JP7483026B2 - 加飾フィルム及びその製造方法、成型体並びに物品 - Google Patents

Description

本開示は、加飾フィルム及びその製造方法、成型体並びに物品に関する。

例えば、電子デバイス、家電製品、自動車部品等の製造に用いられる基材の表面に意匠を付与するために、加飾フィルムが広く用いられている。このような加飾フィルムとして、多層膜干渉による波長選択反射性を利用したものが知られており、その表面の反射率を調節することで、様々な色を発現することができる。そのため、多層膜干渉による波長選択反射性を利用した加飾フィルムについて、その表面の反射率を調節して所望の色を得るため、種々の技術が検討されている。

例えば、国際公開第２０１８／１８６１８４号には、着色透過層と、反射に波長選択性を有する反射層とを含む積層体を含む加飾シートが記載されている。

国際公開第２０１８／１８６１８４号等の技術を始めとして、加飾フィルムの反射率を制御するための技術が従来から検討されているが、より容易に任意の反射率に制御可能な技術が求められているのが現状である。

本開示は、このような状況を鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、任意の反射率に制御可能な加飾フィルムを提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記加飾フィルムの製造方法を提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記加飾フィルムを成型してなる成型体を提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記成型体を備えた物品を提供することである。

本開示は、以下の態様を含む。
＜１＞ 波長選択反射性を有する光反射部と、光反射部に隣接する透光部と、を厚み方向に含む単一層からなる反射層を含む、加飾フィルム。
＜２＞ 反射層が、光反射部の厚さが互いに異なる複数の領域を面内方向に含む＜１＞に記載の加飾フィルム。
＜３＞ 反射層が、選択反射波長が互いに異なる複数の領域を面内方向に含む＜１＞又は＜２＞に記載の加飾フィルム。
＜４＞ 選択反射波長が互いに異なる複数の領域は、選択反射波長が１５ｎｍ以上異なる＜３＞に記載の加飾フィルム。
＜５＞ 上記複数の領域は、最大反射率が１０％以上異なる＜２＞～＜４＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム。
＜６＞ 反射層の選択反射波長が、３５０ｎｍ～１２００ｎｍである＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム。
＜７＞ 反射層が、コレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物であり、
光反射部が、コレステリック配向部であり、
透光部が、等方部である、
＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム。
＜８＞ 反射層が、コレステリック液晶化合物の螺旋ピッチが１０ｎｍ以上異なる複数の光反射部を面内方向に含む＜７＞に記載の加飾フィルム。
＜９＞ 液晶層が、光異性化キラル化合物を含む＜７＞又は＜８＞に記載の加飾フィルム。
＜１０＞ 基材を含む＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム。
＜１１＞ 着色層を含む＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム。
＜１２＞ 基材と、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶層とを有する液晶材料を準備する工程と、
液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程と、
コレステリック液晶相とした液晶層に第１光を照射して液晶層の一部を硬化させる工程と、
第１光の照射後の液晶層を加熱して液晶層の未硬化部を等方相とする工程と、
少なくとも等方相とした未硬化部に第２光を照射して未硬化部を硬化させる工程と、
を含む加飾フィルムの製造方法。
＜１３＞ 液晶層の一部を硬化させる工程において、第１光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第１パターニングマスクを介して第１光を照射する＜１２＞に記載の加飾フィルムの製造方法。
＜１４＞ 基材が透光性であり、
液晶層の一部を硬化させる工程において、基材の液晶層を有する側とは反対側から、第１パターニングマスク及び基材を介して第１光を照射し、
未硬化部を硬化させる工程において、基材の液晶層を有する側から、第２光を照射する、
＜１３＞に記載の加飾フィルムの製造方法。
＜１５＞ 液晶層が、光異性化キラル化合物を含み、
液晶材料を準備する工程と、液晶層の一部を硬化させる工程との間に、コレステリック液晶相とした液晶層に第３光を照射して光異性化キラル化合物を光異性化させる工程を含む、
＜１２＞又は＜１３＞に記載の加飾フィルムの製造方法。
＜１６＞ 光異性化キラル化合物を光異性化させる工程において、第３光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第２パターニングマスクを介して第３光を照射する＜１５＞に記載の加飾フィルムの製造方法。
＜１７＞ 液晶層が、光ラジカル重合開始剤を含み、
コレステリック液晶化合物が、ラジカル重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む、
＜１２＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の加飾フィルムの製造方法。
＜１８＞ ＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の加飾フィルムを成型してなる成型体。
＜１９＞ ＜１８＞に記載の成型体を備えた物品。
＜２０＞ 電子デバイスである＜１９＞に記載の物品。

本発明の一実施形態によれば、任意の反射率に制御可能な加飾フィルムが提供される。
本発明の他の実施形態によれば、上記加飾フィルムの製造方法が提供される。
本発明の他の実施形態によれば、上記加飾フィルムを成型してなる成型体が提供される。
本発明の他の実施形態によれば、上記成型体を備えた物品が提供される。

図１は、本開示に係る加飾フィルムの一例を示す概略的断面図である。 図２は、反射層を走査電子顕微鏡で観察した様子の一例を示す概略的断面図である。 図３は、基材と液晶層とを含む液晶材料の一例を示す概略的断面図である。 図４は、第１パターニングマスクを用いて第１光で液晶層を露光する様子の一例を示す概略的断面図である。 図５は、第２光で液晶層を露光する様子の一例を示す概略的断面図である。 図６は、第２パターニングマスクを用いて第３光で液晶層を露光する様子の一例を示す概略的断面図である。 図７は、第１パターニングマスクを用いて第１光で液晶層を露光する様子の一例を示す概略的断面図である。 図８は、第２光で液晶層を露光する様子の一例を示す概略的断面図である。 図９は、実施例１～実施例３の第１パターニングマスクを示す概略的平面図である。 図１０は、実施例１の加飾フィルムを示す概略的平面図である。 図１１は、実施例１の加飾フィルムを示す概略的断面図である。 図１２は、実施例２の第２パターニングマスクを示す概略的平面図である。 図１３は、実施例２の加飾フィルムを示す概略的平面図である。 図１４は、実施例２の加飾フィルムを示す概略的断面図である。 図１５は、実施例３の加飾フィルムを示す概略的平面図である。 図１６は、実施例３の加飾フィルムを示す概略的断面図である。 図１７は、実施例４のガラス部材を示す概略的平面図である。 図１８は、実施例４のガラス部材を示す概略的断面図である。

以下、本開示に係る加飾フィルム及びその製造方法、成型体並びに物品の詳細を説明する。

本開示において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において、各成分の量は、各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、複数種の物質の合計量を意味する。
本開示において、「光」は、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線等の活性エネルギー線を包含する概念である。
本開示において、「工程」という語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念として用いられる語である。
本開示において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に断りのない限り、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、及びＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも商品名、東ソー社製）を使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、示差屈折率（ＲＩ）検出器により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「全固形分量」とは、全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、全組成から溶媒を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。

以下の説明において参照する図面は、例示的、かつ、概略的に示されたものであり、本開示は、これらの図面に限定されない。また、図面の符号は省略することがある。

＜加飾フィルム＞
本開示に係る加飾フィルムは、波長選択反射性を有する光反射部と、光反射部に隣接する透光部と、を厚み方向に含む単一層からなる反射層を含む。

多層膜干渉による波長選択反射性を利用した加飾フィルムは、その表面の反射率を調節することで、様々な色を発現することができる。反射率を調節するため、例えば、国際公開第２０１８／１８６１８４号に開示されているように、着色透過層と、反射に波長選択性を有する反射層とを含む積層体を用いることが考えられる。しかし、国際公開第２０１８／１８６１８４号に記載の積層体では、これらの層を塗分けて重ねることが必要となる。

これに対して、本開示に係る加飾フィルムでは、単一層からなる反射層中に、波長選択反射性を有する光反射部と、透光部とを設け、かつ、光反射部と透光部とが隣接するように厚み方向に配置させている。この構成により、反射層中で光反射部の厚さを変化させて、反射層の反射率を任意の値に容易に制御することができる。そのため、加飾フィルムの色を容易に変化させることができる。

［反射層］
反射層は、波長選択反射性を有する光反射部と、光反射部に隣接する透光部と、を厚み方向に含み、単一層からなる。

波長選択反射性を有する光反射部は、以下で定義される選択反射波長の中心波長（以下、単に「選択反射波長」と呼ぶことがある）を有する。
光反射部を含む反射層は、光反射部に由来する波長選択反射性を有しており、光反射部と同じ選択反射波長を有する。そのため、反射層が波長選択反射性を有する場合、光反射部も波長選択反射性を有することとなる。

本開示において「選択反射波長の中心波長」とは、対象となる物（部材）における反射率の極大値、かつ、最大値（以下、単に「最大反射率」と呼ぶことがある）をＲ_ｍａｘ（％）とした場合、下記の式で表される半値反射率Ｒ^１／２（％）を示す２つの波長の平均値のことをいう。但し、上記２つの波長のうち一方の波長は、Ｒ_ｍａｘを示す波長よりも短い波長を含む波長域における最大波長とし、上記２つの波長のうち他方の波長は、上記Ｒ_ｍａｘを示す波長よりも長い波長を含む波長域における最小波長とする。
半値反射率を求める式：Ｒ^１／２＝Ｒ_ｍａｘ÷２

本開示において、反射率は、積分球装置を備えた分光光度計で測定される積分反射率である。分光光度計及び積分球として、それぞれ市販品を用いることができ、例えば、日本分光社製の分光光度計「Ｖ－６７０」、及び同社製の大型積分球装置「ＩＬＶ－４７１」が挙げられる。

選択反射波長及び反射率は、反射スペクトルを特徴付けるものであり、色に寄与する。そのため、選択反射波長及び反射率の少なくとも一方を変化させることで、色を変化させることができる。
本開示において、選択反射波長が同じ反射スペクトルから得られる色を「同系統の色」と呼ぶことがあり、選択反射波長が異なる反射スペクトルから得られる色を「別系統の色」と呼ぶことがある。
例えば、選択反射波長を一定とし、反射率を変化させることにより、同系統の色で明暗を調節することができる。例えば、選択反射波長を４６０ｎｍ（青色）として、最大反射率を２３％（暗青色）から４８％（明青色）の間で制御することで、同系統の青色で明暗を調節することができる。
また、例えば、選択反射波長を変化させることで、別系統の色を得ることができる。例えば、選択反射波長を４６０ｎｍ（青色）から５５２ｎｍ（緑色）に変更することで、別系統の色である緑色を得ることができる。

