および一般式（IV）中のＬ²は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、または、ヒドロキシル基を表し、炭素数１〜１０のアルコキシ基、または、ヒドロキシル基が好ましい。
ｌは０、１〜４の整数を表し、０、１が好ましい。ｍは０、１〜６の整数を表し、０、１が好ましい。ｌ、ｍが２以上のときは、Ｌ¹とＬ²は互いに異なる基を表してもよい。

Ａｒ¹とＡｒ²で表される複素芳香環基は、置換基を有していてもよく、総炭素数４〜４０が好ましく、総炭素数４〜３０がより好ましい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、または、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、または、アシルオキシ基がより好ましい。
複素芳香環基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、および、ベンゾフラニル基などが挙げられ、この中でも、ピリジル基、または、ピリミジニル基が好ましい。

液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶性化合物量の０．０１モル％〜２００モル％が好ましく、１モル％〜３０モル％がより好ましい。

−−重合開始剤−−
液晶組成物が重合性化合物を含む場合は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１２質量％であることがさらに好ましい。

−−架橋剤−−
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］、４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の含有量は、３質量％〜２０質量％が好ましく、５質量％〜１５質量％がより好ましい。架橋剤の含有量が、３質量％未満であると、架橋密度向上の効果が得られないことがあり、２０質量％を超えると、コレステリック液晶層の安定性を低下させてしまうことがある。

−−その他の添加剤−−
液晶組成物中には、必要に応じて、さらに界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能等を低下させない範囲で添加することができる。

液晶組成物は溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、エーテル類などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。上述の単官能重合性モノマーなどの上述の成分が溶媒として機能していてもよい。

（λ／４板）
円偏光板を構成するλ／４板は、従来公知のλ／４板であり、λ／４板に入射する光が直線偏光の場合には円偏光にして出射し、λ／４板に入射する光が円偏光の場合には直線偏光にして出射する。

λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に、または、円偏光を直線偏光に変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値がＲｅ（λ）＝λ／４（または、この奇数倍）を示す板である。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。
なお、λ／４板は、光学異方性層のみからなる構成であっても、支持体に光学異方性層を形成した構成であってもよいが、λ／４板が支持体を有する場合には、支持体と光学異方性層との組み合わせが、λ／４板であることを意図する。
λ／４板は、公知のλ／４板が利用可能である。

また、本発明の液晶フィルムにおいては、λ／４板は、厚さ方向のレターデーションであるＲｔｈ（５５０）が少ないのが好ましい。
具体的には、Ｒｔｈ（５５０）が−５０ｎｍ〜５０ｎｍであるのが好ましく、−３０ｎｍ〜３０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈ（λ）がゼロであるのがさらに好ましい。これにより、λ/４板に対して斜めに入射する円偏光を直線偏光に変換できる点で好ましい結果を得る。

ここで、λ／４板はコレステリック液晶層１８を透過して入射する他方の円偏光（コレステリック液晶層を透過する旋回方向の円偏光）が直線偏光になるように遅相軸を合わせて配置される。

（直線偏光板）
円偏光板を構成する直線偏光板は、一方向の偏光軸を有し、特定の直線偏光を透過する機能を有する。
直線偏光板としては、ヨウ素化合物を含む吸収型偏光板やワイヤーグリッドなどの反射型偏光板等の一般的な直線偏光板が利用可能である。なお、偏光軸とは、透過軸と同義である。
吸収型偏光板としては、例えば、ヨウ素系偏光板、二色性染料を利用した染料系偏光板、および、ポリエン系偏光板の、いずれも用いることができる。ヨウ素系偏光板、および染料系偏光板は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。

ここで、直線偏光板は、λ／４板を透過して入射する直線偏光が透過するように、偏光軸を合わせて配置される。これにより、直線偏光板とλ／４板との組み合わせは、λ／４板側から入射した光のうち、他方の円偏光を直線偏光にして透過する円偏光板として機能する。すなわち、λ／４板と直線偏光板との組み合わせは、コレステリック液晶層１８が反射する円偏光とは旋回方向が逆向きの円偏光を透過するものである。

