JP2023129105A - 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 - Google Patents
加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023129105A JP2023129105A JP2022033894A JP2022033894A JP2023129105A JP 2023129105 A JP2023129105 A JP 2023129105A JP 2022033894 A JP2022033894 A JP 2022033894A JP 2022033894 A JP2022033894 A JP 2022033894A JP 2023129105 A JP2023129105 A JP 2023129105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- cholesteric liquid
- crystal layer
- cholesteric
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 52
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 claims abstract description 223
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 claims abstract description 63
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 194
- UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 2,6-dimethyl-n-[[(2s)-pyrrolidin-2-yl]methyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1NC[C@H]1NCCC1 UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 0.000 claims description 76
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 68
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 64
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 55
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 18
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 148
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 85
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 73
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 49
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 37
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 34
- 230000008859 change Effects 0.000 description 29
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 13
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 238000007699 photoisomerization reaction Methods 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 6
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000011160 research Methods 0.000 description 6
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 2
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical group C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical group C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- KLDXJTOLSGUMSJ-BXKVDMCESA-N (3s,3as,6s,6as)-2,3,3a,5,6,6a-hexahydrofuro[3,2-b]furan-3,6-diol Chemical class O[C@H]1CO[C@H]2[C@@H](O)CO[C@H]21 KLDXJTOLSGUMSJ-BXKVDMCESA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylcyclohexane-1-carbonitrile Chemical class C=1C=CC=CC=1C1(C#N)CCCCC1 AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOLUVSIJOMLOCB-UHFFFAOYSA-N 1633-22-3 Chemical compound C1CC(C=C2)=CC=C2CCC2=CC=C1C=C2 OOLUVSIJOMLOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJWZDTGRJUXOCE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)CC1CCO1 LJWZDTGRJUXOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1,4-dioxane Chemical class C1OCCOC1C1=CC=CC=C1 WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCZFSSKUSDNV-UHFFFAOYSA-N 3-(aziridin-1-yl)propanoic acid;2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OC(=O)CCN1CC1.OC(=O)CCN1CC1.OC(=O)CCN1CC1.CCC(CO)(CO)CO UWHCZFSSKUSDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQNIVGMEQKZQFP-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(propoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](OC)(OC)CCCN BQNIVGMEQKZQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.0]hexane Chemical compound C1CCC2OC21 GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N Isosorbide Chemical class O[C@@H]1CO[C@@H]2[C@@H](O)CO[C@@H]21 KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005337 azoxy group Chemical group [N+]([O-])(=N*)* 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007697 cis-trans-isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229940125810 compound 20 Drugs 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001934 cyclohexanes Chemical class 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- UOYPNWSDSPYOSN-UHFFFAOYSA-N hexahelicene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=3C(=CC=C4C=CC=5C(C=34)=CC=CC=5)C=C3)C3=CC=C21 UOYPNWSDSPYOSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCGKUFZYSPBMAY-UHFFFAOYSA-N methyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1C(C(=O)OC)CCC2OC21 QCGKUFZYSPBMAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Chemical group C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- OPYYWWIJPHKUDZ-UHFFFAOYSA-N phenyl cyclohexanecarboxylate Chemical class C1CCCCC1C(=O)OC1=CC=CC=C1 OPYYWWIJPHKUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000002341 photoisomerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000765 poly(2-oxazolines) Chemical class 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPHGMBGIFODUMF-UHFFFAOYSA-N thiophen-2-ylmethanol Chemical compound OCC1=CC=CS1 ZPHGMBGIFODUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001608 tolans Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】グラデーション領域における干渉縞が抑制された加飾フィルム及びその製造方法、並びに、成型体、物品、及び表示装置を提供する。【解決手段】反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ～２５０ｎｍ／ｍｍの範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含み、グラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂとの間においてコレステリックピッチが極小となる極小点を極小点Ｃとした際の、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、グラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある加飾フィルム及びその応用である。【選択図】なし
Description
本開示は、加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置に関する。
近年、塗布又は塗装に代替する材料として、物品を加飾するためのフィルムが提案されている。例えば、所望とする樹脂成型体の表面にフィルムを配置し、樹脂成型体の表面を所望の色相に着色したり、又は樹脂成型体の表面に所望の模様を設けることにより加飾された成型体を得る技術が注目されている。また、加飾された成型体は、型枠の中に加飾用のフィルムを予め配置し、型枠内に成型用の樹脂を導入することでも得ることができる。
加飾のためのフィルムとしては、例えば、コレステリック液晶を利用した技術が知られている。具体的な例として、基材上に、コレステリック液晶化合物及び光異性化化合物を含む液晶層を硬化してなる硬化液晶層を有する成型用加飾フィルムが開示されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１に記載の技術のように、コレステリック液晶化合物及び光異性化化合物を用い、露光により光異性化化合物を異性化することで液晶相の螺旋ピッチの長さが変化し、螺旋ピッチに応じた波長の光の反射により色相を発現させることができる。
コレステリック液晶化合物及び光異性化化合物を用いて、連続的な色相の変化（いわゆるグラデーション）のある画像を形成しようとする場合、青色から緑色へ色相が変化していく波長域、緑色から赤色へ波長が変化していく波長域などにおいて、色相が例えば緑から徐々に緑に移り変わる中である波長で黒みがかった色相が現れる場合がある。色相が移り変わっていく途中の色の明暗は、視覚上縞状の模様として認められ、色相が連続的に変化するグラデーションは得られない。
本開示の実施形態は、グラデーション領域における干渉縞が抑制された加飾フィルム及びその製造方法を提供することにある。
本開示の他の実施形態は、グラデーション領域における干渉縞が抑制された成型体、物品、並びに、表示装置を提供することにある。
本開示の他の実施形態は、グラデーション領域における干渉縞が抑制された成型体、物品、並びに、表示装置を提供することにある。
課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含み、グラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、の間においてコレステリックピッチが極小となる点を極小点Ｃとした際の、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、
極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、
グラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある、加飾フィルムである。
＜２＞ 極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が、１０μｍ以上である＜１＞に記載の加飾フィルムである。
＜３＞ コレステリック液晶層が、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性の組成物の硬化物である＜１＞又は＜２＞に記載の加飾フィルムである。
＜４＞ コレステリック液晶層のヘイズ値が、２．０％以下である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の加飾フィルムである。
＜１＞ 反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含み、グラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、の間においてコレステリックピッチが極小となる点を極小点Ｃとした際の、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、
極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、
グラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある、加飾フィルムである。
＜２＞ 極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が、１０μｍ以上である＜１＞に記載の加飾フィルムである。
＜３＞ コレステリック液晶層が、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性の組成物の硬化物である＜１＞又は＜２＞に記載の加飾フィルムである。
＜４＞ コレステリック液晶層のヘイズ値が、２．０％以下である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の加飾フィルムである。
＜５＞ ＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の加飾フィルムを成型した成型体である。
＜６＞ ＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム又は＜５＞に記載の成型体を備えた物品である。
＜７＞ 電子デバイスである＜６＞に記載の物品である。
＜８＞ ＜７＞に記載の物品を備えた表示装置である。
＜９＞ 基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備することと、
面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射することと、
第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させることと、
を含む加飾フィルムの製造方法である。
＜６＞ ＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の加飾フィルム又は＜５＞に記載の成型体を備えた物品である。
＜７＞ 電子デバイスである＜６＞に記載の物品である。
＜８＞ ＜７＞に記載の物品を備えた表示装置である。
＜９＞ 基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備することと、
面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射することと、
第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させることと、
を含む加飾フィルムの製造方法である。