光反射部及び透光部の厚さは特に限定されず、所望の反射率が得られるように適宜調節してよい。光反射部及び透光部の厚さは、反射層の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ；Ｓｃａｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で観察して測定することができる。
また、反射層の厚さは特に限定されないが、より適切な反射率を得る観点から、０．１μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～８μｍであることがより好ましく、０．５μｍ～６μｍであることが更に好ましい。

反射層は、反射部と透光部とを有する領域に加えて、透光部を有しない領域を含んでよく、透光部を有しない領域において、反射層の反射率は、反射部の反射率と同一となる。例えば、図１に示される加飾フィルム１００において、反射層１０は、反射部１１と透光部１２とを有する領域ａ１と、透光部１２を有しない領域ａ２及び領域ａ３とを含む。この場合、領域ａ２及び領域ａ３の反射率は、光反射部１１の反射率と同じとなる。

反射層は、光反射部の厚さが互いに異なる複数の領域を面内方向に含んでよい。これにより、反射率が異なる複数の領域を面内方向に設けることができ、面内方向で色を変化させることができる。各光反射部間の厚さの差は特に限定されず、所望の反射率が得られるように適宜調節してよい。

反射層は、選択反射波長が互いに異なる複数の領域を面内方向に含んでよい。これにより、選択反射波長が異なる複数の領域を面内方向に設けることができ、面内方向で色を変化させることができる。各領域間の選択反射波長の差は特に限定されず、所望の選択反射波長が得られるように適宜調節してよい。例えば、上記領域は、選択反射波長が１５ｎｍ以上異なってよく、これにより、面内方向において色をより明瞭に変化させることができる。選択反射波長の差の上限は、例えば、８５０ｎｍであってよい。

光反射部の厚さが互いに異なる複数の領域は、最大反射率が１０％以上異なってよい。これにより、面内方向において色をより明瞭に変化させることができる。
また、選択反射波長が互いに異なる複数の領域は、最大反射率が１０％以上異なってよい。これにより、面内方向において色をより明瞭に変化させることができる。
例えば、選択反射波長を一定として、最大反射率が１０％以上異なる複数の領域を反射層に設けることにより、同系統の色でより明瞭な明暗をつけることができる。最大反射率の差の上限は特に限定されず、例えば、９０％であってよい。
反射層がコレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物である態様（後に詳述）において、反射層は、コレステリック液晶化合物の螺旋の捩れ方向に一致する偏光のみを反射するため、最大反射率は５０％が上限となる。反射層がコレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物である態様においても、最大反射率の差の上限は特に限定されず、例えば、４０％であってよい。

意匠性の観点から、反射層の選択反射波長は、３５０ｎｍ～１２００ｎｍであることが好ましい。中でも、３８０ｎｍ～７８０ｎｍがより好ましい。

所望の色をより容易に得る観点から、反射層は、コレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物であることが好ましい。「液晶層の硬化物」とは、液晶層に含まれる成分を含む液晶組成物の乾燥物及び重合硬化物を含む。
この態様において、波長選択反射性を示す光反射部とは、コレステリック液晶化合物が配向したコレステリック配向部をいう。また、透光部とは、コレステリック液晶化合物が一定の配向を有しない非配向の等方部をいう。

反射層中におけるコレステリック液晶化合物の配向の有無は、ＳＥＭを用いて、以下のようにして観察することができる。

例えば、図２に示すように、コレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物である反射層１０の断面をＳＥＭで観察すると、コレステリック液晶化合物が配向したコレステリック配向部である光反射部１１は、屈折率の変化に由来して、厚さ方向に明部Ｂと暗部Ｄとが交互に積層した縞模様として観察される。一方、コレステリック液晶化合物が非配向の等方部である透光部１２では、縞模様が観察されない。そのため、明部と暗部との縞模様が観察された部分を光反射部１１と判定し、それ以外の部分を透光部１２と判定する。
明部Ｂと暗部Ｄとの繰り返し１周期分が、コレステリック液晶化合物の捩れの１８０度に対応している。よって、明部Ｂと暗部Ｄとの繰り返し２周期分が、コレステリック液晶化合物の捩れの３６０度に対応する。すなわち、これら２つの明部Ｂと２つの暗部Ｄとの幅Ｐが、コレステリック液晶化合物の螺旋ピッチ（以下、単に「螺旋ピッチ」と呼ぶことがある）である。

螺旋ピッチは、光反射部の選択反射波長に寄与する。すなわち、螺旋ピッチが長くなると、選択反射波長が長くなり、一方、螺旋ピッチが短くなると、選択反射波長は短くなる。そのため、螺旋ピッチを調節することで、選択反射波長を制御でき、所望の系統の色をより容易に得ることができる。

反射層は、螺旋ピッチが１０ｎｍ以上異なる複数の領域を面内方向に含んでよい。これにより、面内方向において、別系統の色を有する領域を設けつつ、色をより明瞭に変化させることができる。螺旋ピッチの差の上限は特に限定されず、例えば、８５０ｎｍであってよい。

［基材］
加飾フィルムは、基材を含んでよい。これにより、加飾フィルムの強度を高めることができるため取り扱いがより容易となる。また、加飾フィルムが基材を含む場合、加飾フィルムを成型してなる成型体を構成する部材として基材を用いることができる。

加飾フィルムが基材を含む態様において、反射層は、基材上に直接設けられていてよく、他の層を介して設けられていてもよい。

基材の形状及び材質は特に限定されず、所望に応じ適宜選択すればよい。加飾フィルムを成型する場合、成型容易性の観点から、基材は、樹脂基材であることが好ましい。

樹脂基材の材質として、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリルニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル－ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）、環状オレフィン－コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ウレタン樹脂、及びウレタン－アクリル樹脂が挙げられる。加飾フィルムの強度の観点、また、加飾フィルムを成型する場合の成型加工性の観点から、基材の材質は、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート、アクリル－ポリカーボネート樹脂及びポリプロピレンからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。基材は、材質が異なる複数の樹脂層の積層体であってよい。

樹脂基材は、必要に応じ、添加剤を含有していてよい。添加剤としては、例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーン等の潤滑剤；水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤；ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤等の有機難燃剤；金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤；酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤、及び主成分の樹脂以外の樹脂が挙げられる。

樹脂基材は、市販品であってよい。市販品としては、例えば、テクノロイ（登録商標）シリーズ（アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、又はアクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学社製）、ＡＢＳフィルム（オカモト社製）、ＡＢＳシート（積水成型工業社製）、テフレックス（登録商標）シリーズ（ＰＥＴフィルム、帝人フィルムソリューション社製）、ルミラー（登録商標）易成型タイプ（ＰＥＴフィルム、東レ社製）、及びピュアサーモ（ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック社製）が挙げられる。

基材の厚さは特に限定されないが、加飾フィルムの強度の観点、また、加飾フィルムを成型する場合の成型加工性の観点から、１μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましい。また、同様の観点から、基材の厚さは、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１５０μｍ以下が更に好ましい。

例えば、加飾フィルムが基材を含む場合、基材を含む加飾フィルムから基材を剥離したものを加飾フィルムとしてよい。

［着色層］
加飾フィルムは、着色層を含んでよい。これにより、所望の意匠を得ることがより容易となる。着色層は、着色剤を含む層である。着色層は、１層であってよく、２層以上であってもよい。

加飾フィルムにおいて、着色層の位置は特に限定されず、所望の位置に設けてよい。例えば、着色層は、反射層上に設けられてもよい。また、加飾フィルムが基材を含む場合、基材の反射層が形成されている側とは反対側に設けられてよく、また、基材を含む加飾フィルムから基材を剥離したものを加飾フィルムとし、基材剥離後の加飾フィルムに設けられてよい。

着色層の全光透過率は、視認性の観点から、１０％以下であることが好ましい。全光透過率は、分光光度計（例えば、島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ－２１００」）により測定することができる。

着色層の色は特に限定されず、加飾フィルムの用途等に応じて適宜選択することができる。着色層の色としては、例えば、黒、灰、白、赤、橙、黄、緑、青、及び紫が挙げられる。また、着色層の色は、金属調の色であってもよい。

－着色剤－
着色剤は、顔料であってよく、染料であってもよい。耐久性の観点から、着色剤は、顔料であることが好ましい。着色層を金属調とするために、着色剤として、金属粒子、パール顔料等を用いてもよい。

顔料は、無機顔料であってもよく、有機顔料であってもよい。

無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の白色顔料；カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、黒鉛等の黒色顔料；酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、及びクロムイエローが挙げられる。

無機顔料としては、特開２００５－７７６５号公報の段落００１５及び段落０１１４に記載の無機顔料も挙げられる。

有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料；アゾレッド、アゾイエロー、アゾオレンジ等のアゾ系顔料；キナクリドンレッド、シンカシャレッド、シンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料；ペリレンレッド、ペリレンマルーン等のペリレン系顔料；カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド、及びジケトピロロピロールが挙げられる。

有機顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７、１７９、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４等の赤色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３８、１３９、１５０、１８０、１８５等の黄色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ３６、３８、７１等の橙色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７、３６、５８等の緑色顔料；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６等の青色顔料；及び、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３等の紫色顔料が挙げられる。

有機顔料としては、特開２００９－２５６５７２号公報の段落００９３に記載の有機顔料も挙げられる。

顔料は、光透過性及び光反射性を有する顔料（いわゆる、光輝性顔料）であってもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム、及びこれらの合金の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料、並びに、ガラスフレーク顔料が挙げられる。光輝性顔料は、無着色のものであってよく、着色されたものであってもよい。

着色剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。２種以上の着色剤を用いる場合、無機顔料と有機顔料と組み合わせてもよい。

着色剤の含有量は、目的とする色発現の観点から、着色層の全量に対して、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。

－バインダー樹脂－
着色層は、強度、耐傷性、及び成型加工適正の観点から、バインダー樹脂を含むことが好ましい。バインダー樹脂の種類は、特に制限されない。バインダー樹脂は、所望の色を得る観点から、透明な樹脂であることが好ましく、具体的には、全光透過率が８０％以上の樹脂であることが好ましい。全光透過率は、分光光度計（例えば、島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ－２１００」）により測定することができる。

バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、及びポリオレフィンが挙げられる。バインダー樹脂は、単独重合体であってよく、共重合体であってもよい。

バインダー樹脂は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

バインダー樹脂の含有量は、成型加工性の観点から、着色層の全量に対して、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。

－分散剤－
着色層に含まれる着色剤、特に顔料の分散性を向上する観点から、着色層は、分散剤を含有してよい。分散剤が含まれると、着色層における着色剤の分散性が向上する。そのため、得られる加飾フィルムの色をより容易に均一にすることができる。

分散剤は、着色剤の種類、形状等に応じて適宜選択することができ、高分子分散剤であることが好ましい。

高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー、及びポリエステルポリマーが挙げられる。例えば、加飾フィルムに耐熱性を付与したい場合には、分散剤は、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーであることが好ましい。

分散剤の重量平均分子量は、１，０００～５，０００，０００であることが好ましく、２，０００～３，０００，０００であることがより好ましく、２，５００～３，０００，０００であることが特に好ましい。重量平均分子量が１，０００以上であると、着色剤の分散性がより向上する。

分散剤は、市販品であってよい。分散剤の市販品としては、ＢＡＳＦジャパン社製のＥＦＫＡ ４３００（アクリル系高分子分散剤）；花王社製のホモゲノールＬ－１８、ホモゲノールＬ－９５、及びホモゲノールＬ－１００；日本ルーブリゾール社製の、ソルスパース２００００、及びソルスパース２４０００；並びにビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８０、及びＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８２が挙げられる。なお、「ホモゲノール」、「ソルスパース」、及び「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ」はいずれも登録商標である。

分散剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

分散剤の含有量は、着色剤１００質量部に対して、１質量部～３０質量部であることが好ましい。

－添加剤－
着色層は、上記の成分以外に、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤は特に限定されず、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤；特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう。フェノチアジンが好ましく挙げられる。）；並びに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載の添加剤が挙げられる。

－厚さ－
着色層の厚さは特に限定されないが、視認性及び立体成型性の観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましく、３μｍ～５０μｍであることが更に好ましく、３μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。
着色層が２層以上である場合、各着色層がそれぞれ独立に、上記厚さの範囲であることが好ましい。

－着色層の形成方法－
着色層の形成方法としては、例えば、着色層形成用組成物を用いる方法、着色されたフィルムを貼り合せる方法等が挙げられる。中でも、着色層の形成方法は、着色層形成用組成物を用いる方法が好ましい。

着色層形成用組成物を用いて着色層を形成する方法としては、着色層形成用組成物を塗布して着色層を形成する方法、例えば、着色層形成用組成物を印刷して着色層を形成する方法が挙げられる。印刷方法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、及びオフセット印刷が挙げられる。

着色層形成用組成物は、着色剤と、必要に応じて、バインダー樹脂、分散剤及び添加剤の少なくとも１つとを含むものであってよい。各成分の種類は、着色層について上述したものであってよい。
着色剤の含有量は、着色層形成用組成物の全固形分量に対して、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。
バインダー樹脂の含有量は、着色層形成用組成物の全固形分量に対して、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
分散剤の含有量は、着色剤１００質量部に対して、１質量部～３０質量部であることが好ましい。

着色層は、着色層形成用組成物を硬化してなる層であってもよく、例えば、重合性化合物及び重合開始剤を含む着色層形成用組成物を用いてよい。重合性化合物及び重合開始剤は特に限定されず、公知の重合性化合物及び公知の重合開始剤を用いてよい。重合性化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。重合開始剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

着色層形成用組成物は、塗布をより容易にする観点から、有機溶剤を含んでよい。有機溶剤は特に限定されず、公知の有機溶剤を適用することができる。有機溶剤としては、例えば、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、及び芳香族炭化水素が挙げられる。有機溶剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

有機溶剤の含有量は、着色層形成用組成物の全量に対して、５質量％～９０質量％であることが好ましく、３０質量％～７０質量％であることがより好ましい。

着色層形成用組成物として、例えば、ｎａｘレアルシリーズ、ｎａｘアドミラシリーズ、及びｎａｘマルチシリーズ（日本ペイント社製）；レタンＰＧシリーズ（関西ペイント社製）等の市販の塗料を用いてよい。

着色層形成用組成物の調製方法は特に限定されず、例えば、着色剤等の各成分を混合することにより着色層形成用組成物を調製してよい。また、着色層形成用組成物が着色剤として顔料を含む場合、顔料の均一分散性及び分散安定性をより高める観点から、顔料と分散剤とを含む顔料分散液を予め調製し、顔料分散液に他の成分を混合することにより、着色層形成用組成物を調製することが好ましい。

［配向層］
加飾フィルムは、配向層を有してよい。配向層は、加飾フィルムの形成の際、光反射部中のコレステリック液晶化合物の分子をより容易に配向させるために用いられる。

配向層は、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等によって設けられる。配向層としては、電場の付与、磁場の付与、又は光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。

配向層の厚さは特に限定されないが、０．０１μｍ～１０μｍであることが好ましい。

基材、液晶層等の下地の種類によっては、配向層を別途設けることなく、下地を配向層とすることができる。
例えば、基材を直接配向処理（例えば、ラビング処理）することで、配向層として機能させることができる。直接配向処理可能な基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる層が挙げられ、後述の要領でラビング処理を施してよい。
また、液晶層を下地とし、その上に直接反射層を設ける場合、下地の液晶層が配向層として機能する場合もある。

以下、好ましい例として、ラビング処理配向層及び光配向層について説明する。

－ラビング処理配向層－
液晶組成物が塗布される下地の表面に対して、ラビング処理を行う。ラビング処理は、例えば、ポリマーを主成分とする膜の表面を、紙又は布で一定方向に擦ることにより行うことができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。

上記のようなポリマーを主成分とする膜を形成する配向層用ポリマーとしては、例えば、特開平８－３３８９１３号公報の段落００２２に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、及びポリカーボネートが挙げられる。また、配向層用ポリマーは、シランカップリング剤であってもよい。配向層用ポリマーは、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、又は変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。

ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ；ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。

ラビング密度を高くする方法としては、ラビング回数を増やす方法、ラビングローラーの接触長を長くする方法、ローラーの半径を大きくする方法、ローラーの回転数を大きくする方法、及びステージ移動速度を遅くする方法が挙げられる。一方、ラビング密度を低くする方法としては、ラビング回数を減らす方法、ラビングローラーの接触長を短くする方法、ローラーの半径を小さくする方法、ローラーの回転数を小さくする方法、及びステージ移動速度を速くする方法が挙げられる。また、ラビング処理の際の条件としては、特許第４０５２５５８号公報の記載を参照することもできる。

－光配向層－
光照射により形成される光配向層に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報、及び特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物；特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物；特開２００２－２６５５４１号公報、及び特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物；特許第４２０５１９５号及び特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体；並びに、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、及び特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルが挙げられる。中でも、光配向材料は、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルであることが好ましい。

光配向材料から形成した層に、直線偏光又は非偏光照射を施し、光配向層を製造する。

本開示において、「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じさせるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光は、ピーク波長が２００ｎｍ～７００ｎｍの光であることが好ましく、ピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外線であることがより好ましい。

光照射に用いる光源としては、公知の光源、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、又はＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、及び陰極線管が挙げられる。

直線偏光を得る方法としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、又はワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）又はブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、及び偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が挙げられる。また、フィルター又は波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光が直線偏光の場合、配向層の上面若しくは裏面から、配向層表面に対して垂直方向、又は斜め方向に光を照射する方法が挙げられる。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、配向層に対して、０°～９０°（垂直）であることが好ましく、４０°～９０°であることがより好ましい。

非偏光を利用する場合には、配向層の上面若しくは裏面から、斜め方向に非偏光を照射する。入射角度は、１０°～８０°であることが好ましく、２０°～６０°であることがより好ましく、３０°～５０°であることが更に好ましい。照射時間は、１分～６０分であることが好ましく、１分～１０分であることがより好ましい。

［その他の層］
加飾フィルムは、着色層及び配向層以外のその他の層を有していてもよい。

その他の層としては、加飾フィルムにおいて公知の層である、保護層、粘着層、紫外線吸収層、反射層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層等が挙げられる。

その他の層は公知の方法により形成することができる。例えば、これらの層に含まれる成分を含む組成物（層形成用組成物）を層状に付与し、乾燥する方法が挙げられる。

＜加飾フィルムの製造方法＞
加飾フィルムの製造方法は特に限定されないが、以下に説明する本開示に係る加飾フィルムの製造方法により、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶組成物を用いて、加飾フィルムを好ましく製造することができる。

本開示に係る加飾フィルムの製造方法は、
基材と、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶層とを有する液晶材料を準備する工程（以下、「液晶材料準備形成工程」と呼ぶことがある）と、
液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程（以下、「第１加熱工程」と呼ぶことがある）と、
コレステリック液晶相とした液晶層に第１光を照射して液晶層の一部を硬化させる工程（以下、「第１露光工程」と呼ぶことがある）と、
第１光の照射後の液晶層を加熱して液晶層の未硬化部を等方相とする工程（以下、「第２加熱工程」と呼ぶことがある）と、
少なくとも等方相とした未硬化部に第２光を照射して未硬化部を硬化させる工程（以下、「第２露光工程」と呼ぶことがある）と、
を含む。

［液晶材料準備工程］
液晶材料準備工程は、基材と、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶層とを有する液晶材料を準備する工程である。

［基材］
基材は、上述したものを用いることができる。

［液晶層］
液晶層は、コレステリック液晶化合物を含み、必要に応じて、後述するキラル化合物等の他の成分を含んでよい。

－コレステリック液晶化合物－
コレステリック液晶化合物は特に限定されず、反応性基を有するコレステリック液晶化合物、又は反応性基を有しないコレステリック液晶化合物のいずれであってもよい。コレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定する観点から、コレステリック液晶化合物は、反応性基を有するコレステリック液晶化合物を含むことが好ましい。反応性基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、及びアミノ基が挙げられる。反応性基の架橋機構としては、例えば、縮合反応、水素結合、及び重合が挙げられる。

