JPWO2018180127A1 - 光学部材 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 133
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 46
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 12
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 304
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 15
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- GBECUEIQVRDUKB-UHFFFAOYSA-M thallium monochloride Chemical compound [Tl]Cl GBECUEIQVRDUKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3423—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings comprising a suboxide
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/008—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
Abstract
Description
断熱機能が高い断熱材としては、真空断熱材(0.002W/(m・K))、グラスウール(0.03W/(m・K))等が知られている。しかし、これら真空断熱材及びグラスウールは、いずれも光学的には不透明な材料であるため、光学部材としては利用しにくい。
例えば、特開2006−334787号公報には、可視光透過性が高くかつ赤外光の遮断性の高い透明断熱光学部材として、透明基板上に熱線を反射する金属層と透明な光補償層を交互に複数層積層して、可視光を透過し、熱線を反射するようにした透明断熱光学部材において、該光補償層が導電性の金属酸化物からなる透明導電層であり、波長510nmでの光透過率T(510)が74%以上で、波長700nmの光透過率T(700)と波長900nmでの光透過率T(900)との比T(900)/T(700)が0.3以下である透明断熱光学部材が開示されている。
また、特開2013−256104号公報には、優れた熱線反射性、可視光透過率および電波透過性を有する熱反射構造体として、基材と、基材上に位置し、金属層および誘電体層が交互に積層されてなり、かつ、両最外層が誘電体層である交互光学部材と、を有し、誘電体層は金属酸化物の結晶領域およびアモルファス領域から構成される、熱反射構造体が開示されている。
また、特開平10−182192号公報には、耐湿性を大巾に向上した断熱ガラスとして、ガラス基板の表面上に、少なくとも透明酸化物膜層、貴金属膜層、Al−Zn膜層を組み合わせ順次積層した積層膜であって、貴金属膜層を少なくともAl−Zn膜層で保護するように、Al−Zn膜層を存在させた断熱ガラスが知られている。
従って、本開示の課題は、400nm〜800nmの波長領域又は6μm〜12μmの波長領域で透過性を有し、かつ、熱伝導率が低減された光学部材を提供することである。
<1> 基材と、
基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造と、
を備え、
積層構造を構成する層の数が10以上であり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であり、400nm〜800nmの波長範囲又は6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である光学部材。
<2> 積層構造を構成する層の数が、100以上である<1>に記載の光学部材。
<3> 積層構造が、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、及び金属硫化物からなる群から選択される2種以上の金属化合物からなる<1>又は<2>に記載の光学部材。
<4> 2種以上の金属化合物における金属元素が、Si、Al、Nb、Mg、Zr、Ge、及びZnからなる群から選択される少なくとも1種の元素である<3>に記載の光学部材。
<5> 層厚が8nm超である光干渉層を更に備える<1>〜<4>のいずれか1つに記載の光学部材。
<6> 400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率が10%以下である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光学部材。
<7> 400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
材質が異なる2種以上の層は、Al2O3層とSiO2層との組み合わせを含む<1>〜<6>のいずれか1つに記載の光学部材。
<8> 6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率が40%以下である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光学部材。
<9> 6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