本開示の実施形態によれば、グラデーション領域における干渉縞が抑制された加飾フィルム及びその製造方法が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、グラデーション領域における干渉縞が抑制された成型体、物品、並びに、表示装置が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、グラデーション領域における干渉縞が抑制された成型体、物品、並びに、表示装置が提供される。
以下、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
更に、本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「全固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶媒を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
＜加飾フィルム＞
本開示の加飾フィルムは、反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含む加飾フィルムである。そして、コレステリック液晶層のグラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、の間においてコレステリックピッチが極小となる点を極小点Ｃとした際の、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、コレステリック液晶層のグラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある。
本開示の加飾フィルムは、反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含む加飾フィルムである。そして、コレステリック液晶層のグラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、の間においてコレステリックピッチが極小となる点を極小点Ｃとした際の、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、コレステリック液晶層のグラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある。
コレステリック液晶層は、入射する光を選択的に反射して反射した光の波長に応じた色相を呈する。コレステリック液晶層が呈する色相は、コレステリック液晶化合物の螺旋ピッチを変化させることで所望の色相を得ることが可能であるが、短波長側から青～緑～赤の色相に変化するグラデーション反射を呈するように調整しようとすると、青色から緑色へ色相が変化していく波長域、緑色から赤色へ波長が変化していく波長域などにおいて、色相が例えば緑から徐々に赤に移り変わる中である波長で黒みがかった色相が現れる場合がある。図９のように、例えば波長が５５０ｎｍから６００ｎｍに変化する途中で明部と暗部とが隣り合って現れる場合がある。色相が移り変わっていく途中の色の明暗は、視覚上縞状の模様（干渉縞ともいう）として認められることになり、色相が連続的に変化する鮮やかなグラデーションは得られない。
本開示では、上記の現象に鑑み、コレステリック液晶層の反射スペクトルに現れるサブ反射ピークに着眼し、サブ反射ピークがグラデーション領域に干渉縞を発現させる一因であるとの知見を得た。加飾フィルムのコレステリック液晶層に光が入射する際、入射光は、コレステリック液晶層内部で反射するだけでなく、コレステリック液晶層の空気界面及び隣接する層との界面でも反射する。これにより、前者の反射で得られる主反射ピーク波形に隣接して後者の反射で得られるサブ反射ピーク波形が発現する。このサブ反射ピークと主反射ピークとの間に光の反射率が極小値を示す波長域が存在し、入射する光の輝線波長が、反射率が局所的に一旦凹状に小さくなる波形の波長域と重なると、視覚上、前後波長の色調に比べて暗い色調（暗黒調）の色相を呈することになる。また、入射する光の輝線波長が、サブ反射ピークの波長域と重なると、視覚上、前後波長の色調に比べて明るい色調（光輝調）の色相を呈することになる。
そこで本開示では、グラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある場合に、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差を１０ｎｍ以上とし、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離を１５０μｍ以下とすることで、サブ反射ピークの波長域が異なる複数の反射スペクトルを平均化した反射スペクトルとして視認され、サブ反射ピークに起因する暗黒調及び光輝調の色相が消失し、干渉縞が視認されなくなる。これにより、視覚上、鮮やかなグラデーションが実現する。
そこで本開示では、グラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある場合に、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差を１０ｎｍ以上とし、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離を１５０μｍ以下とすることで、サブ反射ピークの波長域が異なる複数の反射スペクトルを平均化した反射スペクトルとして視認され、サブ反射ピークに起因する暗黒調及び光輝調の色相が消失し、干渉縞が視認されなくなる。これにより、視覚上、鮮やかなグラデーションが実現する。
「反射中心波長」とは、コレステリック液晶層に入射した光の反射スペクトルにおいて、反射率の極大値Ｒｍａｘ（％）を示す波長、及び半値反射率Ｒ１／２（％）を示す波長を平均した平均値のことを指す。反射率とは、積分反射率であり、かつ、白色標準板に対する相対反射率である。反射中心波長の測定方法については後述する。
「グラデーション領域」とは、短波長から長波長に亘る反射波長領域において、１つの図画の中で色相が徐々に移り変わっていく様子を呈する領域のことである。
本開示の加飾フィルムは、反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含む。グラデーション領域において変化する反射中心波長の割合が０．１ｎｍ／ｍｍ以上であることで、色変化がグラデーションとして現れやすい。グラデーション領域において変化する反射中心波長の割合が２５０ｎｍ／ｍｍ以下であることは、グラデーションを形成するのに適していることを示し、変化が大き過ぎてむしろ色相の違いがはっきりする範囲と区別される。
反射中心波長の変化割合としては、色の変化を視認しやすい点で、０．１５ｎｍ／ｍｍ以上が好ましく、０．２ｎｍ／ｍｍ以上がより好ましく、０．３ｎｍ／ｍｍ以上が特に好ましい。また、色のグラデーションを形成しやすい点で、２４０ｎｍ／ｍｍ以下が好ましく、４０ｎｍ／ｍｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ／ｍｍ以下が特に好ましい。１ｎｍ／ｍｍ以上２００ｎｍ／ｍｍ以下の範囲が好ましく、１ｎｍ／ｍｍ以上５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲がより好ましく、１ｎｍ／ｍｍ以上２０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲が更に好ましい。
反射中心波長の変化割合としては、色の変化を視認しやすい点で、０．１５ｎｍ／ｍｍ以上が好ましく、０．２ｎｍ／ｍｍ以上がより好ましく、０．３ｎｍ／ｍｍ以上が特に好ましい。また、色のグラデーションを形成しやすい点で、２４０ｎｍ／ｍｍ以下が好ましく、４０ｎｍ／ｍｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ／ｍｍ以下が特に好ましい。１ｎｍ／ｍｍ以上２００ｎｍ／ｍｍ以下の範囲が好ましく、１ｎｍ／ｍｍ以上５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲がより好ましく、１ｎｍ／ｍｍ以上２０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲が更に好ましい。
コレステリック液晶層のグラデーション領域では、面内方向にコレステリックピッチが変化している構造を有している。面内方向におけるコレステリックピッチにおいて、本開示では、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、極大点Ａと極大点Ｂとの間においてコレステリックピッチが極小となる極小点Ｃと、を有し、以下の（１）及び（２）を満たす。
（１）極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上である。
（２）極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下である。
（１）極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上である。
（２）極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下である。
「極大点Ａ」とは、面内方向に変化するコレステリックピッチのうち、コレステリックピッチが反射スペクトルの波形において局所的に一旦凸状に大きくなった山の頂点の位置を指す。コレステリックピッチは、コレステリック液晶化合物の螺旋ピッチのことであり、螺旋ピッチが大きいほどより長波長の光を反射する。
「極大点Ｂ」とは、面内方向に変化するコレステリックピッチのうち、極大点Ａと隣り合う位置に存在している他の頂点の位置を指す。
「極小点Ｃ」とは、面内方向に変化するコレステリックピッチのうち、極大点Ａと極大点Ｂとの間に位置し、かつ、反射スペクトルの波形においてコレステリックピッチが局所的に一旦凹状に小さくなった谷の底点の位置を指す。コレステリックピッチが小さいほど、より短波長の光を反射する。
「極大点Ｂ」とは、面内方向に変化するコレステリックピッチのうち、極大点Ａと隣り合う位置に存在している他の頂点の位置を指す。
「極小点Ｃ」とは、面内方向に変化するコレステリックピッチのうち、極大点Ａと極大点Ｂとの間に位置し、かつ、反射スペクトルの波形においてコレステリックピッチが局所的に一旦凹状に小さくなった谷の底点の位置を指す。コレステリックピッチが小さいほど、より短波長の光を反射する。
ここで、図３Ａを参照して極大値Ａ及びＢ並びに極小値Ｃについて説明する。
グラデーション領域は、色が面内方向に徐々に変化しており、この変化はコレステリック液晶層のコレステリック液晶化合物の螺旋ピッチの変化に起因する。第一のコレステリックピッチと第二のコレステリックピッチを定義するため、図３Ａの四角枠を取り出して拡大観察し、１ｍｍ四方の４つの領域（領域ｃ～領域ｆ）を考える。例えば、領域ｃ、領域ｄ、領域ｅ、領域ｆの反射中心波長（λｃ、λｄ、λｅ、λｆ）がこの順に並んでいた場合（λｃ＞λｄ＞λｅ＞λｆ）には、グラデーションとして視認することができ、λｃ～λｆの中のいずれかの大小関係が入れ替わる場合には、色調の連続性が損なわれやすい。領域ｃ～領域ｆでは、それぞれコレステリックピッチが面内方向に均一ではなくなることで、異なる反射中心波長を持つ複数の反射スペクトルの足し合わせ（即ち、平均化）によって中心波長を捉えることができる。これにより、サブ反射ピークが打ち消され、視覚的に認められる干渉縞の発現を抑制することができる。
領域ｃ～領域ｆにおける反射中心波長（λｃ、λｄ、λｅ、λｆ）は、λｃとλｆとの差の絶対値が１５００ｎｍ以下となる範囲であることが好ましい。加飾に適したグラデーション波長範囲が得られやすい。
グラデーション領域は、色が面内方向に徐々に変化しており、この変化はコレステリック液晶層のコレステリック液晶化合物の螺旋ピッチの変化に起因する。第一のコレステリックピッチと第二のコレステリックピッチを定義するため、図３Ａの四角枠を取り出して拡大観察し、１ｍｍ四方の４つの領域（領域ｃ～領域ｆ）を考える。例えば、領域ｃ、領域ｄ、領域ｅ、領域ｆの反射中心波長（λｃ、λｄ、λｅ、λｆ）がこの順に並んでいた場合（λｃ＞λｄ＞λｅ＞λｆ）には、グラデーションとして視認することができ、λｃ～λｆの中のいずれかの大小関係が入れ替わる場合には、色調の連続性が損なわれやすい。領域ｃ～領域ｆでは、それぞれコレステリックピッチが面内方向に均一ではなくなることで、異なる反射中心波長を持つ複数の反射スペクトルの足し合わせ（即ち、平均化）によって中心波長を捉えることができる。これにより、サブ反射ピークが打ち消され、視覚的に認められる干渉縞の発現を抑制することができる。
領域ｃ～領域ｆにおける反射中心波長（λｃ、λｄ、λｅ、λｆ）は、λｃとλｆとの差の絶対値が１５００ｎｍ以下となる範囲であることが好ましい。加飾に適したグラデーション波長範囲が得られやすい。
図１にコレステリック液晶化合物の配向イメージを示す。図１中、Ｉａは、コレステリック液晶層を厚み方向と平行に切断した切断面において、コレステリック液晶層の面内方向にコレステリック液晶化合物の螺旋構造が変化する状態でコレステリック液晶化合物が存在している様子を模式化して示している。例えば、図１のＩａ中の領域Ａ、Ｂでは、螺旋ピッチが大きく、Ｉａ中の領域Ｃでは領域Ａ、Ｂに比べて螺旋ピッチが小さい状態が示されている。そして、領域Ａ、Ｂと領域Ｃとの間には、中間的なピッチの螺旋構造が存在している。これにより、領域Ａから領域Ｂに向かう面内方向において、螺旋ピッチの変化に応じた色相の連続的な変化が現れる。図１中のＩｂは、コレステリック液晶層を厚み方向と平行に切断した切断面をＳＥＭ観察した場合に、切断面においてコレステリック液晶化合物の配向によって明部と暗部が交互に重なって厚み方向に縞状に見える縞模様の一部（１つの暗線）を取り出して模式的に示している。即ち、切断面において、切断面に対し垂直に立っているコレステリック液晶化合物は暗く見えるため、垂直に立っているコレステリック液晶化合物を繋いでできるラインは、視覚上暗線として認識できる。図１のＩｂに示す曲線は、この暗線の１つを示したものである。領域Ａ、Ｂは、図１のＩｂに示すように螺旋ピッチ（矢印線で示す距離）が領域Ｃを含む他の領域に比べて最も大きく、このピッチが極大値Ａ、Ｂである。逆に、領域Ｃは、図１のＩｂに示すように螺旋ピッチ（矢印線で示す距離）が領域Ａ、Ｂを含む他の領域に比べて最も小さく、このピッチが極小値Ｃである。
例えば図３Ａの領域ｃ～領域ｆでは、それぞれの領域内において、面内方向に図１に示すようなコレステリックピッチの変化が生じており、領域内の各点で反射波長が異なる。例えば図３Ａの領域ｃにおいて、複数のコレステリックピッチのうち、コレステリックピッチが極大となる極大点Ａ（図１の符号Ａ）を決定し、この極大点Ａに最も近いコレステリックピッチの極大点Ｂ（図１の符号Ｂ）を決定する。極大点Ａと極大点Ｂは、螺旋ピッチが長いため長波長の色調を示す。そして、極大点Ａと極大点Ｂの間において、コレステリックピッチが極小となる極小点Ｃを決定する。極小点Ｃは、螺旋ピッチが短いため短波長の色調を示す。
そして、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、かつ、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向の距離が１５０μｍ以下であることで、複数の反射スペクトルが平均化されてサブ反射ピークが打ち消され、視覚的に認められる干渉縞の発現が抑えられる。
上記の特許文献１では、異性化時に８５℃で加熱することが記載されていることから、異性化したカイラル剤が１００μｍ～１ｍｍオーダーで面内方向に拡散されていると考えられる。つまり、コレステリックピッチは均一化され、上記と同様の作用は得られない。
そして、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、かつ、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向の距離が１５０μｍ以下であることで、複数の反射スペクトルが平均化されてサブ反射ピークが打ち消され、視覚的に認められる干渉縞の発現が抑えられる。
上記の特許文献１では、異性化時に８５℃で加熱することが記載されていることから、異性化したカイラル剤が１００μｍ～１ｍｍオーダーで面内方向に拡散されていると考えられる。つまり、コレステリックピッチは均一化され、上記と同様の作用は得られない。
本開示において、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差としては、干渉縞を抑え、かつ、鮮やかなグラデーションを形成する観点から、１０ｎｍ～１２００ｎｍが好ましく、１００ｎｍ～１０００ｎｍがより好ましく、１５０ｎｍ～１０００ｎｍが更に好ましく、１５０ｎｍ～５００ｎｍが特に好ましい。更には、２００ｎｍ～５００ｎｍの範囲としてもよい。
また、極大点Ａと極大点Ｂの間には、コレステリック液晶化合物の配向欠陥を有していないことが好ましい。配向欠陥とは、コレステリック液晶化合物が配向したコレステリック液晶層の断面を観察した場合に、コレステリック液晶化合物が配向することでストライプ状（縞状）に見られる明部と暗部において、明暗のストライプが乱れている箇所を指す。配向欠陥の部分では、屈折率差によって入射光の一部が反射されるが、選択反射性及び鏡面反射性を有しない。そのため、全ての波長の光を散乱反射してしまう。これにより、ヘイズ（光の散乱）が発生する。
配向欠陥は、２つの偏光板を直交に配置した偏光顕微鏡で観察することができる。
配向欠陥は、２つの偏光板を直交に配置した偏光顕微鏡で観察することができる。
本開示において、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向における距離は、１５０μｍ以下である。極大点Ａと極大点Ｂとの距離が１５０μｍ以下であることで、視認可能なサイズ以下とすることができる。これにより、粒状感が抑えられ、視覚的に認められる干渉縞の発現が抑えられる。極大点Ａと極大点Ｂとの距離としては、同様の理由から、１００μｍ以下であることが好ましく、７０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることが更に好ましい。また、極大点Ａと極大点Ｂとの距離は、マスクの作製適性の観点から、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましい。
コレステリック液晶層のグラデーション領域における反射中心波長の少なくとも一部は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある。