コレステリック液晶化合物は、架橋機構の異なる２種以上の反応性基を含んでよい。液晶層が、コレステリック液晶化合物として、架橋機構の異なる２種以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物を含む場合、反応性の観点から、上記２種以上の反応性基のうち、少なくとも１種の反応性基の架橋機構が重合であることが好ましい。すなわち、２種以上の反応性基のうち、少なくとも１種は重合性基であることが好ましい。

重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられる。
コレステリック液晶化合物が、重合性基を２つ以上有するコレステリック液晶化合物を含む場合、反応性の観点、及びコレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定する観点から、上記２つ以上の重合性基のうち、少なくとも１つの重合性基がラジカル重合性基であることが好ましい。コレステリック液晶化合物が、重合性基を２つ以上有するコレステリック液晶化合物を含む場合、ラジカル重合性基とカチオン重合性基との組み合わせが好ましい。中でも、反応をより容易に制御する観点から、重合性基の組み合わせとして、ラジカル重合性基がビニル基又は（メタ）アクリロイル基であり、カチオン重合性基がエポキシ基、オキセタニル基又はビニルエーテル基である組み合わせが特に好ましい。

以下、反応性基の具体例を示す。なお、Ｅｔはエチル基を表し、ｎ－Ｐｒはｎ－プロピル基を表す。

コレステリック液晶化合物の形状は特に限定されず、コレステリック液晶化合物は、棒状コレステリック液晶化合物であってよく、円盤状コレステリック液晶化合物であってもよい。コレステリック配向部の螺旋ピッチをより容易に調整する観点、また、反射率及び色の経時変化をより容易に抑制する観点から、コレステリック液晶化合物は、棒状コレステリック液晶化合物であることが好ましい。

棒状コレステリック液晶化合物としては、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、シアノ置換フェニルピリミジン系化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、トラン系化合物及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル系化合物が挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物は、低分子コレステリック液晶化合物であってもよく、高分子コレステリック液晶化合物であってもよい。高分子コレステリック液晶化合物は、反応性基を有する低分子コレステリック液晶化合物が重合した高分子化合物である。棒状コレステリック液晶化合物としては、特開２００８－２８１９８９号公報、特表平１１－５１３０１９号公報（国際公開第９７／００６００号）又は特表２００６－５２６１６５号公報に記載のものが挙げられる。

以下、棒状コレステリック液晶化合物の具体例を示す。但し、棒状コレステリック液晶化合物は、これらに限定されるものではない。なお、以下に示す化合物は、特表平１１－５１３０１９号公報（国際公開第９７／００６００号）に記載の方法で合成することができる。

円盤状コレステリック液晶化合物としては、モノマー等の低分子量の円盤状コレステリック液晶化合物、及び重合性の円盤状コレステリック液晶化合物が挙げられる。

円盤状コレステリック液晶化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体；Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体；Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体；並びに、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系又はフェニルアセチレン系マクロサイクルが挙げられる。

上記例示した円盤状コレステリック液晶化合物には、上記各種構造を分子中心の円盤状の母核とし、直鎖アルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造を有し、液晶性を示し、一般的に円盤状液晶とよばれる液晶化合物が含まれる。このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、円盤状コレステリック液晶化合物は、この記載に限定されるものではない。

更に、円盤状コレステリック液晶化合物の例としては、特開２００８－２８１９８９号公報の段落００６１～段落００７５に記載のものが挙げられる。

コレステリック液晶化合物として、反応性基を有する円盤状コレステリック液晶化合物を用いる場合、硬化された液晶膜において、水平配向、垂直配向、傾斜配向、及び捩れ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。

コレステリック液晶化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

コレステリック液晶化合物の含有量は、反射層の反射率をより高める観点から、液晶層の全固形分量に対して、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、４０質量％～９５質量％であることがより好ましく、５０質量％～９０質量％であることが更に好ましい。

－キラル化合物－
液晶層は、コレステリック配向層形成の容易性、及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、キラル化合物（すなわち、光学活性化合物）を含むことが好ましい。キラル化合物は、コレステリック液晶化合物について螺旋構造を誘起する機能を有する。
キラル化合物は、誘起する螺旋のよじれ方向又は螺旋ピッチが液晶化合物によって異なるため、目的に応じて選択すればよい。キラル化合物は特に限定されず、公知の化合物（例えば、「液晶デバイスハンドブック」、第３章４－３項、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ－ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載された化合物）、イソソルビド、及びイソマンニド誘導体を用いることができる。キラル化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物もキラル化合物として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル化合物、ヘリセン化合物、及びパラシクロファン化合物が好ましく挙げられる。
キラル化合物としては、例えば、光異性化キラル化合物及び重合性キラル化合物が挙げられる。

キラル化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶層がキラル化合物を含む場合、キラル化合物の含有量は、目的とする反射波長をより容易に得る観点から、液晶層の全固形分量に対して、１質量％～２０質量％であることが好ましく、１質量％～１５質量％であることがより好ましく、１質量％～１０質量％であることが更に好ましい。

－－光異性化キラル化合物－－
液晶層は、選択反射波長をより容易に調節する観点から、キラル化合物として、光異性化キラル化合物を含んでよい。光異性化キラル化合物とは、１分子中に、光異性化構造を有し、かつ、キラリティーを有する化合物を意味する。

光異性化キラル化合物は、光異性化容易性、及び異性化構造の維持性の観点から、露光により立体構造が変化する化合物であることが好ましく、露光によりＥＺ（Ｚｕｓｓａｍｍａｍｍｅｎ、Ｅｎｔｇｅｇｅｎ）配置が異性化する２置換以上のエチレン性不飽和結合を有することがより好ましく、露光によりＥＺ配置が異性化する３置換のエチレン性不飽和結合を有することが特に好ましい。

光異性化キラル化合物は、露光により異性化すると、コレステリック液晶化合物が形成するコレステリック配向部の螺旋ピッチ（捩れ力、螺旋の捩れ角）等の配向構造を変化させる。また、露光時の露光量によって、光異性化キラル化合物の光異性化割合を調整することができる。光異性化キラル化合物の光異性化割合によって、コレステリック配向部の螺旋ピッチの長さを変化させ、選択反射波長を変化させることができる。なお、光異性化割合とは、光異性化キラル化合物の総分子数に対する、光異性化した光異性化キラル化合物の分子数の割合を意味する。

本開示におけるＥＺ配置の異性化には、ｃｉｓ－ｔｒａｎｓ異性化も含まれる。また、上記２置換以上のエチレン性不飽和結合は、芳香環基とエステル結合とが置換したエチレン性不飽和結合であることが好ましい。

また、光異性化キラル化合物は、光異性化構造を１つのみ有してよく、２つ以上有してもよい。光異性化容易性、及び異性化構造の維持性の観点から、光異性化キラル化合物は、光異性化構造を２つ以上有していることが好ましく、２つ～４つ有していることがより好ましく、２つ有していることが特に好ましい。

具体的には、光異性化キラル化合物は、下記式（ＣＨ１）で表される化合物であることが好ましい。

下記式（ＣＨ１）で表される化合物は、露光時の露光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチ（捩れ力、螺旋の捩れ角）等の配向構造を変化させることができる。

また、下記式（ＣＨ１）で表される化合物は、２つのエチレン性不飽和結合におけるＥＺ配置が露光により異性化可能な化合物である。

式（ＣＨ１）中、Ａｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、Ｒ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。

式（ＣＨ１）におけるＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましい。

式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２におけるアリール基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６～４０であることが好ましく、総炭素数６～３０であることがより好ましい。置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、又は、複素環基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アリールオキシカルボニル基であることがより好ましい。

式（ＣＨ１）におけるＲ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、シアノ基であることが好ましい。

中でも、Ａｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２は、下記式（ＣＨ２）又は式（ＣＨ３）で表されるアリール基であることが好ましく、下記式（ＣＨ２）で表されるアリール基であることがより好ましい。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）中、Ｒ^ＣＨ３及びＲ^ＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、Ｌ^ＣＨ１及びＬ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、ｎＣＨ１は０～４の整数を表し、ｎＣＨ２は０～６の整数を表し、＊は式（ＣＨ１）におけるエチレン性不飽和結合との結合位置を表す。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＲ^ＣＨ３及びＲ^ＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＬ^ＣＨ１及びＬ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましい。

式（ＣＨ２）におけるｎＣＨ１は、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。

式（ＣＨ３）におけるｎＣＨ２は、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。

式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２における複素芳香環基は、置換基を有していてもよく、総炭素数４～４０であることが好ましく、総炭素数４～３０であることがより好ましい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基がさらに好ましい。

複素芳香環基は、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基であることが好ましく、ピリジル基、又はピリミジニル基であることがより好ましい。

式（ＣＨ１）で表される化合物としては、以下の化合物が好ましく挙げられる。なお、以下の化合物は、各エチレン性不飽和結合の立体配置が、露光により変化する化合物である。

光異性化キラル化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶層が光異性化キラル化合物を含む場合、光異性化キラル化合物の含有量は、目的とする反射波長をより容易に得る観点から、液晶層の全固形分量に対して、０．５質量％～１５質量％であることが好ましく、１質量％～１０質量％であることがより好ましく、２質量％～７質量％であることが更に好ましい。

－－重合性キラル化合物－－
液晶層は、コレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定する観点から、キラル化合物として、重合性キラル化合物を含んでよい。重合性キラル化合物は、重合性基を有するキラル化合物を意味する。ここでいう重合性キラル化合物は、光異性化構造を有しないものとし、光異性化キラル化合物とは区別される。

重合性キラル化合物が有する重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられる。重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。

重合性キラル化合物は、不斉炭素原子を含む化合物であることが好ましいが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物であってもよい。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。

液晶層が重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む場合、重合性キラル化合物は、コレステリック液晶化合物が有する重合性基と同種の重合性基を含むことが好ましい。例えば、コレステリック液晶化合物がラジカル重合性基を有する場合、重合性キラル化合物もラジカル重合性基を含むことが好ましい。これにより、重合性基を有するコレステリック液晶化合物と重合性キラル化合物とが重合したポリマーが形成され、コレステリック液晶化合物の螺旋構造をより容易に固定することができる。

重合性キラル化合物は、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、又はビナフチル誘導体であることが好ましい。イソソルビド誘導体の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の「パリオカラー ＬＣ７５６」が挙げられる。