材質が異なる2種以上の層は、SiN層とAlN層との組み合わせを含む<1>〜<5>及び<8>のいずれか1つに記載の光学部材。
本明細書にいう「金属」の概念には、半金属(例えば、Si、Ge等)も含まれる。
本明細書にいう「光」は、電磁波全般を意味し、可視光には限定されない。
本明細書にいう「層厚」とは、1層の厚みを意味する。
積層構造を構成する層の数が10以上であり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であり、400nm〜800nmの波長範囲又は6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である。
本開示の光学部材の別の一態様である態様Bは、6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である態様である。
また、本開示の態様Bに係る光学部材は、6μm〜12μmの波長領域で透過性を有し、熱伝導率が低減された光学部材である。
かかる効果が奏される理由は、以下のように推測されるが、本開示の光学部材は以下の理由によって限定されることはない。
異なる2種の物質の界面には界面熱抵抗が存在する。
態様A及び態様Bのいずれの光学部材も、積層構造を構成する層の数が10以上であることにより、この界面熱抵抗を有する界面の数が9以上であるため、熱伝導率が低減されると考えられる。
材質が異なる2種以上の層からなる積層構造において、フォノンの界面反射が生じること、及び、
積層構造を構成する層の層厚が、フォノンの平均自由行程とされている10数nmよりも小さいこと
の両方を満足することにより、フォノンの干渉が生じると考えられる。
このフォノンの干渉により、積層構造における熱伝導率が効果的に低減されると考えられる。
この点に関し、態様Aでは、上述したとおり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であるため、400nm〜800nmの波長範囲の光(即ち、可視光線)の干渉が抑制される。このため、態様Aでは、400nm〜800nmの波長範囲における透過率の低下が抑制されると考えられる。
この点に関し、態様Bでは、上述したとおり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であるため、6μm〜12μmの波長範囲の光(即ち、赤外光)の干渉が抑制される。このため、態様Bでは、6μm〜12μmの波長範囲における透過率の低下が抑制されると考えられる。
態様Aの光学部材では、400nm〜800nmの波長領域で透過性を有するという機能と、熱伝導率が低減されるという機能と、が達成され、
態様Bの光学部材では、6μm〜12μmの波長領域で透過性を有するという機能と、熱伝導率が低減されるという機能と、が達成されると考えられる。
同様に、態様Bにおける積層構造を構成する各層の層厚(最大層厚でも、8nm以下)は、6μm〜12μmの波長範囲に対し著しく小さい。このため、上記波長範囲の赤外光は、積層構造の中の例えばX層とY層とを区別することはできない。従って、上記赤外光からみると、積層構造は、平均的な屈折率を持つ1層の混合材料膜として捉えられる。
これらの理由により、態様A及び態様Bの光学部材では、意図しない光の干渉が抑制される。
従って、態様A及び態様Bの光学部材は、光学設計をし易いという利点も有する。
態様Aに係る光学部材は、基材と、基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造と、を備え、積層構造を構成する層の数が10以上であり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であり、400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上である。
態様Aにおける基材の材質としては、例えば、ガラス、プラスチック、セラミックス等が挙げられる。
ガラスとしては、例えば、天然石英ガラス、合成石英ガラス、ソーダガラス、ランタンガラスなどが挙げられる。
態様Aにおける基材の材質としては、ガラスが好ましい。これにより、400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上であることをより達成し易い。
態様Aに係る光学部材は、基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造を備える。
態様Aにおける積層構造を構成する層は、異なる2種以上の材質の各々からなる層であることが好ましい。
態様Aにおける積層構造を構成する、異なる2種以上の材質は、2種以上の有機物であってもよいし、2種以上の無機物であってもよいし、1種以上の有機物と1種以上の無機物との組み合わせであってもよい。
態様Aにおける積層構造を構成する層は、上記2種以上の金属化合物の各々からなる2種以上の層であることが好ましい。
態様Aにおける積層構造の具体的態様としては、例えば、
金属酸化物からなる層(以下、「金属酸化物層」ともいう)を2種以上含む態様、
金属窒化物からなる層(以下、「金属窒化物層」ともいう)を2種以上含む態様、
金属酸窒化物からなる層(以下、「金属酸窒化物層」ともいう)を2種以上含む態様、
金属硫化物からなる層(以下、「金属硫化物層」ともいう)を2種以上含む態様、
1種以上の金属酸化物層と1種以上の金属窒化物層とを含む態様、
1種以上の金属酸化物層と1種以上の金属酸窒化物層とを含む態様、
1種以上の金属酸化物層と1種以上の金属硫化物層とを含む態様、