「反射中心波長の少なくとも一部が３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある」とは、コレステリック液晶層のグラデーション領域の少なくとも一部は、反射波長域が可視光領域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）にあることを意味している。即ち、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの領域に、選択反射波長が存在する選択反射性を有する。「選択反射波長」とは、対象物における透過率の極小値をＴｍｉｎ（％）とした場合、下記式で表される半値透過率（Ｔ１／２、単位：％）を示す２つの波長の平均値を意味する。
式：半値透過率Ｔ１／２＝１００－（１００－Ｔｍｉｎ）÷２
グラデーション領域の少なくとも一部において、色相が例えば緑から徐々に緑に移り変わる中で、ある波長で黒みがかった暗い色相が現れて縞状の色ムラ（干渉縞）が生じる現象が抑制される。そのため、グラデーション領域は、視覚的に鮮やかで自然な意匠になる。
式：半値透過率Ｔ１／２＝１００－（１００－Ｔｍｉｎ）÷２
グラデーション領域の少なくとも一部において、色相が例えば緑から徐々に緑に移り変わる中で、ある波長で黒みがかった暗い色相が現れて縞状の色ムラ（干渉縞）が生じる現象が抑制される。そのため、グラデーション領域は、視覚的に鮮やかで自然な意匠になる。
次に、本開示の加飾フィルムを構成するコレステリック液晶層について説明する。
（コレステリック液晶層）
コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含む層である。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含むコレステリック液晶層用の組成物の硬化物（硬化層；以下同じ）であることが好ましく、コレステリック液晶化合物及びカイラル剤を含む組成物の硬化物であることがより好ましく、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性の組成物の硬化物であることが更に好ましい。組成物は、例えば、光又は熱によって硬化される。
コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含む層である。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含むコレステリック液晶層用の組成物の硬化物（硬化層；以下同じ）であることが好ましく、コレステリック液晶化合物及びカイラル剤を含む組成物の硬化物であることがより好ましく、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性の組成物の硬化物であることが更に好ましい。組成物は、例えば、光又は熱によって硬化される。
コレステリック液晶層を形成する硬化前の組成物又は液晶層の成分としては、例えば、コレステリック液晶化合物、カイラル剤（光異性化化合物を含む）、重合開始剤、重合性モノマー、多官能重合性化合物、架橋剤、溶剤、及び添加剤が挙げられる。
コレステリック液晶層を形成する硬化前の組成物又は液晶層の成分として、コレステリック液晶化合物とカイラル剤とを含むことが好ましく、コレステリック液晶化合物とカイラル剤と重合開始剤とを含むことがより好ましい。また、硬化前の組成物又は液晶層の成分として、必要に応じて、更に、例えば、重合開始剤、重合性モノマー、多官能重合性化合物、架橋剤、溶剤及び添加剤等の他の成分を含んでいてもよい。
コレステリック液晶層を形成する硬化前の組成物又は液晶層の成分として、コレステリック液晶化合物とカイラル剤とを含むことが好ましく、コレステリック液晶化合物とカイラル剤と重合開始剤とを含むことがより好ましい。また、硬化前の組成物又は液晶層の成分として、必要に応じて、更に、例えば、重合開始剤、重合性モノマー、多官能重合性化合物、架橋剤、溶剤及び添加剤等の他の成分を含んでいてもよい。
「コレステリック液晶層」とは、コレステリック液晶に特有な分子の配向状態を有する層である。配向状態は、右円偏光を反射する配向状態、左円偏光を反射する配向状態又はこれらの両方を含んでいてもよい。配向状態は、重合及び架橋といった方法によって固定されていてもよい。
以下、コレステリック液晶層に用いられる各成分の具体的な態様を説明する。
－コレステリック液晶化合物－
コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含む。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を含む組成物（又は組成物を液晶層に成形した場合は液晶層）を硬化してなる層であってもよい。コレステリック液晶化合物の種類は、制限されない。コレステリック液晶化合物は、公知のコレステリック液晶化合物であってもよい。
コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を少なくとも含む。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物を含む組成物（又は組成物を液晶層に成形した場合は液晶層）を硬化してなる層であってもよい。コレステリック液晶化合物の種類は、制限されない。コレステリック液晶化合物は、公知のコレステリック液晶化合物であってもよい。
コレステリック液晶化合物は、反応性基を有することが好ましい。反応性基は、重合性基であることが好ましい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられる。反応性、及び、螺旋ピッチの固定容易性の観点から、コレステリック液晶化合物は、ラジカル重合性基を有することが好ましい。ラジカル重合性基は、ビニル基、アクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることが好ましく、アクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることがより好ましい。
コレステリック液晶化合物は、２つ以上の反応性基を有していてもよい。コレステリック液晶化合物は、２種類以上の反応性基を有していてもよい。
コレステリック液晶化合物は、架橋機構の異なる２種類以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物であってもよい。架橋機構は、縮合反応、水素結合又は重合であってもよい。２種類以上の反応性基の架橋機構の少なくとも１つは、重合であることが好ましい。架橋機構は、２種類以上の重合を含むことが好ましい。上記のような架橋機構に利用される反応性基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基及びアミノ基が挙げられる。
架橋機構の異なる２種類以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物は、段階的に架橋可能な化合物であってもよい。各段階では、各段階の架橋機構に応じた反応性基が反応する。
２種類以上の反応性基を段階的に架橋させるための方法としては、例えば、各段階における反応条件を変更する方法が挙げられる。反応条件の変更点としては、例えば、温度、光（照射線）の波長及び重合機構が挙げられる。反応を分離しやすい点から重合機構の違いの利用が好ましい。重合機構は、例えば、重合開始剤の種類によって制御される。
２種類以上の反応性基を段階的に架橋させるための方法としては、例えば、各段階における反応条件を変更する方法が挙げられる。反応条件の変更点としては、例えば、温度、光（照射線）の波長及び重合機構が挙げられる。反応を分離しやすい点から重合機構の違いの利用が好ましい。重合機構は、例えば、重合開始剤の種類によって制御される。
重合性基の組み合わせとしては、ラジカル重合性基とカチオン重合性基との組み合わせが好ましい。反応性が制御しやすいという観点から、重合性基の組み合わせとしては、ラジカル重合性基がビニル基又は（メタ）アクリル基であり、かつ、カチオン重合性基がエポキシ基、オキセタニル基又はビニルエーテル基であることが好ましい。
また、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましい。
また、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましい。
延伸性及び耐熱性の観点から、コレステリック液晶化合物は、１つの反応性基（好ましくは重合性基）を有するコレステリック液晶化合物を含むことが好ましい。延伸性及び耐熱性の観点から、コレステリック液晶化合物の含有量に対する１つの反応性基を有するコレステリック液晶化合物の含有量の割合は、９６質量％～１００質量％であることが好ましく、９７質量％～１００質量％であることがより好ましく、９８質量％～１００質量％であることが好ましい。
延伸性及び耐熱性の観点から、コレステリック液晶化合物は、１つの反応性基を有するコレステリック液晶化合物と、２つ以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物と、を含むことが好ましい。コレステリック液晶化合物は、１つの反応性基を有するコレステリック液晶化合物と、２つの反応性基を有するコレステリック液晶化合物と、を含むことがより好ましい。延伸性及び耐熱性の観点から、１つの反応性基を有するコレステリック液晶化合物の含有量に対する２つ以上の反応性基を有するコレステリック液晶化合物の含有量との比は、質量基準で、０～０．０５であることが好ましく、０～０．０４であることがより好ましく、０～０．０２であることが好ましい。
反応性基の具体例を以下に示す。ただし、反応性基は以下の具体例に制限されない。以下の具体例において、Ｅｔはエチル基を表し、ｎ－Ｐｒはｎ－プロピル基を表す。
コレステリック液晶化合物としては、例えば、棒状コレステリック液晶化合物及び円盤状コレステリック液晶化合物が挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物は、低分子型又は高分子型の化合物であってもよい。円盤状コレステリック液晶化合物は、低分子型又は高分子型の化合物であってもよい。本開示において、コレステリック液晶化合物に関して使用される用語「高分子」とは、重合度が１００以上である化合物を意味する（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。２種類以上の棒状コレステリック液晶化合物、２種類以上の円盤状液晶性化合物又は棒状コレステリック液晶化合物と円盤状コレステリック液晶化合物との混合物が使用されてもよい。２種類以上のコレステリック液晶化合物において、少なくとも１種類のコレステリック液晶化合物は反応性基を有することが好ましい。
コレステリック液晶化合物は、棒状コレステリック液晶化合物であることが好ましい。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、反応性基を有する棒状コレステリック液晶化合物の重合体も挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、特開２００８－２８１９８９号公報、特表平１１－５１３０１９号公報又は特表２００６－５２６１６５号公報に記載された化合物も挙げられる。
棒状コレステリック液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、棒状コレステリック液晶化合物は以下の具体例に制限されない。下記に示される化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報に記載された方法によって合成される。
１つの重合性基を有する棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。以下の化学式に示される「Ｍｅ」は、メチル基を意味する。
円盤状コレステリック液晶化合物としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
（１）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１
１１頁（１９８１年）に記載されたベンゼン誘導体
（２）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）及びＰｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されたトルキセン誘導体
（３）Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、例えば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体
（４）Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されたアザクラウン系又はフェニルアセチレン系マクロサイクル
（１）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１
１１頁（１９８１年）に記載されたベンゼン誘導体
（２）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）及びＰｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されたトルキセン誘導体
（３）Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、例えば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体
（４）Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されたアザクラウン系又はフェニルアセチレン系マクロサイクル
円盤状コレステリック液晶化合物には、上記の各種構造を分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基、アルコキシ基及び置換ベンゾイルオキシ基といった基が放射線状に配置された構造を有し、液晶性を示し、一般的に円盤状液晶とよばれる液晶化合物が含まれる。このような化合物の集合体が一様に配向すると負の一軸性が現れる。
円盤状コレステリック液晶化合物としては、例えば、特開２００８－２８１９８９号公報の段落００６１～段落００７５に記載された化合物も挙げられる。
コレステリック液晶層において、反応性基を有する円盤状コレステリック液晶化合物は、水平配向、垂直配向、傾斜配向及びねじれ配向といった配向状態で固定されていてもよい。
コレステリック液晶層又は組成物は、１種又は２種以上のコレステリック液晶化合物を含んでいてもよい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対するコレステリック液晶化合物の含有量の割合は、３０質量％～９９質量％であることが好ましく、４０質量％～９９質量％であることがより好ましく、６０質量％～９９質量％であることが更に好ましく、７０質量％～９８質量％であることが特に好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対するコレステリック液晶化合物の含有量の割合は、３０質量％～９９質量％であることが好ましく、４０質量％～９９質量％であることがより好ましく、６０質量％～９９質量％であることが更に好ましく、７０質量％～９８質量％であることが特に好ましい。
－カイラル剤－
コレステリック液晶層は、カイラル剤（光学活性化合物）を含むことが好ましい。カイラル剤は、コレステリック液晶化合物の螺旋構造を誘起できる。例えば、カイラル剤は、螺旋ピッチを調整できる。カイラル剤には、後述するように、光異性化化合物が含まれる。
コレステリック液晶層は、カイラル剤（光学活性化合物）を含むことが好ましい。カイラル剤は、コレステリック液晶化合物の螺旋構造を誘起できる。例えば、カイラル剤は、螺旋ピッチを調整できる。カイラル剤には、後述するように、光異性化化合物が含まれる。
カイラル剤の種類は、制限されない。カイラル剤は、公知のカイラル剤であってもよい。カイラル剤は、目的の螺旋構造に応じて選択されてもよい。カイラル剤としては、例えば、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－３０２４８７号公報、特開２００２－８０４７８号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２０１０－１８１８５２号公報及び特開２０１４－０３４５８１号公報に記載された化合物が挙げられる。
カイラル剤は、シンナモイル基を有することが好ましい。
カイラル剤は、不斉炭素原子を含むことが好ましい。ただし、カイラル剤は、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物であってもよい。軸性不斉化合物及び面性不斉化合物としては、例えば、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が挙げられる。
カイラル剤は、反応性基を有していてもよい。反応性基は、重合性基であることが
好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基及びアジリジニル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましく、アクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることが更に好ましい。カイラル剤は、２つ以上の反応性基を有していてもよい。カイラル剤は、２種類以上の反応性基を有していてもよい。
好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基及びアジリジニル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましく、アクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基であることが更に好ましい。カイラル剤は、２つ以上の反応性基を有していてもよい。カイラル剤は、２種類以上の反応性基を有していてもよい。
延伸性及び耐熱性の観点から、カイラル剤は、１つの重合性基を有するカイラル剤を含むことが好ましい。カイラル剤が１つの重合性基を有するカイラル剤を含む場合、延伸性及び耐熱性の観点から、カイラル剤の含有量に対する１つの重合性基を有するカイラル剤の含有量の割合は、０質量％超であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％であってもよい。カイラル剤の含有量に対する１つの重合性基を有するカイラル剤の含有量の割合は、０質量％～１００質量％であってもよい。
コレステリック液晶層用の組成物は、重合性基を有するコレステリック液晶化合物と、重合性基を有するカイラル剤と、を含むことが好ましい。例えば、重合性基を有するカイラル剤と、重合性基を有するコレステリック液晶化合物との反応は、重合性基を有するコレステリック液晶化合物に由来の構成単位と、重合性基を有するカイラル剤に由来の構成単位とを有する重合体を形成できる。カイラル剤における重合性基の種類は、コレステリック液晶化合物における重合性基の種類と同じであることが好ましい。