重合性キラル化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶層が重合性キラル化合物を含む場合、重合性キラル化合物の含有量は、目的とする反射波長をより容易に得る観点から、液晶層の全固形分量に対して、０．５質量％～８質量％であることが好ましく、１質量％～１０質量％であることがより好ましく、１質量％～５質量％であることがさらに好ましい。

－重合開始剤－
液晶層が重合性基を有する成分を含む場合（例えば、重合性基を有するコレステリック液晶化合物及び重合性キラル化合物の少なくとも１つを含む場合）、液晶層は、重合開始剤を含むことが好ましい。液晶層が重合性基を有する成分と重合開始剤を含む場合、液晶層は光硬化性であることが好ましく、重合開始剤は、光の照射によって重合反応を開始させることが可能な光重合開始剤であることが好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号、及び米国特許第２３６７６７０号の各明細書に記載）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の各明細書に記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報、及び米国特許第４２３９８５０号明細書に記載）、及びオキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書に記載）が挙げられる。

光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であってよく、光カチオン重合開始剤であってもよい。

光ラジカル重合開始剤としては、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、チオキサントン化合物、及びオキシムエステル化合物が好ましく挙げられる。光ラジカル重合開始剤として市販品を用いてよく、市販品として、例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」（２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノプロパン－1－オン）等が挙げられる。

光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物、及びスルホニウム塩化合物が好ましく挙げられる。

反応性の観点から、液晶層が、光ラジカル重合開始剤を含み、かつ、コレステリック液晶化合物が、ラジカル重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含むことが好ましい。

重合開始剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶層が重合開始剤を含む場合、重合開始剤の含有量は、コレステリック液晶化合物の構造等に応じて適宜選択することができるが、硬化性の観点から、液晶層の全固形分量に対して、０．１質量％～５質量％であることが好ましく、０．２質量％～３質量％であることがより好ましく、０．３質量％～１．５質量％であることが更に好ましい。

－架橋剤－
液晶層は、液晶膜の強度向上及び耐久性向上の観点から、架橋剤を含んでよい。架橋剤は、紫外線、熱、湿気等により反応が進行する化合物であることが好ましい。

架橋剤としては、例えば、ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］、４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；及びビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を併用することにより、反射層の強度及び耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。架橋剤として市販品を用いてよく、市販品として、例えば、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ」（ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート）等が挙げられる。

架橋剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶層が架橋剤を含む場合、架橋剤の含有量は、コレステリック液晶化合物の配向性の観点から、液晶層の全固形分量に対して、０．１質量％～６質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましく、１質量％～４質量％であることが更に好ましい。

－その他の添加剤－
液晶層は、必要に応じて、上記成分以外のその他の添加剤を含んでよい。その他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤、及び金属酸化物粒子が挙げられる。

その他の添加剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶材料準備工程は特に限定されず、例えば、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶組成物を基材に付与してなる膜（液晶層）を形成する工程であってよく、例えば、液晶組成物を基材に塗布して塗膜（液晶層）を形成する工程であってよい。

液晶組成物に含まれる成分の詳細は、液晶層について上述したものと同様であるが、成分の含有量については「液晶層の全固形分量に対して」を「液晶組成物の全固形分量に対して」と読み替えるものとする。
また、塗布をより容易にする観点から、液晶組成物は、溶剤を含んでよい。溶剤は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。溶剤は、溶解性の観点から、有機溶剤であることが好ましい。

有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；アルキルハライド、アミド、スルホキシド、ヘテロ環化合物、炭化水素、エステル、エーテル、及びアルコールが挙げられる。中でも、コレステリック液晶化合物の溶解性及び環境負荷への考慮から、ケトンが好ましい。

溶剤は、１種を単独で用いてよく、２種以上を併用してもよい。

液晶組成物が溶剤を含有する場合、溶剤の含有量は、液晶組成物の全量に対して、４０質量％～９０質量％であることが好ましく、５０質量％～８０質量％であることがより好ましい。

液晶組成物の調製方法は特に限定されず、例えば、コレステリック液晶化合物等の各成分を混合する方法により液晶組成物を調製してよい。

液晶組成物を基材に付与する方法は特に限定されず、例えば、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、ミスト法、インクジェット法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、及び凹版印刷法が挙げられる。

液晶組成物が溶剤を含む場合、液晶組成物を基材に付与した後に乾燥してよい。乾燥方法として、例えば、加熱乾燥、及び減圧乾燥が挙げられる。加熱乾燥する場合、加熱温度及び加熱時間は、溶剤の種類に応じて適宜調節してよい。また、加熱乾燥は、下記の第１加熱工程の一部として行ってもよい。

［第１加熱工程］
第１加熱工程は、液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程である。コレステリック液晶化合物を加熱すると、加熱温度が高くなるにつれて、コレステリック液晶化合物は、結晶状態から配向状態となり、更に、配向状態から等方状態となる。第１加熱工程では、コレステリック液晶化合物を含む液晶層を加熱することにより、コレステリック液晶化合物を配向状態として、液晶層をコレステリック液晶化合物が配向したコレステリック液晶相とする。

コレステリック液晶化合物の上記状態の変化との加熱温度との関係は、コレステリック液晶化合物の種類により異なる。そのため、第１加熱工程における加熱温度は、コレステリック液晶化合物が配向状態となるように、コレステリック液晶化合物の種類に応じて、適宜調節してよい。第１加熱工程における加熱時間は、加熱温度等に応じて適宜調節してよい。また、加熱手段は特に限定されず、オーブン、ホットプレート等を用いてよい。

［第１露光工程］
第１露光工程は、コレステリック液晶相とした液晶層に第１光を照射して液晶層の一部を硬化させる工程である。第１加熱工程においてコレステリック液晶相となった液晶層の一部を第１光で光硬化させることで、液晶層の一部が、コレステリック液晶化合物が配向状態で硬化して光反射部となる。液晶層の光硬化が反射層の厚み方向に進行する程、光反射部が厚くなる。

液晶層を完全に硬化させず、液晶層の一部を硬化させるための手段として、例えば、第１光の露光量を小さくする方法、第１光の透過率を低減させる領域を含むマスクを介して第１光を露光する方法、液晶層に含まれる化合物によって光を吸収させる方法、重合禁止剤により重合を抑制する方法、酸素により重合を抑制する方法、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

第１光の種類は特に限定されないが、液晶化合物に含まれ得る成分の反応性を考慮すると、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ；Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。

第１光の波長範囲は特に限定されないが、第１光が紫外線である場合、４００ｎｍ以下が好ましく、３６０ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ以下が更に好ましい。３００ｎｍ以下の光を用いる場合、コレステリック液晶化合物の光吸収により、厚み方向における光硬化の制御がより容易となる。波長範囲は、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法、又は特定波長の光源を用いる方法により調整することができる。

第１光の露光量は特に限定されず、第１光が紫外線である場合、例えば、０．１ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２であってよい。面内方向における光硬化の制御の観点から、紫外線の平行度は２０°以下であることが好ましく、１０°以下であることがより好ましい。

反射層は、光反射部と、透光部とを基材に対してどのような順に含んでいてもよい。すなわち、反射層は、光反射部と、透光部とを基材側から順に含んでよく、透光部と、光反射部と、を基材側から順に含んでもよい。後述する酸素濃度による光硬化の制御の観点から、反射層は、光反射部と、透光部とを基材側から順に含むことがより好ましい。
反射層が、光反射部と、透光部とを基材側から順に含む場合、第１露光工程は、基材の液晶層を有する側と反対側から露光することが好ましい。
反射層が、透光部と、光反射部とを基材側から順に含む場合、第１露光工程は、基材の液晶層を有する側から露光することが好ましい。

反射層が、光反射部と、透光部とを基材側から順に含む態様において、第１露光工程は、基材の液晶層を有する側と反対側から露光する場合には、低酸素雰囲気(酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気)で行ってよく、酸素を含む雰囲気下(大気または１０００ｐｐｍ以上２１％未満の酸素を含む雰囲気下)で行われることがより好ましい。酸素によってラジカル重合が阻害されるため、厚み方向における光硬化の制御がより容易となる。

反射層が、透光部と、光反射部とを基材側からに含む場合、第１露光工程は、光反射部の硬化を促進させる観点から、低酸素雰囲気下（好ましくは、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気）で行われることが好ましく、窒素雰囲気下で行われることがより好ましい。

第１露光工程において、第１光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第１パターニングマスクを介して第１光を照射してよい。これにより、液晶層の複数の領域を異なる露光量で露光することができるため、光反射部の厚さが互いに異なる複数の領域を単一層内に面内方向に形成し、面内方向の反射率を一括して制御することができる。

一方、単一層内に光反射部と透光部とを有しない国際公開第２０１８／１８６１８４号の技術では、面内方向の反射率を制御する場合、塗分けた層を重ねることが必要となる。更に、金属多層膜により面内方向の反射率を制御する場合、面内方向で厚さ及び層数が異なる金属多層膜を面内方向にスパッタリングで形成することが必要であるが、製造工程が複雑となる。
これに対して、本開示に係る加飾フィルムの製造方法では、第１パターニングマスクのパターンを変更することで、面内方向の反射率を容易に制御することができる。

第１パターニングマスクとしては、例えば、第１光の透過率が互いに異なる複数の領域のパターンが形成されたフォトマスクが挙げられる。そのようなフォトマスクとして、例えば、金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスク、及び各種印刷方法（例えば、レーザープリンタ又はインクジェットプリンターによる印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷）を用いてパターン印刷されたフォトマスクが挙げられる。金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスクは、例えば、石英基板上に金属クロム膜をスパッタで形成した後、フォトレジストを用いてパターニングすることにより得られる。

第１パターニングマスクを用いて第１光を照射する場合、第１パターニングマスクは、基材の液晶層を有する側とは反対側に配置してよく、基材の液晶層を有する側に配置してよい。

第１パターニングマスクを基材の液晶層を有する側に配置する場合、液晶層に第１パターニングマスクを接触させて第１光を照射してよく、液晶層と第１パターニングマスクとの間に間隙を設けて第１光を照射してもよい。

第１パターニングマスクを基材の液晶層を有する側とは反対側に配置する場合、基材を介して第１光で液晶層を露光するため、透光性の基材を用いることが好ましい。
基材の透光性について、第１光の透過率は特に限定されないが、液晶層をより容易に硬化させる観点から、高い程好ましい。

