JPWO2018190412A1 - Snめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法 - Google Patents

Snめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明に係るSnめっき鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも一方の表面に設けられたSnめっき層と、前記Snめっき層の表面に設けられ、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜と、を有し、前記皮膜における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m2〜50mg/m2であり、X線光電子分光法による深さ方向分析において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、前記皮膜の表面側に位置し、かつ、前記深さ位置Aと前記深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である。

Description

本発明は、Snめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法に関する。
本願は、2017年4月13日に、日本に出願された特願2017−79792号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
錫(Sn)めっき鋼板は、「ブリキ」としてよく知られており、飲料缶や食缶などの缶用途その他に、広く用いられている。これは、Snが人体に安全であり、かつ、美麗な金属であることによる。このSnめっき鋼板は、主に電気めっき法によって製造される。これは、比較的高価な金属であるSnの使用量を必要最小限の量に制御するには、溶融めっき法よりも電気めっき法が有利であることによる。Snめっき鋼板は、めっき後、又は、めっき後の加熱溶融処理により美麗な金属光沢が付与された後に、6価クロム酸塩の溶液を用いた電解処理や浸漬処理などのクロメート処理によって、Snめっき上にクロメート皮膜が施されることが多い。このクロメート皮膜の効果は、Snめっき表面の酸化を抑えることによる外観の黄変の防止や、塗装されて使用される場合における錫酸化物の凝集破壊による塗膜密着性の劣化の防止、耐硫化黒変性の向上、などである。
一方、近年、環境や安全に対する意識の高まりから、最終製品に6価クロムが含まれないことだけでなく、クロメート処理自体を行わないことが求められている。しかしながら、クロメート皮膜を有さないSnめっき鋼板は、上述の如く、錫酸化物の成長により外観が黄変したり塗膜密着性が低下したりする。また、耐硫化黒変性が低下する。
このため、クロメート皮膜に替わる皮膜処理をしたSnめっき鋼板が、いくつか提案されている。
例えば、特許文献1では、リン酸イオンとシランカップリング剤とを含有する溶液を用いた処理によって、PとSiを含む皮膜を形成させたSnめっき鋼板が提案されている。特許文献2では、リン酸アルミニウムを含む溶液を用いた処理によって、Al及びPと、Ni、Co、Cuの少なくとも1種と、シランカップリング剤との反応物を含む皮膜を形成させたSnめっき鋼板が提案されている。
特許文献3では、Snめっき上にZnめっきをした後にZn単独めっき層が消失するまで加熱処理を施す、クロメート皮膜を有さないSnめっき鋼板の製造方法が提案されている。特許文献4及び特許文献5では、ジルコニウム、リン酸、フェノール樹脂等を含む化成処理皮膜を有する容器用鋼板が提案されている。
日本国特開2004−60052号公報 日本国特開2011−174172号公報 日本国特開昭63−290292号公報 日本国特開2007−284789号公報 日本国特開2010−13728号公報
製造されたSnめっき鋼板に対しては、その後、製缶後の内容物を充填する前の殺菌処理や塗装焼付処理などが施されるが、その際にSnめっき鋼板が加熱される。しかしながら、特許文献1〜特許文献5で提案されているSnめっき鋼板やその製造方法では、Snめっき鋼板が加熱される際に、Snめっき鋼板の一部が変色してしまうという問題があった。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、従来のクロメート処理を行うことなく、加熱時の耐変色性に優れるSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明者が鋭意検討した結果、Snめっき鋼板の表面にジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜を有するSnめっき鋼板において、X線光電子分光法での深さ方向分析によるジルコニウム酸化物の元素濃度の最大値の位置を、錫酸化物として存在するSnの元素濃度の最大値の位置よりも、皮膜の表面側に存在させることで、クロメート処理を行わずに加熱後の耐変色性に優れるSnめっき鋼板を実現可能であることを見出した。
上記知見に基づき完成された本発明の要旨は、以下の通りである。
(1)本発明の一態様に係るSnめっき鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも一方の表面に設けられたSnめっき層と、前記Snめっき層の表面に設けられ、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜と、を備え、前記皮膜における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、X線光電子分光法による深さ方向分析において、前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、前記錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、前記皮膜の表面側に位置し、かつ、前記深さ位置Aと前記深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である。