1種以上の金属窒化物層と1種以上の金属酸窒化物層とを含む態様、
1種以上の金属窒化物層と1種以上の金属硫化物層とを含む態様、
1種以上の金属酸窒化物層と1種以上の金属硫化物層とを含む態様、
等が挙げられる。
X層(即ち、1種目の層)とY層(即ち、2種目の層)とを、X層/Y層/X層/Y層/X層・・・のように、交互に配置した構造、又は、
上記交互に配置した構造の任意の層間に、X層及びY層以外のその他の層の少なくとも1種を挿入した構造である。
上記その他の層の少なくとも1種を挿入した構造としては、例えば、X層/Y層/Z層/X層/Y層/W層/X層・・・の構造がある。ここで、Z層は、3種目の層であり、W層は、4種目の層である。
金属化合物における金属元素は、Si、Al、及びNbからなる群から選択される少なくとも1種(より好ましくは2種以上)を含むことが好ましく、Si及びAlからなる群から選択される少なくとも1種を含むことがより好ましく、Siを含むことが特に好ましい。
金属窒化物としては、AlN、SiN等が挙げられる。
金属酸窒化物としては、AlON、SiON等が挙げられる。
金属硫化物としては、ZnS等が挙げられる。
態様Aにおける積層構造を構成する層の数は、前述のとおり10以上である。
態様Aにおける積層構造を構成する層の数は、光学部材の熱伝導率をより低減させる観点から、好ましくは20以上であり、より好ましくは50以上であり、更に好ましくは100以上である。
態様Aにおける積層構造を構成する層の数の上限には特に制限はない。光学部材の製造適性の観点から、積層構造を構成する層の数の上限は、例えば1000万であり、好ましくは300万であり、特に好ましくは100万である。
態様Aにおける積層構造を構成する層の最大層厚は、8nm以下である。これにより、前述のとおり、光学部材の熱伝導率が低減される。更に、400nm〜800nmの波長範囲の光の干渉が抑制され、その結果、この波長範囲における透過率の低下が抑制される。
態様Aにおける積層構造を構成する層の最大層厚は、好ましくは5nm以下であり、より好ましくは4nm以下である。
態様Aにおける積層構造を構成する層の最大層厚の下限には特に制限はない。層形成(成膜)の適性の観点から、積層構造を構成する層の最大層厚の下限は、好ましくは1nm、より好ましくは2nmである。
態様Aにおける積層構造を構成する層の平均層厚の下限は、好ましくは1nm、より好ましくは2nmである。
態様Aにおける積層構造は、熱伝導率をより低減する観点から、層厚の標準偏差/平均層厚で定義されるCV値が、0.05以上であってもよい。
また、本明細書において、層厚の標準偏差とは、積層構造を構成する全ての層の各々の厚さからなる母集団の標準偏差を意味する。
態様Aにおける積層構造のCV値が0.05以上である場合には、熱伝導率がより効果的に低減される。この理由は、積層構造を構成する層の層厚にある程度のバラつきが存在すること、及び、前述したフォノンの干渉が生じることにより、フォノンのアンダーソン局在が発生し、これにより、フォノンの平均透過率が減少するためと考えられる。
態様Aにおける積層構造を構成する層の層厚のCV値の上限には特に制限はないが、上限は、例えば0.60である。
態様Aに係る光学部材は、層厚が8nm超である光干渉層(以下、「光干渉層A」ともいう)を少なくとも1層備えることが好ましい。これにより、光学部材の光学的機能をより向上させることができる。
上述したとおり、態様Aにおける積層構造を構成する各層の層厚(最大層厚でも、8nm以下)は、可視光(400〜800nm)の波長に対し著しく小さいので、可視光からみると、積層構造は、平均的な屈折率を持つ1層の混合材料膜として捉えられる。
従って、積層構造から見て、基材側及び/又は基材とは反対側に、光干渉層Aを配置することにより、光学部材の光学的機能をより向上させることができる。例えば、積層構造に、特定の波長に対する反射防止効果を持たせたり、特定の波長に対する増反射効果を持たせることができる。
光干渉層Aの層厚の上限は、光干渉層の製造適性の観点から、好ましくは1000nmであり、より好ましくは200nmであり、特に好ましくは100nmである。
光干渉層Aの材質としての上記金属化合物における金属元素としては、Si、Al、Nb、Mg、Zr、La、Ti、Y、Ca、Ba、Li、及びNaからなる群から選択される少なくとも1種の元素が好ましい。
態様Aに係る光学部材は、400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上である。
本明細書において、400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率とは、400nm〜800nmの波長範囲における透過率の最低値を意味する。
400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率は、好ましくは30%以上、より好ましくは50%以上、特に好ましくは80%以上である。
400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率の上限には特に制限はないが、光学部材の製造適性の観点から、好ましい上限は99%である。
態様Aに係る光学部材は、反射防止機能の観点から、400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率が10%以下であることが好ましく、6%以下であることがより好ましく、5%以下であることが更に好ましく、4%以下であることが更に好ましい。