第１パターニングマスクを用いて第１光を照射する場合、第１パターニングマスクは、１種のみ用いてよく、２種以上用いてもよい。

［第２加熱工程］
第２加熱工程は、第１光の照射後の液晶層を加熱して液晶層の未硬化部を等方相とする工程である。上述のように、コレステリック液晶化合物を加熱すると、コレステリック液晶化合物は等方状態となる。第２加熱工程では、第１露光工程で硬化せずに未硬化である部分を含む液晶層を加熱することにより、未硬化部に含まれるコレステリック液晶化合物を等方状態として、未硬化部をコレステリック液晶化合物が非配向の等方相とする。

第２加熱工程における加熱温度は、コレステリック液晶化合物が等方状態となるように、コレステリック液晶化合物の種類に応じて、適宜調節してよい。第２加熱工程における加熱時間は、加熱温度等に応じて適宜調節してよい。また、加熱手段は特に限定されず、オーブン、ホットプレート等を用いてよい。

［第２露光工程］
第２露光工程は、少なくとも等方相とした未硬化部に第２光を照射して未硬化部を硬化させる工程である。第２加熱工程において等方相となった未硬化部を光硬化させることで、未硬化部が、コレステリック液晶化合物が等方状態で硬化して透光部となる。これにより、光反射部と、光反射部に隣接する透光部とを厚み方向に含む単一層からなる反射層が形成される。

第２露光工程において、未硬化部だけでなく、液晶層全体を露光してよい。これにより、未硬化部を硬化させると共に、第１露光工程で形成した光反射部の硬化を更に促進させることができる。例えば、基材の液晶層を有する側から、第２光を照射してよい。

第２光の種類は特に限定されないが、液晶化合物に含まれ得る成分の反応性を考慮すると、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられる。また、液晶組成物の反応性の観点から、第２光の種類は、第１光の種類と同じであることが好ましい。

第２光の波長範囲は特に限定されず、例えば、２５０ｎｍ～４００ｎｍの波長範囲の光を用いることができる。波長範囲は、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法、又は特定波長の光源を用いる方法により調整することができる。

第２光の露光量は特に限定されず、第２光が紫外線である場合、例えば、５ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２であってよい。

第２露光工程は、硬化を促進させる観点から、低酸素雰囲気下（好ましくは、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下、すなわち、酸素を含まないか、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下の酸素を含む雰囲気）で行われることが好ましく、窒素雰囲気下で行われることがより好ましい。

本開示に係る加飾フィルムの製造方法の好ましい態様において、
基材が透光性であり、
第１露光工程において、基材の液晶層を有する側とは反対側から、第１パターニングマスク及び基材を介して第１光を照射し、
第２露光工程において、基材の液晶層を有する側から、第２光を照射する。
このような態様により、第１光を照射する際、光反射部の硬化を促進させ、かつ、未硬化部を形成することができ、第２光を照射する際、等方相とした未硬化部を硬化させて透光部を形成することができる。

上記の好ましい態様の一例について、図面を参照して説明する。例えば、図３に示すように、基材３０と液晶層１０ｐとを有する液晶材料２００ｐを準備し（液晶材料準備工程）、液晶層１０ｐを加熱してコレステリック液晶相とする（第１加熱工程）。
次いで、例えば、図４に示すように、第１光の透過率が高い領域５１と、第１光の透過率が低い領域５２とを含む第１パターニングマスク５０を基材３０の一方面（図４の下方の面）に配置し、基材３０及び第１パターニングマスク５０を介して第１光Ｌ１を照射して、液晶層１０ｐの一部を硬化させる（第１露光工程）ことにより、光反射部１１を形成する。
次いで、液晶層１０ｐを加熱して液晶層１０ｐ中の未硬化部１２ｐを等方相とした（第２加熱工程）後、図５に示すように、基材３０の液晶層１０ｐを有する側から、第２光Ｌ２を照射して、未硬化部１２ｐを硬化させる（第２露光工程）ことにより、透光部１２を形成する。
以上のようにして、例えば、図５に示すように、光反射部１１と、光反射部１１に隣接する透光部１２とを厚み方向に含む単一層からなる反射層１０を含む加飾フィルム２００を製造することができる。図５に例示される加飾フィルム２００において、反射層１０は、光反射部１１と、透光部１２とを基材３０側から順に含んでいる。

［第３露光工程］
本開示に係る加飾フィルムの製造方法は、光異性化キラル化合物を含む液晶層を用い、かつ、第１加熱工程と、第１露光工程との間に、コレステリック液晶相とした液晶層に第３光を照射して光異性化キラル化合物を光異性化させる工程（以下、「第３露光工程」と呼ぶことがある）を含んでよい。

第３露光工程において、第３光で光異性化キラル化合物を光異性化させることにより、選択反射波長を変化させて、別系統の色を得ることができる。

第３光の種類は特に限定されないが、光異性化キラル化合物をより容易に光異性化させる観点から、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられる。

第３光の波長範囲は特に限定されず、光異性化キラル化合物の種類、狙いの選択反射波長、光異性化率等を考慮して、適宜調節してよい。例えば、第３光が紫外線である場合、４００ｎｍ以下が好ましく、３８０ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ～３８０ｎｍが更に好ましい。波長範囲は、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法、又は特定波長の光源を用いる方法により調整することができる。

第１光の種類及び第３光の種類が同じである場合、例えば、第１光及び第３光が紫外線である場合、光異性化キラル化合物を光異性化させる第３光の波長範囲は、液晶組成物を光硬化させる第１光の波長範囲と異なることが好ましい。これにより、第３光による液晶組成物の光硬化を抑制して、光異性化キラル化合物をより容易に光異性化することができるため、選択反射波長の調節がより容易となる。

第３光の露光量は特に限定されず、光異性化キラル化合物の種類、狙いの選択反射波長、光異性化率等を考慮して、適宜調節してよい。第３光が紫外線である場合、例えば、０．１ｍＪ／ｃｍ^２～２０００ｍＪ／ｃｍ^２であってよい。

第３露光工程において、第３光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第２パターニングマスクを介して第３光を照射してよい。これにより、液晶層の複数の領域を異なる露光量で露光することができるため、選択反射波長が互いに異なる複数の領域を単一層内に面内方向に形成し、面内方向の選択反射波長を一括して制御することができる。

一方、単一層内に光反射部と透光部とを有しない国際公開第２０１８／１８６１８４号の技術では、面内方向の選択反射波長を制御する場合、塗分けた層を重ねることが必要となる。更に、金属多層膜により面内方向の選択反射波長を制御する場合、面内方向で厚さ及び層数が異なる金属多層膜を面内方向にスパッタリングで形成することが必要であるが、製造工程が複雑となる。
これに対して、本開示に係る加飾フィルムの製造方法では、第２パターニングマスクのパターンを変更することで、面内方向の選択反射波長を容易に制御することができる。

第２パターニングマスクとしては、例えば、第３光の透過率が互いに異なる複数の領域のパターンが形成されたフォトマスクが挙げられる。そのようなフォトマスクとして、例えば、金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスク、及び各種印刷方法（例えば、レーザープリンタ又はインクジェットプリンターによる印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷）を用いてパターン印刷されたフォトマスクが挙げられる。金属膜をエッチングすることによりパターン形成されたフォトマスクは、例えば、石英基板上に金属クロム膜をスパッタで形成した後、フォトレジストを用いてパターニングすることにより得られる。

第２パターニングマスクを用いて第３光を照射する場合、第２パターニングマスクは、基材の液晶層を有する側とは反対側に配置してよく、基材の液晶層を有する側に配置してよい。

第２パターニングマスクを基材の液晶層を有する側に配置する場合、液晶層に第２パターニングマスクを接触させて第３光を照射してよく、液晶層と第２パターニングマスクとの間に間隙を設けて第３光を照射してもよい。

第２パターニングマスクを基材の液晶層を有する側とは反対側に配置する場合、基材を介して第２光で液晶層を露光するため、透光性の基材を用いることが好ましい。
基材の透光性について、第２光の透過率は特に限定されないが、光異性化キラル化合物をより容易に光異性化させる観点から、高い程好ましい。

第２パターニングマスクを用いて第３光を照射する場合、第２パターニングマスクは、１種のみ用いてよく、２種以上用いてもよい。

本開示に係る加飾フィルムの製造方法が第３露光工程を含む場合の好ましい態様において、
基材が透光性であり、
第３露光工程において、基材の液晶層を有する側とは反対側から、第２パターニングマスク及び基材を介して第３光を照射し、
第１露光工程において、基材の液晶層を有する側とは反対側から、第１パターニングマスク及び基材を介して第１光を照射し、
第２露光工程において、基材の液晶層を有する側から、第２光を照射する。
このような態様により、第３光の照射によりキラル剤を異性化させて螺旋ピッチを変化させることができる。更に、第１光を照射する際、光反射部の硬化を促進させ、かつ、未硬化部を形成することができ、第２光を照射する際、等方相とした未硬化部を硬化させて透光部を形成することができる。

上記の好ましい態様の一例について、図面を参照して説明する。例えば、図３に示すように、基材３０と液晶層１０ｐとを有する液晶材料２００ｐを準備し（液晶材料準備工程）、液晶層１０ｐを加熱してコレステリック液晶相とする（第１加熱工程）。
次いで、例えば、図６に示すように、第３光の透過率が高い領域７１と、第３光の透過率が低い領域７２とを含む第２パターニングマスク７０を基材３０の一方面（図６の下方の面）に配置し、基材３０及び第２パターニングマスク７０を介して第３光Ｌ３を照射して（第３露光工程）、光異性化キラル化合物の光異性化率が互いに異なる領域１０１ｐ及び領域１０２ｐを形成する。
次いで、例えば、図７に示すように、第１光の透過率が高い領域５１と、第１光の透過率が低い領域５２とを含む第１パターニングマスク５０を基材３０の一方面（図７の下方の面）に配置し、基材３０及び第１パターニングマスク５０を介して第１光Ｌ１を照射して、液晶層１０ｐの一部を硬化させる（第１露光工程）ことにより、選択反射波長が互いに異なる光反射部１１１及び光反射部１１２を形成する。
次いで、液晶層１０ｐを加熱して液晶層１０ｐ中の未硬化部１２１ｐ及び未硬化部１２２ｐを等方相とした（第２加熱工程）後、図８に示すように、基材３０の液晶層１０ｐを有する側から、第２光Ｌ２を照射して、未硬化部１２１ｐ及び未硬化部１２２ｐを硬化させる（第２露光工程）ことにより、透光部１２１及び透光部１２２を形成する。
以上のようにして、例えば、図８に示すように、選択反射波長が互いに異なる光反射部１１１及び光反射部１１２と、光反射部１１１に隣接する透光部１２１及び光反射部１１２に隣接する透光部１２２とを厚み方向に含む単一層からなる反射層１０を含む加飾フィルム２００Ａを製造することができる。図８に例示される加飾フィルム２００Ａにおいて、反射層１０は、光反射部１１１及び光反射部１１２と、透光部１２１及び透光部１２２とを基材３０側から順に含んでいる。