(2)上記(1)に記載のSnめっき鋼板において、前記X線光電子分光法による深さ方向元素分析において、前記深さ位置Aにおける前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が、20%以上であってもよい。
(3)上記(1)または(2)に記載のSnめっき鋼板において、前記皮膜がリン酸化合物を更に含み、前記皮膜において、P量で換算した前記リン酸化合物の含有量α(単位:mg/m)を、金属Zr量で換算した前記ジルコニウム酸化物の含有量β(単位:mg/m)で除した値α/βが、0.2〜2.0であってもよい。
(4)上記(1)〜(3)のいずれか一態様に記載のSnめっき鋼板において、前記皮膜の前記表面から前記皮膜の厚さの1/3の深さ位置を深さ位置Cとしたとき、前記深さ位置Aが、前記深さ位置Cよりも表面側に位置してもよい。
(5)本発明の別の一態様に係るSnめっき鋼板の製造方法は、鋼板の少なくとも一方の表面にSnめっき層が形成されたSnめっき鋼板に対して、ジルコニウムイオンを含む溶液中で陰極電解処理を行うことにより、前記Snめっき層上にジルコニウム酸化物を形成させる工程と、前記陰極電解処理後、25℃以上の温水で0.3秒間以上浸漬処理又はスプレー処理による洗浄処理を行う工程と、前記洗浄処理後、Zrイオン濃度が270ppm以下の電解質溶液中で陽極電解処理を行い、前記Snめっき層上に前記ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜を形成する工程と、を有する。
(6)上記(5)に記載のSnめっき鋼板の製造方法において、前記皮膜における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、X線光電子分光法による前記皮膜の深さ方向分析において、前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、前記錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、前記皮膜の表面側に位置し、かつ、前記深さ位置Aと前記深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上であってもよい。
(7)上記(5)または(6)に記載のSnめっき鋼板の製造方法において、X線光電子分光法による深さ方向元素分析において、深さ位置Aにおける前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が、20%以上であってもよい。
(8)上記(5)〜(7)のいずれか一態様に記載のSnめっき鋼板の製造方法において、前記皮膜がリン酸化合物を更に含み、前記皮膜において、P量で換算した前記リン酸化合物の含有量α(単位:mg/m)を、前記ジルコニウム酸化物を金属Zrで換算した含有量β(単位:mg/m)で除した値α/βが、0.2〜2.0であってもよい。
上記各態様によれば、従来のクロメート処理を行うことなく、加熱時の耐変色性に優れるSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法を提供することが可能となる。
本実施形態に係るSnめっき鋼板に対してX線光電子分光分析(XPS)を行ったときの、ジルコニウム酸化物のピークと錫酸化物のピークとの位置関係を示す図である。 従来技術に係るSnめっき鋼板に対してX線光電子分光分析(XPS)を行ったときの、ジルコニウム酸化物のピークと錫酸化物のピークとの位置関係を示す図である。 X線光電子分光分析(XPS)の深さ方向分析において、皮膜厚みに対するジルコニウム酸化物として存在するジルコニウムが最大元素濃度を示す位置(深さ)と、加熱後の耐変色性との関係を示す図である。 本実施形態に係るSnめっき鋼板の層構成を示す模式図である。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
以下で説明する本発明は、食缶、飲料缶などの缶用途その他に広く用いられるSnめっき鋼板と、かかるSnめっき鋼板の製造方法に関するものである。より詳細には、従来のクロメート処理を行うことなく、加熱後の耐変色性に優れるSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法に関するものである。
<1. Snめっき鋼板>
図4は、本実施形態に係るSnめっき鋼板の層構成を示す模式図である。図4に示すように、Snめっき鋼板100は、鋼板10と、鋼板10の少なくとも一方の表面に設けられたSnめっき層20と、Snめっき層20の表面に設けられ、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜30とを備える。
本実施形態においては、Snめっき層20および皮膜30は、鋼板10の2つの面のうち、少なくとも一方の面に形成されていればよい。
より詳細には、本実施形態に係るSnめっき鋼板100は、鋼板10の少なくとも一方の表面にSnめっき層20が形成されたSnめっき鋼板上に、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含有する皮膜30を有しており、皮膜30中におけるジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、さらにX線光電子分光法(X−ray Photoelectron Spectroscopy:XPS)による深さ方向分析(以下、「XPS深さ方向分析」ともいう)において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜30の表面側に位置し、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である。
(1.1 鋼板)
本実施形態に係るSnめっき鋼板100に母材として用いられる鋼板10は、特に限定されない。一般的な容器用のSnめっき鋼板に用いられている鋼板10を使用可能であり、例としては低炭素鋼や極低炭素鋼などが挙げられる。
(1.2 Snめっき層)
鋼板10の少なくとも片面には、Snめっきが施されて、Snめっき層20が形成される。かかるSnめっきによって、Snめっき鋼板100の耐食性が向上する。なお、本明細書における「Snめっき」とは、金属Snによるめっきだけでなく、金属Snに不純物が混入したものや、金属Snに微量元素が添加したものも含む。