カイラル剤（光学活性化合物）は、コレステック液晶化合物であってもよい。
コレステリック液晶層形成の容易性、及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、カイラル剤は、カイラル剤としても作用する光異性化化合物であってもよい。カイラル剤としても作用する光異性化化合物としては、例えば、後述の式（ＣＨ１）で表される化合物が挙げられる。
好ましいカイラル剤としては、例えば、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体及びビナフチル誘導体が挙げられる。
カイラル剤の具体例を以下に示す。ただし、カイラル剤は以下の具体例に制限されない。
上記化学式におけるｎは、２～１２の整数を表す。合成コストの観点から、ｎは、２又は４であることが好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物は、１種又は２種以上のカイラル剤を含んでいてもよい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対するカイラル剤の含有量の割合は、コレステリック液晶層形成の容易性、及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１０質量％であることがより好ましく、３質量％～９質量％であることが更に好ましく、４質量％～８質量％であることが特に好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対するカイラル剤の含有量の割合は、コレステリック液晶層形成の容易性、及び螺旋ピッチの調整容易性の観点から、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１０質量％であることがより好ましく、３質量％～９質量％であることが更に好ましく、４質量％～８質量％であることが特に好ましい。
重合性基を有するカイラル剤の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、０．２質量％～１５質量％であることが好ましく、０．５質量％～１０質量％であることがより好ましく、１質量％～８質量％であることが更に好ましい。
また、重合性基を有しないカイラル剤の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、０．２質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１０質量％であることがより好ましい。
また、重合性基を有しないカイラル剤の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、０．２質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１０質量％であることがより好ましい。
螺旋ピッチ並びに選択反射波長及びその範囲は、例えば、コレステリック液晶化合物の種類だけでなく、カイラル剤の含有量に応じて調整される。例えば、コレステリック液晶層におけるカイラル剤の含有量が２倍になると、螺旋ピッチが１／２となり、選択反射波長の中心値も１／２となる。
－－光異性化化合物－－
コレステリック液晶層又は組成物は、光異性化化合物を含んでいてもよい。
光異性化化合物の種類は、制限されない。光異性化化合物は、公知の光異性化化合物であってもよい。成型後における反射率変化抑制及び異性化構造の維持性の観点から、露光により立体構造が変化する化合物が好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物は、光異性化化合物を含んでいてもよい。
光異性化化合物の種類は、制限されない。光異性化化合物は、公知の光異性化化合物であってもよい。成型後における反射率変化抑制及び異性化構造の維持性の観点から、露光により立体構造が変化する化合物が好ましい。
光異性化化合物は、光異性化構造を有する。成型後における反射率変化抑制、光異性化容易性及び異性化構造の維持性の観点から、光異性化化合物は、露光により立体構造が変化する構造を有することが好ましく、露光によりＥＺ配置が異性化する２置換以上のエチレン性不飽和結合を有することがより好ましく、露光によりＥＺ配置が異性化する２置換のエチレン性不飽和結合を有することが特に好ましい。ＥＺ配置の異性化は、ｃｉｓ－ｔｒａｎｓ異性化を含む。２置換のエチレン性不飽和結合は、芳香族基とエステル結合とによって置換されたエチレン性不飽和結合であることが好ましい。
成型後における反射率変化抑制、光異性化容易性及び異性化構造の維持性の観点から、光異性化化合物は、２つ以上の光異性化構造を有することが好ましい。光異性化化合物における光異性化構造の数は、２つ～４つであることが好ましく、２つであることがより好ましい。
光異性化化合物は、既述のカイラル剤としても作用する光異性化化合物であることが好ましい。カイラル剤としても作用する光異性化化合物は、波長３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が３０，０００以上のカイラル剤であることが好ましい。
カイラル剤としても作用する光異性化化合物としては、例えば、下記式（ＣＨ１）で表される化合物が挙げられる。式（ＣＨ１）で表される化合物は、光照射時の光量に応じて螺旋ピッチ（ねじれ力、らせんのねじれ角）といった配向構造を変化できる。また、式（ＣＨ１）で表される化合物は、２つのエチレン性不飽和結合におけるＥＺ配置が露光により異性化可能な化合物である。
式（ＣＨ１）中、ＡｒＣＨ１及びＡｒＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、ＲＣＨ１及びＲＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。
式（ＣＨ１）におけるＡｒＣＨ１及びＡｒＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基又は複素環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基がより好ましい。アリール基の総炭素数は、６～４０であることが好ましく、６～３０であることがより好ましい。
ＡｒＣＨ１及びＡｒＣＨ２はそれぞれ独立に、下記式（ＣＨ２）又は下記式（ＣＨ３）で表されるアリール基であることが好ましい。
式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）中、ＲＣＨ３及びＲＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、ＬＣＨ１及びＬＣＨ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、ｎＣＨ１は０～４の整数を表し、ｎＣＨ２は０～６の整数を表し、＊は式（ＣＨ１）におけるエチレン性不飽和結合との結合位置を表す。
式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＲＣＨ３及びＲＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＬＣＨ１及びＬＣＨ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましい。
式（ＣＨ２）におけるｎＣＨ１は、０又は１であることが好ましい。
式（ＣＨ３）におけるｎＣＨ２は、０又は１であることが好ましい。
式（ＣＨ２）におけるｎＣＨ１は、０又は１であることが好ましい。
式（ＣＨ３）におけるｎＣＨ２は、０又は１であることが好ましい。
式（ＣＨ１）のＡｒＣＨ１及びＡｒＣＨ２における複素芳香環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基がより好ましい。複素芳香環基の総炭素数は、４～４０であることが好ましく、４～３０であることがより好ましい。複素芳香環基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基が好ましく、ピリジル基、又は、ピリミジニル基がより好ましい。
式（ＣＨ１）におけるＲＣＨ１及びＲＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子であることが好ましい。
好ましい光異性化化合物の具体例を以下に示す。以下の具体例においてＢｕはｎ－ブチル基を表す。以下の化合物において各エチレン性不飽和結合の立体配置は、Ｅ体（ｔｒａｎｓ体）であり、露光によりＺ体（ｃｉｓ体）に変化する。
コレステリック液晶層又は組成物は、１種又は２種以上の光異性化化合物を含んでいてもよい。
光異性化化合物の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１０質量％であることがより好ましく、３質量％～９質量％であることが更に好ましく、４質量％～８質量％であることが特に好ましい。
光異性化化合物の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１０質量％であることがより好ましく、３質量％～９質量％であることが更に好ましく、４質量％～８質量％であることが特に好ましい。
－重合開始剤－
コレステリック液晶層又は組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤の種類は、制限されない。重合開始剤は、公知の重合開始剤であってもよい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書及び米国特許第２３６７６７０号明細書参照）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書参照）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書参照）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書及び米国特許第２９５１７５８号明細書参照）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書参照）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書参照）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書参照）が挙げられる。
コレステリック液晶層又は組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤の種類は、制限されない。重合開始剤は、公知の重合開始剤であってもよい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書及び米国特許第２３６７６７０号明細書参照）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書参照）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書参照）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書及び米国特許第２９５１７５８号明細書参照）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書参照）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書参照）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書参照）が挙げられる。
光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。好ましい光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、チオキサントン化合物及びオキシムエステル化合物が挙げられる。好ましい光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物が挙げられる。
組成物は、１種又は２種以上の重合開始剤を含んでいてもよい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する重合開始剤の含有量の割合は、螺旋ピッチの調整容易性、重合速度及び硬化後の液晶層の強度の観点から、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～４質量％であることが更に好ましく、０．２質量％～３質量％であることが特に好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する重合開始剤の含有量の割合は、螺旋ピッチの調整容易性、重合速度及び硬化後の液晶層の強度の観点から、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～４質量％であることが更に好ましく、０．２質量％～３質量％であることが特に好ましい。
－重合性モノマー－
コレステリック液晶層用の組成物は、重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーは、コレステリック液晶化合物の架橋を促進できる。
重合性モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーが挙げられる。重合性モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。重合性モノマーとしては、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート及び多官能メタクリレートが挙げられる。重合性モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
コレステリック液晶層用の組成物は、重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーは、コレステリック液晶化合物の架橋を促進できる。
重合性モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーが挙げられる。重合性モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。重合性モノマーとしては、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート及び多官能メタクリレートが挙げられる。重合性モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
重合性モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート及びグリセリントリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後に（メタ）アクリレート化して形成される化合物が挙げられる。
重合性モノマーとしては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報、特公昭５０－６０３４号公報及び特開昭５１－３７１９３号公報に記載されたウレタンアクリレート類が挙げられる。
また、重合性モノマーとしては、例えば、特開昭４８－６４１８３号公報、特公昭４９－４３１９１号公報及び特公昭５２－３０４９０号公報に記載されたポリエステルアクリレート類が挙げられる。
また、重合性モノマーとしては、例えば、特開昭４８－６４１８３号公報、特公昭４９－４３１９１号公報及び特公昭５２－３０４９０号公報に記載されたポリエステルアクリレート類が挙げられる。
更に、重合性モノマーとしては、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類が挙げられる。
好ましい重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジぺンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジぺンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。
また、好ましい重合性モノマーとしては、例えば、特開平１１－１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」が挙げられる。
また、好ましい重合性モノマーとしては、例えば、特開平１１－１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」が挙げられる。
重合性モノマーは、カチオン重合性モノマーであってもよい。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６－９７１４号公報、特開２００１－３１８９２号公報、特開２００１－４００６８号公報、特開２００１－５５５０７号公報、特開２００１－３１０９３８号公報、特開２００１－３１０９３７号公報及び特開２００１－２２０５２６号公報に記載されたエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物及びオキセタン化合物が挙げられる。
エポキシ化合物としては、例えば、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシドが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及びノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドが挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、例えば、シクロアルカン環（例えば、シクロへキセン及び
シクロペンテン環）を有する化合物を酸化剤（例えば、過酸化水素及び過酸）でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド含有化合物又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。