［その他の工程］
本開示に係る加飾フィルムの製造方法は、必要に応じて、上記工程以外の他工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、例えば、基材を含む態様で製造した加飾フィルムから基材を剥離する工程が挙げられ、基材を含まない態様の加飾フィルムを製造することができる。
また、その他の工程としては、着色層形成工程、配向層形成工程、及びその他の層の形成工程が挙げられる。着色層及び配向層の詳細及び形成方法は上述の通りである。また、その他の層の詳細は上述の通りであり、その他の層の形成方法として、公知の方法を用いてよい。

＜成型体、物品、電子デバイス＞
本開示に係る加飾フィルムは、種々の用途に用いることができ、例えば、加飾フィルムを成型して成型体として用いることができる。このような成型体は、様々な物品に備えることができ、そのような物品として、例えば、スマートフォン、携帯電話、及びタブレット等の電子デバイス、自動車、電化製品、包装容器等が挙げられ、とりわけ、電子デバイスに好適に用いることができる。

加飾フィルムを成型して成型体を得るための手段は特に限定されず、例えば、立体成型、インサート成型等の公知の方法であってよい。また、加飾フィルムを物品に適用するための手段も特に限定されず、物品の種類に応じて、公知の方法を適宜用いてよい。

以下、実施例を挙げて本開示をより具体的に説明する。但し、本開示は、これらの実施例に限定されない。

＜実施例１＞
［基材の準備］
基材として、紫外線透過性を有するテクノロイＣ０００（厚み１００μｍ、ポリカーボネート樹脂単層シート、住化アクリル販売社製）を幅手方向２１０ｍｍ、長手方向３００ｍｍに裁断したものを準備した。

［配向層の形成］
下記に記載の組成を有する配向層形成用塗布液を調製した。
－配向層形成用塗布液の組成－
・下記に示す構造の変性ポリビニルアルコール…１０．００質量部
・水…５５．００質量部
・メタノール…３５．００質量部

変性ポリビニルアルコールの構造を以下に示す。各構成単位の右下の数字はモル比を表す。

配向層形成用塗布液をワイヤーバー（番手＃１０）で基材に塗布し、１００℃にて２分乾燥させることにより、液晶層を形成した。次いで、形成した液晶層に、基材の短辺方向を基準に反時計回りに３°回転させた方向にラビング処理（レーヨン布、圧力０．１ｋｇｆ、回転数１，０００ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ／ｍｉｎ、回数１回）を施した。これにより、基材上に配向層を形成した。

［第１パターニングマスクの作製］
下記成分の混合物を分散機モーターミルＭ５０（アイガー社製）に入れて、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓで８時間分散することにより、ブラックミルベースＫを作製した。
・ＳＰＥＣＩＡＬ ＢＬＡＣＫ ２５０（ＢＡＳＦジャパン社製）…３０質量部
・２－フェノキシエチルアクリレート(商品名ＥＢＥＣＲＹＬ１１４、ダイセル・サイテック社製）…５０質量部
・ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ ３２０００（日本ルーブリゾール社製）…２０質量部

得られたブラックミルベースＫを用いて、下記成分の混合物を高速撹拌することでマスク印刷用インクを調製した。
・ブラックミルベースＫ…９質量部
・Ｎ－ビニルカプロラクタム（ＢＡＳＦ社製）…２５質量部
・イソボルニルアクリレート（商品名：ＳＲ５０６、Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）…２３．５質量部
・２－フェノキシエチルアクリレート（商品名：ＢＥＣＲＹＬ１１４、ダイセル・サイテック社製）…２７質量部
・ＣＮ９０３１：ウレタンアクリレートオリゴマー（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）…４質量部
・２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）…５質量部
・ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）…５質量部
・イソプロピルチオキサントン（シェルケミカルズジャパン社製）…１質量部
・４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジニルオキシ（ＡＤＥＫＡ社製）…０．３質量部
・トリス（Ｎ－ニトロソ－Ｎ－フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩（商品名：ＦＬＯＲＳＴＡＢ ＵＶ１２、Ｋｒｏｍａｃｈｅｍ社製）…０．２質量部

基材（テクノロイＣ０００、厚み１００μｍ、住化アクリル販売株式会社製、Ａ４サイズ）の中央部に、インクジェットプリンター（ＤＭＰ－２８３１、富士フイルム株式会社製）を用い、マスク印刷用インクにより、図９に示すマスクパターン（領域５１：グレースケール１００％設定、領域５２：グレースケール５０％設定）をグレースケールで印刷した。グレースケール１００％設定で印刷した領域５１にはマスク印刷用インクが塗布されないため、領域５１は、マスク印刷用インクに由来する紫外線の吸収がない。そのため、紫外線の透過率は、領域５１の方が領域５２より高い。
次いで、マスクパターンを印刷した面側から、メタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、ＧＳユアサ社製）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で紫外線を照射してマスク印刷用インクを硬化した。これにより、紫外線の透過率が互いに異なる領域５１と領域５２とを有する第１パターニングマスク５０（１５２ｍｍ×８０ｍｍ）を作製した。

［反射層の形成］
下記に記載の組成を有する液晶組成物を調製した。
－液晶組成物の組成－
・液晶化合物１：下記に示す構造を有する化合物…１７．６７質量部
・液晶化合物２：下記に示す構造を有する化合物…５．８８質量部
・液晶化合物３：下記に示す構造を有する化合物…５．８８質量部
・重合性キラル化合物：下記に示す構造を有する化合物（製品名「パリオカラー ＬＣ７５６」、ＢＡＳＦ社製）…０．７４質量部
・光異性化キラル化合物：下記に示す構造を有する化合物…２．０６質量部
・架橋剤：ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート（製品名「ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ」、新中村化学工業社製）…０．８８質量部
・光重合開始剤：２－メチル－１－（４－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノプロパン－1－オン（製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）…０．２９質量部
・界面活性剤１：下記に示す構造を有する化合物…０．０９質量部
・界面活性剤２：下記に示す構造を有する化合物…０．０１質量部
・有機溶剤１：メチルエチルケトン…４６．５５質量部
・有機溶剤２：シクロヘキサノン…１９．９５質量部

以下、液晶化合物１、液晶化合物２、液晶化合物３、重合性キラル化合物、光異性化キラル化合物、界面活性剤１及び界面活性剤２の構造を示す。

（液晶化合物１）

（液晶化合物２）

（液晶化合物３）

（重合性キラル化合物）

（光異性化キラル化合物）

（界面活性剤１）

（界面活性剤２）

次に、配向層上に、ワイヤーバー（番手＃８）を用いて液晶組成物を塗布した後、８０℃で２分間乾燥処理を行うことにより、基材と液晶層とを有する液晶材料を準備した。

液晶材料を４０℃の温度に保ったボックス内に入れ、基材の液晶層を有する側とは反対側に第１パターニングマスクを密着させた。ＵＶ（Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）－ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を用いて、基材と第１パターニングマスクとを介して３００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で波長２８５ｎｍの紫外線（第１光）を照射し、光反射部を形成した。その後、第１パターニングマスクを取り外し、１２０℃のホットプレート上で液晶層を加熱し、低酸素雰囲気下（酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下）にて、基材の液晶層を有する側からＵＶ－ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で波長２８５ｎｍの紫外線（第２光）を照射して液晶層を硬化させて反射層を形成した。このようにして、図１０及び図１１（図１０のＡ－Ａ断面）に示す実施例１の加飾フィルム２００Ｂを作製した。図１１に示すように、加飾フィルム２００Ｂは、光反射部１１と、光反射部１１に隣接する透光部１２とを厚み方向に含む単一層からなる反射層１０を有しており、反射層１０は、光反射部１１と、透光部１２とを基材３０側から順に含んでいた。また、反射層１０は、複数の領域（ａ４、ａ５）を面内方向に含んでいた。

＜実施例２＞
［第１パターニングマスクの作製］
実施例１と同様にして、図９に示す第１パターニングマスクを準備した。

［第２パターニングマスクの作製］
基材(テクノロイＣ０００、厚み１００μｍ、住化アクリル販売株式会社製、Ａ４サイズ)の中央部に、インクジェットプリンター(ＤＭＰ－２８３１、富士フイルム株式会社製）を用い、第１パターニングマスクの作製に用いたマスク印刷用インクにより、図１２に示すマスクパターン（領域７１：グレースケール１００％設定、領域７２及び領域７３：グレースケール０％設定）をグレースケールで印刷した。グレースケール１００％設定で印刷した領域７１にはマスク印刷用インクが塗布されないため、領域７１は、マスク印刷用インクに由来する紫外線の吸収がない。そのため、紫外線の透過率は、領域７１の方が領域７２及び領域７３より高い。
次いで、マスクパターンを印刷した面側から、メタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、ＧＳユアサ社製）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で紫外線を照射してマスク印刷用インクを硬化した。これにより、紫外線の透過率が互いに異なる領域７１と領域７２及び領域７３とを有する第２パターニングマスク７０（１５２ｍｍ×８０ｍｍ、領域７１幅：３０ｍｍ、領域７２幅：２０ｍｍ、領域７３幅：３０ｍｍ）を作製した。