本実施形態に係るSnめっき層20において、片面当たりのSn付着量は特に限定されないが、金属Sn量として、0.1g/m〜15g/mであることが好ましい。Snめっき層の片面当たりの付着量がSn換算量として0.1g/m以上である場合には、好適な耐食性を得ることができる。また、Snめっき層20の片面当たりの付着量がSn換算量として15g/m以下である場合、密着性の低下やコストの上昇を抑制しつつ、Snによる耐食性の向上効果を十分に得ることができる。
ここで、上記の片面当たりのSnの付着量は、例えばJIS G 3303に記載された電解法や蛍光X線法によって測定された値とする。
(1・3 ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜)
本実施形態に係るSnめっき鋼板100は、Snめっき層20の表面に、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜(化成処理皮膜)30を有する。
上述のように、皮膜30中におけるジルコニウム酸化物の含有量は、金属Zr量で片面当たり0.2mg/m〜50mg/mである。XPS深さ方向分析において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜30の表面側に位置し、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である(例えば、図1参照)。
深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離は、好ましくは1.0nm以上であり、より好ましくは1.5nm以上である。
皮膜30は、XPS深さ方向分析において、Snめっき鋼板100の表面から金属錫の元素濃度が90%になる深さ位置までの範囲と定義する。また、上記元素濃度は、XPS深さ方向分析において、錫酸化物として存在するSn、金属錫として存在するSnおよびジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度の合計を100%としたときの濃度である。
本実施形態に係るSnめっき鋼板100は、Snめっき層20の表面に上記のようなジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜30を有することで、加熱時の耐変色性を向上させることができる。この理由は定かではないが、本発明者らの詳細な調査により以下のように考えている。
塗装焼付処理時や殺菌処理時にSnめっき鋼板に施される加熱に伴う変色は、Snめっき層20中のSnと酸素との反応により形成された錫酸化物の成長によって引き起こされる。Snめっき層20の表面に、ジルコニウム酸化物を含む皮膜30を形成することで、Snめっき層20表面への酸素の拡散を阻害し、錫酸化物の生成、成長を抑制出来ると考えられる。
しかしながら、従来のジルコニウム皮膜を有するSnめっき鋼板においては、XPS深さ方向分析において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置が、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置よりも、皮膜の内面側に存在した。つまり、錫酸化物がジルコニウム酸化物よりも表面側に多く存在していた(例えば、図2参照)。このため、従来のSnめっき鋼板においては、錫酸化物の更なる酸化(SnOからSnO)、あるいは、錫酸化物中の酸素欠乏部への酸素拡散および反応等によって錫酸化物が成長し、変色がもたらされると考えられる。
一方、本発明のように、XPS深さ方向分析において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜30の表面側に位置し、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である場合(例えば、図1参照)には、ジルコニウム酸化物によって、Snめっき層20表面への酸素拡散が抑制されるために錫酸化物成長も抑えられる。
また、本発明者らは、深さ位置Aが深さ位置Bよりも皮膜30の表面側に位置しているが、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm未満である場合には、好適な耐変色性が得られないことを知見した。その理由は定かではないが、ジルコニウム酸化物によるSnめっき層20表面への酸素拡散抑制効果が不十分であったためであると考えられる。
上記のような錫酸化物の成長抑制効果を実現するには、金属Zr量で片面当たり0.2mg/m〜50mg/mのジルコニウム酸化物が必要である。ジルコニウム酸化物の含有量が、上記の範囲内であれば、加熱時の耐変色性、塗膜密着性、耐硫化黒変性を確保することが出来る。金属Zr量で0.2mg/m未満である場合には、錫酸化物の成長を十分に抑制できないだけでなく、耐硫化黒変性も劣る。ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で50mg/mを超える場合は、ジルコニウム酸化物が過剰なために、塗膜密着性が劣化し、かつ、耐食性も劣る。ジルコニウム酸化物の含有量は、片面当たりの金属Zr量で、好ましくは1.0mg/m〜30mg/mであり、より好ましくは2.0mg/m〜10mg/mである。
皮膜30をXPS深さ方向元素分析した場合に、深さ位置AにおけるZrの元素濃度が20%以上であることが好ましい。深さ位置AにおけるZrの元素濃度が20%以上であれば、Snめっき層20表面への酸素の拡散を効果的に抑制出来る。より好ましくは、深さ位置AにおけるZrの元素濃度は、30%以上である。
皮膜30の表面から皮膜30の厚さの1/3の深さ位置を深さ位置Cとし、皮膜30をXPS深さ方向分析した場合に、深さ位置Aは深さ位置Cよりも表面側にあることが好ましい。これにより、Snめっき層20表面への酸素の拡散をより効果的に抑制出来る。
皮膜30は、リン酸化合物を更に含み、皮膜30において、P量で換算したリン酸化合物の含有量α(単位:mg/m)を、金属Zr量で換算したジルコニウム酸化物の含有量β(単位:mg/m)で除した値α/βが、0.2〜2.0であることが好ましい。リン酸化合物としては、たとえば、リン酸錫、リン酸ジルコニウムなどを挙げることが出来る。