（粘着層）
粘着層は、コレステリック液晶層１８とλ／４板（円偏光板）とを貼り合わせるものである。
粘着層は、対象となる層（シート状物）を貼り合わせられる物であれば、公知の各種の材料からなるものが利用可能であり、貼り合わせる際には流動性を有し、その後、固体になる、接着剤からなる層でもよいし、貼り合わせる際にゲル状（ゴム状）の柔らかい固体で、その後もゲル状の状態が変化しない、粘着剤からなる層でもよいし、接着剤と粘着剤との両方の特徴を持った材料からなる層でもよい。従って、粘着層は、光学透明接着剤(ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive))、光学透明両面テープ、紫外線硬化型樹脂等、シート状物の貼り合わせに用いられる公知のものを用いればよい。

〔用途〕
本発明の液晶フィルムの用途は特に限定されないが、例えば、ビルの窓広告として窓ガラスに貼り付けられる広告媒体、車、タクシー、バス、電車などの窓ガラスに貼り付けられる広告媒体やライト部分やデザイン性の加飾、道路標識、住宅や店舗、水族館、動物園、植物館、美術館などの窓ガラス、遊戯機、遊戯用カード、下敷きなどの玩具や文房具、舞台、劇場用の器材、エレベータ、エスカレータ、階段などの透明部材、カバンや服、ゴーグルやサングラスなどのファッション部材、カベ、カーテンや床などのインテリアファブリクス用材料、ＰＯＰ広告（Point of purchase advertising）、名刺、ステッカー、はがき、写真、コースター、チケット、うちわ、せんす、テント、ブラインド、シャッター、防護用盾、衝立などのセパレーション、家電製品(カメラ、インスタントカメラ、ＰＣ（personal computer）、スマートフォン、テレビ、レコーダー、レンジ、オーディオプレーヤー、ゲーム機、ＶＲ（virtual reality）ヘッドセット、掃除機、洗濯機)、スマートフォンカバー、ぬいぐるみ、コップ、お皿、プレート、壺や花瓶、机、イス、ＣＤ（compact disc）、ＤＶＤケース、本、カレンダー、ペットボトル、食品包装容器、ギターやピアノなどの楽器、ラケット、バット、クラブ、ボールなどのスポーツ用品、迷路、観覧車、ジェットコースター、お化け屋敷などのアトラクション、造花、知育玩具、ボードゲーム、かさ、杖、時計、オルゴール、ネックレスなどの服飾材料、化粧品などの容器、ソーラーパネル、電灯やランプカバーとして用いることができる。

以上、本発明の液晶フィルムについて詳細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、使用量、物質量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
実施例１として、図１に示すような構成の製造装置１００ａを用いて液晶フィルムを作製した。

（液晶組成物の調製）
下記に示す組成物を、２５℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック液晶インク液Ａ（液晶組成物）を調製した。
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コレステリック液晶インク液Ａ
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下記の液晶化合物１ １ｇ
下記構造のキラル剤１ １０７ｍｇ
下記構造の水平配向剤１ １ｍｇ
開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ (ＢＡＳＦ社製) ４０ｍｇ
ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０ １０ｍｇ
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） １．６ｇ
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（コレステリック液晶層の形成）
支持体１２ａとして、厚み５０μｍの富士フイルム（株）社製ＰＥＴフィルムを用いた。支持体１２ａの裏面には、所定のパターンをカラーで印刷してパターンマスクを形成した。

塗布工程として、上記で調製したコレステリック液晶インク液Ａを支持体の表面にダイコーターを用いて塗布した。塗布は乾燥後の塗布層の厚みが２〜５μｍ程度になるように調整して、室温にて行い、塗布膜を形成した。
次に、照射工程として、室温でパターンマスクを介して、塗布膜にＵＶ（紫外線、波長３６５ｎｍ）照射を５０ｍＪ／ｃｍ^２行った。なお、ＵＶ照射の光源として、ＬＥＤＵＶＨＬＤＬ−２００Ｘ１８０−Ｕ６ＰＳＣ（ＣＣＳ（株）社製）を用いた。

次に、加熱工程として、照射工程後の塗布膜が積層された支持体を、９０℃の熱風乾燥ゾーンで１分間加熱した。
次に、硬化工程として、窒素雰囲気下（酸素濃度５００ｐｐｍ以下）、室温で、加熱処理後の塗布膜に表面からＵＶ照射（波長３００〜３５０ｎｍ、２００ｍＪ／ｃｍ²）を行い、塗布膜を硬化させてコレステリック液晶層を形成した。
なお、ＵＶ照射の光源として、ＵＥ０９６１−４２６−０５ＣＱＴ（岩崎電気（株）社製）を用いた。
その後、巻取りローラで巻き取った。