本明細書において、400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率とは、400nm〜800nmの波長範囲における反射率の最高値を意味する。
400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率は、0%であってもよいし、0%超であってもよい。
400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率の低減は、態様Aに係る光学部材が上述した光干渉層Aを備える場合に、より達成し易い。
以上で説明した態様Aに係る光学部材は、特に、高温環境で用いられる光学デバイス用の反射防止フィルム、又は、高温環境で用いられる断熱容器の加飾用フィルムとして好適に用いられる。
態様Bに係る光学部材は、基材と、基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造と、を備え、積層構造を構成する層の数が10以上であり、積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であり、6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である。
態様Bにおける基材の材質としては、例えば、金属、金属化合物等が挙げられる。
態様Bにおける基材の材質としては、Si、Ge、ZnSe、ZnS、TlBrとTlIとの混合物、又は、TlBrとTlClとの混合物が好ましい。これにより、6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上であることをより達成し易い。
態様Bに係る光学部材は、基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造を備える。
態様Bにおける積層構造の好ましい形態(好ましい材質等)は、態様Aにおける積層構造の好ましい形態(好ましい材質等)と同様である。
態様Bにおける積層構造を構成する層の数の好ましい範囲は、態様Aにおける積層構造を構成する層の数の好ましい範囲と同様である。
態様Bにおいて、積層構造を構成する層の最大層厚は、8nm以下である。これにより、前述のとおり、光学部材の熱伝導率が低減される。更に、6μm〜12μmの波長範囲の光(赤外光)の干渉が抑制され、その結果、この波長範囲における最低透過率の低下が抑制される。
態様Bにおける積層構造を構成する層の最大層厚は、好ましくは5nm以下であり、より好ましくは4nm以下である。
態様Bにおける積層構造を構成する層の最大層厚の下限には特に制限はない。層形成(成膜)の適性の観点から、積層構造を構成する層の最大層厚の下限は、好ましくは1nm、より好ましくは2nmである。
態様Bにおける積層構造を構成する層の平均層厚の下限は、好ましくは1nm、より好ましくは2nmである。
態様Bにおける積層構造は、熱伝導率をより低減する観点から、層厚の標準偏差/平均層厚で定義されるCV値が、0.05以上であってもよい。
態様Bにおいて、熱伝導率をより低減する観点から、積層構造を構成する層の層厚のCV値は、より好ましくは0.10以上である。
態様Bにおける積層構造を構成する層の層厚のCV値の上限には特に制限はないが、上限は、例えば0.60である。
態様Bに係る光学部材は、層厚が8nm超である光干渉層(以下、「光干渉層B」ともいう)を少なくとも1層備えることが好ましい。これにより、光学部材の光学的機能をより向上させることができる。
上述したとおり、態様Bにおける積層構造を構成する各層の層厚(最大層厚でも、10nm以下)は、6μm〜12μmの波長範囲に対し著しく小さいので、上記波長範囲の赤外光からみると、積層構造は、平均的な屈折率を持つ1層の混合材料膜として捉えられる。
従って、積層構造から見て、基材側及び/又は基材とは反対側に、光干渉層Bを配置することにより、光学部材の光学的機能をより向上させることができる。例えば、積層構造に、特定の波長に対する反射防止効果を持たせたり、特定の波長に対する増反射効果を持たせることができる。
光干渉層Bの層厚の上限は、光干渉層の製造適性の観点から、好ましくは100μmである。
光干渉層Bの材質としての上記金属化合物における金属元素としては、Si、Al、Nb、Mg、Zr、La、Ti、Y、Ca、Ba、Li、及びNaからなる群から選択される少なくとも1種の元素が好ましい。
態様Bに係る光学部材は、6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である。
本明細書において、6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率とは、6μm〜12μmの波長範囲における透過率の最低値を意味する。
6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率は、好ましくは30%以上、より好ましくは50%以上である。
6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率の上限には特に制限はないが、光学部材の製造適性の観点から、好ましい上限は99%であり、より好ましく上限は90%であり、更に好ましい上限は80%である。
態様Bに係る光学部材は、反射防止機能の観点から、6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率が、40%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、20%以下であることが更に好ましい。