皮膜30中にPが含まれることで、ジルコニウム酸化物及び錫酸化物を含有する皮膜30が緻密となり、耐硫化黒変性及び塗装後耐食性が向上する。このようなリン酸化合物としては、例えばリン酸錫、リン酸ジルコニウムなど、金属のリン酸塩が挙げられる。α/βが2超である場合には、リン酸化合物量が過剰となり、硫化黒変性の向上効果が乏しくなるため好ましくない。α/βは、より好ましくは、0.4〜1.5である。
皮膜30におけるジルコニウム酸化物及び錫酸化物の存在状態は、両者の混合状態であっても酸化物の固溶体であってもよく、その存在状態を問わない。また、皮膜30中にジルコニウム酸化物と錫酸化物以外に、水酸化ジルコニウムや金属ジルコニウム、金属錫が含まれていてもよい。さらに、皮膜30中にジルコニウム酸化物と錫酸化物以外の元素単体や化合物が不可避的に、例えば不純物として、含まれていても問題ない。例えば、皮膜30に、C、N、F、Na、Mg、Al、Si、P、S、Cl、K、Ca、Ti、V、Co、Ni、Zn等の元素が含まれていてもよい。
上記のZrおよびPの付着量は、本実施形態に係る皮膜30を表面に有するSnめっき鋼板100を、例えば、フッ酸と硫酸などの酸性溶液に浸漬して溶解し、得られた溶解液を高周波誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma:ICP)発光分析法などの化学分析によって測定された値とする。
本実施形態に係るSnめっき鋼板100は、いかなる方法により製造されてもよいが、例えば、以下に説明するSnめっき鋼板の製造方法により、製造することができる。
<2. Snめっき鋼板の製造方法>
以下では、本実施形態に係るジルコニウム酸化物及び錫酸化物を含む皮膜30を有するSnめっき鋼板100の製造方法について、説明する。
本実施形態に係るSnめっき鋼板の製造方法は、鋼板10の少なくとも一方の表面にSnめっき層20が形成されたSnめっき鋼板を、ジルコニウムイオンを含む溶液中での陰極電解処理により、Snめっき層20上にジルコニウム酸化物を形成させる第1の工程と、
Snめっき鋼板に対して25℃以上の温水で0.3秒以上の浸漬またはスプレー処理による洗浄処理を行う第2の工程と、
Snめっき鋼板に対してさらにZrイオン濃度が270ppm以下の電解質溶液中で陽極電解処理を行い、Snめっき鋼板上にジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜30を形成する第3の工程と、を有する。
なお、本実施形態においては、上記陰極電解処理に先立ち、鋼板10を準備するとともに、Snめっきにより鋼板の少なくとも一方の表面上にSnめっき層20を形成する。
(2.1 鋼板の準備)
鋼板10の製造方法や材質は特に限定されず、例えば、鋳造から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、調質圧延等の工程を経て製造された鋼板を挙げることができる。
(2.2 Snめっき層の形成)
次いで、鋼板10の少なくとも一方の表面上に、Snめっき層20を形成する。Snめっきを鋼板10表面に施す方法は、特に限定されないが、例えば公知の電気めっき法が好ましく、溶融したSnに鋼板10を浸漬することでめっきする溶融法を用いてもよい。電気めっき法としては、例えば、周知のフェロスタン浴やハロゲン浴やアルカリ浴などを用いた電解法を利用することができる。
なお、Snめっき後に、Snめっきの施された鋼板10をSnの融点である231.9℃以上に加熱する、加熱溶融処理を施しても構わない。この加熱溶融処理によって、Snめっき鋼板の表面に光沢が出るとともに、Snめっき層20と鋼板10との間に、SnとFeとの合金層(不図示)が形成され、耐食性が更に向上するため好ましい。
また、Snめっき層20が予め形成された鋼板10を用いる場合、上記の2工程を省略することができる。
(2.3 陰極電解処理)
本実施形態に係る皮膜30を形成するためには、まず、Snめっき鋼板のSnめっき層20上に、ジルコニウム酸化物を含有するジルコニウム酸化物層(不図示)を形成する(第1の工程)。
ジルコニウム酸化物を含有するジルコニウム酸化物層(不図示)は、ジルコニウムイオンを含む溶液中でSnめっき鋼板に対して陰極電解処理を行うことにより、Snめっき鋼板上に形成することができる。
ジルコニウム酸化物層(不図示)を形成する方法としては、陰極電解処理の他に浸漬処理も挙げられる。しかしながら、浸漬処理では、下地であるSnめっき鋼板の表面がエッチングされることでジルコニウム酸化物を含有するジルコニウム酸化物層が形成される。そのため、ジルコニウム酸化物層(不図示)の付着量が不均一になりやすく、また、処理時間も長くなるため、工業生産的には不利である。
一方、陰極電解処理では、強制的な電荷移動及び鋼板界面での水素発生による表面清浄化とpH上昇による付着促進効果も相まって、均一な皮膜を得ることができる。更に、この陰極電解処理において、処理液中に硝酸イオンとアンモニウムイオンとが共存することにより、数秒から数十秒程度の短時間処理が可能であることから、工業的には極めて有利である。
従って、本実施形態に係るジルコニウム酸化物を含有するジルコニウム酸化物層(不図示)の形成には、陰極電解処理を用いる。
陰極電解処理に用いる溶液(以下、陰極電解処理液と呼称する)中のジルコニウムイオンの濃度は、生産設備や生産速度(能力)に応じて適宜調整すればよいが、例えば、ジルコニウムイオン濃度は、100ppm〜4000ppmであることが好ましい。陰極電解処理液は、フッ素イオン、アンモニウムイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオンなどを含んでもよい。
陰極電解処理液の液温は特に限定されないが、例えば、10℃〜50℃の範囲とすることが好ましい。50℃以下で陰極電解処理を行うことにより、非常に細かい粒子により形成された、緻密で均一な皮膜組織の形成が可能となる。一方、10℃以上で陰極電解処理を行うことにより、皮膜の形成効率が向上する。
陰極電解処理液のpHは特に限定されないが、3〜5であることが好ましい。pHが3以上であればジルコニウム酸化物の生成効率が向上し、pHが5以下であれば処理液中に沈殿が発生し難く、連続生産性が向上するため好ましい。