［実施例２］
実施例２として、図３に示すような構成の製造装置１００ｂを用いて液晶フィルムを作製した。
具体的には、支持体１２ｂとして、厚み５０μｍの富士フイルム（株）社製ＰＥＴフィルムを用い、マスクフィルム１４として、基材フィルム２０（厚み１００μｍ 東洋紡（株）社製 ＰＥＴフィルム）に所定のパターンをカラーで印刷してパターンマスク（インク層２２）を形成し、塗布工程の前に、マスクフィルム１４を支持体１２ｂに貼着し、硬化工程の後に、マスクフィルム１４を剥離する構成とした以外は、実施例１と同様にして、液晶フィルムを作製した。
なお、マスクフィルム１４は、パターンマスク側を支持体１２ｂに貼着した。

［実施例３］
マスクフィルム１４の基材フィルム２０側を支持体１２ｂに貼着した以外は、実施例２と同様にして液晶フィルムを作製した。

［実施例４］
照射工程において、２回照射を行なう構成とし、第一照射ステップの照射量を２０ｍＪ／ｃｍ²とし、第二照射ステップの照射量を４０ｍＪ／ｃｍ²とした以外は、実施例１と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［実施例５］
第一照射ステップの照射量を５０ｍＪ／ｃｍ²とし、第二照射ステップの照射量を１００ｍＪ／ｃｍ²とした以外は、実施例４と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［実施例６］
第一照射ステップの光の波長を３８５ｎｍ、照射量を５０ｍＪ／ｃｍ²とし、第二照射ステップの波長を３６５ｎｍ、照射量を５０ｍＪ／ｃｍ²とした以外は、実施例４と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［実施例７］
第一照射ステップの照射量を１２５ｍＪ／ｃｍ²とし、第二照射ステップの照射量を１２５ｍＪ／ｃｍ²とした以外は、実施例４と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［実施例８］
液晶組成物（コレステリック液晶インク液Ａ）に含まれる開始剤として、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９ (ＢＡＳＦ社製)、４０ｍｇを用い、硬化工程における光の波長を３６５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［比較例１］
配向工程の後に照射工程を行なう構成とした以外は、実施例１と同様にして、液晶フィルムを作製した。

［比較例２］
パターンマスクとして、白黒２値のパターンマスクを印刷により支持体に形成した以外は、実施例１と同様にして液晶フィルムを作製した。

［比較例３］
パターンマスクとして、白黒２値のパターンマスクを印刷により支持体に形成した以外は、実施例２と同様にして液晶フィルムを作製した。

＜評価＞
各実施例で作製した液晶フィルムについて、コレステリック液晶層側から目視で観察してパターンの精細度、および、色表示の階調性を評価し以下の基準で評価した。

パターン精細度の評価
ＡＡ：かなり良好
Ａ：良好
Ｂ：やや良好
Ｃ：パターンがぼやける。

色表示の階調性の評価
Ａ：階調性が高い
Ｂ：階調性がやや高い
Ｃ：２値、または、色が滲む。
結果を表１に示す。
また、実施例１のパターンマスクを撮影した画像を図８に示し、実施例１で作製した液晶フィルムを撮影した画像を図７に示す。なお、本発明においては、図６に示すグレースケールのパターンマスクであっても同様の効果が得られる。また、図７に示す液晶フィルムは、一部を評価のために切り取っている。
また、比較例２および３で用いた２値マスクの画像を図９に示す。

表１に示すように、本発明の製造方法で作製した実施例１〜８の液晶フィルムは、比較例と比べて、精細度および階調性が良好であることがわかる。
また、実施例２と実施例３との対比から、パターンマスクを支持体とは別のフィルムに形成し、支持体に貼着して照射工程を行なう構成とする場合には、パターンマスク側を支持体に貼着するのが好ましいことがわかる。
また、実施例１と実施例５および６との対比から、照射工程において光の照射を２回に分けて照射することで、精細度がより向上することがわかる。
また、実施例５および６と実施例７との対比から、照射量の合計は２００ｍＪ／ｃｍ²以下とするのが好ましいことがわかる。
また、実施例１と実施例８との対比から、照射工程の光の波長と硬化工程の光の波長とを異ならせることが好ましいことがわかる。