シクロペンテン環）を有する化合物を酸化剤（例えば、過酸化水素及び過酸）でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド含有化合物又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、例えば、脂肪族多価アルコールのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及び脂肪族多価アルコールのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテルが挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、アルキレングリコールのジグリシジルエーテル（例えば、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル及び１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル）が挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、多価アルコールのポリグリシジルエーテル（例えば、グリセリンのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及びグリセリンのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル）が挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、ポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル（例えば、ポリエチレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル及びポリプロピレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル）が挙げられる。アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドが挙げられる。
カチオン重合性モノマーとして、例えば、単官能又は２官能のオキセタンモノマーが挙げられる。例えば、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ１０１）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ１２１）、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２１１）、ジ（１－エチル－３－オキセタニル）メチルエーテル（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２２１）、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２１２）が好ましく使用される。特に、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン及びジ（１－エチル－３－オキセタニル）メチルエーテルが好ましい。特開２００１－２２０５２６号公報及び特開２００１－３１０９３７号公報に記載された単官能又は多官能オキセタン化合物が使用されてもよい。
－多官能重合性化合物－
コレステリック液晶層用の組成物は、多官能重合性化合物を含んでいてもよい。多官能重合性化合物は、成型後における反射率変化の抑制に寄与できる。
多官能重合性化合物としては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基と２つ以上の環状エーテル基とを有するコレステリック液晶化合物、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤及び架橋剤が挙げられる。
コレステリック液晶層用の組成物は、多官能重合性化合物を含んでいてもよい。多官能重合性化合物は、成型後における反射率変化の抑制に寄与できる。
多官能重合性化合物としては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基と２つ以上の環状エーテル基とを有するコレステリック液晶化合物、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤及び架橋剤が挙げられる。
好ましいエチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリル基が挙げられる。より好ましいエチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロキシ基が挙げられる。
好ましい環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタニル基が挙げられる。より好ましい環状エーテル基としては、例えば、オキセタニル基が挙げられる。
多官能重合性化合物は、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基
を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するカイラル剤からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。
を有しないコレステリック液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するカイラル剤からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。
組成物は、１種又は２種以上の多官能重合性化合物を含んでいてもよい。
多官能重合性化合物の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、０．５質量％～７０質量％であることが好ましく、１質量％～５０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～２０質量％であることが更に好ましく、２質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
多官能重合性化合物の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、０．５質量％～７０質量％であることが好ましく、１質量％～５０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～２０質量％であることが更に好ましく、２質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
－架橋剤－
コレステリック液晶層又は組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤は、硬化後の液晶層の強度及び耐久性を向上できる。
架橋剤の種類は、制限されない。架橋剤は、公知の架橋剤であってもよい。架橋剤は、紫外線、熱又は湿気で硬化する化合物が好ましい。
コレステリック液晶層又は組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤は、硬化後の液晶層の強度及び耐久性を向上できる。
架橋剤の種類は、制限されない。架橋剤は、公知の架橋剤であってもよい。架橋剤は、紫外線、熱又は湿気で硬化する化合物が好ましい。
架橋剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等のエポキシ化合物；２－エチルヘキシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン等のオキセタン化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］、４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒が使用されてもよい。触媒の使用は、液晶層の強度及び耐久性向上に加えて生産性を向上できる。
コレステリック液晶層又は組成物は、１種又は２種以上の架橋剤を含んでいてもよい。
架橋剤の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の観点から、１質量％～２０質量％であることが好ましく、３質量％～１５質量％であることがより好ましい。
架橋剤の、コレステリック液晶層又は組成物の固形分の全質量に対する含有量の割合は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の観点から、１質量％～２０質量％であることが好ましく、３質量％～１５質量％であることがより好ましい。
－添加剤－
コレステリック液晶層又は組成物は、他の添加剤を含んでいてもよい。
他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤及び金属酸化物粒子が挙げられる。
コレステリック液晶層又は組成物は、他の添加剤を含んでいてもよい。
他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤及び金属酸化物粒子が挙げられる。
～コレステリック液晶層の物性～
コレステリック液晶層の色及び観察角度に応じた色の変化は、例えば、螺旋ピッチ、屈折率及び厚さからなる群より選択される少なくとも１つによって調整される。螺旋ピッチは、例えば、カイラル剤の含有量によって調整することができる。詳細は、例えば、「富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３」に記載されている。螺旋ピッチは、コレステリック配向状態を固定する際の温度、照度及び照射時間等の条件によって調整されてもよい。
コレステリック液晶層の色及び観察角度に応じた色の変化は、例えば、螺旋ピッチ、屈折率及び厚さからなる群より選択される少なくとも１つによって調整される。螺旋ピッチは、例えば、カイラル剤の含有量によって調整することができる。詳細は、例えば、「富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３」に記載されている。螺旋ピッチは、コレステリック配向状態を固定する際の温度、照度及び照射時間等の条件によって調整されてもよい。
コレステリック液晶層の厚みとしては、反射色の鮮やかさの観点から、０．５μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、３μｍ以上が更に好ましい。また、コレステリック液晶層の厚みは、コレステリック液晶層の形成のしやすさの観点から、１０μｍ以下が好ましく、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下が特に好ましい。上記の観点から、コレステリック液晶層の厚みは、０．５μｍ～１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
コレステリック液晶層のヘイズ値は、２．０％以下であることが好ましい。ヘイズ値が２．０％以下であることで、コレステリック液晶層の透明性を向上できる。ヘイズ値としては、１．８％以下がより好ましく、１．３％以下がさらに好ましく、１．０％以下が特に好ましい。ヘイズは小さいほど好ましいため、ヘイズ値の下限は制限されない。ヘイズ値の下限を便宜上設定するとすれば、０％以上である。
ヘイズ値は、ヘイズメーター（例えば、ＮＤＨ－５０００、日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定される値である。
ヘイズ値は、ヘイズメーター（例えば、ＮＤＨ－５０００、日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定される値である。
（基材）
本開示の加飾フィルムは、基材を有していてもよい。
基材としては、例えば、立体成型及びインサート成型といった成型に用いられる基材が挙げられる。成型容易性及びチッピング耐性の観点から、基材は、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることが好ましい。
本開示の加飾フィルムは、基材を有していてもよい。
基材としては、例えば、立体成型及びインサート成型といった成型に用いられる基材が挙げられる。成型容易性及びチッピング耐性の観点から、基材は、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることが好ましい。
樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル－ポリカーボネート、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びアクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合（ＡＢＳ樹脂）が挙げられる。
成型加工性及び強度の観点から、基材は、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート及びアクリル－ポリカーボネート及びポリプロピレンからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む樹脂フィルムであることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート及びアクリル－ポリカーボネート樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む樹脂フィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートが最も好ましい。
基材は、単層構造又は複層構造を有していてもよい。好ましい積層フィルムとしては、例えば、アクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂の積層フィルムが挙げられる。
基材は、必要に応じ、添加物を含んでいてもよい。添加物としては、例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーンなどの潤滑剤、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤、ハロゲン系、リン系等の有機難燃剤、金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤等の添加剤、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル樹脂等であって、上述した樹脂以外のエンジニアリングプラスチックなどが挙げられる。
基材は、市販品であってもよい。市販品としては、例えば、テクノロイ（登録商標）シリーズ（アクリル樹脂フィルム又はアクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学株式会社）ＡＢＳフィルム（オカモト株式会社）、ＡＢＳシート（積水成型工業株式会社）、テフレックス（登録商標）シリーズ（ＰＥＴフィルム、帝人フィルムソリューション株式会社）、ルミラー（登録商標）易成型タイプ（ＰＥＴフィルム、東レ株式会社）及びピュアサーモ（ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック株式会社）、コスモシャイン（登録商標）シリーズ（ＰＥＴフィルム、東洋紡株式会社）が挙げられる。
基材の厚さは、１μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることがより好ましく、２０μｍ以上であることが更に好ましく、５０μｍ以上であることが特に好ましい。基材の厚さは、５００μｍ以下であることが好ましく、４５０μｍ以下であることがより好ましく、２００μｍ以下であることが特に好ましい。
＜成型体、物品、表示装置＞
本開示の成型体は、本開示の加飾フィルムを成型してなるものである。本開示の加飾フィルムは、種々の用途に用いることができ、例えば、加飾フィルムを成型して成型体として用いることができる。
本開示の成型体は、本開示の加飾フィルムを成型してなるものである。本開示の加飾フィルムは、種々の用途に用いることができ、例えば、加飾フィルムを成型して成型体として用いることができる。
本開示の物品は、本開示の加飾フィルム又は本開示の成型体を備える。本開示の表示装置は、本開示の物品を備える。
本開示の物品としては、例えば、スマートフォン、携帯電話、及びタブレット等の電子デバイス、自動車、電化製品、包装容器等が挙げられ、とりわけ、電子デバイスに好適に用いることができる。電子デバイスとしては、ディスプレイ、スマートフォン、携帯電話、及びタブレット等の表示装置がより好適に挙げられる。中でも、通常のディスプレイ、又は、スマートフォン、家電製品、オーディオ製品、コンピュータ、車載製品等の表示装置におけるディスプレイに特に好適に用いることができる。
また、ディスプレイ、スマートフォン等の表示装置に本開示の加飾フィルムを用いる場合、本開示の加飾フィルムとディスプレイ等の表示部材との間に、位相差フィルムを設けてもよい。位相差フィルムとしては、公知のものを用いることができる。
本開示の物品としては、例えば、スマートフォン、携帯電話、及びタブレット等の電子デバイス、自動車、電化製品、包装容器等が挙げられ、とりわけ、電子デバイスに好適に用いることができる。電子デバイスとしては、ディスプレイ、スマートフォン、携帯電話、及びタブレット等の表示装置がより好適に挙げられる。中でも、通常のディスプレイ、又は、スマートフォン、家電製品、オーディオ製品、コンピュータ、車載製品等の表示装置におけるディスプレイに特に好適に用いることができる。
また、ディスプレイ、スマートフォン等の表示装置に本開示の加飾フィルムを用いる場合、本開示の加飾フィルムとディスプレイ等の表示部材との間に、位相差フィルムを設けてもよい。位相差フィルムとしては、公知のものを用いることができる。
本開示に係る積層体を成型して成型体を得るための手段は、特に限定されず、例えば、立体成型、インサート成型等の公知の方法であってよい。また、本開示に係る積層体を物品に適用するための手段も特に限定されず、物品の種類に応じて、公知の方法を適宜用いてよい。
＜加飾フィルムの製造方法＞
本開示の加飾フィルムの製造方法は、基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備すること（以下、液晶材料準備工程）と、面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射すること（以下、異性化露光工程）と、第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させること（以下、硬化工程）と、を含む。
本開示の加飾フィルムの製造方法は、基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備すること（以下、液晶材料準備工程）と、面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射すること（以下、異性化露光工程）と、第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させること（以下、硬化工程）と、を含む。