陰極電解処理液のpHの調整や電解効率の向上の目的で、陰極電解処理液中に、例えば硝酸、アンモニア水等を添加してもよい。
陰極電解処理における電流密度は、例えば、0.05A/dm〜50A/dmにすることが好ましい。電流密度が0.05A/dm以上である場合には、ジルコニウム酸化物の形成効率を十分に高くすることができ、本発明で規定したジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含有する皮膜30の形成をより確実にすることができる。電流密度が50A/dm以下である場合には、ジルコニウム酸化物の形成効率が大き過ぎ、粗大かつ密着性に劣るジルコニウム酸化物が形成されることを防止することができる。より好ましい電流密度の範囲は、1A/dm〜10A/dmである。
ジルコニウム酸化物層(不図示)の形成に際して、陰極電解処理の時間は特に限定されず、所望のZr付着量となるように適宜調整すればよい。
陰極電解処理液に用いられる溶媒としては、例えば、蒸留水等を使用することができるが、蒸留水等の水に規定されるものではなく、溶解する化合物や皮膜30の形成方法等に応じて、適宜選択することが可能である。
ジルコニウムの供給源としては、例えば、HZrFのようなジルコニウム錯体を使用することができる。Zr錯体中のZrは、陰極電極界面におけるpHの上昇によりZr4+となって陰極電解処理液中に存在する。このようなZrイオンは、陰極電解処理液中で更に反応し、ジルコニウム酸化物となる。陰極電解処理液中にリン酸を含む場合は、リン酸ジルコニウムも形成される。
陰極電解処理時の通電パターンは、連続通電であっても断続通電であってもよい。
陰極電解処理時の陰極電解処理液と鋼板10との相対流速は、50m/分以上とすることが好ましい。相対流速が50m/分以上であれば、通電時の水素発生に伴う鋼板10表面のpHを均一とし易く、粗大なジルコニウム酸化物の生成を抑制することができる。相対流速の上限は特に限定されない。
(2.4 洗浄処理)
本実施形態に係る皮膜30を形成するためには、Snめっき鋼板のSnめっき層20上に、前記のジルコニウム酸化物を含有するジルコニウム酸化物層(不図示)を形成した後に、25℃以上の温水で0.3秒以上の浸漬またはスプレー処理による洗浄処理を行う(第2の工程)。
洗浄処理によって陰極電解処理後のジルコニウム酸化物層(不図示)の表面に不可避的に存在する錫の酸化物や水酸化物、金属錫を減らし、さらにその後の陽極電解処理と組み合わせることで、これら表面の錫の酸化物や水酸化物、金属錫を効果的に除去することが出来る。
洗浄処理に用いる温水の温度は、25℃以上である。温水の温度が25℃未満の場合、ジルコニウム酸化物層(不図示)の表面に不可避的に存在する錫の酸化物や水酸化物、金属錫を十分に低減することができない。そのため、洗浄処理後に陽極電解処理を行っても、好適な加熱時の耐変色性を得ることが難しい。
温水の温度は、好ましくは30℃以上40℃未満であり、これにより錫の酸化物や水酸化物を効果的に減らすことが出来るため好ましい。
洗浄処理の時間は、0.3秒以上である。洗浄処理の時間が0.3秒未満の場合、錫の酸化物や水酸化物を効果的に減らすことができず、好ましくない。洗浄処理の時間は、好ましくは0.4秒〜3秒であり、これにより、錫の酸化物や水酸化物を効果的に減らすことが出来るため好ましい。
温水に含まれる化合物は特に限定されない。温水のpHについても特に限定されないが、pHが5〜8であれば、表面の錫の酸化物や水酸化物、金属錫を均一に除去することができるため、好ましい。
(2.5 陽極電解処理)
次いで、電解質溶液中でSnめっき鋼板に対して陽極電解処理を行い、Snめっき層20上に、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜30を形成する(第3の工程)。これにより、本実施形態に係るSnめっき鋼板100を製造することが可能である。
洗浄処理によって、ジルコニウム酸化物層(不図示)の表面に不可避的に存在する錫酸化物、錫水酸化物及び金属錫を低減する。そして、洗浄処理後のSnめっき鋼板を陽極電解処理することで、上述の錫酸化物、錫水酸化物及び金属錫が溶解されるので、より一層低減することができる。また、陽極電解処理により、XPS深さ方向分析において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜30の表面側に位置し、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上であるSnめっき鋼板を製造することができる。
陽極電解に用いる電解質溶液(以下、陽極電解処理液と呼称する)のpHについては特に限定されないが、弱酸性からアルカリ性であることが好ましい。ここでいう弱酸性からアルカリ性とは、pHが3〜14を意味する。
上記の陽極電解処理液に含まれる電解質の例としては、アルカリ及びアルカリ土類金属の水酸化物や炭酸塩、リン酸塩、有機酸塩、ホウ酸塩、硫酸塩などが挙げられる。より具体的には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、二リン酸ナトリウム、クエン酸三ナトリウム、一酒石酸アンモニウム、硫酸ナトリウムなどが挙げられる。
電解質の濃度は、特に限定されない。電解質の濃度の上限も特に限定されないが、濃度が大き過ぎる場合は保管時に沈殿し、配管詰まり等の障害を引き起こす可能性がある。そのため、電解質の濃度は、その電解質の0℃における溶解度以下とすることが好ましい。
電解質の濃度は、好ましくは、電気伝導度で0.5S/m〜4S/mを満たす濃度であり、より好ましくは、電気伝導度で1S/m〜2.5S/mを満たす濃度である。なお、電気伝導度は、市販の電気伝導度計を用いて測定すればよく、例えば、東亜ディーケーケー株式会社製の電気伝導率セルCT−27112B等を用いることが可能である。
また、陽極電解処理液中のZrイオン濃度は、270ppm以下とする。Zrイオンが270ppmを超える場合、皮膜30中にZrイオンが混入して粗な皮膜となり、加熱時の耐変色性を十分改善できないためである。
陽極電解処理液の液温は特に限定されないが、好ましくは5℃〜60℃であり、さらに好ましくは15℃〜50℃である。温度が十分に高い場合には、電解効率を高くすることができ、皮膜30をより確実に形成することができる。