［反射層の形成］
実施例１と同様にして、基材と液晶層とを有する液晶材料を準備した。

液晶材料を４０℃の温度に保ったボックス内に入れ、基材の液晶層を有する側とは反対側に第２パターニングマスクを密着させた。ＵＶ－ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を用いて、基材と第２パターニングマスクとを介して１．８ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で波長３６５ｎｍの紫外線（第３光）を照射し、光異性化キラル化合物の光異性化を行った。第２パターニングマスクを取り外した後、実施例１と同様の条件で、基材と第１パターニングマスクとを介した紫外線（第１光）の照射、次いで紫外線（第２光）の照射を行い、反射層を形成した。このようにして、図１３及び図１４（図１３のＢ－Ｂ断面）に示す実施例２の加飾フィルム２００Ｃを作製した。図１４に示すように、加飾フィルム２００Ｃは、光反射部１１１及び光反射部１１２と、光反射部１１２に隣接する透光部１２２及び光反射部１１１に隣接する透光部１２１とを厚み方向に含む単一層からなる反射層１０を有しており、反射層１０は、光反射部１１１及び光反射部１１２と、透光部１２１及び透光部１２２とを基材３０側から順に含んでいた。また、反射層１０は、複数の領域（ａ６～ａ１１）を面内方向に含んでいた。

＜実施例３＞
［第１パターニングマスクの作製］
実施例１と同様にして、図９に示す第１パターニングマスクを準備した。

［反射層の形成］
実施例１と同様にして、基材と液晶層とを有する液晶材料を準備した。

液晶材料を４０℃の温度に保ったボックス内に入れ、基材の液晶層を有する側に、液晶層と第１パターニングマスクとの間に間隙を設けて、第１パターニングマスクを配置した。ボックス内を低酸素雰囲気下（酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下）にした後、ＵＶ－ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を用いて、第１パターニングマスクを介して５ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で波長２８５ｎｍの紫外線（第１光）を照射し、光反射部を形成した。その後、実施例１と同様の条件で、紫外線（第２光）の照射を行い、反射層を形成した。このようにして、図１５及び図１６（図１５のＣ－Ｃ断面）に示す実施例３の加飾フィルム２００Ｄを作製した。図１６に示すように、加飾フィルム２００Ｄは、光反射部１１と、光反射部１１に隣接する透光部１２とを厚み方向に含む単一層からなる反射層１０を有しており、反射層１０は、透光部１２と、光反射部１１とを基材３０側から順に含んでいた。また、反射層１０は、複数の領域（ａ１２、ａ１３）を面内方向に含んでいた。

＜加飾フィルムの特性評価＞
実施例１～実施例３の加飾フィルムについて、以下の要領で、選択反射波長、最大反射率、光反射部の厚さ、透光部の厚さ、及び螺旋ピッチを測定した。

［選択反射波長、最大反射率］
加飾フィルムについて、基材の反射層を有する側とは反対の面に、黒ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）（商品名「くっきりミエール」、株式会社巴川製紙所社製）を貼り合わせ、反射層が形成されている面を入射面として、反射スペクトルを測定した。反射率は、積分球装置を備えた分光光度計で測定される積分反射率であり、日本分光社製の分光光度計「Ｖ－６７０」、及び同社製の大型積分球装置「ＩＬＶ－４７１」を用いて測定した。
また、得られた反射スペクトルを用いて、反射率の極大値、かつ、最大値をＲ_ｍａｘ（％）とし、下記の式で表される半値反射率Ｒ^１／２（％）を示す２つの波長の平均値を選択反射波長とした。
半値反射率を求める式：Ｒ^１／２＝Ｒ_ｍａｘ÷２

反射層は選択反射性を有しており、反射層中に選択反射性を有する光反射部が形成されていることが確認された。

［光反射部の厚さ、透光部の厚さ、螺旋ピッチ］
加飾フィルムから、ローラーカッターを用いて幅５ｍｍ×長さ２ｍｍのサンプル片を切り出した。サンプル片をエポキシ樹脂で包埋し、ミクロト－ム（製品名「ＲＭ２２６５」、Ｌｅｉｃａ社製）を用いて、反射層の厚み方向に向かって切断した。走査型電子顕微鏡（型式「Ｓ-５５００」、日立ハイテクノロジーズ社製、観察倍率：１００００倍、加速電圧：２．０ｋＶ）を用いて、サンプル断面のＳＥＭ画像を観察した。
明部と暗部との縞模様が観察された部分を光反射部と判定し、それ以外の部分を透光部と判定して、光反射部の厚さ、及び透光部の厚さを測定した。ＳＥＭ観察により、加飾フィルムが、光反射部と、光反射部に隣接する透光部とが、厚み方向に含む単一層からなる反射層を有することが確認された。
また、明部と暗部との繰り返し２周期分をコレステリック液晶化合物の捩れの３６０度に対応すると判定し、これらの２つの明部と２つの暗部との幅を螺旋ピッチとして測定した。

以上の評価結果を表１に示す。また、目視で色の評価を行った結果を表２に示す。

実施例１～実施例３の加飾フィルムは、表１に示すように、任意の反射率に制御することができた。これにより、表２に示すように、加飾フィルムの色を容易に変化させることができた。
実施例１の加飾フィルムでは、選択反射波長を４６０ｎｍ（青色）として、最大反射率を２３％（暗青色）から４８％（明青色）の間で制御することで、同系統の青色で明暗を調節することができた。実施例３の加飾フィルムでも同様に、ほぼ一定の選択反射波長において、青色の明暗を調節することができた。
また、実施例２の加飾フィルムでは、領域ａ７及び領域ａ１０において光異性化キラル化合物を光異性化させることにより、選択反射波長を４６０ｎｍ（青色）から５５２ｎｍ（緑色）に変更することで、別系統の色である緑色を得ることができた。更に、実施例２の加飾フィルムでは最大反射率の制御も行われており、その結果、青色及び緑色という別系統の色の変化に加えて、暗青色から明青色、及び暗緑色から明緑色という同系統の色で明暗をつけることができ、複雑な意匠を得ることができた。

＜実施例４＞
［成型体］
実施例１の加飾フィルムを用いて、以下のようにして成型体を作製した。

加飾フィルムの反射層上に、日本ペイント社製の「ｎａｘレアル スーパーブラック塗料」を、ワイヤーバー（番手＃２０）を用いて塗布し、１００℃にて２分乾燥させることにより、厚さ１０μｍの着色層を形成した。

粘着層の両面に保護フィルムを有する粘着シート（Ｇ２５、厚さ２５μｍ、日榮新化社製）の片面の保護フィルムを剥離した後、加飾フィルムの着色層に粘着シートを張り付けてラミネート（温度：３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度０．１ｍ／分）した。これにより、保護フィルム、粘着層、着色層、反射層、及び基材をこの順に有する加飾フィルム（以下、「成型用加飾フィルム」と呼ぶことがある）を得た。

電子デバイスであるスマートフォン筐体パネルを想定し、図１７及び図１８（図１７の断面）に示すガラス部材（ｌ_１：１５２ｍｍ、ｌ_２：８２ｍｍ、ｌ_３：２０ｍｍ）を用いて、立体成型により成型体を作製した。
具体的には、成型用加飾フィルムから保護フィルムを剥離後、図１７に示すガラス部材に成型用加飾フィルムを張り付け、布施真空社製のＴＯＭ（Ｔｈｒｅｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｏｖｅｒｌａｙ Ｍｅｔｈｏｄ）成型機「ＮＧＦ０４０６」を用いて加熱温度１７０℃にて真空成型し、成型体を形成した。このようにして、実施例１の加飾フィルムに由来する青色の明暗がついた意匠を有する成型体を得ることができた。この成型体は、電子デバイスであるスマートフォンに好ましく用いることができる。

２０２０年９月２３日に出願された日本国特許出願２０２０－１５８９５８号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記載された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

Claims (15)

1. 波長選択反射性を有する光反射部と、前記光反射部に隣接する透光部と、を厚み方向に含む単一層からなる反射層を含み、
   前記反射層が、前記光反射部の厚さが互いに異なる複数の領域を面内方向に含み、
   前記複数の領域は、最大反射率が１０％以上異なり、
   前記反射層が、コレステリック液晶化合物を含む液晶層の硬化物であり、
   前記光反射部が、コレステリック配向部であり、
   前記透光部が、等方部である、加飾フィルム。
2. 前記反射層が、選択反射波長が互いに異なる複数の領域を面内方向に含む請求項１に記載の加飾フィルム。
3. 前記選択反射波長が互いに異なる複数の領域は、選択反射波長が１５ｎｍ以上異なる請求項２に記載の加飾フィルム。
4. 前記反射層の選択反射波長が、３５０ｎｍ～１２００ｎｍである請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
5. 前記反射層が、前記コレステリック液晶化合物の螺旋ピッチが１０ｎｍ以上異なる複数の前記光反射部を面内方向に含む請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
6. 前記液晶層が、光異性化キラル化合物を含む請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
7. 基材を含む請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
8. 着色層を含む請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
9. 基材と、コレステリック液晶化合物を含む光硬化性の液晶層とを有する液晶材料を準備する工程と、
   前記液晶層を加熱してコレステリック液晶相とする工程と、
   前記コレステリック液晶相とした液晶層に第１光を照射して前記液晶層の一部を硬化させる工程と、
   前記第１光の照射後の液晶層を加熱して前記液晶層の未硬化部を等方相とする工程と、
   少なくとも前記等方相とした未硬化部に第２光を照射して前記未硬化部を硬化させる工程と、を含み、
   前記基材が透光性であり、
   前記液晶層の一部を硬化させる工程において、前記基材の前記液晶層を有する側とは反対側から、前記第１光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第１パターニングマスク及び前記基材を介して前記第１光を照射し、
   前記未硬化部を硬化させる工程において、前記基材の前記液晶層を有する側から、前記第２光を照射する、
   加飾フィルムの製造方法。
10. 前記液晶層が、光異性化キラル化合物を含み、
    前記液晶材料を準備する工程と、前記液晶層の一部を硬化させる工程との間に、前記コレステリック液晶相とした液晶層に第３光を照射して前記光異性化キラル化合物を光異性化させる工程を含む、
    請求項９に記載の加飾フィルムの製造方法。
11. 前記光異性化キラル化合物を光異性化させる工程において、前記第３光の透過率が互いに異なる複数の領域を有する第２パターニングマスクを介して前記第３光を照射する請求項１０に記載の加飾フィルムの製造方法。
12. 前記液晶層が、光ラジカル重合開始剤を含み、
    前記コレステリック液晶化合物が、ラジカル重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む、
    請求項９～請求項１１のいずれか１項に記載の加飾フィルムの製造方法。
13. 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の加飾フィルムを成型してなる成型体。
14. 請求項１３に記載の成型体を備えた物品。
15. 電子デバイスである請求項１４に記載の物品。