（液晶材料準備工程）
液晶材料準備工程では、基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備する。本工程では、上市されている液晶材料を入手して使用してもよいし、基材上にコレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層を有する液晶材料を作製して使用してもよい。
なお、基材、並びに、コレステリック液晶層及びこれに含まれる成分の詳細については、既述した通りであるので、ここでの説明は省略する。
液晶材料準備工程では、基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備する。本工程では、上市されている液晶材料を入手して使用してもよいし、基材上にコレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層を有する液晶材料を作製して使用してもよい。
なお、基材、並びに、コレステリック液晶層及びこれに含まれる成分の詳細については、既述した通りであるので、ここでの説明は省略する。
液晶材料は、基材上に、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む組成物を塗布することで、光硬化性のコレステリック液晶層を形成して作製されてもよい。基材の上に組成物を塗布する場合、基材の表面に組成物を塗布してもよいし、基材の上に他の層を介して組成物を塗布してもよい。基材の表面に組成物を塗布することが好ましい。
組成物の状態は、溶剤を含む溶液であってもよい。組成物の状態は、溶融による液状物であってもよい。
（溶剤）
組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
溶剤としては、例えば、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、ケトン化合物（例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン）、アルキルハライド化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、ヘテロ環化合物、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物及びアルコール化合物が挙げられる。環境への負荷を考慮した場合にはケトン化合物が好ましい。
組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
溶剤としては、例えば、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、ケトン化合物（例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン）、アルキルハライド化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、ヘテロ環化合物、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物及びアルコール化合物が挙げられる。環境への負荷を考慮した場合にはケトン化合物が好ましい。
溶剤としては、例えば、高沸点溶剤が挙げられる。組成物が高沸点溶剤を含むと、乾燥中の液晶の粘度が低下し、液晶の配向性が向上する。高沸点溶剤の沸点は、１５０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましい。高沸点溶剤としては、例えば、フルフリルアルコール、２－チオフェンメタノール、ベンジルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、アセト酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、及びｏ－トルイル酸メチルが挙げられる。
組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含んでいてもよい。
組成物の全質量に対する溶剤の含有量の割合は、５０質量％～８５質量％であることが好ましく、６０質量％～８０質量％であることがより好ましく、６５質量％～７５質量％であることが更に好ましい。
組成物の全質量に対する溶剤の含有量の割合は、５０質量％～８５質量％であることが好ましく、６０質量％～８０質量％であることがより好ましく、６５質量％～７５質量％であることが更に好ましい。
組成物の塗布は、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式又はスピンコート方式によって行われてもよい。組成物の塗布は、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法又はダイコーティング法によって行われてもよい。組成物の塗布は、インクジェット装置を用いて行われてもよい。インクジェット装置を用いる塗布方法において、組成物はノズルから吐出されてもよい。
基材の上に塗布された組成物は、公知の方法によって乾燥されてもよい。組成物は、放置によって乾燥されてもよい。組成物は、風乾によって乾燥されてもよい。組成物は、加熱によって乾燥されてもよい。塗布及び乾燥を経た組成物では、コレステリック液晶化合物が配向していることが好ましい。
（異性化露光工程）
異性化露光工程では、面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射する。
異性化露光工程では、面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射する。
異性化露光工程は、液晶層に含まれる光異性化化合物を光異性化することを含むことが好ましい。意匠性及び光輝性の観点から、液晶層内において領域毎の光異性化割合の差が生じるように異性化することが好ましく、成型を行う形状に応じて液晶層における領域毎の光異性化割合の差が生じるように異性化することがより好ましい。異性化露光工程は、液晶層の一部を異性化してもよく、成型を行う形状に応じて液晶層の一部を異性化してもよい。異性化露光工程は、成型を行う形状に応じ、光異性化化合物の異性化割合を変化させてもよい。異性化露光工程は、液晶層に異性化割合が０％である部分と異性化割合が１００％である部分とを形成してもよい。異性化露光工程は、液晶層に異性化割合が１０％である部分と異性化割合が８０％である部分とを形成してもよい。異性化露光工程は、液晶層に異性化割合が０％から１００％へ変化する部分を形成してもよい。異性化露光工程は、液晶層に異性化割合が０％である部分と異性化割合が５０％から１００％へ変化する部分とを形成してもよい。特に、成型を行う形状に応じ、成型時に積層体の延伸率が大きくなる部分ほど、異性化割合が大きいことが好ましい。光異性化の進行は、異性化部の反射率の極大波長を測定すること確認される。光異性化割合は、対象とする光異性化化合物の総分子数に対する、光異性化した光異性化化合物分子数の割合を表し、同様に、反射率の極大波長を測定することで求められる。
異性化露光工程においては、液晶層に対する露光強度を領域によって変化させることにより異性化させることが好ましい。例えば、液晶層に対する露光強度に複数段階の差、又は無段階の連続差を設けて露光することにより、異性化させてもよい。液晶層の一部のみを露光することにより、異性化させることが好ましい。露光強度に応じて、異性化割合が制御されてもよい。
異性化露光工程では、光重合開始剤から重合開始種が発生しない波長域の光が液晶層に照射されることが好ましい。例えば、光異性化合物の光異性化が生じる波長域の光を透過し、光重合開始剤から重合開始種が発生する波長域の光を遮光するマスクが好ましく使用される。マスクは、公知のマスクであってもよい。１種又は２種以上のマスクが使用されてもよい。例えば、液晶層の光異性化する部分と光異性化しない部分とで異なるマスクが使用されてもよい。液晶層の光異性化する部分においては、透過光の量が一定でなく、透過光の量が変化するマスクが使用されてもよい。
異性化露光工程では、特に面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを用いる。これにより、コレステリック液晶層のグラデーション領域において、面内方向における上記の極大点Ａと極大点Ｂとの距離を１５０μｍ以下にすることができる。１５０μｍ以下にすることで、グラデーション領域において、サブ反射ピークに起因する暗黒調の色相が消失し、干渉縞が視認されなくなる。パターニングマスクの面内方向における網点間距離は、マスクの作製適性の観点から、２μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上が更に好ましい。
網点部分を有するパターニングマスクは、例えば、グラビア印刷、スクリーン印刷又はクロムのスパッタ膜をフォトレジストでパターニングする方法によって作製されるマスクであってもよい。マスクは、レーザーフォトプロッタ方式を用いてデジタル画像データに基づいてレーザー照射をオン／オフすることで照射されるレーザービームで版材に網点部分を形成して作製されるマスクであってもよい。
パターニングマスクは、光硬化性のコレステリック液晶層に接触させる。これにより、パターンマスクを介して照射される光が精度良く照射されるので、上記の極大点及び極小点のピッチを精度よく制御することができる。
液晶層に照射される光の波長は、光異性化化合物に応じて決定されてもよい。異性化露光工程では、４００ｎｍ以下の波長範囲の光が使用されることが好ましく、３８０ｎｍ以下の波長範囲の光が使用されることがより好ましく、３００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長範囲の光が使用されることが更に好ましい。
光の波長の調整は、公知の手段及び公知の方法によって行われてもよい。光の波長を調整する方法としては、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法及び特定波長の光源を用いる方法が挙げられる。
光源としては、例えば、紫外線（ＵＶ）を放出する発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。光源としては、波長域の狭い光を照射可能な発光ダイオードが好適である。
異性化露光工程における露光量は、５ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１，０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。異性化割合に応じ、コレステリック液晶層の各部において露光量を変化させてよい。
異性化露光工程での異性化は、常温（２５℃）環境で行うことができ、６５℃未満の加熱条件下で実施されてもよい。
異性化露光工程における露光方法として、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～段落００５１に記載の方法が適用されてもよい。
（硬化工程）
硬化工程では、第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させる。
硬化工程では、第１の光の照射を開始した時点から、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させる。
第１の光の照射を開始した時点とは、感光性カイラル剤を異性化するための第１の光の照射を開始した時点を意味し、必ずしもこの時点で感光性カイラル剤の異性化が完了していなくてもよい。また、光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点とは、コレステリック液晶層を硬化させるための第２の光の照射が終了した時点を意味し、必ずしもこの時点で硬化反応が完了していなくてもよい。
光源は、光重合開始剤の種類及び特性に応じて選択されてもよい。２８５ｎｍ、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍからなる群より選択される少なくとも１種の波長を含む光を照射できる光源が好ましい。光源としては、例えば、紫外線を放出する発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。
露光量は、５ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１，０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
硬化工程では、加熱条件下で組成物を光により硬化させることを含んでもよい。硬化工程における加熱は、液晶化合物の配列を容易にできる。本開示の硬化工程では、コレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光をコレステリック液晶層に照射する。これにより、異性化露光工程で形成したコレステリック螺旋ピッチの面内方向の変化の割合を効果的に維持できる。コレステリック液晶層の温度は、６５℃未満が好ましく、５０℃以下がより好ましく、３０℃以下が更に好ましい。
コレステリック液晶層の温度は、コレステリック液晶層の表面温度である。温度の測定は、コレステリック液晶層を非接触で測定する方法、コレステリック液晶層に熱電対を付けて測定する方法等により行える。
コレステリック液晶層の温度は、コレステリック液晶層の表面温度である。温度の測定は、コレステリック液晶層を非接触で測定する方法、コレステリック液晶層に熱電対を付けて測定する方法等により行える。
硬化工程における酸素濃度は、制限されない。硬化工程は、酸素雰囲気下で行われてもよい。硬化工程は、大気下で行われてもよい。硬化工程は、低酸素雰囲気下（好ましくは、１，０００ｐｐｍ以下の酸素濃度）で行われてもよい。酸素濃度は、０ｐｐｍであってもよい。酸素濃度は、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下であってもよい。硬化の促進の観点から、硬化工程は、低酸素雰囲気下で行われることが好ましく、加熱下かつ低酸素雰囲気下で行われることがより好ましい。
露光方法として、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載された方法が適用されてもよい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
［異性化マスクの準備］
以下のようにして、コレステリック液晶化合物をパターン状に異性化するためのパターンマスク（以下、異性化マスク）を作製した。
レーザーフォトプロッタ方式を用いて、版材に図２に示す１６５ｍｍ×１３７ｍｍのパターンを作製した。具体的には、デジタル画像データに基づいてレーザー照射をオン／オフすることで照射されるレーザービームで、感光性フィルム（ＧＰＲ－７，富士フイルム株式会社製）の表面を走査し、レーザービームが照射された部分の化学変化又は物理変化により版材上にデジタル画像データに対応する画像部を形成した。図３Ａは、図２のパターンの一部を拡大して示す拡大図である。四角枠内の黒部が印字部分であり、印字部分は光を遮蔽し、非印字部分は光を透過する。パターンは、５００線の網点方式（ドット間の間隔５０μｍ相当）で描画し、ドットサイズを大小変化させることで、１ｍｍ平方あたりの開口率、すなわち光透過率を制御した。
図３Ａ中、領域ａで示される部分は、ドットサイズが小さく、１ｍｍ平方あたりの光透過率は高くなっている。領域ａでは、カイラル剤の失活量が増え、失活量に見合った波長の色調が得られる。領域ｂで示される部分は、ドットサイズが領域ａでのドットより大きく、１ｍｍ平方あたりの光透過率が低くなっている。領域ｂでは、カイラル剤の失活量が領域ａより少なく、その失活量に見合った波長の色調が得られる。領域ｃ～領域ｆで示される部分は、ドットサイズが領域ａから領域ｆに向かって連続的に増加しており、１ｍｍ平方あたりの光透過率が連続的に減少している。図２のイメージのうち、図３Ｂの破線枠で示されている領域は、透過率を変化させたグラデーション調光変化領域であり、光透過率の変化は０．８％／ｍｍとした。
［異性化マスクの準備］
以下のようにして、コレステリック液晶化合物をパターン状に異性化するためのパターンマスク（以下、異性化マスク）を作製した。
レーザーフォトプロッタ方式を用いて、版材に図２に示す１６５ｍｍ×１３７ｍｍのパターンを作製した。具体的には、デジタル画像データに基づいてレーザー照射をオン／オフすることで照射されるレーザービームで、感光性フィルム（ＧＰＲ－７，富士フイルム株式会社製）の表面を走査し、レーザービームが照射された部分の化学変化又は物理変化により版材上にデジタル画像データに対応する画像部を形成した。図３Ａは、図２のパターンの一部を拡大して示す拡大図である。四角枠内の黒部が印字部分であり、印字部分は光を遮蔽し、非印字部分は光を透過する。パターンは、５００線の網点方式（ドット間の間隔５０μｍ相当）で描画し、ドットサイズを大小変化させることで、１ｍｍ平方あたりの開口率、すなわち光透過率を制御した。
図３Ａ中、領域ａで示される部分は、ドットサイズが小さく、１ｍｍ平方あたりの光透過率は高くなっている。領域ａでは、カイラル剤の失活量が増え、失活量に見合った波長の色調が得られる。領域ｂで示される部分は、ドットサイズが領域ａでのドットより大きく、１ｍｍ平方あたりの光透過率が低くなっている。領域ｂでは、カイラル剤の失活量が領域ａより少なく、その失活量に見合った波長の色調が得られる。領域ｃ～領域ｆで示される部分は、ドットサイズが領域ａから領域ｆに向かって連続的に増加しており、１ｍｍ平方あたりの光透過率が連続的に減少している。図２のイメージのうち、図３Ｂの破線枠で示されている領域は、透過率を変化させたグラデーション調光変化領域であり、光透過率の変化は０．８％／ｍｍとした。
［基材の準備］
基材として、片面に易接着層を含むポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ、コスモシャインＡ４１６０、東洋紡株式会社）を準備した。基材の易接着層が配置されていない面に、短辺方向を基準に反時計回りに３°回転させた方向にラビング処理を施した。ラビング処理の条件を以下に示す。
<条件>
・ラビング布：レーヨン布
・圧力：０．１ｋｇｆ
・回転数：１，０００ｒｐｍ
・搬送速度：１０ｍ／分
・回数：１回
基材として、片面に易接着層を含むポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ、コスモシャインＡ４１６０、東洋紡株式会社）を準備した。基材の易接着層が配置されていない面に、短辺方向を基準に反時計回りに３°回転させた方向にラビング処理を施した。ラビング処理の条件を以下に示す。