陽極電解処理時の電流密度は特に限定されないが、例えば、0.02A/dm〜50A/dmとすることが好ましい。電流密度が0.02A/dm〜50A/dmである場合には、本実施形態に係るジルコニウム酸化物と錫酸化物を有する皮膜30を均一かつ安定に形成できる。電流密度が0.02A/dm以上である場合には、電解処理時間を比較的短くすることができ、Snめっき層20の溶解に伴う塗装後耐食性の低下を防止することができる。一方、電流密度が50A/dm以下である場合には、Snめっき鋼板上での過度の水素発生を抑制し、pH上昇に伴うSnめっき層20の溶解を防止することができるため、生産効率上好ましく、均一な錫酸化物生成により加熱時の耐変色性や耐硫化黒変性を十分に向上することができる。好ましい電流密度範囲は、0.04A/dm〜10A/dmである。
陽極電解処理の処理時間は特に限定されず、電流密度や電極長さや生産速度(通板速度)に応じて、任意に決めることが可能である。
皮膜30における錫酸化物の分布の厚みは、主に陽極電解処理時の通電量(電気量)で制御することができる。そのため、本実施形態に係る皮膜30を得るためには、陽極電解処理時の通電量を好ましくは0.1C/dm〜10C/dm、より好ましくは0.2C/dm〜2.0C/dmとする。
陽極電解処理液の溶媒としては、例えば、蒸留水等を使用することができるが、蒸留水等の水に限定されない。陽極電解処理時の通電パターンは、連続通電であっても断続通電であってもよい。
続いて、実施例及び比較例を示しながら、本発明に係るSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法について、具体的に説明する。なお、以下に示す実施例は、あくまでも本発明に係るSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法の一例にすぎず、本発明に係るSnめっき鋼板及びSnめっき鋼板の製造方法が下記の例に限定されるものではない。
<試験材>
板厚0.2mmの低炭素冷延鋼板に対し、前処理として、電解アルカリ脱脂、水洗、希硫酸への浸漬による酸洗及び水洗を行った。その後、フェノールスルホン酸浴を用いて電気Snめっきを施し、更にその後、加熱溶融処理をした。Snめっきの付着量は、片面当たり約2.8g/mを標準としたが、一部の試験材は、通電時間を変えることでSnめっきの付着量を変化させた。また、電気Snめっき後に加熱溶融処理をしない試験材も、あわせて作製した。Snめっき付着量は、蛍光X線法(リガク社製ZSX Primus)により測定することで特定した。
上記のように作製したSnめっき鋼板を、フッ化ジルコニウムを含む水溶液中で陰極電解処理し、Snめっき鋼板上にジルコニウム酸化物層を形成した。浴温は35℃とし、かつ、pHは3以上5以下となるように調整し、電流密度及び陰極電解時間を、所望のZr付着量に応じて適宜調整した。
更に、ジルコニウム酸化物層を形成させたSnめっき鋼板を、浴温30℃の温水に1秒間浸漬することにより洗浄処理を行った。
その後、電気伝導度2.0S/mの炭酸水素ナトリウム溶液(陽極電解処理液)中で陽極電解処理することにより、皮膜を形成した。陽極電解処理液の液温は25℃とし、かつ、陽極電解処理の電流密度は1A/dmとした。なお、一部の水準においては、洗浄処理条件や陽極電解処理条件を変えた。陽極電解処理の処理時間は、適宜調整した。また、陽極電解処理液のZrイオン濃度は表中に記載の通りである。
なお、比較例として、ジルコニウム酸化物のみ形成させ陽極電解処理を行わない試験材と、ジルコニウム酸化物を形成せずに陽極電解処理のみ実施した試験材も、あわせて作製した。
このように作製したSnめっき鋼板について、以下に示す種々の評価をした。<付着量>
片面当たりのZr付着量は、ICP発光分析法により求めた。
<XPS深さ方向元素分析>
XPS(ULVAC−PHI製PHI Quantera SXM)の深さ方向分析にて、錫酸化物、金属錫、ジルコニウム酸化物の深さ方向の定量分析をした。
定量分析においては、錫酸化物として存在するSnに相当するSn3d5/2の結合エネルギー位置は485.8eV以上487.2eV以下、金属Snとして存在するSnに相当するSn3d5/2の結合エネルギー位置は484.3eV以上485.5eV以下、ジルコニウム酸化物として存在するZrのZr3d5/2の結合エネルギー位置は、182.0eV以上182.9eV以下、と定義し、錫酸化物、金属錫、ジルコニウム酸化物の3種で100%になるようにした。
XPSにおいては、試料の帯電等による影響でスペクトル、さらはピーク位置がシフトする(チャージシフト)可能性があるため、試料の表面に吸着している汚染物質(有機物の炭素)によるピーク位置補正を行った。具体的には、試料の表面で検出された炭素(C1s)のピーク位置が284.8eVになるように全体のスペクトルをシフトさせた上で、定量分析をした。
深さ方向分析は、金属Snに相当する結合エネルギーの位置にピークが認められ、かつ、錫酸化物に相当する結合エネルギー位置にピークが認められなくなる深さまで深さ方向分析をした。深さ方向分析におけるスパッタリング条件は、SiO換算で0.5nmの間隔、Arスパッタリングである。XPS深さ方向元素分析において、皮膜30の表面を始点として、金属Snの元素濃度が90%に到達する深さ位置を終点とする範囲を、皮膜30と定義した。この定義に基づいて、皮膜30の厚さを求めた。
<深さ位置Aと深さ位置Bとの位置関係>
このように求めたXPSの深さ方向分析結果において、ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜の表面側に位置し、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である場合を「Good」、そうでない場合を「Bad」と評価した。
なお、「元素濃度が最大」とは、深さ方向分析を行った範囲における極大値を指すが、該範囲において極大値が複数存在する場合には、極大値の最大値を指すものとする。
また、複数の深さ位置で極大値を取る場合には、該複数の深さ位置の平均値を「元素濃度が最大である深さ位置」とする。例えば、図1において、錫酸化物として存在するSnの元素濃度は、表面からの深さが6.0nm,6.5nm,7.0nmの3か所で極大値を取っている。この場合の深さ位置Bは、3か所の平均値に基づき、表面から深さ6.5nmの位置となる。