［実施例９］
実施例９として、図１０に示すパターンマスクを用いた以外は、実施例１と同様にして液晶フィルムを作製した。作製した液晶フィルムを撮影した画像を図１１に示す。
図１０および図１１からわかるように、パターンマスクのパターンおよび濃淡に応じて、コレステリック液晶層の色、すなわち、選択反射波長が異なる領域が形成されるのがわかる。
以上の結果より本発明の効果は明らかである。

１２ａ、１２ｂ 支持体
１４ マスクフィルム
１６ 円偏光板
１８ コレステリック液晶層
２０ 基材フィルム
２１ａ 塗布膜
２１ｂ 露光した塗布膜
２１ｃ 配向した塗布膜
２２ インク層
２３ａ〜２３ｄ、２５ａ〜２５ｂ 積層フィルム
１００ａ、１００ｂ 液晶フィルム製造装置
１０２ 送り出しローラ
１０４ 塗布ノズル
１０６、１１４ バックアップローラ
１０８ 露光装置
１１０ 加熱装置
１１２ ＵＶ照射装置
１１６ 巻取りローラ
１２０ 第１搬送部
１２２ 第２搬送部
１２４ 第３搬送部
１３０、１３２、１４２、１４６ ロール
１４０ 供給ローラ
１４４ 回収ローラ
１５０ 塗布部
１５２ 露光部
１５４ 加熱部
１５６ 硬化部

Claims (12)

1. 長尺な支持体を長手方向に送り出す送出工程と、
   送り出した支持体を長手方向に搬送しつつ、コレステリック液晶化合物と感光性のキラル剤とを含む液晶組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、
   未乾燥状態の前記液晶組成物の塗布膜に前記キラル剤が感光する波長の光を照射する照射工程と、
   前記塗布膜を加熱して液晶を配向する配向工程と、
   配向した前記塗布膜を硬化する硬化工程と、をこの順に有し、
   前記照射工程において、前記支持体側に配置されたパターンマスクを介して前記塗布膜に光を照射し、
   前記パターンマスクは、前記キラル剤が感光する波長の光に対する透過率が異なる３以上の領域を有する多階調のパターンマスクであり、
   前記照射工程において、多階調の前記パターンマスクを介して前記塗布膜に光を照射することで、前記塗布膜の各領域に対して異なる照射量の光を照射する液晶フィルムの製造方法。
2. 前記パターンマスクは、前記支持体の裏面に形成されている請求項１に記載の液晶フィルムの製造方法。
3. 前記パターンマスクは、長尺な基材フィルムの表面に形成されており、
   前記照射工程において、前記パターンマスクが形成された前記基材フィルムが前記支持体の裏面に貼着された状態で、光の照射を行なう請求項１に記載の液晶フィルムの製造方法。
4. 前記パターンマスクは、グレースケール印刷により形成されたものである請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
5. 前記照射工程は、第一照射ステップと第二照射ステップとを有し、
   前記第一照射ステップにおける光の照射量が、前記第二照射ステップにおける光の照射量よりも少ない請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
6. 前記第一照射ステップおよび前記第二照射ステップの照射量の合計が２００ｍＪ／ｃｍ²以下である請求項５に記載の液晶フィルムの製造方法。
7. 前記照射工程は、第一照射ステップと第二照射ステップとを有し、
   前記第一照射ステップにおいて照射する光のピーク波長と、前記第二照射ステップにおいて照射する光のピーク波長とが互いに異なる請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
8. 前記硬化工程は、前記塗布膜を光硬化させる工程であり、
   前記硬化工程において照射する光の波長が、前記照射工程において照射する光の波長とは異なる請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
9. 前記硬化工程において、前記パターンマスクは前記支持体の裏面側に配置された状態で一体的に搬送されており、
   前記パターンマスクとは反対側の面側に光を照射する請求項８に記載の液晶フィルムの製造方法。
10. 前記塗布工程における前記液晶組成物の塗布方法がバー塗布である請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
11. 前記塗布工程、前記照射工程、前記配向工程および前記硬化工程の組み合わせを２回以上繰り返して２層以上のコレステリック液晶層を形成する液晶フィルムの製造方法であって、
    ２回以上の前記照射工程において、同一パターンの前記パターンマスクを介して光を照射し、かつ、各前記照射工程における光の照射量を互いに異ならせる請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法。
12. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶フィルムの製造方法の前記硬化工程の後に、硬化した前記塗布膜の表面又は前記支持体の裏面に円偏光板を貼着する工程を有する機能性フィルムの製造方法。