<条件>
・ラビング布：レーヨン布
・圧力：０．１ｋｇｆ
・回転数：１，０００ｒｐｍ
・搬送速度：１０ｍ／分
・回数：１回
［液晶層の形成］
以下に記載の組成を有する液晶組成物１を調製した。
－液晶組成物１の組成－
以下に記載の組成を有する液晶組成物１を調製した。
－液晶組成物１の組成－
下記棒状液晶化合物（１）：１００質量部
光重合開始剤（ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ－Ｓ、日本化薬株式会社製）：４質量部
界面活性剤１（下記構造を有する化合物）：０．０５質量部
界面活性剤２（下記構造を有する化合物）：０．０５５質量部
有機溶剤１（メチルエチルケトン）：１８７質量部
有機溶剤２（フルフリルアルコール）：３６質量部
感光性カイラル剤（１）（下記構造を有する化合物）：８質量部
界面活性剤１（下記構造を有する化合物）：０．０５質量部
界面活性剤２（下記構造を有する化合物）：０．０５５質量部
有機溶剤１（メチルエチルケトン）：１８７質量部
有機溶剤２（フルフリルアルコール）：３６質量部
感光性カイラル剤（１）（下記構造を有する化合物）：８質量部
界面活性剤１：下記化合物
界面活性剤２：下記化合物
感光性カイラル剤（１）：下記化合物
次に、基材のラビング処理面上に、ワイヤーバー（番手＃９）を用いて液晶組成物１を塗布した後、６５℃で３０秒間乾燥処理を行うことにより、基材と液晶層とを有する液晶材料を準備した（液晶材料準備工程）。
次いで、図４に示すように、液晶材料（符号１６）の基材（符号１４）のコレステリック液晶層（符号１２）を有する側とは反対側に、異性化マスク（符号２１）の印字面を密着させ、光源（符号２３）から照射された紫外（ＵＶ）光を透過する石英ガラス（符号１８）上に設置した。液晶材料は、石英ガラス上においてコレステリック液晶層を上に向けて載置してある。
石英ガラスの、液晶材料を載置していない側から、ＵＶ（Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）－ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を用いて、異性化マスクを介して照度７５ｍＷ、露光量２５ｍＪ／ｃｍ２の条件で波長３６５ｎｍの紫外光（第１の光）をコレステリック液晶層に照射した（異性化露光工程）。異性化マスクのドットサイズが小さく光透過率が高い領域は、露光量が多く、感光性カイラル剤が高い割合で失活する。パターニングマスクのドットサイズが大きく光透過率が低い領域は、露光量が少なく、感光性カイラル剤が失活する割合は少ない。
紫外光の照射を終了し液晶材料を３０℃のホットプレート上に置き換え、窒素パージ可能なボックス内に入れ、低酸素雰囲気（酸素濃度１０００ｐｐｍ）とした。ホットプレートの加熱を開始し、温度７０℃に到達した時点で、異性化マスクのグラデーション調光変化領域において、更にメタルハライドランプ（（株）ＧＳユアサＭＡＬ６２５ＮＡＬ）の光（第２の光）を照射することによりコレステリック液晶層を硬化した（硬化工程）。ここでの照射は、露光量８００ｍＪ／ｃｍ２の露光条件で行った。ホットプレートの温度７０℃到達後直ぐにメタルハライドランプの照射を開始することで、紫外光の照射開始時点からメタルハライドランプの光の照射を終了した時点までの間において、液晶層温度が６５℃以上である時間を３秒間にした。
以上のようにして、加飾フィルムを得た。
以上のようにして、加飾フィルムを得た。
加飾フィルムについて、以下のようにして検証した。
－反射中心波長－
反射中心波長は、以下のようにして測定した。
加飾フィルムに対して、コレステリック液晶層が形成されている面を入射面として、図３Ａの四角枠における各領域（領域ｃ～領域ｆ）の反射スペクトルを測定した。測定は、日本分光社製の分光光度計「Ｖ－６７０」及び大型積分球装置「ＩＬＶ－４７１」を用い、１ｍｍ四方の穴を開けた黒画用紙を測定窓として設置し行った。そして、各領域の反射スペクトルから、反射率を求めた。反射率は、１ｍｍ四方の測定窓にて積分球装置を備えた分光光度計で測定される積分反射率であり、かつ、同様に１ｍｍ四方の測定窓にて測定した白色標準板に対する相対反射率を示す。
得られた各領域（領域ｃ～領域ｆ）の反射スペクトルを用い、積分反射率の極大値Ｒｍａｘ（％）を示す波長、及び半値反射率Ｒ１／２（％）を示す波長を平均し、平均波長を反射中心波長（λｃ，λｄ，λｅ，λｆ）とした。半値反射率Ｒ１／２（％）は、下記式より算出した。
半値反射率Ｒ１／２＝Ｒｍａｘ÷２
なお、λｃ、λｄ、λｅ及びλｆが、λｃ＞λｄ＞λｅ＞λｆの関係を満たしていると、反射波長が上下しないので色調が連続的に変化しているといえ、鮮やかなグラデーション調になる。
－反射中心波長－
反射中心波長は、以下のようにして測定した。
加飾フィルムに対して、コレステリック液晶層が形成されている面を入射面として、図３Ａの四角枠における各領域（領域ｃ～領域ｆ）の反射スペクトルを測定した。測定は、日本分光社製の分光光度計「Ｖ－６７０」及び大型積分球装置「ＩＬＶ－４７１」を用い、１ｍｍ四方の穴を開けた黒画用紙を測定窓として設置し行った。そして、各領域の反射スペクトルから、反射率を求めた。反射率は、１ｍｍ四方の測定窓にて積分球装置を備えた分光光度計で測定される積分反射率であり、かつ、同様に１ｍｍ四方の測定窓にて測定した白色標準板に対する相対反射率を示す。
得られた各領域（領域ｃ～領域ｆ）の反射スペクトルを用い、積分反射率の極大値Ｒｍａｘ（％）を示す波長、及び半値反射率Ｒ１／２（％）を示す波長を平均し、平均波長を反射中心波長（λｃ，λｄ，λｅ，λｆ）とした。半値反射率Ｒ１／２（％）は、下記式より算出した。
半値反射率Ｒ１／２＝Ｒｍａｘ÷２
なお、λｃ、λｄ、λｅ及びλｆが、λｃ＞λｄ＞λｅ＞λｆの関係を満たしていると、反射波長が上下しないので色調が連続的に変化しているといえ、鮮やかなグラデーション調になる。
－コレステリックピッチ－
ミクロトーム（大和光機工業（株）製、ＲＸ－８６０）を用い、加飾フィルムの切片を作成し、切片のコレステリック液晶層の断面を走査電子顕微鏡（株式会社日立ハイテク製、ＳＵ３８００）を用いて観察し、計測した。
ミクロトーム（大和光機工業（株）製、ＲＸ－８６０）を用い、加飾フィルムの切片を作成し、切片のコレステリック液晶層の断面を走査電子顕微鏡（株式会社日立ハイテク製、ＳＵ３８００）を用いて観察し、計測した。
－反射波長の変化－
得られた加飾フィルムのうち、図３Ａの領域ａ及び領域ｂに対応する２領域について、それぞれの反射中心波長、及び２領域間の面内方向の距離を測定し、下記の式に従って変化割合を算出した。なお、反射中心波長は、上記の方法で測定した。また、面内方向の距離は、図３Ａにおける領域ａの中心と領域ｂの中心を定規により測定した。
変化割合［ｎｍ／ｍｍ］＝（領域ｂでの反射中心波長［ｎｍ］－領域ａでの反射中心波長［ｎｍ］）／面内方向の距離［ｍｍ］
得られた加飾フィルムのうち、図３Ａの領域ａ及び領域ｂに対応する２領域について、それぞれの反射中心波長、及び２領域間の面内方向の距離を測定し、下記の式に従って変化割合を算出した。なお、反射中心波長は、上記の方法で測定した。また、面内方向の距離は、図３Ａにおける領域ａの中心と領域ｂの中心を定規により測定した。
変化割合［ｎｍ／ｍｍ］＝（領域ｂでの反射中心波長［ｎｍ］－領域ａでの反射中心波長［ｎｍ］）／面内方向の距離［ｍｍ］
検証の結果、得られた加飾フィルムは、コレステリック液晶層に反射中心波長が面内方向において５ｎｍ／ｍｍ変化するグラデーション領域を有しており、グラデーション領域における反射中心波長が４３０ｎｍ～９００ｎｍであった。また、変化領域において、コレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、極大点Ａと極大点Ｂの間にコレステリックピッチが極小となる極小点Ｃを有しており、極大点Ａのコレステリックピッチと、極小点Ｃのコレステリックピッチの差は、３０４ｎｍであった。極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向の距離は、５０μｍであった。
（評価１）
上記の実施例１及び比較例で得られた加飾フィルムに対して以下の評価を行った。
上記の実施例１及び比較例で得られた加飾フィルムに対して以下の評価を行った。
－干渉縞－
蛍光灯（パナソニック製 直管 昼白色）を使用した室内にて、加飾フィルムのグラデーション領域を目視により観察し、下記基準にしたがって干渉縞を評価した。
<基準>
Ａ：明暗の縞模様が視認されない。
Ｂ：明暗の縞模様が視認されるか、又はグラデーション領域を有しない。
蛍光灯（パナソニック製 直管 昼白色）を使用した室内にて、加飾フィルムのグラデーション領域を目視により観察し、下記基準にしたがって干渉縞を評価した。
<基準>
Ａ：明暗の縞模様が視認されない。
Ｂ：明暗の縞模様が視認されるか、又はグラデーション領域を有しない。
－グラデーション調色味変化－
加飾フィルムの、反射中心波長が面内方向において変化するグラデーション領域について、図３Ａの領域ｃ、領域ｄ、領域ｅ及び領域ｆのそれぞれの反射スペクトルを用いて色度Ｌ＊ａ＊ｂ＊を算出し、得られた色度Ｌ＊ａ＊ｂ＊から下記式にしたがって、領域ｃ－ｄ間の色味差ΔＥ及び彩度ｃ＊、領域ｄ－ｅ間の色味差ΔＥ及び彩度ｃ＊を算出した。
色味差ΔＥ＝（（Ｌ＊の差）２＋（ａ＊の差）２＋（ｂ＊の差）２）１／２
彩度ｃ＊＝｛（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝１／２
加飾フィルムの、反射中心波長が面内方向において変化するグラデーション領域について、図３Ａの領域ｃ、領域ｄ、領域ｅ及び領域ｆのそれぞれの反射スペクトルを用いて色度Ｌ＊ａ＊ｂ＊を算出し、得られた色度Ｌ＊ａ＊ｂ＊から下記式にしたがって、領域ｃ－ｄ間の色味差ΔＥ及び彩度ｃ＊、領域ｄ－ｅ間の色味差ΔＥ及び彩度ｃ＊を算出した。
色味差ΔＥ＝（（Ｌ＊の差）２＋（ａ＊の差）２＋（ｂ＊の差）２）１／２
彩度ｃ＊＝｛（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝１／２
そして、グラデーション領域を視認した上記結果と合わせて、下記基準にしたがってグラデーション調の色味を評価した。加飾フィルムとしては「Ａ」であることが好ましい。
<基準>
Ａ：領域ｃ－ｄ間及び領域ｄ－ｅ間及び領域ｅ－ｆ間のいずれも、２領域間で色味が異なり（ΔＥ≧３）、かつ、色の境界が視認されない。
Ｂ：領域ｃ－ｄ間及び領域ｄ－ｅ間及び領域ｅ－ｆ間のいずれかにおいて、２領域が同じ色（ΔＥ＜３）を呈し、又は色の境界が視認される。
Ｃ：反射色が視認できない、又は彩度ｃ＊＜３である。
<基準>
Ａ：領域ｃ－ｄ間及び領域ｄ－ｅ間及び領域ｅ－ｆ間のいずれも、２領域間で色味が異なり（ΔＥ≧３）、かつ、色の境界が視認されない。
Ｂ：領域ｃ－ｄ間及び領域ｄ－ｅ間及び領域ｅ－ｆ間のいずれかにおいて、２領域が同じ色（ΔＥ＜３）を呈し、又は色の境界が視認される。
Ｃ：反射色が視認できない、又は彩度ｃ＊＜３である。
以上の結果、加飾フィルムは、グラデーション領域での干渉縞がなく、ヘイズも小さく鮮やかなグラデーションが得られた。
（比較例１）
実施例１において、硬化工程において、紫外光の照射を終了後直ぐに８５℃のホットプレート上に液晶材料を載置し、異性化露光工程での紫外光の照射終了時点からメタルハライドランプの光の照射が終了するまでの時間を１２秒とすることで、紫外光の照射開始時点からメタルハライドランプの光の照射を終了した時点までの間において、液晶層温度が６５℃以上である時間を１０秒間にした。
したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、グラデーション調光変化領域におけるピッチが均一化され、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差は８ｎｍであった。光異性化したカイラル剤が１００μｍ～１ｍｍオーダーで面内方向に拡散されたと推察される。結果、加飾フィルムは、グラデーション領域において干渉縞が認められた。
実施例１において、硬化工程において、紫外光の照射を終了後直ぐに８５℃のホットプレート上に液晶材料を載置し、異性化露光工程での紫外光の照射終了時点からメタルハライドランプの光の照射が終了するまでの時間を１２秒とすることで、紫外光の照射開始時点からメタルハライドランプの光の照射を終了した時点までの間において、液晶層温度が６５℃以上である時間を１０秒間にした。
したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、グラデーション調光変化領域におけるピッチが均一化され、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差は８ｎｍであった。光異性化したカイラル剤が１００μｍ～１ｍｍオーダーで面内方向に拡散されたと推察される。結果、加飾フィルムは、グラデーション領域において干渉縞が認められた。
（比較例２）
実施例１において、異性化マスクを図５に示すパターンを有するパターンマスクに代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。図６は、パターンの一部を拡大した拡大図であり、四角枠ｐの領域の光透過率は８０％／ｍｍの割合で変化するものであり、コレステリックピッチの極小点は認められなかった。
得られた加飾フィルムは、反射中心波長が面内方向において４７０ｎｍ／ｍｍ変化するものであった。結果、加飾フィルムは、グラデーション領域において干渉縞が見られ、ヘイズも高く、鮮やかなグラデーションは得られなかった。
実施例１において、異性化マスクを図５に示すパターンを有するパターンマスクに代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。図６は、パターンの一部を拡大した拡大図であり、四角枠ｐの領域の光透過率は８０％／ｍｍの割合で変化するものであり、コレステリックピッチの極小点は認められなかった。
得られた加飾フィルムは、反射中心波長が面内方向において４７０ｎｍ／ｍｍ変化するものであった。結果、加飾フィルムは、グラデーション領域において干渉縞が見られ、ヘイズも高く、鮮やかなグラデーションは得られなかった。
（比較例３）
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から１．５質量部へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、グラデーション調光変化領域において、反射中心波長はいずれも８００ｎｍ以上であった。結果、視認できるグラデーションが得られなかった。
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から１．５質量部へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、グラデーション調光変化領域において、反射中心波長はいずれも８００ｎｍ以上であった。結果、視認できるグラデーションが得られなかった。
（比較例４）
実施例１において、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）から１５０線（ドット間の間隔１６７μｍ）へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向の距離が１６７μｍであり、粒状感が視認されて干渉縞が認められた。結果、加飾フィルムは、ヘイズは低いものの、グラデーション領域において干渉縞が見られた。
実施例１において、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）から１５０線（ドット間の間隔１６７μｍ）へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、極大点Ａと極大点Ｂとの面内方向の距離が１６７μｍであり、粒状感が視認されて干渉縞が認められた。結果、加飾フィルムは、ヘイズは低いものの、グラデーション領域において干渉縞が見られた。
（比較例５）
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．５質量部へ変更し、かつ、異性化露光工程での紫外光の露光量を露光量２５ｍＪ／ｃｍ２から０．１ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、反射中心波長が面内方向において変化する割合が０．０２ｎｍ／ｍｍであり、グラデーション調光変化領域におけるピッチも均一化し、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差は２ｎｍに過ぎないものであった。結果、ヘイズが高く、視認できる色変化が小さすぎて鮮やかなグラデーションは得られなかった。
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．５質量部へ変更し、かつ、異性化露光工程での紫外光の露光量を露光量２５ｍＪ／ｃｍ２から０．１ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に検証及び評価１を実施した。
得られた加飾フィルムは、反射中心波長が面内方向において変化する割合が０．０２ｎｍ／ｍｍであり、グラデーション調光変化領域におけるピッチも均一化し、極大点Ａのコレステリックピッチと極小点Ｃのコレステリックピッチとの差は２ｎｍに過ぎないものであった。結果、ヘイズが高く、視認できる色変化が小さすぎて鮮やかなグラデーションは得られなかった。
（実施例２）
実施例１において、以下の手順としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。
即ち、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）からドット間の間隔８μｍ）へ変更し、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．５質量部へ変更し、異性化露光工程での紫外光の露光量を露光量２５ｍＪ／ｃｍ２から５ｍＪ／ｃｍ２に変更し、かつ、異性化工程での紫外線の照射開始から硬化工程でのメタルハライドランプの光の照射終了までを２５℃のホットプレート上で行った。
実施例１において、以下の手順としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。
即ち、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）からドット間の間隔８μｍ）へ変更し、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．５質量部へ変更し、異性化露光工程での紫外光の露光量を露光量２５ｍＪ／ｃｍ２から５ｍＪ／ｃｍ２に変更し、かつ、異性化工程での紫外線の照射開始から硬化工程でのメタルハライドランプの光の照射終了までを２５℃のホットプレート上で行った。