<深さ位置AにおけるZrの元素濃度>
深さ位置AにおけるZrの元素濃度が20%未満である場合を「Fair」、20%以上30%未満である場合を「Good」、30%超である場合を「VeryGood」と評価した。
<深さ位置Aと深さ位置Cとの位置関係>
皮膜30の表面から深さ位置Aまでの深さ方向の距離を測定した。また、上述の方法で求めた皮膜30の厚さに1/3を掛けることにより、皮膜の表面から厚みの1/3の深さ位置である深さ位置Cの位置を決定した。
深さ位置Aが深さ位置Cよりも表面側である場合を「Good」、そうでない場合を「Fair」と評価した。
<加熱時の耐変色性>
上述の方法で作製したSnめっき鋼板に対して、205℃〜210℃の板温で30分間保持する加熱試験を大気炉で行った。加熱試験前後における色差b*値の変化量△b*を求めて、評価した。
△b*が1以下であれば「VeryGood」とし、1超2以下であれば「Good」とし、2超3以下であれば「Fair」とし、3超であれば「Bad」とし、評価「VeryGood」、「Good」、「Fair」を合格とした。
b*は、JIS Z 8722に準拠し、市販の色差計であるスガ試験機製SC−GV5を用いて測定し、b*の測定条件は、光源C、全反射、測定径30mmとした。
<塗膜密着性>
塗膜密着性は、以下のようにして評価した。
上述の方法で作製したSnめっき鋼板の表面に、市販の缶用エポキシ樹脂塗料を乾燥質量で7g/m塗布し、200℃の温度下で10分間焼き付け、その後24時間室温に置いた。その後、得られたSnめっき鋼板に対し、鋼板表面に達する傷を格子状に入れ(3mm間隔で縦横7本ずつの傷)、その部位に対してテープ剥離試験をすることで塗膜密着性を評価した。
全てのテープ貼り付け部位で塗膜の剥離が生じていない場合には「VeryGood」とし、格子外で塗膜が剥離していた場合には「Good」とし、格子内で塗膜が剥離していた場合には「Bad」と評価した。
評価が「VeryGood」及び「Good」の場合を合格とした。
<耐硫化黒変性>
耐硫化黒変性は、以下のようにして評価した。
上述の方法で作製したSnめっき鋼板の表面に、市販の缶用エポキシ樹脂塗料を乾燥質量で7g/m塗布した後、200℃の温度下で10分間焼き付け、その後24時間室温に置いた。その後、得られたSnめっき鋼板を所定のサイズに切断し、リン酸二水素ナトリウム:0.3%、リン酸水素ナトリウム:0.7%、L−システイン塩酸塩:0.6%含有する水溶液中に浸漬した。浸漬後のSnめっき鋼板を密封容器に入れ、121℃の温度下で60分間レトルト処理を行った。レトルト処理後のSnめっき鋼板の外観から、耐硫化黒変性を評価した。
試験前後で外観が全く変化がしていなければ「VeryGood」とし、10面積%以下の黒変が生じていれば「Good」とし、10面積%超の黒変が生じていれば「Bad」と評価した。
評価が、「VeryGood」及び「Good」の場合を合格とした。
<塗装後耐食性>
塗装後耐食性は、以下のようにして評価した。
上述の方法で作製したSnめっき鋼板の表面に、市販の缶用エポキシ樹脂塗料を乾燥質量で7g/m塗布した後、200℃の温度下で10分間焼き付け、その後24時間室温に置いた。その後、得られたSnめっき鋼板を所定のサイズに切断し、市販のトマトジュースに60℃の温度下で7日間浸漬した。浸漬後の錆の発生有無を目視することにより、塗装後耐食性を評価した。
錆が全く生じていなければ「Good」とし、10面積%以下の錆が生じていれば「Fair」とし、10面積%超の錆が生じていれば「Bad」と評価した。
評価が、「Good」及び「Fair」の場合を合格とした。
<実施例1>
表1は、皮膜のジルコニウム酸化物の含有量を変化させた場合の結果である。表1には製造方法を明記していないが、表1のSnめっき鋼板を製造する際の陰極電解処理液中のジルコニウム濃度(フッ化ジルコニウム)は、80〜5000ppmとした。ジルコニウム酸化物を形成した後は、Zrイオン濃度が10ppmであり、かつ、電気伝導度が2.0S/mの炭酸水素ナトリウム溶液(液性:弱酸性〜アルカリ性)中で陽極電解処理し、皮膜を形成した。陽極電解処理液の液温は25℃とし、陽極電解処理の通電量は最大1.6C/dmとした。比較として、いくつかの例においては洗浄処理および/または陽極電解処理を行わずに試験材を作製した。
Figure 2018190412
表1から明らかなように、本発明例ではいずれの評価結果も良好であった。一方、比較例では、加熱時の耐変色性が劣っていた。また、比較例a1〜6では、塗膜密着性、耐硫化黒変性及び塗装後耐食性のいずれかが劣っていた。
また、表1の結果に基づいて、深さ位置Aの位置と加熱時の耐変色性との関係を図3に示した。図3に示すように、深さ位置Aが深さ位置C(皮膜表面から膜厚の1/3の深さ位置)よりも表面側に位置している場合に、好ましい耐変色性が得られていた。
<実施例2>
表2は、深さ位置AにおけるZrの元素濃度を変化させた場合の結果である。深さ位置AにおけるZrの元素濃度は、陽極電解処理における電気量を変えることで変化させた。
Figure 2018190412
表2から明らかなように、本発明例はいずれの評価結果も良好であった。
<実施例3>
表3では、α/βの値を変化させたときの評価結果の違いを示す。α/βは、陰極電解処理浴中のリン酸イオン濃度を変えることで変化させた。
Figure 2018190412
表3から明らかなように、本発明例はいずれの評価結果も良好であった。
<実施例4>
表4及び5では、洗浄処理の条件の違いによる評価結果の違いを示す。表4には各試験材の製造条件を、表5には得られた試験材の構成および評価を示す。
なお、表4には陽極電解処理の条件を記載していないが、全ての発明例及び比較例において、陽極電解処理液の電解質:炭酸水素ナトリウム、陽極電解処理液のZrイオン濃度:10ppm、陽極電解処理液のpH:8、陽極電解処理液の電気伝導度:2S/m、陽極電解処理液の液温:25℃、陽極電解処理の通電量:0.5C/dmの条件下で陽極電解処理を行った。
Figure 2018190412
Figure 2018190412
表4、5から明らかなように、本発明例は、いずれの評価結果も良好であった。一方、比較例d1において製造された試験材は、加熱時の耐変色性が劣っていた。
<実施例5>