本明細書において、6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率とは、6μm〜12μmの波長範囲における反射率の最高値を意味する。
6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率は、0%であってもよいし、0%超であってもよい。
6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率の低減は、態様Bに係る光学部材が上述した光干渉層Bを備える場合に、より達成し易い。
<光学部材(光干渉層無し)の作製>
基材としてのソーダガラス基板上に、電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、1種目の層(層X)としてのAl2O3層と、2種目の層(層Y)としてのSiO2層と、を交互に(即ち、基材/層X/層Y/層X/層Y・・・となる配置で。以下同様。)、それぞれ50層ずつ成膜することにより、層の数が100である積層構造を形成した。
この際、50層のAl2O3層の成膜時間を全て同一とし、かつ、50層のSiO2層の成膜時間を全て同一とすることにより、100層全てのそれぞれの層厚が3.0nmとなるようにした。
以上により、実施例1(態様Aの実施例)の光学部材を得た。
上記光学部材における積層構造の断面を、FIB(Focused Ion Beam)加工によって形成し、得られた断面について、倍率16万倍のSTEM(Scanning Transmission Electron Microscope)像を取得した。STEMとしては、FEI社製のTitan80−300を用いた。
取得したSTEM像に基づき、100層それぞれの層厚を測定した。
得られた100層それぞれの層厚を母集団として、平均層厚及び最大層厚をそれぞれ求めた。
結果を表4に示す。
実施例1の光学部材の上記積層構造のサーモリフレクタンス信号を取得するために、上記積層構造の最上層の表面に、RF(radio frequency)スパッタリング法により、Al薄膜20nmを成膜した。このAl薄膜の成膜後、周期80MHzのレーザ光を用い、表面加熱/表面検出方式のサーモリフレクタンス法により、実施例1の光学部材の上記積層構造のサーモリフレクタンス信号を取得した。
同様にして、後述する比較例1の膜(SiO2単層、層厚300nm)のサーモリフレクタンス信号を取得した。
導出したサーモリフレクタンス信号において、最後に加熱するパルスに対し200ps前の値に基づき、実施例1の積層構造の熱伝導率を算出した。熱伝導率の算出条件は、比較例1の膜の熱伝導率とSiO2の熱伝導率の文献値1.38W/(m・K)とが一致する条件とした。
実施例1の光学部材について、日立製作所社製分光光度計U−4000を用い、400nm〜800nmの波長領域での分光特性(反射スペクトル及び透過スペクトル)を測定した。
<光学部材(光干渉層有り)の形成>
基材としてのソーダガラス基板上に、表1に示す材質の光干渉層1〜9を、RF(Radio Frequency)スパッタリング装置によってこの順に形成した。次に、光干渉層9上に、実施例1で形成した積層構造(100層)を形成した。形成された積層構造上に、表1に示す光干渉層10及び11をこの順に形成した。
以上により、表1に示す層構成を有する実施例2(態様Aの実施例)の光学部材を得た。
表1に示す屈折率は、ファイブラボ社製分光エリプソメータMASSを用いて測定された、測定波長540nmにおける屈折率である(後述の表2及び表3も同様である)。
表1に示す厚さは、実施例1における層厚測定と同様の方法(但し、測定倍率は、測定対象の厚さに合わせ適宜選択した)によって測定された値である(後述の表2及び表3も同様である)。
結果を表4に示す。
<光学部材(光干渉層有り)の形成>
基材としての合成石英基板上に、表2に示す材質の光干渉層1〜6を、RF(Radio Frequency)スパッタリング装置によってこの順に形成した。次に、光干渉層6上に電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、1種目の層(層X)としてのAl2O3層と、2種目の層(層Y)としてのSiO2層と、を交互に、それぞれ50層ずつ成膜することにより、層の数が100である積層構造を形成した。この際、1層ごとに成膜時間を変化させることにより、1層毎の層厚にバラつきが生じるようにした。形成された積層構造上に、表2に示す光干渉層7及び8をこの順に形成した。
以上により、表2に示す層構成を有する実施例3(態様Aの実施例)の光学部材を得た。
実施例3の光学部材の積層構造において、層厚の標準偏差/平均層厚で定義されるCV値は0.13であった。
結果を表4に示す。
<光学部材(光干渉層有り)の形成>
基材としてのGe(ゲルマニウム)基板上に、光干渉層としてZnS層を、電子ビーム蒸着によって形成した。この光干渉層上に、電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、SiN層とAlN層とをそれぞれ50層ずつ交互に成膜することにより、積層構造を形成した(層数は100)。
この際、50層のSiN層の成膜時間を全て同一とし、かつ、50層のAlN層の成膜時間を全て同一とすることにより、100層全てのそれぞれの層厚が3nmとなるようにした。
以上により、表3に示す層構成を有する実施例4(態様Bの実施例)の光学部材(光干渉層有り)を得た。
結果を表4に示す。