得られた加飾フィルムは、グラデーション領域での干渉縞がなく、ヘイズも小さく鮮やかなグラデーションが得られた。一方、網点のドットサイズが小さい低濃度領域において、印字ムラ由来の色ムラが見られた。
（評価２）
次に、得られた加飾フィルムに対して以下の評価を行った。
－マスク印字由来の色ムラ－
加飾フィルムを目視観察し、色ムラ（図柄パターンと異なる色味変化をしている、又はかすれ状の色味変化、スジ状の色味変化がある）の有無を判断し、以下の基準にしたがって評価した。加飾フィルムとしては「Ｂ」が好ましく、「Ａ」が特に好ましい。
<基準>
Ａ：加飾フィルムの表面の９５％以上の領域において色ムラが視認されない。
Ｂ：色ムラが視認される領域の面積割合が、加飾フィルムの表面の５％以上８０％未満である。
Ｃ：色ムラが視認される領域の面積割合が、加飾フィルムの表面の８０％以上である。
次に、得られた加飾フィルムに対して以下の評価を行った。
－マスク印字由来の色ムラ－
加飾フィルムを目視観察し、色ムラ（図柄パターンと異なる色味変化をしている、又はかすれ状の色味変化、スジ状の色味変化がある）の有無を判断し、以下の基準にしたがって評価した。加飾フィルムとしては「Ｂ」が好ましく、「Ａ」が特に好ましい。
<基準>
Ａ：加飾フィルムの表面の９５％以上の領域において色ムラが視認されない。
Ｂ：色ムラが視認される領域の面積割合が、加飾フィルムの表面の５％以上８０％未満である。
Ｃ：色ムラが視認される領域の面積割合が、加飾フィルムの表面の８０％以上である。
なお、異性化マスクの印字ムラとは、次のように定義される。
異性化マスクにおける印字ムラの有無は、異性化マスクパターンを印字するためのデジタル画像データと、版材に印字された異性化マスクのパターンと、を目視で対比観察し、以下の基準により判断される。
印字ムラがあると判断される場合：異性化マスクを目視してデジタル画像データと比較した際に印字濃度にズレがみられる。ズレは、印字濃度が波打ち状に濃くなっている部分又は薄くなっている部分、かすれ、スジ等が視認されることに起因する。
印字ムラがないと判断される場合：異性化マスクを目視してデジタル画像データと比較した際に印字濃度に差異がみられない。
異性化マスクにおける印字ムラの有無は、異性化マスクパターンを印字するためのデジタル画像データと、版材に印字された異性化マスクのパターンと、を目視で対比観察し、以下の基準により判断される。
印字ムラがあると判断される場合：異性化マスクを目視してデジタル画像データと比較した際に印字濃度にズレがみられる。ズレは、印字濃度が波打ち状に濃くなっている部分又は薄くなっている部分、かすれ、スジ等が視認されることに起因する。
印字ムラがないと判断される場合：異性化マスクを目視してデジタル画像データと比較した際に印字濃度に差異がみられない。
－ヘイズ－
加飾フィルムのグラデーション領域について、濁度計（日本電色工業社製、ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ ５０００）を用いてヘイズを測定し、以下の基準にしたがって評価した。反射系加飾フィルムとしては「Ｂ」が好ましく、「Ａ」が特に好ましい。
<基準>
Ａ：ヘイズ値≦２％
Ｂ：２％＜ヘイズ値≦１０％
Ｃ：ヘイズ値＞１０％
加飾フィルムのグラデーション領域について、濁度計（日本電色工業社製、ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ ５０００）を用いてヘイズを測定し、以下の基準にしたがって評価した。反射系加飾フィルムとしては「Ｂ」が好ましく、「Ａ」が特に好ましい。
<基準>
Ａ：ヘイズ値≦２％
Ｂ：２％＜ヘイズ値≦１０％
Ｃ：ヘイズ値＞１０％
検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例３）
実施例１において、基材にラビング処理を施さないこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、基材にラビング処理を施さないこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例４）
実施例１において、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から７０ｍＪ／ｃｍ２へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から７０ｍＪ／ｃｍ２へ変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例５）
実施例３において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．２質量部へ変更したこと以外は、実施例３と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例３において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．２質量部へ変更したこと以外は、実施例３と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例６）
実施例１において、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から５ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から５ｍＪ／ｃｍ２に変更したこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例７）
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から７．３質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から１０ｍＪ／ｃｍ２としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から７．３質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から１０ｍＪ／ｃｍ２としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例８）
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．６質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から２０ｍＪ／ｃｍ２としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５．６質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から２０ｍＪ／ｃｍ２としたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例９）
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から４０ｍＪ／ｃｍ２とすること以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、感光性カイラル剤の含有量を８質量部から５質量部とし、異性化露光工程での露光量を２５ｍＪ／ｃｍ２から４０ｍＪ／ｃｍ２とすること以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例１０）
実施例１において、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）から１０００線（ドット間隔２５μｍ）へ変更し、異性化工程での紫外線照射開始から硬化工程でのメタルハライドランプの光の照射終了までを２５℃のホットプレート上で行ったこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、異性化マスクにおける網点方式のパターンを、５００線（ドット間の間隔５０μｍ相当）から１０００線（ドット間隔２５μｍ）へ変更し、異性化工程での紫外線照射開始から硬化工程でのメタルハライドランプの光の照射終了までを２５℃のホットプレート上で行ったこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例１１）
実施例１において、異性化マスクとして、図７に示す２０００ｍｍ×２０００ｍｍのグラデーションパターンを用いたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、異性化マスクとして、図７に示す２０００ｍｍ×２０００ｍｍのグラデーションパターンを用いたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例１２）
実施例１において、異性化マスクとして、図８に示す５０ｍｍ×５０ｍｍパターンを用いたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、異性化マスクとして、図８に示す５０ｍｍ×５０ｍｍパターンを用いたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例１３）
実施例１において、感光性カイラル剤を下記の化合物に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、感光性カイラル剤を下記の化合物に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製し、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
（実施例１４）
実施例１において、液晶化合物を、以下の化合物Ａ８０質量部及び化合物Ｂ２０質量部に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、液晶化合物を、以下の化合物Ａ８０質量部及び化合物Ｂ２０質量部に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
液晶化合物Ａ
液晶化合物Ｂ
（実施例１５）
実施例１において、液晶化合物を、以下の化合物Ｃ５０質量部及び化合物Ｄ５０質量部に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
実施例１において、液晶化合物を、以下の化合物Ｃ５０質量部及び化合物Ｄ５０質量部に代えたこと以外は、実施例１と同様の手順で加飾フィルムを作製した。また、更に実施例１と同様の検証及び評価１を行い、かつ、評価２を実施した。検証及び評価した結果を纏めて表２に示す。
液晶化合物Ｃ
液晶化合物Ｄ
表２に示すように、実施例１～１５で作製した加飾フィルムは、いずれもグラデーション領域における干渉縞の発生がなく、鮮やかなグラデーションが得られた。また、異性化マスクに起因した色ムラも抑えられており、かつ、低ヘイズであった。
１２・・・コレステリック液晶層
１４・・・基材
１６・・・液晶材料
１８・・・石英ガラス
２１・・・異性化マスク
２３・・・光源
１４・・・基材
１６・・・液晶材料
１８・・・石英ガラス
２１・・・異性化マスク
２３・・・光源
Claims (9)
- 反射中心波長が、面内方向において、０．１ｎｍ／ｍｍ以上、かつ、２５０ｎｍ／ｍｍ以下の範囲で変化するグラデーション領域を有するコレステリック液晶層を含み、
前記グラデーション領域は、第一のコレステリックピッチが極大となる極大点Ａと、前記極大点Ａに最も近い第二のコレステリックピッチの極大点Ｂと、の間においてコレステリックピッチが極小となる点を極小点Ｃとした際の、前記極大点Ａのコレステリックピッチと前記極小点Ｃのコレステリックピッチとの差が１０ｎｍ以上であり、
前記極大点Ａと前記極大点Ｂとの面内方向における距離が１５０μｍ以下であり、
前記グラデーション領域における前記反射中心波長の少なくとも一部が、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域にある、加飾フィルム。 - 前記極大点Ａと前記極大点Ｂとの面内方向における距離が、１０μｍ以上である請求項１に記載の加飾フィルム。
- 前記コレステリック液晶層が、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性の組成物の硬化物である請求項１又は請求項２に記載の加飾フィルム。
- 前記コレステリック液晶層のヘイズ値が、２．０％以下である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の加飾フィルム。
- 請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の加飾フィルムを成型した成型体。
- 請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の加飾フィルム又は請求項５に記載の成型体を備えた物品。
- 電子デバイスである請求項６に記載の物品。
- 請求項７に記載の物品を備えた表示装置。
- 基材と、コレステリック液晶化合物及び感光性カイラル剤を含む光硬化性のコレステリック液晶層と、を有する液晶材料を準備することと、
面内方向における網点間距離が１５０μｍ以下である網点部分を有するパターニングマスクを前記光硬化性のコレステリック液晶層に接触させて、前記光硬化性のコレステリック液晶層に第１の光を照射することと、
前記第１の光の照射を開始した時点から、前記光硬化性のコレステリック液晶層に対する第２の光の照射終了時点までの間において、前記光硬化性のコレステリック液晶層が６５℃以上の温度になる時間を３秒以下に制御しながら、第２の光を前記光硬化性のコレステリック液晶層に照射し、前記光硬化性のコレステリック液晶層を硬化させることと、
を含む加飾フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022033894A JP2023129105A (ja) | 2022-03-04 | 2022-03-04 | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022033894A JP2023129105A (ja) | 2022-03-04 | 2022-03-04 | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023129105A true JP2023129105A (ja) | 2023-09-14 |
Family
ID=87972890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022033894A Pending JP2023129105A (ja) | 2022-03-04 | 2022-03-04 | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023129105A (ja) |
-
2022
- 2022-03-04 JP JP2022033894A patent/JP2023129105A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7396275B2 (ja) | 識別媒体、真正性判定方法、及び物品 | |
| JP7177273B2 (ja) | 加飾成型体、加飾成型体の製造方法、加飾パネル、及び、電子デバイス | |
| WO2020122245A1 (ja) | 成型用加飾フィルムの製造方法、成型方法、成型用加飾フィルム、成型物、自動車外装板、及び電子デバイス | |
| US11453230B2 (en) | Image forming method | |
| US11650470B2 (en) | Decorative film, molded product, and electronic device | |
| US20220091310A1 (en) | Decorative film for molding, molded product, and display | |
| JP7058204B2 (ja) | 光学フィルム、液晶表示装置、自動車社内用内装および光学フィルムの製造方法 | |
| WO2022059292A1 (ja) | 加飾フィルム、加飾フィルムの製造方法、成型物、電子デバイス及び自動車外装板 | |
| JP2023129105A (ja) | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、物品、並びに、表示装置 | |
| WO2022009508A1 (ja) | 液晶膜、液晶膜の製造方法、加飾フィルム、及び電子デバイスの筐体パネル | |
| WO2024053437A1 (ja) | 表示装置 | |
| JP7483026B2 (ja) | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体並びに物品 | |
| WO2023190789A1 (ja) | 加飾フィルム及びその製造方法、積層体及びその製造方法、加飾フィルム製造用光学マスク付き基材、成型体、物品、並びに、表示装置 | |
| JP7513732B2 (ja) | 加飾フィルム、加飾フィルムの製造方法、成型物、電子デバイス及び自動車外装板 | |
| WO2023176857A1 (ja) | 積層体、加飾フィルム、物品、加飾パネル、及び、表示装置 | |
| US20230203377A1 (en) | Decorative film, decorative molded article, decorative panel, and electronic device | |
| WO2021132666A1 (ja) | 積層体及びその製造方法、成型物及びその製造方法、電子デバイスの筐体パネル、並びに電子デバイス | |
| JP2023034129A (ja) | 加飾フィルム及びその製造方法、成型体、及び、物品 | |
| WO2022196327A1 (ja) | 加飾用材料、加飾用パネル、電子デバイス及び加飾用材料の製造方法 | |
| WO2023032644A1 (ja) | 加飾フィルム、成型体、及び、物品 | |
| CN117043646A (zh) | 装饰板、显示装置及汽车车内用内部装饰 | |
| WO2023189967A1 (ja) | 識別媒体 | |
| WO2023026671A1 (ja) | 加飾用材料、加飾用材料の製造方法、成型物、加飾用パネル及び電子デバイス | |
| JP2023048791A (ja) | 加飾フィルム、成型体、加飾パネル、及び、表示装置 | |
| WO2023163072A1 (ja) | 積層体及びその製造方法、加飾フィルム、物品、加飾パネル、並びに、表示装置 |