表6〜14は陰極処理条件、洗浄処理条件、陽極処理条件を変えた場合の結果である。なお、表6〜11には各例における試験材の製造条件を、表12〜14には得られた試験材の構成および評価結果を示す。
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
Figure 2018190412
表12〜14から明らかなように、本発明例では、いずれの評価結果も良好であった。一方、比較例e1〜e5では、加熱時の耐変色性が劣っていた。
<実施例6>
表15及び表16は、陽極電解処理液中のZrイオン濃度を変えた場合の結果である。表15に製造条件を、表16に得られたSnめっき鋼板の構成及び評価結果を示す。
Figure 2018190412
Figure 2018190412
表15、16から明らかなように、本発明例では、いずれの評価結果も良好であった。一方、比較例f1、f2では、加熱時の耐変色性が劣っていた。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属すると了解される。
以上のように、Snめっき鋼板の表面にジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜を有するSnめっき鋼板において、前記ジルコニウム酸化物の付着量が金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、さらXPS深さ方向分析によるジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、皮膜の表面側であり、かつ、深さ位置Aと深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上であるSnめっき鋼板は、従来のクロメート処理を必要とせずに、加熱時の耐変色性、塗膜密着性、耐硫化黒変性に優れる。このことから、環境にやさしい缶用材料として、食缶、飲料缶などに広く用いることができ、産業上の利用価値が極めて高い。
10 鋼板
20 Snめっき層
30 皮膜
100 Snめっき鋼板

Claims (8)

  1. 鋼板と、
    前記鋼板の少なくとも一方の表面に設けられたSnめっき層と、
    前記Snめっき層の表面に設けられ、ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜と、
    を備え、
    前記皮膜における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、
    X線光電子分光法による深さ方向分析において、前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、前記錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、前記皮膜の表面側に位置し、かつ、前記深さ位置Aと前記深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である
    ことを特徴とするSnめっき鋼板。
  2. 前記X線光電子分光法による深さ方向元素分析において、前記深さ位置Aにおける前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が、20%以上である
    ことを特徴とする、請求項1に記載のSnめっき鋼板。
  3. 前記皮膜がリン酸化合物を更に含み、
    前記皮膜において、P量で換算した前記リン酸化合物の含有量α(単位:mg/m)を、金属Zr量で換算した前記ジルコニウム酸化物の含有量β(単位:mg/m)で除した値α/βが、0.2〜2.0である
    ことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載のSnめっき鋼板。
  4. 前記皮膜の前記表面から前記皮膜の厚さの1/3の深さ位置を深さ位置Cとしたとき、
    前記深さ位置Aが、前記深さ位置Cよりも表面側に位置する
    ことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載のSnめっき鋼板。
  5. 少なくとも一方の表面にSnめっき層が形成された鋼板に対して、ジルコニウムイオンを含む溶液中で陰極電解処理を行うことにより、前記Snめっき層上にジルコニウム酸化物を形成させる工程と、
    前記陰極電解処理後、25℃以上の温水を用いて0.3秒間以上浸漬処理又はスプレー処理により洗浄処理を行う工程と、
    前記洗浄処理後、Zrイオン濃度が270ppm以下の電解質溶液中で陽極電解処理を行い、前記Snめっき層上に前記ジルコニウム酸化物と錫酸化物とを含む皮膜を形成する工程と
    を有する
    ことを特徴とする、Snめっき鋼板の製造方法。
  6. 前記皮膜における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、金属Zr量で0.2mg/m〜50mg/mであり、
    X線光電子分光法による前記皮膜の深さ方向分析において、前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が最大である深さ位置Aが、前記錫酸化物として存在するSnの元素濃度が最大である深さ位置Bよりも、前記皮膜の表面側に位置し、かつ、前記深さ位置Aと前記深さ位置Bとの間の深さ方向の距離が0.5nm以上である
    ことを特徴とする、請求項5に記載のSnめっき鋼板の製造方法。
  7. X線光電子分光法による深さ方向元素分析において、深さ位置Aにおける前記ジルコニウム酸化物として存在するZrの元素濃度が、20%以上である
    ことを特徴とする、請求項5又は6に記載のSnめっき鋼板の製造方法。
  8. 前記皮膜がリン酸化合物を更に含み、
    前記皮膜において、P量で換算した前記リン酸化合物の含有量α(単位:mg/m)を、前記ジルコニウム酸化物を金属Zrで換算した含有量β(単位:mg/m)で除した値α/βが、0.2〜2.0である
    ことを特徴とする、請求項5〜7の何れか一項に記載のSnめっき鋼板の製造方法。
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