基材としてのソーダガラス基板上に、電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、1層のSiO2層を形成した。
得られたSiO2層について、実施例1と同様の測定及び評価を実施した。
結果を表4に示す。
基材としてのソーダガラス基板上に、電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、Al2O3層(層X)とSiO2層(層Y)とを交互に成膜することにより、層の数が7(詳細には、Al2O3層4層及びSiO2層3層)である積層構造を形成した。この際、1層ごとに成膜時間を変化させることにより、1層毎の層厚にバラつきが生じるようにした。
得られた積層構造について、実施例1と同様の測定及び評価を実施した。
結果を表4に示す。
基材としてのソーダガラス基板上に、電子サイクロトロンスパッタ装置による気相成膜により、Al2O3層(層X)とSiO2層(層Y)とを交互に成膜することにより、層の数が25(詳細には、Al2O3層13層及びSiO2層12層)である積層構造を形成した。この際、1層ごとに成膜時間を変化させることにより、1層毎の層厚にバラつきが生じるようにした。
得られた積層構造について、実施例1と同様の測定及び評価を実施した。
実施例1〜3の中でも、光干渉層を備える実施例2及び3の光学部材は、より優れた光学的機能を有すること(詳細には、上記波長範囲における最低透過率がより高く、かつ、上記波長範囲における最高反射率がより低いこと)が確認された。
2017年3月30日に出願された日本国特許出願2017−069168号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (9)
- 基材と、
前記基材上に配置され、材質が異なる2種以上の層からなる積層構造と、
を備え、
前記積層構造を構成する層の数が10以上であり、前記積層構造を構成する層の最大層厚が8nm以下であり、400nm〜800nmの波長範囲又は6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上である光学部材。 - 前記積層構造を構成する層の数が、100以上である請求項1に記載の光学部材。
- 前記積層構造が、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、及び金属硫化物からなる群から選択される2種以上の金属化合物からなる請求項1又は請求項2に記載の光学部材。
- 前記2種以上の金属化合物における金属元素が、Si、Al、Nb、Mg、Zr、Ge、及びZnからなる群から選択される少なくとも1種の元素である請求項3に記載の光学部材。
- 層厚が8nm超である光干渉層を更に備える請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の光学部材。
- 400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
400nm〜800nmの波長範囲における最高反射率が10%以下である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光学部材。 - 400nm〜800nmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
前記材質が異なる2種以上の層は、Al2O3層とSiO2層との組み合わせを含む請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光学部材。 - 6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
6μm〜12μmの波長範囲における最高反射率が40%以下である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光学部材。 - 6μm〜12μmの波長範囲における最低透過率が10%以上であり、
前記材質が異なる2種以上の層は、SiN層とAlN層との組み合わせを含む請求項1〜請求項5及び請求項8のいずれか1項に記載の光学部材。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017069168 | 2017-03-30 | ||
JP2017069168 | 2017-03-30 | ||
PCT/JP2018/007237 WO2018180127A1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-02-27 | 光学部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018180127A1 true JPWO2018180127A1 (ja) | 2020-01-16 |
JP6656469B2 JP6656469B2 (ja) | 2020-03-04 |
Family
ID=63675307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019509023A Active JP6656469B2 (ja) | 2017-03-30 | 2018-02-27 | 光学部材 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10696015B2 (ja) |
JP (1) | JP6656469B2 (ja) |
CN (1) | CN110476092A (ja) |
WO (1) | WO2018180127A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3113672B1 (fr) * | 2020-08-25 | 2023-02-24 | Saint Gobain | Procede d’obtention d’un materiau revetu d’un revetement photocatalytique |
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Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3392000B2 (ja) | 1996-12-25 | 2003-03-31 | セントラル硝子株式会社 | 断熱ガラス |
EP1476300B2 (en) | 2002-02-11 | 2016-07-13 | PPG Industries Ohio, Inc. | Solar control coating |
JP4522320B2 (ja) | 2005-05-31 | 2010-08-11 | 株式会社エフ・ティ・エスコーポレーション | 透明断熱積層体の製造方法 |
US20090237782A1 (en) | 2005-10-26 | 2009-09-24 | Central Glass Company, Limited | Near Infrared Ray Reflective Substrate And Near Infrared Ray Reflective Laminated Glass Employing That Substrate, Near Infrared Ray Reflective Double Layer Glass |
CN101288007A (zh) * | 2005-10-26 | 2008-10-15 | 中央硝子株式会社 | 近红外线反射基板和利用该基板的近红外线反射层叠玻璃、近红外线反射双层玻璃 |
CN100562767C (zh) * | 2007-01-26 | 2009-11-25 | 日鹤实业股份有限公司 | 多层隔热膜贴片 |
JP6174330B2 (ja) * | 2012-05-17 | 2017-08-02 | 日産自動車株式会社 | 透明誘電体膜、熱反射構造体およびその製造方法、ならびにこれを用いた合わせガラス |
US9891731B2 (en) | 2013-07-11 | 2018-02-13 | Ulvac, Inc. | Touch panel, method of producing the same, optical thin film substrate and method of producing the same |
US10088251B2 (en) * | 2014-05-21 | 2018-10-02 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Radiative cooling with solar spectrum reflection |
-
2018
- 2018-02-27 WO PCT/JP2018/007237 patent/WO2018180127A1/ja active Application Filing
- 2018-02-27 CN CN201880022730.8A patent/CN110476092A/zh active Pending
- 2018-02-27 JP JP2019509023A patent/JP6656469B2/ja active Active
-
2019
- 2019-09-26 US US16/583,291 patent/US10696015B2/en active Active
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JP2012093568A (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Olympus Corp | 多層膜フィルタ |
WO2016171620A1 (en) * | 2015-04-20 | 2016-10-27 | Agency For Science, Technology And Research | A multilayer coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018180127A1 (ja) | 2018-10-04 |
CN110476092A (zh) | 2019-11-19 |
JP6656469B2 (ja) | 2020-03-04 |
US20200016863A1 (en) | 2020-01-16 |
US10696015B2 (en) | 2020-06-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190927 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20190927 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20191011 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191029 |
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